JPH11283347A - スライダの製造方法およびスライダ - Google Patents
スライダの製造方法およびスライダInfo
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- JPH11283347A JPH11283347A JP10086503A JP8650398A JPH11283347A JP H11283347 A JPH11283347 A JP H11283347A JP 10086503 A JP10086503 A JP 10086503A JP 8650398 A JP8650398 A JP 8650398A JP H11283347 A JPH11283347 A JP H11283347A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B21/00—Head arrangements not specific to the method of recording or reproducing
- G11B21/16—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads
- G11B21/20—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads while the head is in operative position but stationary or permitting minor movements to follow irregularities in surface of record carrier
- G11B21/21—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads while the head is in operative position but stationary or permitting minor movements to follow irregularities in surface of record carrier with provision for maintaining desired spacing of head from record carrier, e.g. fluid-dynamic spacing, slider
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 浮上面に対する深さが互いに異なる２つの面
を有するスライダを、精度よく製造できるようにする。 【解決手段】 フォトレジストマスク３１を用いてステ
ップ部に対応した第２の面２を形成する１回目のエッチ
ングの後に、フォトレジストマスク３１を除去すること
なく、スライダバー１０に対して、第２の面２となる部
分２３の上に、更にフォトレジストマスク３２を形成
し、フォトレジストマスク３１，３２を用いて、２回目
のエッチングを行って、負圧発生部に対応した第３の面
３を形成する。
を有するスライダを、精度よく製造できるようにする。 【解決手段】 フォトレジストマスク３１を用いてステ
ップ部に対応した第２の面２を形成する１回目のエッチ
ングの後に、フォトレジストマスク３１を除去すること
なく、スライダバー１０に対して、第２の面２となる部
分２３の上に、更にフォトレジストマスク３２を形成
し、フォトレジストマスク３１，３２を用いて、２回目
のエッチングを行って、負圧発生部に対応した第３の面
３を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、浮上型磁気ヘッド
等に用いられるスライダの製造方法およびスライダに関
する。
等に用いられるスライダの製造方法およびスライダに関
する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置等に用いられる浮上型
磁気ヘッドは、一般的に、スライダの後端部に薄膜磁気
ヘッド素子を形成して構成されるようになっている。ス
ライダは、一般的に、表面が浮上面（エアベアリング
面）となるレール部を有すると共に、空気流入部（空気
流入側の端部近傍）にテーパ部またはステップ部を有
し、テーパ面またはステップ面より流入する空気流によ
ってレール部が磁気ディスク等の記録媒体の表面からわ
ずかに浮上するようになっている。
磁気ヘッドは、一般的に、スライダの後端部に薄膜磁気
ヘッド素子を形成して構成されるようになっている。ス
ライダは、一般的に、表面が浮上面（エアベアリング
面）となるレール部を有すると共に、空気流入部（空気
流入側の端部近傍）にテーパ部またはステップ部を有
し、テーパ面またはステップ面より流入する空気流によ
ってレール部が磁気ディスク等の記録媒体の表面からわ
ずかに浮上するようになっている。
【０００３】空気流入部にテーパ部を有するスライダ
は、一般に、研削等の機械的な加工によって所定の形状
に形成される。これに対し、空気流入部にステップ部を
有するスライダ（以下、ステップリーディング型のスラ
イダとも言う。）は、例えば特公平５−８４８８号公報
に示されるように、フォトリソグラフィを利用したエッ
チング処理によって所定の形状に形成される。
は、一般に、研削等の機械的な加工によって所定の形状
に形成される。これに対し、空気流入部にステップ部を
有するスライダ（以下、ステップリーディング型のスラ
イダとも言う。）は、例えば特公平５−８４８８号公報
に示されるように、フォトリソグラフィを利用したエッ
チング処理によって所定の形状に形成される。
【０００４】ステップリーディング型のスライダは、上
述のように機械的な加工ではなくフォトリソグラフィを
利用して製造されるため、複雑な形状でも精度よく形成
することができ、浮上特性の制御が容易になるという利
点と、加工コストを低減できるという利点を有する。
述のように機械的な加工ではなくフォトリソグラフィを
利用して製造されるため、複雑な形状でも精度よく形成
することができ、浮上特性の制御が容易になるという利
点と、加工コストを低減できるという利点を有する。
【０００５】ところで、近年、記録密度向上のため、ス
ライダの浮上量を小さくすることが要望されている。ま
た、アクセスの高速化のため、スライダの浮上安定性の
向上が要望されている。これらの要望を満たすものとし
て、最近では、負圧スライダが用いられるようになって
きた。一般的に、負圧スライダでは、２本のレール部間
に、負圧を発生させるための凹部形状の負圧発生部が形
成されている。このような負圧スライダでは、記録媒体
