JPH11353631A - 磁気ディスク装置および疑似コンタクトヘッド - Google Patents
磁気ディスク装置および疑似コンタクトヘッドInfo
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- JPH11353631A JPH11353631A JP10157687A JP15768798A JPH11353631A JP H11353631 A JPH11353631 A JP H11353631A JP 10157687 A JP10157687 A JP 10157687A JP 15768798 A JP15768798 A JP 15768798A JP H11353631 A JPH11353631 A JP H11353631A
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/102—Manufacture of housing
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/488—Disposition of heads
- G11B5/4886—Disposition of heads relative to rotating disc
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- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
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- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
- G11B5/6011—Control of flying height
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ヘッド素子と磁気ディスク表面との衝突
を回避しつつ磁気ディスク表面に磁気ヘッド素子を極力
接近させることができる疑似コンタクトヘッドを提供す
る。 【解決手段】 疑似コンタクトヘッドのスライダ３０に
は、磁気ディスク１６に対向する浮上面３３が形成され
る。スライダ３０の空気流出端には、例えば磁気抵抗効
果素子が埋め込まれたヘッド素子内蔵膜３６が形成され
る。磁気抵抗効果素子のギャップ３５が露出するヘッド
素子露出面４６は、段差４７によって浮上面３３から引
っ込められる。段差４７と浮上面３３とを接続させるエ
ッジ４８は、磁気ディスク１６との初期摩耗によって研
摩加工される。
を回避しつつ磁気ディスク表面に磁気ヘッド素子を極力
接近させることができる疑似コンタクトヘッドを提供す
る。 【解決手段】 疑似コンタクトヘッドのスライダ３０に
は、磁気ディスク１６に対向する浮上面３３が形成され
る。スライダ３０の空気流出端には、例えば磁気抵抗効
果素子が埋め込まれたヘッド素子内蔵膜３６が形成され
る。磁気抵抗効果素子のギャップ３５が露出するヘッド
素子露出面４６は、段差４７によって浮上面３３から引
っ込められる。段差４７と浮上面３３とを接続させるエ
ッジ４８は、磁気ディスク１６との初期摩耗によって研
摩加工される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク装
置（ＨＤＤ）といった磁気ディスク装置に使用される磁
気ヘッドに関し、特に、磁気ディスクに対向する浮上面
が形成されたスライダと、スライダの空気流出端に形成
されて磁気ヘッド素子が埋め込まれたヘッド素子内蔵膜
とを備え、磁気ディスクに真っ先に接近する浮上面のエ
ッジが磁気ディスクとの初期摩耗によって研摩加工され
る疑似コンタクトヘッドに関する。
置（ＨＤＤ）といった磁気ディスク装置に使用される磁
気ヘッドに関し、特に、磁気ディスクに対向する浮上面
が形成されたスライダと、スライダの空気流出端に形成
