JPH0668632A - 浮動ヘッドスライダ - Google Patents
浮動ヘッドスライダInfo
- Publication number
- JPH0668632A JPH0668632A JP22413492A JP22413492A JPH0668632A JP H0668632 A JPH0668632 A JP H0668632A JP 22413492 A JP22413492 A JP 22413492A JP 22413492 A JP22413492 A JP 22413492A JP H0668632 A JPH0668632 A JP H0668632A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- slider
- floating head
- magnetic medium
- head slider
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- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ディスクの走行性を向上させ、更に薄膜
ヘッド素子と磁気ディスクとの間のスペーシングを小さ
くして、該薄膜ヘッド素子が良好な記録再生を行うこと
を可能にした浮動ヘッドスライダを提供する。 【構成】 スライダ本体１０の磁気媒体と対向する面に
該磁気媒体との相対運動方向と略平行に配置された２本
のサイドレールを備え、スライダ本体１０の磁気媒体退
出側の端面に薄膜ヘッド素子４１、４２を備える浮動ヘ
ッドスライダにおいて、前記２本のサイドレールを薄膜
ヘッド素子側に位置する凸部５１、５２と、該凸部より
溝部７１、７２を介して磁気媒体進入側に分離して位置
する細長のレール部６１、６２とにより構成し、前記凸
部５１、５２を上記スライダ本体１０と一体に形成し、
前記レール部６１、６２を前記スライダ本体１０よりも
高硬度な材料により形成する。
ヘッド素子と磁気ディスクとの間のスペーシングを小さ
くして、該薄膜ヘッド素子が良好な記録再生を行うこと
を可能にした浮動ヘッドスライダを提供する。 【構成】 スライダ本体１０の磁気媒体と対向する面に
該磁気媒体との相対運動方向と略平行に配置された２本
のサイドレールを備え、スライダ本体１０の磁気媒体退
出側の端面に薄膜ヘッド素子４１、４２を備える浮動ヘ
ッドスライダにおいて、前記２本のサイドレールを薄膜
ヘッド素子側に位置する凸部５１、５２と、該凸部より
溝部７１、７２を介して磁気媒体進入側に分離して位置
する細長のレール部６１、６２とにより構成し、前記凸
部５１、５２を上記スライダ本体１０と一体に形成し、
前記レール部６１、６２を前記スライダ本体１０よりも
高硬度な材料により形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＨＤＤ（ハードディスク
ドライブ装置）等の高記録密度の磁気ディスク装置に使
用される浮動ヘッドスライダに関する。
ドライブ装置）等の高記録密度の磁気ディスク装置に使
用される浮動ヘッドスライダに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＨＤＤ等の磁気ディスク記録装置
においては、小型、大容量化の傾向が進んでおり、これ
に伴い、低相対速度下で高密度記録を行うことが出来る
磁気ヘッドが要求されている。このため、浮動型磁気ヘ
ッドに用いられるスライダは、空気膜剛性が弱い低相対
速度においても磁気ディスクの安定した浮上を得ること
が出来る構造が求められている。
においては、小型、大容量化の傾向が進んでおり、これ
に伴い、低相対速度下で高密度記録を行うことが出来る
磁気ヘッドが要求されている。このため、浮動型磁気ヘ
ッドに用いられるスライダは、空気膜剛性が弱い低相対
速度においても磁気ディスクの安定した浮上を得ること
が出来る構造が求められている。
【０００３】図５は従来の浮動ヘッドスライダの斜視図
である。この従来の浮動ヘッドスライダは、スライダ本
体１０の磁気ディスクと対向する面に、該磁気ディスク
の走行方向に略平行に延びる２本のサイドレール２１、
２２が形成されており、該サイドレール２１、２２の間
には平面部３０が形成されている。前記サイドレール２
１、２２の空気流入側（磁気ディスク進入側）にはテー
パ部２３、２４が夫々形成されており、また空気流出側
