KR100233395B1 - 자기 헤드 슬라이더 어셈블리 - Google Patents

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KR100233395B1
KR100233395B1 KR1019950030407A KR19950030407A KR100233395B1 KR 100233395 B1 KR100233395 B1 KR 100233395B1 KR 1019950030407 A KR1019950030407 A KR 1019950030407A KR 19950030407 A KR19950030407 A KR 19950030407A KR 100233395 B1 KR100233395 B1 KR 100233395B1
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데루요시 히가시야
요시노리 다께우찌
사다노리 나가이께
가즈오 나떼
데쯔지 히가시지마
신스께 히구찌
시게오 나까무라
겐지 모리
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가나이 쓰도무
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Abstract

슬라이더 본체의 일단에 박막층으로 구성되는 자기 헤드를 탑재한 자기 헤드 슬라이더의 박막층에 자기 헤드의 코어를 포함하고, 슬라이더 본체의 블리이드면에서 디스크 대향면 방향으로 돌출하여 소자부 돌기를 형성한다. 소자부 돌기는 슬라이더 본체까지 연속되게 형성되지 않는다. 이에 따라 슬라이더 본체와 자기 헤드부의 가공 단차에 의한 영향을 제거할 수 있어서, 자기 헤드 슬라이더의 자기 헤드 코어를 최대로 자기 헤드에 근접시킬 수 있다.

Description

자기 헤드 슬라이더 어셈블리
제1도는 본 발명의 한 실시예를 도시한 자기 헤드 슬라이더의 사시도.
제2도는 자기 헤드 슬라이더의 부상(浮上) 모양을 도시한 개념도.
제3도는 제2도의 A부 확대도.
제4도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 사시도.
제5도는 제4도에 도시한 자기 헤드 슬라이더의 부상 개념도.
제6도는 제4도에 도시한 자기 헤드 슬라이더의 기능 설명도.
제7도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 사시도.
제8도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 사시도.
제9도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 평면도.
제10도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 사시도.
제11도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 측면도.
제12도는 제11도의 B부 확대도.
제13도는 종래의 자기 헤드 슬라이더의 사시도.
제14도는 종래의 자기 헤드 슬라이더의 부상 개념도.
제15도는 제14도에 도시한 자기 헤드 슬라이더의 D부 확대도.
제16도는 자기 디스크 장치의 평면도.
제17도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 측면도.
제18도는 제17도의 측면도.
제19도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 사시도.
제20도는 웨이퍼 상에 형성된 박막 자기 헤드의 모양을 도시한 사시도.
제21도는 절단된 박막 자기 헤드의 블럭을 도시한 도면.
제22도는 에칭 처리시의 사시도.
제23도는 완성된 박막 자기 헤드의 사시도.
제24도는 마스크의 평면도.
제25도는 제24도에 도시한 마스크의 확대도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 자기 헤드 슬라이더 5 : 자기 디스크
10 : 슬라이더 본체 11, 41, 71, 82, 91, 92, 230 : 부상 패드
130 : 섭동용 패드 20 : 자기 헤드 박막층
21, 40, 70, 80, 90. 100 : 소자부 패드
23, 101, 223 : 자기 코어 81 : 내마모 패드
본 발명은 자기 디스크 장치용 자기 헤드 슬라이더에 관한 것으로, 특히 자기 헤드와 디스크와의 간극[부상량(浮上量)]이 적고, 또는 접촉 기록(컨택트)에 의한 고기록 밀도에 최적인 자기 헤드 슬라이더 및 그 제조 방법 및 그것을 탑재한 자기 디스크 장치에 관한 것이다.
이런 종류의 자기 헤드 슬라이더로서 자기 헤드 슬라이더 표면에 패드를 설치한 것이 공지되어 있다. 예를 들면, 일본국 특허 공개 평6-36488호에서는 슬라이더 본체에 부상력을 발생시키는 1쌍의 패드 또는 레일[일본국 특허 공개 평6-36488호에서는 부상면(8)으로 칭하고 있다]을 설치하고 있다. 이 부상면(8)의 후단부에는 자기 변환기 및 박막층을 연속면으로서 포함하도록 형성되어 있다. 일본국 특허 공개 평6-52645호에 개시된 공기 지지 방식의 슬라이더는 소화, 경량화하기 위하여, 대향하는 사이드에 배치된 1쌍의 패드와 자기 헤드 슬라이더의 후단부에 설치된 패드를 구비하고 있고, 이들 패드는 오목(凹)부에 의해 구획되어 있다. 이 중에서 후단부에 설치된 패드는 슬라이더 본체와 자기 변환기 및 박막층을 포함하도록 이것들을 연속면으로 하여 형성되어 있고, 슬라이더 본체와 동일 재료로 형성되어 있다(일본국 특허 공개 평6-52645호 6열, 15-21행, 24-27행 참조).
또한, 일본국 특허 공개 평6-68632호에서는 사이드 레일의 상면에 홈이 발생하는 것을 방지하기 위하여 사이드 레일을 박막 헤드 소자 측에 배치하는 볼록(凸)부(51, 52)와, 상기 볼록부에서 홈부를 통하여 자기 매체 진입측으로 분리하여 위치하는 가늘고 긴 레일부로 구성되어 있다. 상기 박막 헤드 소자측에 위치하는 볼록부(51, 52)는 슬라이더 본체와 동일 재료로 형성되어 있다(일본국 특허 공개 평6-68642호 3열, 21-24행, 45-49행 참조).
제13도는 종래의 자기 헤드 슬라이더 사시도이다. 또한 제14도는 상기 종래의 자기 헤드 슬라이더의 부상 개념도이고, 제15도는 제14도의 D부 확대도이다. 종래 기술에 있어서의 자기 헤드 슬라이더(200)에서는 부상면을 평활하게 하기 위하여 부상 패드(230)을 연마하면 이 연마시에 슬라이더 본체(210)에 설치된 부상 패드(211)와 자기 변환기(220)(그 박막층도 포함한다)에 설치된 부상 패드(221)은 그것들을 구성하는 재료의 경도의 상이함에 기인하여 양자 사이에 단차 Hd(이후, 가공 단차라 한다)가 발생한다(제15도). 이 가공 단차 Hd는 자기 변환기부의 부상 패드가 슬라이더 본체의 부상 패드에 비하여 부드럽기 때문에 빠르게 연마(다량으로 연마)되기 때문에 생긴다. 여기에서, 슬라이더 본체의 패드는 부상력 발생용 패드에서도, 부상면에서도, 또한 박막 헤드 소자측에 위치하는 볼록부에서도 동일한 가공 단차가 생기는 것은 분명하다.