されて磁気ヘッド素子が埋め込まれたヘッド素子内蔵膜
とを備え、磁気ディスクに真っ先に接近する浮上面のエ
ッジが磁気ディスクとの初期摩耗によって研摩加工され
る疑似コンタクトヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置では、情報記録の高密
度化に伴い、磁気ヘッド素子の読み出し／書き込みギャ
ップから磁気ディスクまでの磁気スペースを縮小させる
ことが広く要求されつつある。一般に利用されている浮
上磁気ヘッドでは、磁気スペースを縮小させるにあたっ
てスライダと磁気ディスクとの衝突を避けなければなら
ない。したがって、スライダの浮上量を変動させる様々
な要因を考慮して、スライダが磁気ディスクに衝突する
確率を限りなくゼロに近づける必要がある。衝突の確率
をゼロに近づけると、必然的にスライダの浮上量は大き
くなってしまう。
度化に伴い、磁気ヘッド素子の読み出し／書き込みギャ
ップから磁気ディスクまでの磁気スペースを縮小させる
ことが広く要求されつつある。一般に利用されている浮
上磁気ヘッドでは、磁気スペースを縮小させるにあたっ
てスライダと磁気ディスクとの衝突を避けなければなら
ない。したがって、スライダの浮上量を変動させる様々
な要因を考慮して、スライダが磁気ディスクに衝突する
確率を限りなくゼロに近づける必要がある。衝突の確率
をゼロに近づけると、必然的にスライダの浮上量は大き
くなってしまう。
【０００３】その一方で、いわゆる疑似コンタクトヘッ
ドでは、スライダと磁気ディスクとの接触を前提にスラ
イダの浮上量が設定されることから、一般の浮上磁気ヘ
ッドに比べて磁気スペースを縮小させやすい。
ドでは、スライダと磁気ディスクとの接触を前提にスラ
イダの浮上量が設定されることから、一般の浮上磁気ヘ
ッドに比べて磁気スペースを縮小させやすい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、疑似コンタ
クトヘッドに磁気抵抗効果（ＭＲ）素子を適用する場
合、磁気ディスクの表面粗さによって形成される微小な
突起にＭＲ素子のギャップが衝突することが考えられ
る。こうした衝突は、瞬間的なギャップの温度上昇いわ
ゆるサーマルアスペリティを招き、磁気抵抗値に大きな
変動をもたらしてしまう。その結果、ＭＲ素子は、磁気
ディスクから正確に情報を読み取ることができない。
クトヘッドに磁気抵抗効果（ＭＲ）素子を適用する場
合、磁気ディスクの表面粗さによって形成される微小な
突起にＭＲ素子のギャップが衝突することが考えられ
る。こうした衝突は、瞬間的なギャップの温度上昇いわ
ゆるサーマルアスペリティを招き、磁気抵抗値に大きな
変動をもたらしてしまう。その結果、ＭＲ素子は、磁気
ディスクから正確に情報を読み取ることができない。
【０００５】本発明は、上記実状に鑑みてなされたもの
で、磁気ヘッド素子と磁気ディスク表面との衝突を回避
しつつ磁気ディスク表面に磁気ヘッド素子を極力接近さ
せることができる疑似コンタクトヘッドを提供すること
を目的とする。
で、磁気ヘッド素子と磁気ディスク表面との衝突を回避
しつつ磁気ディスク表面に磁気ヘッド素子を極力接近さ
せることができる疑似コンタクトヘッドを提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１発明によれば、磁気ディスクに対向する浮上面
が形成されたスライダと、スライダの空気流出端に形成
されて、段差を介して浮上面から引っ込んだヘッド素子
露出面が形成されるヘッド素子内蔵膜とを備え、前記段
差と浮上面とが交わるエッジは研摩加工されることを特
徴とする疑似コンタクトヘッドが提供される。
に、第１発明によれば、磁気ディスクに対向する浮上面
が形成されたスライダと、スライダの空気流出端に形成
されて、段差を介して浮上面から引っ込んだヘッド素子
露出面が形成されるヘッド素子内蔵膜とを備え、前記段
差と浮上面とが交わるエッジは研摩加工されることを特
徴とする疑似コンタクトヘッドが提供される。