（磁気ディスク退出側）の端面には薄膜ヘッド素子４
１、４２が夫々形成されている。
である。この従来の浮動ヘッドスライダは、スライダ本
体１０の磁気ディスクと対向する面に、該磁気ディスク
の走行方向に略平行に延びる２本のサイドレール２１、
２２が形成されており、該サイドレール２１、２２の間
には平面部３０が形成されている。前記サイドレール２
１、２２の空気流入側（磁気ディスク進入側）にはテー
パ部２３、２４が夫々形成されており、また空気流出側
（磁気ディスク退出側）の端面には薄膜ヘッド素子４
１、４２が夫々形成されている。
【０００４】磁気ディスクが回転して該磁気ディスクと
スライダとの間に相対運動が生じると、図６に示すよう
にスライダ１のサイドレール２１、２２上面は磁気ディ
スク２との間に空気膜（流体潤滑膜）３が形成され、空
気潤滑面として機能する。この空気膜３の厚さＨはスラ
イダ１の浮上量となり、薄膜ヘッド素子４１、４２と磁
気ディスク２とのスペーシングを形成する一方、薄膜ヘ
ッド素子４１、４２と磁気ディスク２との直接接触を妨
げ、磁気ディスク２の安定した走行を可能にしている。
尚、図中、矢印Ａは磁気ディスク２の回転方向である。
スライダとの間に相対運動が生じると、図６に示すよう
にスライダ１のサイドレール２１、２２上面は磁気ディ
スク２との間に空気膜（流体潤滑膜）３が形成され、空
気潤滑面として機能する。この空気膜３の厚さＨはスラ
イダ１の浮上量となり、薄膜ヘッド素子４１、４２と磁
気ディスク２とのスペーシングを形成する一方、薄膜ヘ
ッド素子４１、４２と磁気ディスク２との直接接触を妨
げ、磁気ディスク２の安定した走行を可能にしている。
尚、図中、矢印Ａは磁気ディスク２の回転方向である。
【０００５】しかしながら、上記従来の浮動ヘッドスラ
イダでは、スライダ１は非磁性セラミックス材料等の薄
膜ヘッド素子４１、４２の基板に適した材料により構成
されており、この材料によりサイドレール２１、２２が
形成されている。このため、スライダと磁気ディスクと
の間で高速な相対運動が起こると、磁気ディスク上や空
気中に存在する磁性粉等の塵埃が前記サイドレール２
１、２２に衝突してクラッシュが発生し、前記サイドレ
ールは上面に欠け等の傷が生じ、空気潤滑面としての機
能が低下し、磁気ディスクの走行が不安定になり、薄膜
ヘッド素子４１、４２が良好な記録再生を行うことが困
難になる。また、サイドレール２１、２２の上面全体に
空気膜３が形成されるため、薄膜ヘッド素子４１、４２
と磁気ディスク２との間のスペーシングが大きくなり、
薄膜ヘッド素子４１、４２の記録再生能力が低下すると
いう問題も生じる。更には、サイドレール２１、２２
は、その高さが数十〜数μｍと小さいため、機械加工で
は高精度な形状の形成は困難である。
イダでは、スライダ１は非磁性セラミックス材料等の薄
膜ヘッド素子４１、４２の基板に適した材料により構成
されており、この材料によりサイドレール２１、２２が
形成されている。このため、スライダと磁気ディスクと
の間で高速な相対運動が起こると、磁気ディスク上や空
気中に存在する磁性粉等の塵埃が前記サイドレール２
１、２２に衝突してクラッシュが発生し、前記サイドレ
ールは上面に欠け等の傷が生じ、空気潤滑面としての機
能が低下し、磁気ディスクの走行が不安定になり、薄膜
ヘッド素子４１、４２が良好な記録再生を行うことが困
難になる。また、サイドレール２１、２２の上面全体に
空気膜３が形成されるため、薄膜ヘッド素子４１、４２
と磁気ディスク２との間のスペーシングが大きくなり、
薄膜ヘッド素子４１、４２の記録再生能力が低下すると
いう問題も生じる。更には、サイドレール２１、２２
は、その高さが数十〜数μｍと小さいため、機械加工で
は高精度な形状の形成は困難である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来例の
欠点に鑑み為されたものであり、サイドレールの上面に
傷が発生し、これにより磁気ディスクの走行性の悪化す
ることを防止した浮動ヘッドスライダを提供することを
目的とするものである。
欠点に鑑み為されたものであり、サイドレールの上面に
傷が発生し、これにより磁気ディスクの走行性の悪化す
ることを防止した浮動ヘッドスライダを提供することを
目的とするものである。
【０００７】更に、本発明は薄膜ヘッド素子と磁気媒体
との間のスペーシングを小さくし、前記薄膜ヘッド素子