그런데, 고기록 밀도를 달성하기 위해서는 자기 디스크에 대한 슬라이더의 부상량을 최소화하지 않으면 안된다.
그러나, 부상량을 협소화해 가면 상술한 가공 단차 Hd가 있을 경우에는 자기 헤드의 코어(소자)(223)의 부상량 Hm보다 슬라이더 본체의 부상 패드의 부상량 Hs가 낮아진다.
그래서, 더욱 부상량을 저하시키면, 자기 변환기의 코어(소자)부와 자기 디스크 표면이 접촉하기 전에 슬라이더 본체의 패드와 자기 디스크가 접촉한다. 구체적으로는 종래의 슬라이더에서는 상술한 바와 같이, 슬라이더 본체의 패드(211)에 연속하여(접합하여) 자기 헤드부의 부상 패드(221)이 설치되어 있기 때문에, 자기 헤드부의 부상 패드(221)보다 앞에 슬라이더 본체의 부상 패드의 단면(211)이 디스크면(5)에 접촉되어 있다. 이렇기 때문에, 부상량을 가공 단차 Hd 이하로 협소화할 수 없었다. 또한, 자기 헤드와 자기 디스크와의 접촉이 되지 않아서 실질적으로 컨택트 기록을 할 수 없었다. 이 문제는 자기 헤드를 디스크 회전시에 자기 디스크와 접촉시키는 접촉 기록(컨택트 기록)을 행할 때에도 생긴다. 이 가공 단차는 고기록 밀도화하는데 있어서 중대한 장애가 된다.
본 발명의 목적은 가공 단차에 의해 영향을 받지 않는 자기 헤드 슬라이더 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 가공 단차에 의한 영향을 없앰으로써, 자기 헤드 슬라이더의 저부상량화 또는 컨택트 기록의 장애가 되고 있는 원인을 해결하여 고기록 밀도화를 가능케하는 자기 디스크 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 슬라이더 본체의 박막층에 있어서, 그곳에 형성된 자기 헤드의 코어를 포함하는 부분만 돌출시킨 자기 헤드 슬라이더 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 대상이 되는 자기 헤드 슬라이더는 슬라이더 본체와 이 슬라이더 본체의 한쪽에 설치된 박막층에 형성된 자기 헤드를 구비한다. 이 슬라이더 본체에는 부상용 레일, 또는 컨택트용 패드가 돌기부로서 블리드면에서 디스크면에 대향하는 방향으로 돌출되어 설치된다.
본 발명은 박막층에 형성되는 자기 헤드의 코어를 포함하고 슬라이더 본체의 블리드면에서 디스크 대향면 방향으로 돌출하여 소자부 돌기를 형성하는 것이다. 이 소자부 돌기는 자기 헤드의 코어를 포함하고, 박막층의 소정의 영역에서 독립하여 형성되는 것이다. 또한, 이 소자부 돌기는 박막 영역에서 독립하여 돌출되어 있으므로, 예를 들면 슬라이더 본체에 패드 등의 돌기부가 설치되어 있는 자기 헤드 슬라이더에서도 돌출된 상태로 슬라이더 본체에 설치된 상기 돌출부까지 연속하여 설치되어 있지 않다. 이 때문에, 자기 디스크 장치에 있어서는 디스크면에 대하여 슬라이더 본체의 블리드 면은 디스크면으로부터 멀어지는 방향으로 소자부 돌기의 높이만큼 후퇴되어 위치하게 된다.
이러한 종류의 자기 헤드 슬라이더는 슬라이더 본체가 되는 기판 상에 박막 형성에 의해 자기 헤드를 구성함으로써 제조된다. 특히, 상기 소자부 돌기는 박막층의 자기 헤드가 형성되는 소정의 위치에 에칭용 마스크를 형성하고, 슬라이더 본체와 자기 헤드의 디스크 대향면의 에칭용 마스크가 형성되어 있지 않은 면을, 예를 들면 이온 에칭으로 삭제함으로써 형성된다.
본 발명의 구성에 따르면, 자기 헤드의 소자부가 슬라이더 본체의 패드 등의 돌기부보다도 자기 디스크에 가장 근접한 거리의 관계 또는 자기 디스크와 접촉하는 관계가 된다. 따라서, 슬라이더 본체에 설치된 패드와 자기 헤드의 소자부 돌기와의 높이 사이에 가공 단차가 존재하는 경우에도 슬라이더는 소정의 각도로 안정적으로 부상 또는 자기 디스크와 접촉한다. 또한, 슬라이더 본체에 설치된 패드를 자기 헤드의 소자부 돌기에서 슬라이더의 앞쪽 가장자리 측으로 소정의 거리만큼 떨어뜨림으로써 슬라이더 본체 패드의 단면보다도 자기 헤드의 소자부 돌기의 부상량이 적어져서 최소 부상량이 된다. 즉, 자기 헤드의 부상량을 상기 가공 단차 이하로 협소화할 수 있게 딘다. 또한, 자기 헤드가 컨택트 기록을 행할 때에도 자기 헤드의 실질적인 컨택트 기록이 가능해 진다.
따라서, 부상면을 연마함으로써 생기는 슬라이더 본체의 패드와 자기 변환기의 가공 다나에 의한 저부상량화의 장애를 실질적으로 없앨 수 있게 된다.
제1도는 본 발명의 한 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 사시도이다. 또한 제16도는 자기 헤드 슬라이더를 탑재한 자기 디스크 장치의 외관도를 도시하고 있다. 장치는 커버(도시하지 않음)에 의해 밀폐 구조로 되어 있지만, 제16도는 커버를 제거한 것이다. 자기 디스크(162)는 스핀들(163)에 장착되어 모터에 의해 소정의 회전수로 회전한다. 자기 헤드 슬라이더(161)은 레버(167)에 고정되고, 레버(167)은 아암(164)에 설치되어 있다. 아암(164)는 액츄에이터(165)에 연결되어 있다. 액츄에이터(165)는 스핀들(166)을 중심으로 하여 아암(164)를 회전 구동시킴으로써 자기 헤드 슬라이더(161)을 자기 디스크(162)의 목적 트랙 위치로 위치 결정한다.