【０００７】また、第２発明によれば、磁気ディスク
と、この磁気ディスクに対向する浮上面が形成されたス
ライダと、スライダの空気流出端に形成されて、段差を
介して浮上面から引っ込んだヘッド素子露出面が形成さ
れるヘッド素子内蔵膜とを備え、磁気ディスクの回転
中、浮上面と段差との交線は磁気ディスク内に留まるこ
とを特徴とする磁気ディスク装置が提供される。
と、この磁気ディスクに対向する浮上面が形成されたス
ライダと、スライダの空気流出端に形成されて、段差を
介して浮上面から引っ込んだヘッド素子露出面が形成さ
れるヘッド素子内蔵膜とを備え、磁気ディスクの回転
中、浮上面と段差との交線は磁気ディスク内に留まるこ
とを特徴とする磁気ディスク装置が提供される。
【０００８】第１発明に係る疑似コンタクトヘッドが採
用される磁気ディスク装置や、第２発明に係る磁気ディ
スク装置によれば、摩耗によってエッジが削り取られる
ことを前提にスライダの浮上量を設定することができ、
その結果、余分なスライダの浮上量すなわち浮上マージ
ンを極力小さくしてスライダの浮上量を低く抑え込むこ
とができる。摩耗によってエッジが削り取られると、エ
ッジからヘッド素子露出面までの距離によって磁気ディ
スクからヘッド素子露出面までの磁気スペースが決定さ
れることとなる。
用される磁気ディスク装置や、第２発明に係る磁気ディ
スク装置によれば、摩耗によってエッジが削り取られる
ことを前提にスライダの浮上量を設定することができ、
その結果、余分なスライダの浮上量すなわち浮上マージ
ンを極力小さくしてスライダの浮上量を低く抑え込むこ
とができる。摩耗によってエッジが削り取られると、エ
ッジからヘッド素子露出面までの距離によって磁気ディ
スクからヘッド素子露出面までの磁気スペースが決定さ
れることとなる。
【０００９】しかも、ヘッド素子露出面が浮上面から引
っ込んでいることから、この露出面に露出するヘッド素
子と磁気ディスク表面との干渉を回避しつつ磁気ディス
ク表面にできる限り磁気ヘッド素子を接近させることが
可能となる。ヘッド素子と磁気ディスク表面との干渉と
は、例えば、磁気ディスク表面の表面粗さによって形成
される微小な突起にヘッド素子が衝突することをいう。
っ込んでいることから、この露出面に露出するヘッド素
子と磁気ディスク表面との干渉を回避しつつ磁気ディス
ク表面にできる限り磁気ヘッド素子を接近させることが
可能となる。ヘッド素子と磁気ディスク表面との干渉と
は、例えば、磁気ディスク表面の表面粗さによって形成
される微小な突起にヘッド素子が衝突することをいう。
【００１０】いずれの発明の場合でも、前記ヘッド素子
内蔵膜には、例えば、前記ヘッド素子露出面に臨むギャ
ップを備える磁気抵抗効果素子が内蔵される。段差の形
成によってヘッド素子と磁気ディスク表面との干渉が回
避されれば、衝突による瞬間的な温度上昇いわゆるサー
マルアスペリティが磁気抵抗効果素子に生じないことか
ら、磁気ディスクからの正確な情報の読み出しを確保す
ることが可能となる。すなわち、温度変化に敏感な磁気
抵抗効果素子を疑似コンタクトヘッドに採用することが
可能となる。
内蔵膜には、例えば、前記ヘッド素子露出面に臨むギャ
ップを備える磁気抵抗効果素子が内蔵される。段差の形
成によってヘッド素子と磁気ディスク表面との干渉が回
避されれば、衝突による瞬間的な温度上昇いわゆるサー
マルアスペリティが磁気抵抗効果素子に生じないことか
ら、磁気ディスクからの正確な情報の読み出しを確保す
ることが可能となる。すなわち、温度変化に敏感な磁気
抵抗効果素子を疑似コンタクトヘッドに採用することが
可能となる。
【００１１】前記エッジにはバリ取り処理が施されても
よい。このバリ取り処理によれば、スライダ加工時のバ
リを予め取り除いておくことによって、バリによる磁気
ディスク表面の傷の発生や、初期摩耗による摩耗粉の発
生を極力防止することが可能となる。
よい。このバリ取り処理によれば、スライダ加工時のバ
リを予め取り除いておくことによって、バリによる磁気