側となる面が微細な形状となり、特にレール部の高さが
従来のスライダに比べて大幅に小さくなっている。
ライダの浮上量を小さくすることが要望されている。ま
た、アクセスの高速化のため、スライダの浮上安定性の
向上が要望されている。これらの要望を満たすものとし
て、最近では、負圧スライダが用いられるようになって
きた。一般的に、負圧スライダでは、２本のレール部間
に、負圧を発生させるための凹部形状の負圧発生部が形
成されている。このような負圧スライダでは、記録媒体
側となる面が微細な形状となり、特にレール部の高さが
従来のスライダに比べて大幅に小さくなっている。
【０００６】このような負圧スライダであって、前述の
ステップリーディング型のものでは、浮上面に対して、
ステップ部と負圧発生部の深さが互いに異なっている。
ステップリーディング型のものでは、浮上面に対して、
ステップ部と負圧発生部の深さが互いに異なっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】次に、図１２ないし図
２１を参照して、従来のステップリーディング型の負圧
スライダの製造方法の一例について説明し、併せて従来
のスライダの製造方法の問題点について説明する。
２１を参照して、従来のステップリーディング型の負圧
スライダの製造方法の一例について説明し、併せて従来
のスライダの製造方法の問題点について説明する。
【０００８】ここでは、図１３の平面図に示したような
形状のスライダ２１１を製造するものとする。このスラ
イダ２１１は、表面が浮上面２１２ａとなる２本のレー
ル部２１２と、空気流入部に形成されたステップ部２１
３と、中央部分から空気流出側にかけて形成された負圧
発生部２１４とを有している。浮上面２１２ａに対し
て、ステップ部２１３の深さは例えば１μｍであり、負
圧発生部２１４の深さは例えば３μｍである。また、ス
ライダ２１１は、一方のレール部２１２における空気流
出側の端部近傍の位置に、薄膜磁気ヘッド素子２１５を
含んでいる。
形状のスライダ２１１を製造するものとする。このスラ
イダ２１１は、表面が浮上面２１２ａとなる２本のレー
ル部２１２と、空気流入部に形成されたステップ部２１
３と、中央部分から空気流出側にかけて形成された負圧
発生部２１４とを有している。浮上面２１２ａに対し
て、ステップ部２１３の深さは例えば１μｍであり、負
圧発生部２１４の深さは例えば３μｍである。また、ス
ライダ２１１は、一方のレール部２１２における空気流
出側の端部近傍の位置に、薄膜磁気ヘッド素子２１５を
含んでいる。
【０００９】従来のスライダの製造方法では、まず、一
列に配列された複数の薄膜磁気ヘッド素子を含み浮上面
となる面の研磨が終了した後のスライダバーを、図示し
ない治具に固定する。
列に配列された複数の薄膜磁気ヘッド素子を含み浮上面
となる面の研磨が終了した後のスライダバーを、図示し
ない治具に固定する。
【００１０】以下、その後の工程を、図１２の流れ図に
従って説明する。まず、図１４および図１５に示したよ
うに、スライダバー２１０に対して、レール部２１２と
なる部分２２２の上に、フォトリソグラフィにより、フ
ォトレジストマスク２３１を形成する（ステップＳ２０
１）。なお、図１４は、スライダバー２１０中の１個の
スライダとなる部分について示した平面図であり、図１
５は、図１４のＤ−Ｄ′線断面を拡大して示す断面図で
ある。
従って説明する。まず、図１４および図１５に示したよ
うに、スライダバー２１０に対して、レール部２１２と
なる部分２２２の上に、フォトリソグラフィにより、フ
ォトレジストマスク２３１を形成する（ステップＳ２０
１）。なお、図１４は、スライダバー２１０中の１個の
スライダとなる部分について示した平面図であり、図１
５は、図１４のＤ−Ｄ′線断面を拡大して示す断面図で
ある。
【００１１】次に、フォトレジストマスク２３１を用い
て、例えばイオンミリングにより、ステップ部２１３と
なる部分２２３および負圧発生部２１４となる部分２２
４を、例えば１μｍエッチングする（ステップＳ２０
２）。
て、例えばイオンミリングにより、ステップ部２１３と
なる部分２２３および負圧発生部２１４となる部分２２
４を、例えば１μｍエッチングする（ステップＳ２０
２）。
【００１２】次に、図１６および図１７に示したよう
に、フォトレジストマスク２３１を除去する（ステップ
Ｓ２０３）。なお、図１６は、図１４と同様の平面図で
あり、図１７は、図１５と同様の断面図である。
に、フォトレジストマスク２３１を除去する（ステップ
Ｓ２０３）。なお、図１６は、図１４と同様の平面図で
あり、図１７は、図１５と同様の断面図である。
【００１３】次に、図１８および図１９に示したよう
に、レール部２１２となる部分２２２およびステップ部
２１３となる部分２２３の上にフォトリソグラフィによ
り、新たにフォトレジストマスク２３２を形成する（ス
テップＳ２０４）。なお、図１８は、図１４と同様の平
面図であり、図１９は、図１５と同様の断面図である。
次に、このフォトレジストマスク２３２を用いて、例え
ばイオンミリングにより、負圧発生部２１４となる部分
２２４を、例えば２μｍエッチングする（ステップＳ２
０５）。
に、レール部２１２となる部分２２２およびステップ部
２１３となる部分２２３の上にフォトリソグラフィによ
り、新たにフォトレジストマスク２３２を形成する（ス
テップＳ２０４）。なお、図１８は、図１４と同様の平
面図であり、図１９は、図１５と同様の断面図である。
次に、このフォトレジストマスク２３２を用いて、例え
ばイオンミリングにより、負圧発生部２１４となる部分
２２４を、例えば２μｍエッチングする（ステップＳ２
０５）。
【００１４】次に、図２０および図２１に示したよう
に、フォトレジストマスク２３２を除去する（ステップ
Ｓ２０６）。これにより、スライダ２１１が形成され
る。なお、図２０は、図１４と同様の平面図であり、図
２１は、図１５と同様の断面図である。
に、フォトレジストマスク２３２を除去する（ステップ
Ｓ２０６）。これにより、スライダ２１１が形成され
る。なお、図２０は、図１４と同様の平面図であり、図
２１は、図１５と同様の断面図である。
【００１５】上述のような従来のスライダの製造方法で
は、互いに浮上面２１２ａに対する深さの異なるステッ
プ部２１３と負圧発生部２１４とを形成するために、フ
ォトレジストマスクの形成、エッチング、フォトレジス
トマスクの除去の一連を工程を２回繰り返している。そ
のため、２回目のフォトレジストマスク２３２を形成す
る際には、特に、レール部２１２となる部分２２２と負
圧発生部２１４となる部分２２４との境界部分におい