이 부상형 자기 헤드 슬라이더의 구성이 제1도에 도시되었다. 제1도에서 자기 헤드 슬라이더(1)은 슬라이더 본체(10)과 이 슬라이더 본체의 후단에 설치된 박막층으로 구성되는 자기 헤드 혹은 자기 변환기(20)으로 이루어진다. 슬라이더 본체에는 블리드면(13)에서 돌출하여 2개의 부상 패드(11)이 설치되어 있다. 이 패드(11)은 부상 레일이라고 칭한다. 자기 헤드(20)은 코어(혹은 소자라고 한다)(23)을 포함하고 있고, 이 자기 헤드(20)의 코어(23)을 포함하여 소자부 패드(21)이 설치되어 있다. 이 소자부 패드(21)은 슬라이더 본체(10)의 블리드부(13)에서 자기 디스크 대향면측(부상면측)으로 돌출되어 있다.
상기 부상 패드(11)은 직사각형의 레일 형상을 이루고 있고, 테이퍼부(11)과 플랫부(12)를 갖고 있다. 부상 패드(11)의 단면(113)은 소자부 패드(21)과 구조상 돌출된 상태로 늘어서지 않고 소정의 거리 1만큼 슬라이더의 앞쪽 가장자리측 즉 테이퍼측에 떨어져 독립하여 성형되어 있다. 즉, 자기 헤드(20)에 설치된 소자부 패드(21)과, 슬라이더 본체(10)에 설치된 부상 패드의 단면(113)의 사이에는 스페이스(12)가 존재한다. 이 스페이스(12)는 블리드면(13)과 동일한 높이이다. 바꾸어 말하면, 소자부 패드(21)과 부상 패드(11)은 블리드면보다 돌출되어 있지만, 스페이스(12)를 사이에 두고 있으므로 구조상 돌출된 상태로 양자는 연결되어있지 않다.
본 실시예의 부상 개념도인 제2도 및 그 A부 확대도인 제3도에 도시되어 있는 바와 같이 슬라이더 본체(10)의 블리드면(13)에서 소자부 패드(21)의 대향면까지의 높이 Hh는 블리드면(13)에서 부상 패드(11)의 플랫부(113)까지의 높이 Hr과 대략 동일하게 되어 있다.
자기 헤드(20)은 코일(24), 접속 패드(25), 기저막(27), 보호막(28)로 구성되어 있다. 상기 소자부 패드(21)의 크기는 본 실시예에서는 40㎛×20㎛의 구형(矩形)이고, 그 높이는 약 20㎛이다. 본 실시예와 같이 40㎛×20㎛의 작은 구형으로 함으로써 소자부 패드(21)은 부상력을 거의 발생하지 않고, 슬라이더의 부상 특성은 2개의 부상 패드(11)의 부상 특성에 의해 결정된다. 자기 헤드의 박막층(20)의 두께는 본 실시예에서는 약 50㎛이고, 40㎛×20㎛의 소자부 패드(21)을 설치하는데 하등의 문제가 없다. 본 실시예의 슬라이더 본체의 길이는 20m, 폭은 1.6㎜, 높이 0.4㎜이다. 그러나, 슬라이더 본체의 치수와 형상은 상기한 것에 한정되는 것은 아니다. 또한, 소자부 패드(21)의 크기도 40㎛×20㎛의 크기일 필요는 없고, 자기 헤드 박막층(20)의 두께보다 얇고 이 박막층 속에 형성되는 것이라면, 어떠한 형태라도 좋다. 또한 제3도에 도시한 바와 같이, 소자부 패드는 자기 헤드의 코어(23)을 기저막(27)과 보호막(28)에 끼우도록 설치되어 있고, 이 패드를 성형할 때에 패드 형상에 맞추어 코어의 형상을 변환시키는 것은 아니다.
또한, 상술한 바와 같이, 본 실시예에서는 슬라이더 본체의 블리드면(13)에서 부상 패드의 플랫부(112)까지의 높이 Hr과, 소자부 패드(21)까지의 높이 Hh는 같은 높이이며, 모두 20㎛로 함으로써 블리드면(13)에서의 부상력의 발생을 없앨 수 있다. 이에 따라, 자기 헤드 슬라이더에서는 2개의 부상 패드(11)의 설계만으로 소정의 부상 특성을 실현할 수 있게 된다.
제2도에 도시한 바와 같이, 자기 헤드 슬라이더(1)은 회전하는 자기 디스크(5)상에 디스크와의 상대 운동에 의해 자기 부상 패드(11)로 동압력을 발생하고, 소정의 입사각을 갖고 부상하고 있다. 이것은 부상 패드(11)의 유입 단부에 테이퍼부(111)을 설치하고 있기 때문이다. 또한, 슬라이더 본체에 설치한 부상 패드의 단면(113)은 박막 소자부(21)에 접하지 않고 소정의 거리를 슬라이더의 앞쪽 가장자리측(테이퍼부측)으로 떨어져서 성형되어 있다.
또한, 자기 디스크 표면에서 자기 헤드의 코어(23)까지의 거리 Hm이 플랫부(112)의 에지(112a)까지의 거리Hs보다 작아져서 자기 헤드의 코어(23)의 부상량 Hm이 최소 부상량이 된다.
더욱 상세히 설명하면, 슬라이더 본체의 부상 패드와 소자부 패드의 경도의 차이에 의해 연마량의 차가 발생하고, 블리드면으로부터의 부상 패드까지의 높이 Hr보다도 소자부 패드의 높이 Hh가 낮아진 경우라도(Hr>Hh인 경우라도) 입사각을 갖는 부상 자세각으로 되어 있고 또한, 부상 패드의 단면(113)과 소자부 패드(21)이 떨어져 있기 때문에 자기 헤드의 코어(23)이 최소 부상량 Hm이 될 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 상기 본 발명의 실시예에 의해 저부상량화의 장애가 되고 있던 가공 단차의 악영향을 실질적으로 없앨 수 있게 되어, 저부상량화에 의한 고기록 밀도를 달성할 수 있게 된다.
본 실시예에서 설명한 부상 패드(11), 소자부 패드(21)은 구형이므로 기계 가공으로 제작할 수 있다. 또한, 이온 밀링, 에칭, 또는 박막 증착에 의해 제작할 수도 있다. 기계 가공은 가격이 저렴하게 제작할 수 있는 이점이 있고, 이온 밀링, 에칭 또는 박막 증착은 임의의 형상의 가공이 가능한 이점이 있다.
또한, 자기 디스크면에 대한 자기 헤드의 부상량이 더욱 저하하고 부상 패드(11)은 디스크면과 비접촉으로 부상하고 있고, 소자부 패드(21)의 디스크 대향면의 일부, 구체적으로는 보호막(28)의 일부(28a)가 자기 디스크(5)의 표면과 연속 접촉하여 데이타의 판독과 기록 동작을 행하는 경우에도 본 실시예는 유효하다. 이와 같이, 소자부 패드(21)을 디스크면과 연속 섭동시킴으로써 자기 디스크의 자성층(도시하지 않음)과 자기 헤드 코어(23)의 간극을 극한까지 협소화할 수 있게 되어, 이에 따라 비약적인 기록 밀도의 향상을 실현할 수 있다.