が良好な記録再生を行うことが出来る浮動ヘッドスライ
ダを提供することを目的とするものである。
との間のスペーシングを小さくし、前記薄膜ヘッド素子
が良好な記録再生を行うことが出来る浮動ヘッドスライ
ダを提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の浮動ヘッドスラ
イダは、２本のサイドレールが薄膜ヘッド素子側に位置
する凸部と、該凸部より溝部を隔てて磁気媒体進入側に
分離して位置する細長のレール部とにより構成され、該
レール部がスライダ本体よりも高硬度な材料により形成
されていることを特徴とする。
イダは、２本のサイドレールが薄膜ヘッド素子側に位置
する凸部と、該凸部より溝部を隔てて磁気媒体進入側に
分離して位置する細長のレール部とにより構成され、該
レール部がスライダ本体よりも高硬度な材料により形成
されていることを特徴とする。
【０００９】更に、本発明は前記凸部が上記スライダ本
体と一体に形成されていることを特徴とする。
体と一体に形成されていることを特徴とする。
【００１０】更に、本発明は前記レール部を構成する高
硬度な材料がＡｌ2Ｏ3等の酸化物、あるいはＴｉＣ、Ｔ
ｉＮ、ＳｉＣ等よりなることを特徴とする。
硬度な材料がＡｌ2Ｏ3等の酸化物、あるいはＴｉＣ、Ｔ
ｉＮ、ＳｉＣ等よりなることを特徴とする。
【００１１】更に、本発明は前記レール部を構成する高
硬度な材料が成膜により形成されることを特徴とする。
硬度な材料が成膜により形成されることを特徴とする。
【００１２】
【作用】上記構成によれば、塵埃が衝突し易い空気流入
側のサイドレールが、高硬度な材料よりなるレール部に
より構成されているので、サイドレール上面には傷が発
生しにくい。また、サイドレールのうち薄膜ヘッド素子
が形成されている側は、磁気媒体と対向する上面が小面
積である凸部により構成されているので、その部分での
面圧、即ち、正圧が小さくなり、前記薄膜ヘッド素子と
磁気媒体との間のスペーシングが小さくなる。
側のサイドレールが、高硬度な材料よりなるレール部に
より構成されているので、サイドレール上面には傷が発
生しにくい。また、サイドレールのうち薄膜ヘッド素子
が形成されている側は、磁気媒体と対向する上面が小面
積である凸部により構成されているので、その部分での
面圧、即ち、正圧が小さくなり、前記薄膜ヘッド素子と
磁気媒体との間のスペーシングが小さくなる。
【００１３】更に、前記レール部は薄膜により形成され
るので、高精度な形状、寸法に形成することが可能であ
る。
るので、高精度な形状、寸法に形成することが可能であ
る。
【００１４】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００１５】図１は本実施例の浮動ヘッドスライダの斜
視図であり、図５と同一部分には同一符合を付し、その
説明は割愛する。
視図であり、図５と同一部分には同一符合を付し、その
説明は割愛する。
【００１６】本実施例の浮動ヘッドスライダでは、一対
のサイドレールは薄膜ヘッド素子４１、４２側に位置す
る凸部５１、５２と、該凸部５１、５２よりも後方の空
気流出側（磁気ディスク退出側）に位置する細長のレー
ル部６１、６２とにより構成されており、両者は溝部７
１、７２を隔てて分離されている。前記凸部５１、５２
はスライダ本体１０と一体に形成されており、スライダ
本体１０と同一材料である非磁性セラミックス材料（例
えば、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ系セラミックス）よりなる。ま
た、前記レール部６１、６２は空気流出側にテーパ部６
３、６４を備えており、Ａｌ2Ｏ3等の酸化物、あるいは
ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＳｉＣ等の前記スライダ本体１０より
も高硬度な材料よりなる薄膜をスパッタリング等により
被着することにより形成される。尚、前記スライダ本体
１０を構成するＡｌ2Ｏ3−ＴｉＣのビッカース硬度は１
９００ｋｇ／ｍｍ2前後、レール部６１、６２を構成す
るＡｌ2Ｏ3、ＴｉＣ、ＴｉＮのビッカース硬度は夫々、
２７００ｋｇ／ｍｍ2前後、２９００〜３８００ｋｇ／
ｍｍ2、２０００〜２４００ｋｇ／ｍｍ2である。また、
前記凸部５１、５２と前記レール部６１、６２とは同一
高さである。