て、フォトレジストマスク２３２を正確に位置決めする
必要がある。
は、互いに浮上面２１２ａに対する深さの異なるステッ
プ部２１３と負圧発生部２１４とを形成するために、フ
ォトレジストマスクの形成、エッチング、フォトレジス
トマスクの除去の一連を工程を２回繰り返している。そ
のため、２回目のフォトレジストマスク２３２を形成す
る際には、特に、レール部２１２となる部分２２２と負
圧発生部２１４となる部分２２４との境界部分におい
て、フォトレジストマスク２３２を正確に位置決めする
必要がある。
【００１６】しかしながら、実際には、図１８および図
１９に示したように、２回目のフォトレジストマスク２
３２を形成する際に、フォトリソグラフィにおける露光
用マスクの位置合わせの精度不足等に起因して、フォト
レジストマスク２３２の位置ずれが、例えば０．３〜
０．５μｍ程度発生する。
１９に示したように、２回目のフォトレジストマスク２
３２を形成する際に、フォトリソグラフィにおける露光
用マスクの位置合わせの精度不足等に起因して、フォト
レジストマスク２３２の位置ずれが、例えば０．３〜
０．５μｍ程度発生する。
【００１７】すると、図２０および図２１に示したよう
に、浮上面２１２ａと負圧発生部２１４とを結ぶ側面に
段部２４１が発生してしまう。このような段部２４１が
発生すると、スライダ２１１の浮上特性が、設計時とは
異なってしまい、場合によっては、使用時に横方向のぶ
れを生じる等の問題が発生する。
に、浮上面２１２ａと負圧発生部２１４とを結ぶ側面に
段部２４１が発生してしまう。このような段部２４１が
発生すると、スライダ２１１の浮上特性が、設計時とは
異なってしまい、場合によっては、使用時に横方向のぶ
れを生じる等の問題が発生する。
【００１８】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、浮上面となる第１の面（例えば図２
１における浮上面２１２ａ）と、この第１の面に対して
所定の第１の深さ（例えば図２１におけるＤ1 ）の位置
に形成された第２の面（例えば図２１におけるステップ
部２１３の面）と、第１の面に対して第１の深さよりも
大きい所定の第２の深さ（例えば図２１におけるＤ2 ）
の位置に形成された第３の面（例えば図２１における負
圧発生部２１４の面）とを有するスライダを、精度よく
製造できるようにしたスライダの製造方法を提供するこ
とにある。
ので、その目的は、浮上面となる第１の面（例えば図２
１における浮上面２１２ａ）と、この第１の面に対して
所定の第１の深さ（例えば図２１におけるＤ1 ）の位置
に形成された第２の面（例えば図２１におけるステップ
部２１３の面）と、第１の面に対して第１の深さよりも
大きい所定の第２の深さ（例えば図２１におけるＤ2 ）
の位置に形成された第３の面（例えば図２１における負
圧発生部２１４の面）とを有するスライダを、精度よく
製造できるようにしたスライダの製造方法を提供するこ
とにある。
【００１９】本発明の他の目的は、浮上面となる第１の
面と、この第１の面に対して所定の第１の深さの位置に
形成された第２の面と、第１の面に対して第１の深さよ
りも大きい所定の第２の深さの位置に形成された第３の
面とを有するスライダであって、設計時における浮上特
性を発揮できるようにしたスライダを提供することにあ
る。
面と、この第１の面に対して所定の第１の深さの位置に
形成された第２の面と、第１の面に対して第１の深さよ
りも大きい所定の第２の深さの位置に形成された第３の
面とを有するスライダであって、設計時における浮上特
性を発揮できるようにしたスライダを提供することにあ
る。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明のスライダの製造
方法は、浮上面となる第１の面と、この第１の面に対し
て所定の第１の深さの位置に形成された第２の面と、第
１の面に対して第１の深さよりも大きい所定の第２の深
さの位置に形成された第３の面とを有するスライダを製
造する方法であって、スライダとなる素材に対して、第
１の面となる部分の上に、第１のエッチング用マスクを
形成する工程と、第１のエッチング用マスクを用いて、
素材を、第１の深さだけエッチングして、第２の面を形
成する工程と、第１のエッチング用マスクを除去するこ
となく、素材に対して、第３の面となる部分を除き、少
なくとも第２の面となる部分の上に、第２のエッチング
用マスクを形成する工程と、第１のエッチング用マスク
および第２のエッチング用マスクを用いて、素材を、更
に、第２の深さと第１の深さの差だけエッチングして、
第３の面を形成する工程と、素材より、第１のエッチン
グ用マスクおよび第２のエッチング用マスクを除去する
工程とを含むものである。
方法は、浮上面となる第１の面と、この第１の面に対し
て所定の第１の深さの位置に形成された第２の面と、第
１の面に対して第１の深さよりも大きい所定の第２の深
さの位置に形成された第３の面とを有するスライダを製
造する方法であって、スライダとなる素材に対して、第
１の面となる部分の上に、第１のエッチング用マスクを
形成する工程と、第１のエッチング用マスクを用いて、
素材を、第１の深さだけエッチングして、第２の面を形
成する工程と、第１のエッチング用マスクを除去するこ
となく、素材に対して、第３の面となる部分を除き、少
なくとも第２の面となる部分の上に、第２のエッチング
用マスクを形成する工程と、第１のエッチング用マスク
および第２のエッチング用マスクを用いて、素材を、更
に、第２の深さと第１の深さの差だけエッチングして、
第３の面を形成する工程と、素材より、第１のエッチン
グ用マスクおよび第２のエッチング用マスクを除去する
工程とを含むものである。
【００２１】また、本発明のスライダの製造方法では、
第１のエッチング用マスクや、第２のエッチング用マス
クは、フォトレジストにより形成されるのが好ましい。
第１のエッチング用マスクや、第２のエッチング用マス
クは、フォトレジストにより形成されるのが好ましい。
【００２２】また、本発明のスライダの製造方法では、
第２の面を形成する工程や、第３の面を形成する工程に
おいて、ドライエッチングを用いるのが好ましい。
第２の面を形成する工程や、第３の面を形成する工程に
おいて、ドライエッチングを用いるのが好ましい。
【００２３】また、本発明のスライダの製造方法では、
第２の面は、例えば、空気流入部に形成され、第３の面
は、例えば、負圧発生部に形成される。また、素材は、
薄膜磁気ヘッド素子を含んでいてもよい。
第２の面は、例えば、空気流入部に形成され、第３の面
は、例えば、負圧発生部に形成される。また、素材は、