여기에서, 보호막(28)의 자기 디스크와의 접촉부에 테이퍼 가공 또는 모깍기를 행하여도 좋다. 이에 따라, 코어(23)과 자기 디스크(5) 표면을 더욱 근접시킴과 동시에 접촉시의 데미지를 저감시켜 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 개략도를 제4도에 도시하였다. 상기 자기 헤드 슬라이더는 소자부 패드가 자기 헤드(20)의 폭방향의 중심부에 1개 설치된다.
상기 제1실시예와 마찬가지로, 부상 패드(42)의 단면(413)은 소자부 패드(40)과 접촉하지 않고 소정의 거리 슬라이더의 앞쪽 가장자리측(테이퍼측)으로 떨어져 성형되어 있고, 부상 패드의 단면(413)은 소자부 패드(40)의 사이에는 스페이스(42)가 존재한다. 본 실시예에서는 상기 제1실시예와 마찬가지로 저부상량화의 장애가 되는 가공 단차의 영향을 실질적으로 없앨 수 있게 된다.
여기에서, 슬라이더 본체(10)의 전장(全長)은 1㎜, 폭은 0.8㎜, 높이는 0.3㎜, 부상 패드(41) 길이는 0.8㎜(슬라이더 전장의 약 80%)이다. 블리드(43)로부터 부상 패드(41)의 부상면까지의 높이 Hr과 소자부 패드(40)의 디스크 대향면까지의 높이 Hh는 약 20㎛이다. 슬라이더의 형상은 특히 이와 같은 형상일 필요는 없지만, 부상 패드 길이는 슬라이더의 앞쪽 가장자리로부터 슬라이더 전장의 약 80%의 길이로 성형되어 있다. 바꾸어 말하면, 부상 패드의 단면(413)의 소자부 패드(40)으로부터 슬라이더 전장의 약 20%의 거리만큼 떨어져 형성되어 있다.
이하에, 그 이유를 설명한다. 부상 패드(41)과 소자부 패드(40)은 부상면의 평면도를 확보하기 위한 연마에 의해 10nm 높이의 차가 발생된 경우를 가정한다. 또한, 제5도에 도시한 바와 같이, 본 실시예의 부상 패드는 테이퍼부(411)과 플랫부(412)로 이루어지고, 자기 헤드 코어의 부상량 Hm과 테이퍼부(411)과 플랫부(412)의 경계의 부상량 Hi의 비(Hi/Hm)는 약 2로 설계되어 있다. 일반적으로 이 부상량의 비(Hi/Hm)은 극간비로 불리는 2 내지 3으로 설계되는 경우가 많다. 또한, 본 실시예의 부상량 Hm은 50nm로 가정하고 있다. 이와 같은 부상 자세로 부상하고, 자기 헤드 코어부의 부상량 Hm이 부상 패드의 최소 부상량 Hs보다도 작아지도록 하기 위해서는 부상 패드의 단면(413)을 슬라이더의 유입단으로부터 전장의 약 80% 이내에 설치하면 좋고, 이 때문에 본 실시예에서는 부상 패드 길이가 0.8㎜로 되어 있다. 즉, 부상 패드 단면(413)은 소자부 패드(21)로부터 슬라이더 전장의 약 20% 떨어져 설치되어 있다. 그러나, 극간비가 2보다 크게 설계되어 있는 경우에는 부상 패드의 단면(413)은 더욱 소자부 패드(40)에 근접한 위치에 설치해도 좋은 것은 분명하다.
또한, 본 실시예에서는 소자부 패드(40)을 자기 헤드(20)의 폭방향(자기 헤드 슬라이더의 짧은 쪽 방향)의 중심에 설치함으로써 제6도에 도시한 바와 같이, 어떠한 원인으로(예를 들면 시크 가속도 등에 의해) 슬라이더가 기울어진 경우에도(표면에서는 점선으로 표시), 자기 헤드 코어의 부상량 Hm은 거의 변화하지 않고, 안정된 부상을 실현할 수 있다. 이에 따라, 데이터의 판독, 기록의 오동작이 없고 신뢰성이 높은 자기 디스크 장치를 공급할 수 있게 된다.
제7도는 본 발명의 또 다른 실시예인 자기 헤드 슬라이더의 사시도이다. 본 실시예에서도 상술한 실시예와 마찬가지로, 박막층으로 구성되는 자기 헤드(20)의 폭방향(자기 헤드 슬라이더의 짧은쪽 방향)의 중앙부에 설치된 소자부 패드(70)과 소정의 거리를 두고 슬라이더 본체(10)의 패드(71, 72)를 설치하고 있다. 본 실시예와 같이 슬라이더 본체에 설치된 패드가 복수인 경우에는 소자부 패드(70)에 가장 가까운 패드[센터 레일(72)]를 소정의 거리를 두고 설치하면 좋다. 이에 따라 가공 단차의 영향을 없게 하여 저부상량화할 수 있다.
또한, 본 실시예에 있어서, 슬라이더 본체의 패드에는 부상 패드(71)과 센터 레일(72)가 있다. 부상 패드(71)은 다음과 같은 구성을 하고 있다. (1) 부상 패드에 잘록한 부분을 마련하여 블리드면에 부압력 발생 포켓을 설치하였다. (2) 부상 패드의 단면(711)을 슬라이더의 폭방향의 중심선 C에 근접함에 따라 슬라이더의 후방으로 연장(경사)시켰다. 센터 패드(72)는 다음 구성을 취하고 있다. (3) 센터 패드의 후단이 소자부 패드(70)에 근접함에 따라 넓어지고 있다. (4) 부(-)압력 발생 포켓 깊이(블리드 길이)를 6㎛로 얕게 하고 있다.
그래서, 본 실시예에서는 또한 다음과 같은 효과가 있다. 부압력 발생 포켓 깊이를 6㎛로 제1실시예의 부상 슬라이더 깊이에 비해 얕게함과 동시에, 부상 패드에 잘록한 부분을 마련하여 포켓 형상으로 함으로써 부압력 발생 효과를 갖게 할 수 있게 된다. 부압력이란 대기 압력보다도 낮은 압력으로, 슬라이더를 디스크면으로 끌어당기는 힘이다.