ディスク表面の傷の発生や、初期摩耗による摩耗粉の発
生を極力防止することが可能となる。
【００１２】前記スライダには、前記磁気ディスクに向
けて０．５ｇ重以下のバネ圧が作用することが望まし
い。バネ圧が強いと、エッジと磁気ディスクとの接触時
に必要以上にエッジが削り取られてしまうからである。
しかも、バネ圧が０．５ｇ重以下であれば、磁気ディス
クへの着座状態から浮上状態にスライダが移行する間に
スライダが研摩加工されることが極力回避される。
けて０．５ｇ重以下のバネ圧が作用することが望まし
い。バネ圧が強いと、エッジと磁気ディスクとの接触時
に必要以上にエッジが削り取られてしまうからである。
しかも、バネ圧が０．５ｇ重以下であれば、磁気ディス
クへの着座状態から浮上状態にスライダが移行する間に
スライダが研摩加工されることが極力回避される。
【００１３】前記スライダは板バネの先端に支持され、
その板バネには、板バネの振動を吸収する制振部材が貼
り付けられてもよい。制振部材の働きによれば、スライ
ダの姿勢が安定し、その結果、磁気スペースの変動を極
力回避することができる。
その板バネには、板バネの振動を吸収する制振部材が貼
り付けられてもよい。制振部材の働きによれば、スライ
ダの姿勢が安定し、その結果、磁気スペースの変動を極
力回避することができる。
【００１４】さらに、第３発明によれば、磁気ディスク
に対向する浮上面と、段差を介して浮上面から引っ込ん
だヘッド素子露出面とを備える疑似コンタクトヘッドを
加工する疑似コンタクトヘッドの加工方法であって、前
記浮上面および段差が交わるエッジを磁気ディスクとの
初期摩耗によって研摩する疑似コンタクトヘッドの加工
方法が提供される。かかる加工方法によれば、前述した
疑似コンタクトヘッドを簡単に加工することができる。
こうした初期摩耗は、工場出荷に先立って執り行われる
初期動作によって実現されればよい。
に対向する浮上面と、段差を介して浮上面から引っ込ん
だヘッド素子露出面とを備える疑似コンタクトヘッドを
加工する疑似コンタクトヘッドの加工方法であって、前
記浮上面および段差が交わるエッジを磁気ディスクとの
初期摩耗によって研摩する疑似コンタクトヘッドの加工
方法が提供される。かかる加工方法によれば、前述した
疑似コンタクトヘッドを簡単に加工することができる。
こうした初期摩耗は、工場出荷に先立って執り行われる
初期動作によって実現されればよい。
【００１５】なお、エッジは、スライダに形成されても
よく、ヘッド素子内蔵膜に形成されてもよい。ヘッド素
子内蔵膜に形成されれば、一般にヘッド素子内蔵膜はス
ライダに比べて柔らかい素材から成形されることから、
エッジが磁気ディスクに衝突しても磁気ディスクの損傷
を極力回避することが可能となる。
よく、ヘッド素子内蔵膜に形成されてもよい。ヘッド素
子内蔵膜に形成されれば、一般にヘッド素子内蔵膜はス
ライダに比べて柔らかい素材から成形されることから、
エッジが磁気ディスクに衝突しても磁気ディスクの損傷
を極力回避することが可能となる。
【００１６】本発明は、前述した磁気ディスク装置だけ
でなく、一般の浮上ヘッドが適用されうる全ての情報記
録装置に適用されることができる。
でなく、一般の浮上ヘッドが適用されうる全ての情報記
録装置に適用されることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しつつ本発
明の一実施形態を説明する。
明の一実施形態を説明する。
【００１８】図１は磁気ディスク装置の一具体例として
のハードディスクドライブ（ＨＤＤ）を示す。ＨＤＤ１
０のハウジング１１は、箱型のハウジング本体１２と、
ハウジング本体１２の開口を閉鎖するカバー１３とに大
きく分割される。こうしたＨＤＤ１０は、例えばコンピ
ュータ本体に組み込まれて使用されてもよく、コンピュ
ータ本体から独立した単体の外部記録装置として使用さ
れてもよい。
のハードディスクドライブ（ＨＤＤ）を示す。ＨＤＤ１