薄膜磁気ヘッド素子を含んでいてもよい。
【００２４】本発明のスライダは、浮上面となる第１の
面と、この第１の面に対して所定の第１の深さの位置に
形成された第２の面と、第１の面に対して第１の深さよ
りも大きい所定の第２の深さの位置に形成された第３の
面とを有するスライダであって、第１の面と第３の面と
を結ぶ側面が、段部のない面となっているものである。
面と、この第１の面に対して所定の第１の深さの位置に
形成された第２の面と、第１の面に対して第１の深さよ
りも大きい所定の第２の深さの位置に形成された第３の
面とを有するスライダであって、第１の面と第３の面と
を結ぶ側面が、段部のない面となっているものである。
【００２５】また、本発明のスライダでは、第２の面
は、例えば、空気流入部に形成され、第３の面は、例え
ば、負圧発生部に形成されている。また、本発明のスラ
イダは、薄膜磁気ヘッド素子を含んでいてもよい。
は、例えば、空気流入部に形成され、第３の面は、例え
ば、負圧発生部に形成されている。また、本発明のスラ
イダは、薄膜磁気ヘッド素子を含んでいてもよい。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
て図面を参照して詳細に説明する。
【００２７】始めに、図１の斜視図を参照して、本発明
の一実施の形態に係るスライダの構成について説明す
る。本実施の形態に係るスライダ１１は、ステップリー
ディング型の負圧スライダであって、例えば、浮上型磁
気ヘッドに用いられるものである。このスライダ１１
は、表面が浮上面１となる２本のレール部１２と、空気
流入部（空気流入側の端部近傍）に形成されたステップ
部１３と、中央部分から空気流出側にかけて形成された
負圧発生部１４とを有している。浮上面１に対して、ス
テップ部１３の深さＤ1 は例えば１μｍであり、負圧発
生部１４の深さＤ2は例えば３μｍである。
の一実施の形態に係るスライダの構成について説明す
る。本実施の形態に係るスライダ１１は、ステップリー
ディング型の負圧スライダであって、例えば、浮上型磁
気ヘッドに用いられるものである。このスライダ１１
は、表面が浮上面１となる２本のレール部１２と、空気
流入部（空気流入側の端部近傍）に形成されたステップ
部１３と、中央部分から空気流出側にかけて形成された
負圧発生部１４とを有している。浮上面１に対して、ス
テップ部１３の深さＤ1 は例えば１μｍであり、負圧発
生部１４の深さＤ2は例えば３μｍである。
【００２８】以下、浮上面を、第１の面とも言う。ステ
ップ部１３は、第１の面１に対して第１の深さＤ1 （例
えば１μｍ）の位置に形成された第２の面２を有し、負
圧発生部１４は、第１の面１に対して第１の深さよりも
大きい第２の深さＤ2 （例えば３μｍ）の位置に形成さ
れた第３の面３を有している。
ップ部１３は、第１の面１に対して第１の深さＤ1 （例
えば１μｍ）の位置に形成された第２の面２を有し、負
圧発生部１４は、第１の面１に対して第１の深さよりも
大きい第２の深さＤ2 （例えば３μｍ）の位置に形成さ
れた第３の面３を有している。
【００２９】また、スライダ１１は、一方のレール部１
２における空気流出側の端部近傍の位置に、薄膜磁気ヘ
ッド素子１５を含んでいる。
２における空気流出側の端部近傍の位置に、薄膜磁気ヘ
ッド素子１５を含んでいる。
【００３０】次に、図２ないし図１１を参照して、本実
施の形態に係るスライダの製造方法について説明する。
本実施の形態に係るスライダの製造方法では、まず、図
２に示したように、一列に配列された複数の薄膜磁気ヘ
ッド素子を含み浮上面となる面の研磨が終了した後の複
数本のスライダバー１０を、以下で説明する工程を行う
ために、治具２０に固定する。スライダバー１０は、本
発明におけるスライダとなる素材に対応する。スライダ
バー１０は、例えばアルティック（Ａｌ2 Ｏ3・Ｔｉ
Ｃ）によって形成されている。
施の形態に係るスライダの製造方法について説明する。
本実施の形態に係るスライダの製造方法では、まず、図
２に示したように、一列に配列された複数の薄膜磁気ヘ
ッド素子を含み浮上面となる面の研磨が終了した後の複
数本のスライダバー１０を、以下で説明する工程を行う
ために、治具２０に固定する。スライダバー１０は、本
発明におけるスライダとなる素材に対応する。スライダ
バー１０は、例えばアルティック（Ａｌ2 Ｏ3・Ｔｉ
Ｃ）によって形成されている。
【００３１】以下、その後の工程を、図３の流れ図に従
って説明する。まず、図４および図５に示したように、
スライダバー１０に対して、レール部１２となる部分２
２の上に、フォトリソグラフィにより、フォトレジスト
マスク３１を形成する（ステップＳ１０１）。なお、図
４は、スライダバー１０中の１個のスライダとなる部分
について示した平面図であり、図５は、図４のＡ−Ａ′
線断面を拡大して示す断面図である。フォトレジストマ
スク３１の厚みは、２０μｍ程度が好ましい。フォトレ
ジストマスク３１は、本発明における第１のエッチング
用マスクに対応する。
って説明する。まず、図４および図５に示したように、
スライダバー１０に対して、レール部１２となる部分２
２の上に、フォトリソグラフィにより、フォトレジスト
マスク３１を形成する（ステップＳ１０１）。なお、図
４は、スライダバー１０中の１個のスライダとなる部分
について示した平面図であり、図５は、図４のＡ−Ａ′
線断面を拡大して示す断面図である。フォトレジストマ
スク３１の厚みは、２０μｍ程度が好ましい。フォトレ
ジストマスク３１は、本発明における第１のエッチング
用マスクに対応する。
【００３２】フォトレジストマスク３１を形成する工程
は、具体的には、例えば以下のようにして行われる。す
なわち、まず、スライダバー１０におけるレール部１２
となる部分２２を含む面の全面に、フォトレジスト層を
形成する。フォトレジスト層を形成する方法としては、
例えば、フォトレジスト材料よりなるドライフィルムを
熱圧着する方法がある。次に、露光用マスクを介してフ
ォトレジスト層を露光し、現像して、所定のパターンの
フォトレジストマスク３１を形成する。フォトレジスト
層としては、例えばネガタイプのものを用い、この場合
には、露光用マスクは、レール部１２に対応した形状の
開口を有するものとする。
は、具体的には、例えば以下のようにして行われる。す
なわち、まず、スライダバー１０におけるレール部１２
となる部分２２を含む面の全面に、フォトレジスト層を
形成する。フォトレジスト層を形成する方法としては、
例えば、フォトレジスト材料よりなるドライフィルムを
熱圧着する方法がある。次に、露光用マスクを介してフ