이렇게 함으로써, 디스크 반경 위치가 상이함(즉, 주변 속도, 요우잉각)에 의한 부상량의 차를 없게 하여, 디스크의 내주(內周)로부터 외주(外周)까지 균일한 부상량을 실현할 수 있게 된다. 구체적으로 설명하면, 디스크의 내주에서 외주로 이동함에 따라 증속하는 디스크 주변 속도에 의해 (1) 부압력 발생 포켓은 부상 패드(71)에 발생하는 부상력의 증가를 상쇄시키도록 부압력을 발생시켜 디스크의 전역(전반경 위치)에서 일정 부상량을 실현한다. 이에 따라, 각 반경 위치에서의 선 기록 밀도(Bit Per Inch)를 일정하게 하여 CDR(Constant Density Recording)이 가능해 진다. 또한, 부상 패드(71)에 잘록한 부분을 마련하여 부상 패드 단면(711)을 향하게 헤드폭을 넓게 하고, 이 단면을 소자부 패드(70)에 향하도록 경사지게 설치함으로서 시크시의 공기 흐름이 부상 패드에 경사지게 입사하여도 공기 압력의 발생 효율이 저하하지 않기 때문에 소정이 부상량을 확보할 수 있다. 또한 센터 패드(72)를 설치함으로써, 시크시(또는 요우잉각 발생시)에도 좌우의 부상 패드(71)에 설치된 부압력 발생 포켓의 부압력의 간섭을 없애고, 안정된 부압력을 발생시킬 수 있게 된다. 또한, 센터 패드(72)를 소자부 패드(70)에 근접함에 따라 넓어짐으로써, 자기 헤드 근방의 공기막의 강성을 향상시켜 디스크 추종 성능을 개선하는 일이 가능하다. 이렇게 함으로써, 자기 헤드의 패드의 안정 부상을 실현할 수 있게 된다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 자기 헤드 슬라이더의 사시도를 제8도에 도시한다. 이것은 소자부 패드(80)의 마모를 방지하기 위하여, 자기헤드의 코어를 포함하지 않은 내마모 패드(81)을 상기 소자부 패드(80)의 양측에 설치한 것이다. 이들 내마모 패드(81)은 소자부 패드(80)과 마찬가지로 자기 헤드의 박막층(20)에 성형되어 있고 그것들의 높이는 동일하다. 본 실시예의 내마모 패드(81)은 소자부 패드(80)과 같은 크기의 구형이지만, 자기 헤드의 박막층(20)에 형성되어 있다면 특히 동일한 형상(크기)일 필요는 없다. 본 실시예와 같이 내마모 패드(81)을 설치함으로써, 상기 상술한 실시예에서 설명한 바와 같이 Hm을 최저 부상량으로 할 수 있다. 또한, 소자부 패드(80)이 어떤 이유에 의해 연속 섭동한 경우, 또는 디스크 기동시에 슬라이더와 디스크가 연속 섭동하여 소정의 회전 속도에 도달했을 때에 슬라이더가 디스크상으로 부상하는 CSS(Cantact Start Stop방식)을 채용하는 자기 디스크 장치의 경우에 있어서, 내마모 패드(81)이 접촉력을 소자부 패드(80)과 분담하여 지지하기 때문에 소자부 패드(80)이 연속 접촉하여 마모 손상을 발생하는 문제가 적어진다. 이에 따라, 신뢰성이 높은 자기 헤드 슬라이더를 공급할 수 있게 된다.
본 실시예에서는 소자부 패드(80), 내마모 패드(81)을 구형으로 하였지만, 특별하게 구형일 필요는 없고, 먼지 배제 효과를 기대할 수 있는 3각형 또는 각부가 없고 내마모성에 우수하다고 생각할 수 있는 원형 패드 등이라도 좋다.
또한, 소자부 패드의 내섭동 성능을 향상시키기 위하여 상기 패드의 디스크 대향면 및 부상면 패드면에 보호막은 설치하여도 좋다. 보호막으로서는 카본(C)막, 실리콘(Si)막, 산화 실리콘(SiO2)막 등이 있다. 이들 막을 단층 또는 몇층인가로 조합시켜 이용함으로써 내섭동 성능에 우수하고 신뢰성이 높은 자기 헤드 슬라이더를 실현할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예인 자기 헤드 슬라이더의 자기 디스크 대향면측의 개략도를 제9도에 도시하였다. 이것은 자기 헤드(20)의 폭방향의 중앙부에서 부상 패드(91)에서 소자부 패드(90)에 근접한 위치에 센터 패드(92)를 설치한 것이다. 여기에서, 슬라이더 본체에 설치된 패드(91, 92) 중에서 소자부 패드(90)에 가장 가까운 센터 패드(92)를 소자부 패드(90)로부터 소정의 거리만큼 떨어뜨려서 양자의 사이에 스페이스(93)을 설치함으로써 상기 제1~제4실시예와 마찬가지로 가공 단차의 영향을 없앨 수 있다.
또한, 다음과 같은 잇점이 또 있다. (1) 자기 헤드 주위의 공기막 강성을 높여 자기 디스크로의 추종성을 양호하게 할 수 있다. 이 결과 리드/라이트 특성을 향상시킬 수 있다. (2) 어떤 이유로 슬라이더와 디스크가 접속한 경우에 소자부 패드(90)이 받는 데미지를 저감하여, 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 의한 자기 헤드 슬라이더의 사시도를 제10도에 도시하였다. 이 자기 헤드 슬라이더는 접촉 기록(컨택트 기록)을 실현하기 위한 것이다.
슬라이더 본체(10)의 디스크 대향면에 설치된 섭동용 돌기(130)은 원주형이고, 그 높이 Hs는 20㎛, 그 직경 Ds는 약 30㎛이다. Hs를 10㎛ 이상으로 함으로써 자기 디스크(5)의 회전에 따라 발생하는 공기 흐름의 영향을 작게 할 수 있고, 그것을 20㎛ 이상으로 함으로써 공기 흐름의 영향을 없앨 수 있다. 구체적으로는, 슬라이더 본체(10)의 블리드면(131)이 공기 흐름에 의해 부상력을 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 섭동용 돌기(130)의 직경 Ds를 약 30㎛로 함으로써 섭동용 돌기(130)에 의한 부상력을 거의 없앨 수 있다. 이 때문에, 슬라이더 본체(30)은 자기 디스크의 회전에 수반하여 발생하는 공기 흐름의 영향을 받지 않고, 자기 디스크면과 안정 접촉할 수 있게 된다. 또한, 섭동용 돌기(130)을 원주 형상으로 함으로써 각부(에지)를 없앨 수 있기 때문에, 섭동시의 자기 디스크의 데미지(마모등)을 경감할 수 있다. 이 효과는 시크 동작시(자기 헤드를 디스크 반경 방향으로 이동하는 동작)에 특히 효과가 크다. 이것은 섭동용 돌기를 예를 들면, 구형으로 했을 경우에는 시크시에 그 각부가 디스크와 섭동하기 때문이다.