０のハウジング１１は、箱型のハウジング本体１２と、
ハウジング本体１２の開口を閉鎖するカバー１３とに大
きく分割される。こうしたＨＤＤ１０は、例えばコンピ
ュータ本体に組み込まれて使用されてもよく、コンピュ
ータ本体から独立した単体の外部記録装置として使用さ
れてもよい。
【００１９】図２に示すように、ハウジング１１には、
回転軸１５に装着される磁気ディスク１６と、磁気ディ
スク１６に対向する本発明に係る疑似コンタクトヘッド
１７とが収容される。疑似コンタクトヘッド１７は、揺
動軸１８回りで揺動することができるキャリッジアーム
１９の先端に固着される。磁気ディスク１６に対する情
報の記録や再生時には、磁気回路から構成されるアクチ
ュエータ２０によってキャリッジアーム１９が揺動駆動
され、その結果、疑似コンタクトヘッド１７が磁気ディ
スク１６上の所望の記録トラックに位置決めされること
となる。
回転軸１５に装着される磁気ディスク１６と、磁気ディ
スク１６に対向する本発明に係る疑似コンタクトヘッド
１７とが収容される。疑似コンタクトヘッド１７は、揺
動軸１８回りで揺動することができるキャリッジアーム
１９の先端に固着される。磁気ディスク１６に対する情
報の記録や再生時には、磁気回路から構成されるアクチ
ュエータ２０によってキャリッジアーム１９が揺動駆動
され、その結果、疑似コンタクトヘッド１７が磁気ディ
スク１６上の所望の記録トラックに位置決めされること
となる。
【００２０】図３はキャリッジアーム１９先端の拡大平
面図を示す。図３から明らかなように、キャリッジアー
ム１９は、サスペンション２３を介して剛性支持部材２
４の先端に取り付けられる先端部材２５を備える。この
先端部材２５には、板バネ２６を介してスライダ用固着
板２７が接続される。板バネ２６には、板バネ２６の振
動を吸収する制振部材２８が貼り付けられる。この制振
部材２８は、例えば金属層と樹脂層との積層体といった
ものが用いられる。
面図を示す。図３から明らかなように、キャリッジアー
ム１９は、サスペンション２３を介して剛性支持部材２
４の先端に取り付けられる先端部材２５を備える。この
先端部材２５には、板バネ２６を介してスライダ用固着
板２７が接続される。板バネ２６には、板バネ２６の振
動を吸収する制振部材２８が貼り付けられる。この制振
部材２８は、例えば金属層と樹脂層との積層体といった
ものが用いられる。
【００２１】図４はキャリッジアーム１９先端の拡大断
面図を示す。図４から明らかなように、スライダ用固着
板２７の裏面すなわち磁気ディスク１６側表面にはスラ
イダ３０が固着される。このスライダ３０には、回転す
る磁気ディスク１６表面の空気流れ３１下流側で複数個
の金ボール３２が溶着される。これら金ボール３２を通
じて、スライダ３０と、先端部材２５上のプリント配線
とが電気的に接続されることとなる。
面図を示す。図４から明らかなように、スライダ用固着
板２７の裏面すなわち磁気ディスク１６側表面にはスラ
イダ３０が固着される。このスライダ３０には、回転す
る磁気ディスク１６表面の空気流れ３１下流側で複数個
の金ボール３２が溶着される。これら金ボール３２を通
じて、スライダ３０と、先端部材２５上のプリント配線
とが電気的に接続されることとなる。
【００２２】図５に示されるように、スライダ３０は、
磁気ディスク１６に対向する浮上面３３を備える。浮上
面３３には、ＡＢＳ面（空気軸受け面）を形成する２筋
のレール３４が形成される。スライダ３０は、磁気ディ
スク１６の回転中に浮上面３３に受ける空気流れ３１を
利用して磁気ディスク１６の表面から浮上することがで
きる。スライダ３０の空気流出端には、例えば読み取り
ギャップ３５を備える磁気抵抗効果（ＭＲ）素子が内蔵
されるヘッド素子内蔵膜３６が形成される。
磁気ディスク１６に対向する浮上面３３を備える。浮上
面３３には、ＡＢＳ面（空気軸受け面）を形成する２筋
のレール３４が形成される。スライダ３０は、磁気ディ
スク１６の回転中に浮上面３３に受ける空気流れ３１を