ォトレジスト層を露光し、現像して、所定のパターンの
フォトレジストマスク３１を形成する。フォトレジスト
層としては、例えばネガタイプのものを用い、この場合
には、露光用マスクは、レール部１２に対応した形状の
開口を有するものとする。
【００３３】次に、図６に示したように、フォトレジス
トマスク３１を用いて、ステップ部１３となる部分２３
および負圧発生部１４となる部分２４を、第１の深さＤ
1 、すなわち例えば１μｍだけエッチングして、ステッ
プ部１３となる部分２３に、第２の面２を形成する（ス
テップＳ１０２）。なお、図６は、図５と同様の断面図
である。エッチングには、微細な形状を精度よく形成で
きる反応性イオンエッチング、イオンミリング等のドラ
イエッチングを用いるのが好ましい。
トマスク３１を用いて、ステップ部１３となる部分２３
および負圧発生部１４となる部分２４を、第１の深さＤ
1 、すなわち例えば１μｍだけエッチングして、ステッ
プ部１３となる部分２３に、第２の面２を形成する（ス
テップＳ１０２）。なお、図６は、図５と同様の断面図
である。エッチングには、微細な形状を精度よく形成で
きる反応性イオンエッチング、イオンミリング等のドラ
イエッチングを用いるのが好ましい。
【００３４】次に、図７および図８に示したように、フ
ォトレジストマスク３１を除去することなく、スライダ
バー１０に対して、負圧発生部１４となる部分２４を除
き、少なくともステップ部１３（第２の面２）となる部
分２３の上に、フォトリソグラフィにより、更にフォト
レジストマスク３２を形成する（ステップＳ１０３）。
なお、図７は、図４と同様の平面図であり、図８は、図
７のＢ−Ｂ′線断面を拡大して示す断面図である。フォ
トレジストマスク３２は、フォトレジストマスク３１の
一部の上に掛かっても構わない。フォトレジストマスク
３２の厚みは、１０〜２０μｍ程度が好ましい。フォト
レジストマスク３２は、本発明における第２のエッチン
グ用マスクに対応する。フォトレジストマスク３２を形
成する工程の具体的な内容は、フォトレジストマスク３
１を形成する工程と同様である。
ォトレジストマスク３１を除去することなく、スライダ
バー１０に対して、負圧発生部１４となる部分２４を除
き、少なくともステップ部１３（第２の面２）となる部
分２３の上に、フォトリソグラフィにより、更にフォト
レジストマスク３２を形成する（ステップＳ１０３）。
なお、図７は、図４と同様の平面図であり、図８は、図
７のＢ−Ｂ′線断面を拡大して示す断面図である。フォ
トレジストマスク３２は、フォトレジストマスク３１の
一部の上に掛かっても構わない。フォトレジストマスク
３２の厚みは、１０〜２０μｍ程度が好ましい。フォト
レジストマスク３２は、本発明における第２のエッチン
グ用マスクに対応する。フォトレジストマスク３２を形
成する工程の具体的な内容は、フォトレジストマスク３
１を形成する工程と同様である。
【００３５】次に、図９に示したように、フォトレジス
トマスク３１，３２を用いて、負圧発生部１４となる部
分２４を、第２の深さＤ2 と第１の深さＤ1 の差、すな
わち例えば２μｍだけエッチングして、負圧発生部１４
となる部分２４に、第３の面３を形成する（ステップＳ
１０４）。なお、図９は、図８と同様の断面図である。
エッチングには、微細な形状を精度よく形成できる反応
性イオンエッチング、イオンミリング等のドライエッチ
ングを用いるのが好ましい。
トマスク３１，３２を用いて、負圧発生部１４となる部
分２４を、第２の深さＤ2 と第１の深さＤ1 の差、すな
わち例えば２μｍだけエッチングして、負圧発生部１４
となる部分２４に、第３の面３を形成する（ステップＳ
１０４）。なお、図９は、図８と同様の断面図である。
エッチングには、微細な形状を精度よく形成できる反応
性イオンエッチング、イオンミリング等のドライエッチ
ングを用いるのが好ましい。
【００３６】次に、図１０および図１１に示したよう
に、スライダバー１０を治具２０より取り外した後、フ
ォトレジストマスク３１，３２を除去する（ステップＳ
１０５）。なお、図１０は、図４と同様の平面図であ
り、図１１は、図１０のＣ−Ｃ′線断面を拡大して示す
断面図である。これにより、図１に示した形状のスライ
ダ１１が多数連結された状態のスライダバー１０が得ら
れる。その後、スライダバー１０を切断することによ
り、図１に示した形状のスライダ１１が得られる。
に、スライダバー１０を治具２０より取り外した後、フ
ォトレジストマスク３１，３２を除去する（ステップＳ
１０５）。なお、図１０は、図４と同様の平面図であ
り、図１１は、図１０のＣ−Ｃ′線断面を拡大して示す
断面図である。これにより、図１に示した形状のスライ
ダ１１が多数連結された状態のスライダバー１０が得ら
れる。その後、スライダバー１０を切断することによ
り、図１に示した形状のスライダ１１が得られる。
【００３７】このように、本実施の形態に係るスライダ
の製造方法では、フォトレジストマスク３１を用いて第
２の面２を形成する１回目のエッチングの後に、フォト
レジストマスク３１を除去することなく、スライダバー
１０に対して、負圧発生部１４となる部分２４を除き、
少なくともステップ部１３（第２の面２）となる部分２
３の上に、更にフォトレジストマスク３２を形成し、フ
ォトレジストマスク３１，３２を用いて、２回目のエッ
チングを行って、第３の面３を形成するようにしてい
る。そのため、図９に示したように、２回目のエッチン
グの際に、第１の面１と第３の面３との境界部分を規定
するエッチング用マスクは、１回目のエッチングの際の
フォトレジストマスク３１となる。すなわち、第１の面
１と第３の面３との境界部分では、１回目のエッチング
と２回目のエッチングで、同じフォトレジストマスク３
１が使用される。言い換えると、第１の面１と第３の面
３との境界部分では、２回目のエッチングは、自己整合
的に行われる。従って、本実施の形態に係るスライダの
製造方法によれば、図１１に示したように、第１の面１
と第３の面３とを結ぶ側面４０に段部が形成されること
がなく、スライダ１１を精度よく製造することができ
る。
の製造方法では、フォトレジストマスク３１を用いて第
２の面２を形成する１回目のエッチングの後に、フォト
レジストマスク３１を除去することなく、スライダバー
１０に対して、負圧発生部１４となる部分２４を除き、
少なくともステップ部１３（第２の面２）となる部分２
３の上に、更にフォトレジストマスク３２を形成し、フ
ォトレジストマスク３１，３２を用いて、２回目のエッ
チングを行って、第３の面３を形成するようにしてい
る。そのため、図９に示したように、２回目のエッチン
グの際に、第１の面１と第３の面３との境界部分を規定