또한 박막 자기 헤드(20)의 디스크 대향면에 소자부 돌기(100)이 설치되어 있다. 이 3개의 돌기는 자기 디스크(5)와 안정되게 접촉한다. 강압력 W를 자기 헤드 슬라이더(1)에 공급하기 위하여, 섭동용 돌기(130)과 소자부 돌기(100)에 부상력이 발생하여도 또는 어떤 이유에 의해 슬라이더가 디스크면에서 떨어지게 되어도 소자부 돌기(100)은 자기 디스크(5)와 안정되게 접촉하고, 리드/라이트 시의 오동작이 없이 신뢰성이 높은 자기 헤드 슬라이더를 제공할 수 있다.
이를 위하여, 가공 단차에 의해 소자부 돌기(100)의 높이 Hh와 섭동용 돌기(110)의 높이 Hs가 상이한 경우라도 본 발명에 의해 소자부 돌기(100)과 자기 디스크를 안정적으로 접촉할 수 있다.
제12도에 제11도의 B부 확대도를 도시하였다. 상기 실시예와 마찬가지로, 소자부 돌기(100)은 박막 자기 헤드(20)을 구성하는 박막에만 구성되어 있다. 즉 소자부 돌기(100)은 슬라이더 본체(10)을 포함하지 않고, 그것과는 독립하게 설치되어 있다. 소자부 돌기(100)의 구체적인 구성은 기저막(102), 하부 소자(코어:101b), 상부 소자(코어:101a), 보호막(103)으로 구성되어 있다. 또한 소자부 돌기(100)을 성형하는 방법을 상세히 설명하면, 박막 자기 헤드(20)을 구성하는 기저막(102)와 보호막(103)의 일부를 소자(101)을 사이에 끼운 만큼, 즉 소자(101)이 노출되지 않은 만큼 기저막(102)와 보호막(103)을 남기고 삭제한다. 기저막(102) 보호막(103)을 남기는 이유는 소자(101)이 노출되면 부식이 시작되기 때문이다.
또한, 섭동용 돌기(130)과 소자부 돌기(100)에 보호막(도시하지 않음)을 설치함으로써 섭동 성능을 향상시키고, 이에 따라 슬라이더의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 보호막으로서는 카본(C)막, 실리콘(Si)막, 산화 실리콘막(SiO2)등을 이용한다.
이상 상술한 바와 같이, 본 실시예에서는 자기 헤드 슬라이더(1)의 슬라이더 본체(10)에 상기 자기 디스크와의 섭동용 돌기(130)을 2개 설치하고, 또한 박막 자기 헤드(20)의 박막층에 소자부 돌기(100)을 1개 설치한다. 그리고, 상기 소자부 돌기(100)을 박막 자기 헤드(20)을 구성하는 박막만으로 형성하고, 그 높이를 상기 섭동용 돌기(130)의 높이와 대략 동일하게 한다. 이에 따라, 박막 자기 헤드(20)의 소자(코어:101)과 자기 디스크(5)와의 안정 접촉이 가능해져서, 선기록 밀도를 향상시킬 수 있다. 또한, 양자가 어떠한 원인으로 떨어짐으로써 리드/라이트의 에러가 발생하지 않게 되어 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예를 제17도와 제18도를 이용하여 설명한다. 본 실시예에서는 상기 실시예에서 자기 헤드 슬라이더의 슬라이더 본체(10)에 설치되어 있던 돌기, 즉 부상용 패드 또는 섭동용 돌기를 제거하고, 박막 자기 헤드(20)에 소자부 돌기(100)을 1개 설치한 것이다. 이 슬라이더는 3각형의 상의 박판 레버(167)의 끝단에 고정된다.
본 실시예의 특징으로서 자기 헤드 슬라이더와 자기 디스크의 접촉점(돌기의 총수)을 3점 내지 1점으로 함으로써 슬라이더 전체를 소형/경량화할 수 있게 된다. 이에 따라, 슬라이더 질량이 가벼워져서, 디스크와의 접촉 섭동시에 디스크에 주어지는 데미지를 적게할 수 있다. 또한, 디스크 진동에 대해서도 추종 특성이 향상하여 안정 접촉이 가능해진다. 또한, 접촉점을 갭부 돌기(41)의 1점으로 함으로써 디스크면의 작은 놀(홈)에도 추종할 수 있게 된다.
또한, 레버는 통상 피봇과 짐발을 갖지만, 이 구성에 의하면 그것들은 필요하지 않게 한 삼각 형상의 박판의 레버로 달성할 수 있다. 이 레버(167)의 슬라이더 설치면에는 절연막(181)을 피복한 프린트 배선(173)이 시설되어 있고, 그 끝부분은 강선(172)를 통하여 박막 자기 헤드의 단자 패드(171)과 접속되어 있다. 프린트 배선(173)에는 절연막(181)이 피복되어 있기 때문에 슬라이더를 레버(167)에 접착제로 직접 접착하여도 좋다. 이에 따라 지지 수단의 박형화가 가능해지고, 그 결과로서 장치 전체의 박형화도 가능해진다.
이상으로부터, 본 실시예에서는 신뢰성이 높고, 또한 소형/박형 자기 디스크 장치에 적합한 자기 헤드 슬라이더를 공급할 수 있다. 또한, 본 실시예에서도 소자부 돌기를 박막 자기 헤드(20)을 구성하는 박막만으로 구성할 수 있다. 물론, 슬라이더 본체에는 돌기부가 없기 때문에 박막 자기 헤드와의 가공 단차가 없이 디스크면과의 안정적인 접촉을 실현할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예를 제19도를 이용하여 설명한다. 본 실시예에서는 박막 자기 헤드(20)의 디스크 대향면에 스텝(단차:190)을 마련한 점이다. 이외의 사항은 상술한 실시예와 동일하다. 자기 디스크는 슬라이더 본체(10)에서 박막 자기 헤드(20)의 방향으로 회전하고 있다. 이 때문에, 자기 디스크의 회전에 수반하여 발생하는 공기 흐름은 자기 디스크와 슬라이더 본체(10)의 디스크 대향면(131)과 이루는 공기 유로를 통고하고, 그 후 박막 자기 헤드의 스텝(단차:190)으로 유도된다. 스텝(190)을 설치함으로써 유로가 확대되므로 스텝부에서는 부압력 Fn이 발생한다. 여기에서 스텝(단차:190)의 높이 Hr은 5㎛이다. Hr을 약 15㎛ 이상으로 하면 부압력이 급속히 작아지기 때문에 그것 이하로 설정할 필요가 있다. 부압력이란 대기압보다도 낮은 압력으로서 박막 자기 헤드(20)을 자기 디스크면으로 압박하는 힘이다. 이를 위하여 자기 디스크 회전시에 디스크가 진동하여도 또는 어떤 이유로 갭부 돌기(100)이 자기 디스크로부터 떨어지는 방향으로 외력이 작용하여도 갭부 돌기(100)을 자기 디스크에 안정하게 접촉시킬 수 있다. 이에 따라, 리드/라이트 시의 오동작이 없어져서 신뢰성이 높은 자기 헤드 슬라이더를 공급할 수 있게 된다.