のサイドレールは薄膜ヘッド素子４１、４２側に位置す
る凸部５１、５２と、該凸部５１、５２よりも後方の空
気流出側（磁気ディスク退出側）に位置する細長のレー
ル部６１、６２とにより構成されており、両者は溝部７
１、７２を隔てて分離されている。前記凸部５１、５２
はスライダ本体１０と一体に形成されており、スライダ
本体１０と同一材料である非磁性セラミックス材料（例
えば、Ａｌ2Ｏ3−ＴｉＣ系セラミックス）よりなる。ま
た、前記レール部６１、６２は空気流出側にテーパ部６
３、６４を備えており、Ａｌ2Ｏ3等の酸化物、あるいは
ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＳｉＣ等の前記スライダ本体１０より
も高硬度な材料よりなる薄膜をスパッタリング等により
被着することにより形成される。尚、前記スライダ本体
１０を構成するＡｌ2Ｏ3−ＴｉＣのビッカース硬度は１
９００ｋｇ／ｍｍ2前後、レール部６１、６２を構成す
るＡｌ2Ｏ3、ＴｉＣ、ＴｉＮのビッカース硬度は夫々、
２７００ｋｇ／ｍｍ2前後、２９００〜３８００ｋｇ／
ｍｍ2、２０００〜２４００ｋｇ／ｍｍ2である。また、
前記凸部５１、５２と前記レール部６１、６２とは同一
高さである。
【００１７】次に、上記本実施例の浮動ヘッドスライダ
の製造方法について説明する。
の製造方法について説明する。
【００１８】まず、薄膜ヘッド素子４１、４２が多数形
成された非磁性セラミックス材料よりなる基板ウエハ
を、ダイシングソー、ワイヤーソー等によりスライスし
て図２に示すようなスライダ本体１０を多数形成し、そ
の後、該スライダ本体１０の上面（媒体対向面）１１を
研磨する。
成された非磁性セラミックス材料よりなる基板ウエハ
を、ダイシングソー、ワイヤーソー等によりスライスし
て図２に示すようなスライダ本体１０を多数形成し、そ
の後、該スライダ本体１０の上面（媒体対向面）１１を
研磨する。
【００１９】次に、前記スライダ本体１０の上面１１の
うち薄膜ヘッド素子４１、４２が形成されている側の一
部分を除いてイオンビームエッチング等により除去する
ことにより、図３に示すように凸部５１、５２と、平面
部３０とを形成する。
うち薄膜ヘッド素子４１、４２が形成されている側の一
部分を除いてイオンビームエッチング等により除去する
ことにより、図３に示すように凸部５１、５２と、平面
部３０とを形成する。
【００２０】次に、図４に示すように前記スライダ本体
１０の平面部３０の上面のうち前記凸部５１、５２の後
方側に、Ａｌ2Ｏ3等の酸化物、あるいはＴｉＣ、Ｔｉ
Ｎ、ＳｉＣ等よりなる高硬度な薄膜をマスキングを行っ
たスパッタリング等により被着形成し、該薄膜を前記凸
部５１、５２と同一高さになるまで研磨して、図５に示
すようなレール部６１、６２を形成する。尚、この時、
前記レール部６１、６２にはテーパ部６３、６４も機械
加工により形成する。
１０の平面部３０の上面のうち前記凸部５１、５２の後
方側に、Ａｌ2Ｏ3等の酸化物、あるいはＴｉＣ、Ｔｉ
Ｎ、ＳｉＣ等よりなる高硬度な薄膜をマスキングを行っ
たスパッタリング等により被着形成し、該薄膜を前記凸
部５１、５２と同一高さになるまで研磨して、図５に示
すようなレール部６１、６２を形成する。尚、この時、
前記レール部６１、６２にはテーパ部６３、６４も機械
加工により形成する。
【００２１】以上の工程により、本実施例の浮動ヘッド
スライダは完成する。
スライダは完成する。
【００２２】尚、図１に示した本実施例の浮動ヘッドス
ライダでは、凸部５１、５２及びレール部６１、６２の
両外側において、スライダ本体１の上面が露出している
部分が存在するが、これはこのような浮動ヘッドスライ
ダを量産する際の切りしろである。
ライダでは、凸部５１、５２及びレール部６１、６２の
両外側において、スライダ本体１の上面が露出している
部分が存在するが、これはこのような浮動ヘッドスライ
ダを量産する際の切りしろである。
【００２３】上述のような本実施例の浮動ヘッドスライ
ダでは、磁気ディスクとの間で高速な相対運動が起こっ
た場合、塵埃が衝突し易いサイドレールの空気流入側の
部分が、スライダ本体１０よりも高硬度な材料よりなる
レール部６１、６２により構成されているので、塵埃が
衝突してもレール部６１、６２には殆ど傷が生じず、レ
ール部６１、６２上面は空気潤滑面として良好に機能
し、磁気ディスクは安定した走行を行う。また、サイド