するエッチング用マスクは、１回目のエッチングの際の
フォトレジストマスク３１となる。すなわち、第１の面
１と第３の面３との境界部分では、１回目のエッチング
と２回目のエッチングで、同じフォトレジストマスク３
１が使用される。言い換えると、第１の面１と第３の面
３との境界部分では、２回目のエッチングは、自己整合
的に行われる。従って、本実施の形態に係るスライダの
製造方法によれば、図１１に示したように、第１の面１
と第３の面３とを結ぶ側面４０に段部が形成されること
がなく、スライダ１１を精度よく製造することができ
る。
【００３８】また、本実施の形態に係るスライダの製造
方法によれば、２回目のエッチングの前にフォトレジス
トマスク３１を除去するする工程が不要となるため、工
程を少なくすることができる。
方法によれば、２回目のエッチングの前にフォトレジス
トマスク３１を除去するする工程が不要となるため、工
程を少なくすることができる。
【００３９】また、上述のようにして製造される本実施
の形態に係るスライダ１１では、図１１に示したよう
に、第１の面１と第３の面３とを結ぶ側面４０が、段部
のない面となる。従って、側面４０を段部のない面とし
てスライダ１１を設計した場合、本実施の形態に係るス
ライダ１１は、設計時における浮上特性を発揮すること
ができる。
の形態に係るスライダ１１では、図１１に示したよう
に、第１の面１と第３の面３とを結ぶ側面４０が、段部
のない面となる。従って、側面４０を段部のない面とし
てスライダ１１を設計した場合、本実施の形態に係るス
ライダ１１は、設計時における浮上特性を発揮すること
ができる。
【００４０】なお、本発明は、上記実施の形態に限定さ
れず、例えば、実施の形態では、エッチング用マスクと
して、フォトレジストマスクを用いたが、エッチング用
マスクは、これに限らず、金属マスクでもよい。ただ
し、金属マスクを用いる場合には、金属マスクを形成す
るめたのフォトリソグラフィ工程が増えるため、実施の
形態のようにフォトレジストマスクを用いるのが好まし
い。
れず、例えば、実施の形態では、エッチング用マスクと
して、フォトレジストマスクを用いたが、エッチング用
マスクは、これに限らず、金属マスクでもよい。ただ
し、金属マスクを用いる場合には、金属マスクを形成す
るめたのフォトリソグラフィ工程が増えるため、実施の
形態のようにフォトレジストマスクを用いるのが好まし
い。
【００４１】また、本発明において用いるドライエッチ
ングについては、所望の深さに合わせてエッチング時間
や圧力等の諸条件を設定すればよい。なお、エッチング
において使用する気体については、反応性イオンエッチ
ングでは、Ａｒ＋ＣＦ4 またはＡｒ＋ＢＣｌ3 またはＢ
Ｃｌ3 ＋Ｃｌ2 またはＡｒ等を用いることができ、イオ
ンミリングでは、Ａｒ等を用いることができる。
ングについては、所望の深さに合わせてエッチング時間
や圧力等の諸条件を設定すればよい。なお、エッチング
において使用する気体については、反応性イオンエッチ
ングでは、Ａｒ＋ＣＦ4 またはＡｒ＋ＢＣｌ3 またはＢ
Ｃｌ3 ＋Ｃｌ2 またはＡｒ等を用いることができ、イオ
ンミリングでは、Ａｒ等を用いることができる。
【００４２】また、実施の形態では、スライダとして、
負圧スライダの例を挙げたが、本発明は、負圧を発生さ
せないスライダにも適用することができる。
負圧スライダの例を挙げたが、本発明は、負圧を発生さ
せないスライダにも適用することができる。
【００４３】また、実施の形態では、スライダとして、
磁気ヘッド用のスライダの例を挙げたが、本発明は、他
の用途のスライダ、例えば光記録方式や光磁気記録方式
による情報の記録または再生を行うためのヘッド（ピッ
クアップ）用のスライダにも適用することが可能であ
る。
磁気ヘッド用のスライダの例を挙げたが、本発明は、他
の用途のスライダ、例えば光記録方式や光磁気記録方式
による情報の記録または再生を行うためのヘッド（ピッ
クアップ）用のスライダにも適用することが可能であ
る。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように請求項１ないし８の
いずれかに記載のスライダの製造方法によれば、浮上面
となる第１の面と、この第１の面に対して所定の第１の
深さの位置に形成された第２の面と、第１の面に対して
第１の深さよりも大きい所定の第２の深さの位置に形成
された第３の面とを有するスライダを製造する場合に、
スライダとなる素材に対して、第１の面となる部分の上
に、第１のエッチング用マスクを形成し、この第１のエ
ッチング用マスクを用いて、素材を、第１の深さだけエ
ッチングして、第２の面を形成し、第１のエッチング用
マスクを除去することなく、素材に対して、第３の面と
なる部分を除き、少なくとも第２の面となる部分の上
に、第２のエッチング用マスクを形成し、第１のエッチ
ング用マスクおよび第２のエッチング用マスクを用い
て、素材を、更に、第２の深さと第１の深さの差だけエ
ッチングして、第３の面を形成し、素材より、第１のエ
ッチング用マスクおよび第２のエッチング用マスクを除
去するようにしたので、２回目のエッチングの際に、第
１の面と第３の面とを結ぶ側面に段部が形成されること
がなく、スライダを精度よく製造することができるとい
う効果を奏する。
いずれかに記載のスライダの製造方法によれば、浮上面
となる第１の面と、この第１の面に対して所定の第１の
深さの位置に形成された第２の面と、第１の面に対して
第１の深さよりも大きい所定の第２の深さの位置に形成
された第３の面とを有するスライダを製造する場合に、
スライダとなる素材に対して、第１の面となる部分の上
に、第１のエッチング用マスクを形成し、この第１のエ
ッチング用マスクを用いて、素材を、第１の深さだけエ
ッチングして、第２の面を形成し、第１のエッチング用
マスクを除去することなく、素材に対して、第３の面と
なる部分を除き、少なくとも第２の面となる部分の上
に、第２のエッチング用マスクを形成し、第１のエッチ
ング用マスクおよび第２のエッチング用マスクを用い
て、素材を、更に、第２の深さと第１の深さの差だけエ
ッチングして、第３の面を形成し、素材より、第１のエ
ッチング用マスクおよび第２のエッチング用マスクを除
去するようにしたので、２回目のエッチングの際に、第
１の面と第３の面とを結ぶ側面に段部が形成されること
がなく、スライダを精度よく製造することができるとい
う効果を奏する。
【００４５】また、請求項２記載のスライダの製造方法
によれば、第１のエッチング用マスクを、フォトレジス
トにより形成するようにしたので、更に、より少ない工