利用して磁気ディスク１６の表面から浮上することがで
きる。スライダ３０の空気流出端には、例えば読み取り
ギャップ３５を備える磁気抵抗効果（ＭＲ）素子が内蔵
されるヘッド素子内蔵膜３６が形成される。
【００２３】図６はヘッド素子内蔵膜３６の一部拡大断
面図を示す。図６から明らかなように、ヘッド素子内蔵
膜３６は、アルチック（Ａｌ2Ｏ3ＴｉＣ）製スライダ３
０の空気流出端表面に形成されるアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）
層３７を備える。アルミナ層３７には、ＦｅＮ等の下部
シールド層３８および上部シールド層３９が積層され
る。下部および上部シールド層３８、３９間には、読み
取りギャップ３５を形成するＭＲ素子（図示せず）が配
置される。
面図を示す。図６から明らかなように、ヘッド素子内蔵
膜３６は、アルチック（Ａｌ2Ｏ3ＴｉＣ）製スライダ３
０の空気流出端表面に形成されるアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）
層３７を備える。アルミナ層３７には、ＦｅＮ等の下部
シールド層３８および上部シールド層３９が積層され
る。下部および上部シールド層３８、３９間には、読み
取りギャップ３５を形成するＭＲ素子（図示せず）が配
置される。
【００２４】上部シールド層３９には、渦巻き状の膜コ
イル４０が内蔵される絶縁層４１が積層される。この絶
縁層４１には、上部シールド層３９との間に書き込みギ
ャップ４２を形成する上部磁極４３が積層される。下部
シールド層３８、ＭＲ素子、上部シールド層３９、膜コ
イル４０および上部磁極４３で構成される磁気ヘッド素
子はアルミナ保護層４４によって覆われる。アルミナ層
３７からアルミナ保護層４４までの厚みは３０μｍ〜４
０μｍであって、ここでは３５μｍの厚みが想定されて
いる。
イル４０が内蔵される絶縁層４１が積層される。この絶
縁層４１には、上部シールド層３９との間に書き込みギ
ャップ４２を形成する上部磁極４３が積層される。下部
シールド層３８、ＭＲ素子、上部シールド層３９、膜コ
イル４０および上部磁極４３で構成される磁気ヘッド素
子はアルミナ保護層４４によって覆われる。アルミナ層
３７からアルミナ保護層４４までの厚みは３０μｍ〜４
０μｍであって、ここでは３５μｍの厚みが想定されて
いる。
【００２５】ＭＲ素子の読み取りギャップ３５やインダ
クティブ素子の書き込みギャップ４２が露出されるヘッ
ド素子露出面４６は、段差４７によってスライダ３０の
浮上面３３から引っ込んだ位置に配置される。浮上面３
３に受ける空気流れによってスライダ３０に浮上力が作
用すると、図６に示すようにスライダ３０は、ピッチ角
θ＝約１２０μラジアンの前傾姿勢をとり、浮上面３３
および段差４７の間を互いに接続させるエッジ４８は磁
気ディスク１６表面に真っ先に接近することとなる。
クティブ素子の書き込みギャップ４２が露出されるヘッ
ド素子露出面４６は、段差４７によってスライダ３０の
浮上面３３から引っ込んだ位置に配置される。浮上面３
３に受ける空気流れによってスライダ３０に浮上力が作
用すると、図６に示すようにスライダ３０は、ピッチ角
θ＝約１２０μラジアンの前傾姿勢をとり、浮上面３３
および段差４７の間を互いに接続させるエッジ４８は磁
気ディスク１６表面に真っ先に接近することとなる。
【００２６】次に、ＨＤＤ１０が初期動作する場合を考
える。スライダ３０の浮上量は、エッジ４８が磁気ディ
スク１６表面に接触することを前提にして決定されてい
る。こうした浮上量の決定にあたっては、空気流れによ
ってスライダ３０に作用する正方向（磁気ディスク１６
表面の鉛直方向）の浮上力と、サスペンション２３およ
び板バネ２６からスライダ３０に加えられる負方向（磁
気ディスク１６に向かう方向）のバネ圧とがバランスさ
せられる。スライダ３０の浮上力は、磁気ディスク１６
の回転速度や、浮上面３３の面積、ＡＢＳ面やレール３
４の形状等によって決定される。