レールが凸部５１、５２とレール部６１、６２とにより
分離されており、薄膜ヘッド素子４１、４２側は磁気デ
ィスクと対向する上面が小面積である凸部５１、５２に
より構成されているので、その部分での正圧は小さく、
薄膜ヘッド素子４１、４２と磁気ディスクとの間のスペ
ーシングが小さくなり、該薄膜ヘッド素子４１、４２の
記録再生能力が向上する。しかも、サイドレールの大部
分を占めるレール部６１、６２は、マスクパターンを用
いた成膜により形成されるので、形状、寸法を高精度に
規定することが出来る。
ダでは、磁気ディスクとの間で高速な相対運動が起こっ
た場合、塵埃が衝突し易いサイドレールの空気流入側の
部分が、スライダ本体１０よりも高硬度な材料よりなる
レール部６１、６２により構成されているので、塵埃が
衝突してもレール部６１、６２には殆ど傷が生じず、レ
ール部６１、６２上面は空気潤滑面として良好に機能
し、磁気ディスクは安定した走行を行う。また、サイド
レールが凸部５１、５２とレール部６１、６２とにより
分離されており、薄膜ヘッド素子４１、４２側は磁気デ
ィスクと対向する上面が小面積である凸部５１、５２に
より構成されているので、その部分での正圧は小さく、
薄膜ヘッド素子４１、４２と磁気ディスクとの間のスペ
ーシングが小さくなり、該薄膜ヘッド素子４１、４２の
記録再生能力が向上する。しかも、サイドレールの大部
分を占めるレール部６１、６２は、マスクパターンを用
いた成膜により形成されるので、形状、寸法を高精度に
規定することが出来る。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、磁気媒体上及び空気中
に存在する塵埃によりサイドレールが傷付き、磁気媒体
の走行性が悪化するのを防止し、且つ薄膜ヘッド素子側
の正圧を小さくすることにより、ヘッド−媒体間のスペ
ーシングを小さくし、薄膜ヘッド素子の記録再生能力が
向上した浮動ヘッドスライダを提供し得る。
に存在する塵埃によりサイドレールが傷付き、磁気媒体
の走行性が悪化するのを防止し、且つ薄膜ヘッド素子側
の正圧を小さくすることにより、ヘッド−媒体間のスペ
ーシングを小さくし、薄膜ヘッド素子の記録再生能力が
向上した浮動ヘッドスライダを提供し得る。
【００２５】また、サイドレールの形状、寸法を高精度
に規定することが可能となる。
に規定することが可能となる。
【図１】本発明の浮動ヘッドスライダの斜視図である。
【図２】本発明の浮動ヘッドスライダの製造方法を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図３】本発明の浮動ヘッドスライダの製造方法を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図４】本発明の浮動ヘッドスライダの製造方法を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図５】従来の浮動ヘッドスライダの斜視図である。
【図６】スライダと磁気ディスクとの間の空気流を示す
図である。
図である。
１０ スライダ本体 ４１、４２ 薄膜ヘッド素子 ５１、５２ 凸部 ６１、６２ レール部 ７１、７２ 溝部
Claims (4)
- 【請求項１】 スライダ本体の磁気媒体と対向する面に
前記磁気媒体との相対運動方向と略平行に配置された２
本のサイドレールを備え、スライダ本体の磁気媒体退出
側の端面のうち前記２本のサイドレールの位置する部分
に夫々薄膜ヘッド素子を備える浮動ヘッドスライダにお
いて、前記２本のサイドレールは上記薄膜ヘッド素子側
に位置する凸部と、該凸部より溝部を隔てて磁気媒体進
入側に分離して位置する細長のレール部とにより構成さ
れ、前記レール部が上記スライダ本体より高硬度な材料
により形成されていることを特徴とする浮動ヘッドスラ
イダ。 - 【請求項２】 前記凸部が上記スライダ本体と一体に形
成されていることを特徴とする請求項１記載の浮動ヘッ
ドスライダ。 - 【請求項３】 前記レール部を構成する高硬度な材料が
Ａｌ2Ｏ3等の酸化物、あるいはＴｉＣ、ＴｉＮ、ＳｉＣ
等よりなることを特徴とする請求項１、又は２記載の浮
動ヘッドスライダ。 - 【請求項４】 前記レール部を構成する高硬度な材料が
成膜により形成されることを特徴とする請求項３記載の