程で、スライダを製造することができるという効果を奏
する。
によれば、第１のエッチング用マスクを、フォトレジス
トにより形成するようにしたので、更に、より少ない工
程で、スライダを製造することができるという効果を奏
する。
【００４６】また、請求項３記載のスライダの製造方法
によれば、第２のエッチング用マスクを、フォトレジス
トにより形成するようにしたので、更に、より少ない工
程で、スライダを製造することができるという効果を奏
する。
によれば、第２のエッチング用マスクを、フォトレジス
トにより形成するようにしたので、更に、より少ない工
程で、スライダを製造することができるという効果を奏
する。
【００４７】また、請求項４記載のスライダの製造方法
によれば、第２の面を形成する工程において、ドライエ
ッチングを用いるようにしたので、特に精度よくスライ
ダを製造することができるという効果を奏する。
によれば、第２の面を形成する工程において、ドライエ
ッチングを用いるようにしたので、特に精度よくスライ
ダを製造することができるという効果を奏する。
【００４８】また、請求項５記載のスライダの製造方法
によれば、第３の面を形成する工程において、ドライエ
ッチングを用いるようにしたので、特に精度よくスライ
ダを製造することができるという効果を奏する。
によれば、第３の面を形成する工程において、ドライエ
ッチングを用いるようにしたので、特に精度よくスライ
ダを製造することができるという効果を奏する。
【００４９】また、請求項９ないし１２のいずれかに記
載のスライダによれば、浮上面となる第１の面と、この
第１の面に対して所定の第１の深さの位置に形成された
第２の面と、第１の面に対して第１の深さよりも大きい
所定の第２の深さの位置に形成された第３の面とを有す
るスライダであって、第１の面と第３の面とを結ぶ側面
を、段部のない面となっているので、設計時における浮
上特性を発揮できるという効果を奏する。
載のスライダによれば、浮上面となる第１の面と、この
第１の面に対して所定の第１の深さの位置に形成された
第２の面と、第１の面に対して第１の深さよりも大きい
所定の第２の深さの位置に形成された第３の面とを有す
るスライダであって、第１の面と第３の面とを結ぶ側面
を、段部のない面となっているので、設計時における浮
上特性を発揮できるという効果を奏する。
【図１】本発明の一実施の形態に係るスライダの斜視図
である。
である。
【図２】本実施の形態におけるスライダの製造過程にお
いてスライダバーを治具に固定した状態を示す側面図で
ある。
いてスライダバーを治具に固定した状態を示す側面図で
ある。
【図３】本実施の形態に係るスライダの製造方法を示す
流れ図である。
流れ図である。
【図４】本実施の形態におけるスライダの製造過程にお
いてスライダバーにフォトレジストマスクを形成した状
態を示す平面図である。
いてスライダバーにフォトレジストマスクを形成した状
態を示す平面図である。
【図５】図４のＡ−Ａ′線断面を拡大して示す断面図で
ある。
ある。
【図６】本実施の形態におけるスライダの製造過程にお
いて１回目のエッチングを行った状態を示す断面図であ
る。
いて１回目のエッチングを行った状態を示す断面図であ
る。
【図７】図６に示した状態に更にフォトレジストマスク
を形成した状態を示す平面図である。
を形成した状態を示す平面図である。
【図８】図７のＢ−Ｂ′線断面を拡大して示す断面図で
ある。
ある。
【図９】本実施の形態におけるスライダの製造過程にお
いて２回目のエッチングを行った状態を示す断面図であ
る。
いて２回目のエッチングを行った状態を示す断面図であ
る。
【図１０】本実施の形態におけるスライダの製造過程に
おいてフォトレジストマスクを除去した状態を示す平面
図である。
おいてフォトレジストマスクを除去した状態を示す平面
図である。
【図１１】図１０のＣ−Ｃ′線断面を拡大して示す断面
図である。
図である。
【図１２】従来のスライダの製造方法の一例を示す流れ
図である。
図である。
【図１３】従来のスライダの一例を示す平面図である。
【図１４】従来のスライダの製造過程において１回目の
エッチングを行った状態を示す平面図である。
エッチングを行った状態を示す平面図である。
【図１５】図１４のＤ−Ｄ′線断面を拡大して示す断面
図である。
図である。
【図１６】従来のスライダの製造過程においてフォトレ
ジストマスクを除去した状態を示す平面図である。
ジストマスクを除去した状態を示す平面図である。
【図１７】図１６と同じ状態を示す断面図である。
【図１８】従来のスライダの製造過程において２回目の
フォトレジストマスクを形成した状態を示す平面図であ
る。
フォトレジストマスクを形成した状態を示す平面図であ
る。
【図１９】図１８と同じ状態を示す断面図である。
【図２０】従来のスライダの製造過程において２回目の
エッチングを行った状態を示す平面図である。
エッチングを行った状態を示す平面図である。
【図２１】図２０と同じ状態を示す断面図である。
１…第１の面（浮上面）、２…第２の面、３…第３の
面、１０…スライダバー、１１…スライダ、１２…レー
ル部、１３…ステップ部、１４…負圧発生部、１５…薄
膜磁気ヘッド素子、３１，３２…フォトレジストマス
ク、４０…側面。
面、１０…スライダバー、１１…スライダ、１２…レー
ル部、１３…ステップ部、１４…負圧発生部、１５…薄
膜磁気ヘッド素子、３１，３２…フォトレジストマス
ク、４０…側面。
Claims (12)
- 【請求項１】 浮上面となる第１の面と、この第１の面
に対して所定の第１の深さの位置に形成された第２の面
と、前記第１の面に対して前記第１の深さよりも大きい
所定の第２の深さの位置に形成された第３の面とを有す
るスライダを製造する方法であって、 スライダとなる素材に対して、前記第１の面となる部分
の上に、第１のエッチング用マスクを形成する工程と、 前記第１のエッチング用マスクを用いて、前記素材を、
前記第１の深さだけエッチングして、前記第２の面を形
成する工程と、 前記第１のエッチング用マスクを除去することなく、前
記素材に対して、前記第３の面となる部分を除き、少な
くとも前記第２の面となる部分の上に、第２のエッチン
グ用マスクを形成する工程と、 前記第１のエッチング用マスクおよび第２のエッチング
用マスクを用いて、前記素材を、更に、前記第２の深さ
と第１の深さの差だけエッチングして、前記第３の面を
形成する工程と、 前記素材より、前記第１のエッチング用マスクおよび第
２のエッチング用マスクを除去する工程とを含むことを
特徴とするスライダの製造方法。 - 【請求項２】 前記第１のエッチング用マスクは、フォ
トレジストにより形成されることを特徴とする請求項１