여기에서, Hr은 Hr≤약 15㎛라면, Hr이 작아지는 만큼 부압력 Fn은 커지고, 실질적인 슬라이더 강압력 W가 증가한다. 이를 위하여 Hr은 신뢰성 확보의 관점에서 접촉면 압력 p[=(강압력 W+부압력 Fn)/접촉 면적 S]가 200kPa 이하로 되는 값을 선택하면 좋다. 또한, 본 실시예의 다른 특징으로서, 디스크 회전중의 접촉면 압력 P가 같더라도 디스크 정지시에는 부압력은 제로가 되기 때문에 부압력을 이용하지 않은 경우에 비하여 접촉면 압력을 작게할 수 있는 이점도 갖는다.
스텝(190)의 가공에는 기계 가공을 이용하여도 좋다. 또한, 섭동 돌기(130)과 갭부 돌기(100)을 이온 밀링 또는 에칭 등으로 성형하여도 좋다. 이 경우, 슬라이더 본체(10)과 박막 자기 헤드(20)의 재료의 상위에 따른 밀링 속도(에칭 속도)의 차이를 이용하여도 좋다. 일반적으로 슬라이더 본체(10)에 사용되는 알루미나 티탄 카바이트, 지르코니아에 비하여 박막 자기 헤드(20)의 기저막, 보호막으로 사용되는 알루미나의 쪽이 밀링 속도(에칭 속도)가 크다. 이 때문에, 슬라이더 본체(10)과 박막 자기 헤드(20)을 동시에 밀링하면, 밀링 속도의 차에 따라 양자간에 단차가 발생한다. 이 밀링 속도(에칭 속도)의 차를 이용하여 스텝(190)을 성형할 수도 있다.
다음에, 상술한 자기 헤드 슬라이더의 제조 방법에 대하여 제20도 내지 제25도를 이용하여 설명한다.
제20도에 도시한 바와 같이, 세라믹스 기판(웨이퍼:200), 예를 들면 알루미나 티탄 카바이트(AlTiC), 지르코니아(ZrO2) 웨이퍼상에 스퍼터링 등으로 박막 자기 헤드(40)을 성형한다. 박막 자기 헤드(40)은 IC 제로 프로세스와 동일한 프로세스에 따라 성형된 박막 소자로서 하부 자성막, 갭막, 상부 자성막, 코일막, 상간 절연막, 보호막 등으로 구성되어 있다.
다음에 제21도에 도시한 바와 같이, 박막 자기 헤드(40)을 성형한 웨이퍼(200)은 가늘고 긴 블럭(210)으로 절단된다. 여기에서는 4개분의 자기 헤드 슬라이더가 횡-열로 형성되어 있고, 블럭(210)의 웨이퍼 부분(230)이 슬라이더 본체가 되고, 자기 헤드의 박막층(220)이 자기 헤드가 된다. 박막 자기 헤드(220)의 갭(47)이 설치되어 있는 측의 박막층의 절단면이 자기 디스크와의 접촉면이 되고, 그것과 동일면에 있는 웨이퍼의 절단면 각각이 자기 디스크와의 접촉면(220, 230)이 된다. 여기에서 상기 박막 자기 헤드의 접촉면(220) 및 슬라이더 본체의 접촉면(230)을 자기 디스크와의 양호한 접촉을 가능케 하기 위한 평활화 및 갭 깊이의 조정을 목적으로 하여 래핑 등에 의해 소정의 면 짜임새와 갭 깊이가 얻어질 때까지 연마한다.
여기에서, 슬라이더 본체가 되는 세라믹 웨이퍼에 비하여, 박막 자기 헤드를 구성하는 박막층의 경도는 작아서(즉 연하여서) 절단하기 쉽기 때문에 슬라이더 본체의 접촉면(230)과 박막 자기 헤드의 접촉면(220) 사이에는 단차 소위 가공 단차가 생긴다. 이 가공 단차는 박막 자기 헤드의 접촉면(220)이 슬라이더 본체의 접촉면(230)에 대하여 후퇴한 단차가 된다.
한편, 제24도에 도시한 바와 같이, 섭동용 돌기(130) 및 갭부 돌기(100)을 형성하기 위하여 마스크(300)이 준비된다. 이 마스크(300)은 IC의 제조 프로세스 등에 이용되는 레지스트용 마스크로서, 섭동용 돌기(130)과 갭부 돌기(100)의 각각의 형상에 따른 형상에 따른 형상의 마스크부(310, 320)을 설치하고 있다. 구체적으로는 섭동 돌기용 마스크는 슬라이더 본체에 형성되는 섭동용 돌기와 같은 직경 약 30㎛의 원형 마스크이다. 또한, 갭부 돌기용 마스크는 박막 자기 헤드를 구성하는 박막층에 형성되는 갭부 돌기와 같은 약 40㎛×20㎛의 구형 마스크이다. 갭부 돌기용 마스크는 갭, 상부 및 하부 자성막 및 기저막과 보호막의 일부를 피복하도록 설치되어 있고, 자기 헤드의 접촉면(220)에만 설치되어 있다.
제24도에 도시한 바와 같이, 갭부 돌기용 마스크(320)은 2개의 섭동 돌기용 마스크(310)의 중심선(410)의 선상에, 슬라이더 본체의 접촉면(230)으로부터 소정의 거리, 여기에서는 Lg만큼 떨어져서 박막 자기 헤드의 접촉면(220)에 설치되어 있다. 또한, 하부 자성막(42a), 갭막(47), 상부 자성막(42b)를 둘러쌓도록 박막 자기 헤드의 기저막(44), 하부 자성막(42a), 갭막(47), 상부 자성막(42b)와 보호막(45)를 포함하는 영역에 설치한다.