浮動ヘッドスライダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22413492A JPH0668632A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | 浮動ヘッドスライダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22413492A JPH0668632A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | 浮動ヘッドスライダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0668632A true JPH0668632A (ja) | 1994-03-11 |
Family
ID=16809081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22413492A Pending JPH0668632A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | 浮動ヘッドスライダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0668632A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5886856A (en) * | 1994-09-19 | 1999-03-23 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head slider assembly for magnetic disk recording/reproducing apparatus |
| US6497021B2 (en) | 1999-01-14 | 2002-12-24 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for providing a low cost contact burnish slider |
| US6591478B2 (en) | 1997-03-03 | 2003-07-15 | Alps Electric Co., Ltd | Method of producing magnetic head |
-
1992
- 1992-08-24 JP JP22413492A patent/JPH0668632A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5886856A (en) * | 1994-09-19 | 1999-03-23 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head slider assembly for magnetic disk recording/reproducing apparatus |
| US6025974A (en) * | 1994-09-19 | 2000-02-15 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head slider assembly for magnetic disk recording/reproducing apparatus |
| US6191923B1 (en) | 1994-09-19 | 2001-02-20 | Hitachi, Ltd. | Magnetic head slider assembly for magnetic disk recording/reproducing apparatus |
| US6591478B2 (en) | 1997-03-03 | 2003-07-15 | Alps Electric Co., Ltd | Method of producing magnetic head |
| US6497021B2 (en) | 1999-01-14 | 2002-12-24 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for providing a low cost contact burnish slider |
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