記載のスライダの製造方法。 - 【請求項３】 前記第２のエッチング用マスクは、フォ
トレジストにより形成されることを特徴とする請求項１
または２記載のスライダの製造方法。 - 【請求項４】 前記第２の面を形成する工程において、
ドライエッチングを用いることを特徴とする請求項１な
いし３のいずれかに記載のスライダの製造方法。 - 【請求項５】 前記第３の面を形成する工程において、
ドライエッチングを用いることを特徴とする請求項１な
いし４のいずれかに記載のスライダの製造方法。 - 【請求項６】 前記第２の面は、空気流入部に形成され
ることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載
のスライダの製造方法。 - 【請求項７】 前記第３の面は、負圧発生部に形成され
ることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載
のスライダの製造方法。 - 【請求項８】 前記素材が、薄膜磁気ヘッド素子を含ん
でいることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに
記載のスライダの製造方法。 - 【請求項９】 浮上面となる第１の面と、この第１の面
に対して所定の第１の深さの位置に形成された第２の面
と、前記第１の面に対して前記第１の深さよりも大きい
所定の第２の深さの位置に形成された第３の面とを有す
るスライダであって、 前記第１の面と前記第３の面とを結ぶ側面が、段部のな
い面となっていることを特徴とするスライダ。 - 【請求項１０】 前記第２の面が、空気流入部に形成さ
れていることを特徴とする請求項９記載のスライダ。 - 【請求項１１】 前記第３の面が、負圧発生部に形成さ
れていることを特徴とする請求項９または１０記載のス
ライダ。 - 【請求項１２】 薄膜磁気ヘッド素子を含んでいること
を特徴とする請求項９ないし１１のいずれかに記載のス
ライダ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10086503A JPH11283347A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | スライダの製造方法およびスライダ |
| US09/272,206 US6212033B1 (en) | 1998-03-31 | 1999-03-19 | Slider and method for manufacturing the same |
| SG1999001214A SG73621A1 (en) | 1998-03-31 | 1999-03-22 | Slider and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10086503A JPH11283347A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | スライダの製造方法およびスライダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11283347A true JPH11283347A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=13888792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10086503A Pending JPH11283347A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | スライダの製造方法およびスライダ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6212033B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11283347A (ja) |
| SG (1) | SG73621A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6961217B2 (en) * | 2000-11-17 | 2005-11-01 | Fujitsu Limited | Head slider and disk drive employing same head slider, and method for providing water repellent treatment to same head slider |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100382757B1 (ko) * | 2000-06-22 | 2003-05-01 | 삼성전자주식회사 | 부압 공기 윤활 베어링 슬라이더 |
| JP4405234B2 (ja) * | 2003-10-29 | 2010-01-27 | 新科實業有限公司 | 薄膜磁気ヘッドの研磨方法 |
| US7230710B2 (en) * | 2004-12-21 | 2007-06-12 | Axsun Technologies, Inc. | Polarization controlling fiber probe for semiconductor source spectroscopy system |
| US8174794B2 (en) * | 2008-11-26 | 2012-05-08 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Slider having a lubricant-accumulation barrier including a plurality of lubricant-accumulation-barrier portions |
| US8169744B2 (en) * | 2008-11-26 | 2012-05-01 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Slider having a lubricant-accumulation barrier |
Family Cites Families (11)
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Also Published As
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