다음에 제22도에 도시한 바와 같이, 상기한 마스크를 이용하여 에칭 가공을 행하여 마스크 없는 부분을 파내어 삭제한다. 본 실시예에서는 아르곤(Ar) 이온을 이용하여 에칭을 행하지만, 특별하게 아르곤(Ar) 이온으로 행할 필요는 없다. 에칭 가공에 의해 마스크없는 부분이 삭제되어 제거되기 때문에 마스크가 설치된 부분이 그대로 남아서 돌기부가 된다.
그 후, 이 에칭 가공 후에 마스크의 박리를 행하고, 그 후 경계선(400)에 따라서 절단함으로써, 제23도에 도시한 1개의 자기 헤드 슬라이더를 얻을 수 있다.
본 실시예에서는 섭동용 돌기와 갭부 돌기를 성형하는 방법으로서 에칭 가공을 이용하지만, 이것 대신에 절삭 등의 기계 가공을 이용하여도 좋다. 구체적으로는 마스크부 이외의 부분을 글라인더 등으로 절삭하여 제거하면 좋다. 기계 가공은 싼 가격으로 제작 가능한 잇점을 갖지만 한편 복잡하여 정밀한 형상, 특히 곡면을 갖는 가공에는 불충분하다. 이에 대하여, 에칭 가공에서는 복잡한 형상의 정밀 가공에 적합하다. 그러나, 에칭 속도가 늦어서 가공에 긴시간을 들인다. 구체적으로는 일반적인 에칭 속도는 1시간당 수 ㎛ 내지 수십 ㎛으로, 큰 가공에는 부적합하다. 이 때문에, 섭동용 돌기와 갭부 돌기의 형상에 맞추어 최적의 가공 방법을 선택하면 좋다. 또한, 부상용 패드의 경우도 상기와 같은 방법으로 형성할 수 있다.
본 발명에 따르면, 슬라이더 본체와 자기 헤드 소자부의 가공 단차를 실질적으로 없앨 수 있다. 이 때문에, 자기 헤드의 저부상량화, 또는 자기 헤드와 자기 디스크와의 안정적인 접촉이 가능해져서 고기록 밀도화를 실현할 수 있다.

Claims (9)

  1. 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리에 있어서, 슬라이더 본체; 상기 슬라이더 본체의 일단에 배치된 박막층; 상기 박막층으로 구성되는 자기 헤드; 및 상기 자기 헤드가 합체되어 있는 상기 박막층 상에 설치되며, 상기 슬라이더 본체 부분을 포함하지 않고, 바로 앞에 있는 상기 슬라이더 본체의 인접하는 디스크 대향면을 지나서 자기 디스크를 향하여 돌출되도록 형성되어 있는 코어 패드 돌기(core pad projection); 및 상기 슬라이더 본체와 상기 자기 디스크 간의 상대 운동을 이용하여 부상력(floating force)을 발생시키기 위하여 상기 코어 패드 전방의 상기 슬라이더 본체의 영역에 설치되며, 상기 슬라이더 본체의 상기 영역의 디스크 대향면을 지나서 돌출되도록 형성되어 있는 부상 패드(floating pad)를 구비하고, 상기 코어 패드 돌기 및 상기 부상 패드는 재질이 상이하며, 또한 상기 코어 패드 돌기와 상기 부상 패드와의 사이에 개재(interposed)되는 오목부에 의해 상기 슬라이더 본체의 세로 방향으로 선정된 거리로 서로 분리됨으로써, 상기 코어 패드의 후단이 상기 슬라이더 본체의 상기 디스크 대향면에서 돌출하는 거리와 거의 동일하거나 또는 그보다 긴 거리로 상기 부상 패드의 후단이 상기 슬라이더 본체의 상기 디스크 대향면에서 돌출하더라도, 상기 코어 패드 돌기의 후단이 상기 부상 패드의 후단보다 상기 자기 디스크에 근접하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리.
  2. 제1항에 있어서, 상기 슬라이더 본체는 직사각형이고, 상기 코어 패드 돌기는 상기 돌기의 가로 방향에서 보았을 때 상기 슬라이더 본체의 중심선에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리.
  3. 제1항에 있어서, 상기 코어 패드 돌기의 상기 자기 헤드를 보호하기 위해 상기 박막층 상에 배치되며, 오목부에 의해 상기 코어 패드 돌기와 분리되어 있고, 상기 코어 패드 돌기와 거의 동일한 높이를 갖는 보호 패드들(protective pads)을 더 구비하고, 상기 보호 패드들은 상기 슬라이더 본체 부분을 포함하지 않으며, 상기 보호 패드에 매우 근접하게 배치되어 있는 상기 슬라이더 본체의 디스크 대향면을 지나서 적어도 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리.
  4. 제1항에 있어서, 상기 부상 패드는 대기압보다 높은 정 압력(positive pressure)을 발생시키는 한편, 상기 부상 패드 이외의 상기 슬라이더 본체 부분은 대기압보다 낮은 음 압력(negative pressure)을 발생시키는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리.
  5. 제1항에 있어서, 상기 코어 패드 돌기는 상기 슬라이더 본체의 디스크 대향면으로부터 20㎛ 이상의 높이를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리.
  6. 제1항에 있어서, 한 쌍의 섭동용(sliding) 돌기가 단일의 코어 패드 돌기와 조합되어 형성되고, 상기 단일의 코어 패드 돌기는 상기 한 쌍의 섭동용 돌기 사이의 거의 중심선에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리.
  7. 제1항에 있어서, 상기 코어 패드 돌기는 상기 섭동용 돌기가 상기 슬라이더 본체의 디스크 대향면으로부터 돌출하고 있는 거리보다 짧거나, 또는 그와 거의 동일한 거리만큼 상기 슬라이더 본체의 디스크 대향면으로부터 돌출하고 있는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리.
  8. 제1항에 있어서, 상기 섭동용 돌기는 상기 코어 패드 돌기와 거의 동일한 높이를 갖고, 상기 섭동용 돌기 및 상기 코어 패드 돌기는 상기 자기 디스크의 주행 방향에 거의 직각인 선 상에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리.
  9. 제1항에 있어서, 상기 슬라이더 본체는 제공된 재질로 형성되며, 상기 자기 헤드는 상기 슬라이더 본체와는 다른 재질로 형성되며, 상기 슬라이더 본체와 일체로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드 슬라이더 어셈블리.
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