える。スライダ３０の浮上量は、エッジ４８が磁気ディ
スク１６表面に接触することを前提にして決定されてい
る。こうした浮上量の決定にあたっては、空気流れによ
ってスライダ３０に作用する正方向（磁気ディスク１６
表面の鉛直方向）の浮上力と、サスペンション２３およ
び板バネ２６からスライダ３０に加えられる負方向（磁
気ディスク１６に向かう方向）のバネ圧とがバランスさ
せられる。スライダ３０の浮上力は、磁気ディスク１６
の回転速度や、浮上面３３の面積、ＡＢＳ面やレール３
４の形状等によって決定される。
【００２７】磁気ディスク１６が回転を始めると、磁気
ディスク１６表面に空気流れが生じる。その結果、スラ
イダ３０の浮上面３３に空気流れが作用し、それまで磁
気ディスク１６表面に着座していたスライダ３０に浮上
力が作用する。この浮上力はスライダ３０を前傾させな
がら浮上させる。浮上力がバネ圧に均衡すると、スライ
ダ３０はその浮上量を維持しつつ浮上し続ける。
ディスク１６表面に空気流れが生じる。その結果、スラ
イダ３０の浮上面３３に空気流れが作用し、それまで磁
気ディスク１６表面に着座していたスライダ３０に浮上
力が作用する。この浮上力はスライダ３０を前傾させな
がら浮上させる。浮上力がバネ圧に均衡すると、スライ
ダ３０はその浮上量を維持しつつ浮上し続ける。
【００２８】このとき、エッジ４８は、磁気ディスク１
６との初期摩耗によって研摩加工され、２ｎｍ〜３ｎｍ
後退する。磁気ディスク１６の表面粗さが研摩加工を実
現させる。アルミニウム基板やガラス基板から構成され
る磁気ディスク１６の表面はＤＬＣ（ダイヤモンドライ
クカーボン）膜によって保護されていることから、エッ
ジ４８の接触深さがＤＬＣ膜の厚みを超えてエッジ４８
が磁性層に達しない限りエッジ４８の接触によって情報
の記録再生に悪影響が及ぶことはない。こうして、エッ
ジ４８からヘッド素子露出面４６までの距離ＤＤ＝２０
ｎｍ〜３０ｎｍすなわち段差４７の大きさによって磁気
ディスク１６表面からヘッド素子露出面４６すなわちギ
ャップ３５、４２までの磁気スペースＳ１、Ｓ２が決定
される。言い換えれば、疑似コンタクトヘッドでは、浮
上型ヘッドとは異なり、磁気スペースＳ１、Ｓ２の設定
にあたってエッジ４８の浮上が考慮されないのである。
６との初期摩耗によって研摩加工され、２ｎｍ〜３ｎｍ
後退する。磁気ディスク１６の表面粗さが研摩加工を実
現させる。アルミニウム基板やガラス基板から構成され
る磁気ディスク１６の表面はＤＬＣ（ダイヤモンドライ
クカーボン）膜によって保護されていることから、エッ
ジ４８の接触深さがＤＬＣ膜の厚みを超えてエッジ４８
が磁性層に達しない限りエッジ４８の接触によって情報
の記録再生に悪影響が及ぶことはない。こうして、エッ
ジ４８からヘッド素子露出面４６までの距離ＤＤ＝２０
ｎｍ〜３０ｎｍすなわち段差４７の大きさによって磁気
ディスク１６表面からヘッド素子露出面４６すなわちギ
ャップ３５、４２までの磁気スペースＳ１、Ｓ２が決定
される。言い換えれば、疑似コンタクトヘッドでは、浮
上型ヘッドとは異なり、磁気スペースＳ１、Ｓ２の設定
にあたってエッジ４８の浮上が考慮されないのである。
【００２９】初期摩耗による研摩加工が完了すると、ス
ライダ３０は浮上量を変化させずに安定的に浮上し続け
る。削り取られたエッジ４８が浮上量に影響することは
ない。浮上量が一定に保持されることからエッジ４８の
摩耗が進行することもない。したがって、初期摩耗後に
は、スライダ３０と磁気ディスク１６表面との干渉とい
った問題は生じない。しかも、磁気ディスク１６の回転
中、段差４７平面と浮上面３３平面とが互いに交わる交
線（エッジ４８研摩後には仮想的なもの）は常時磁気デ
ィスク１６内に留まることとなる。。なお、こうした研
摩加工は、一般にＨＤＤ１０の工場出荷に先立って執り
行われる。
ライダ３０は浮上量を変化させずに安定的に浮上し続け
る。削り取られたエッジ４８が浮上量に影響することは
ない。浮上量が一定に保持されることからエッジ４８の
摩耗が進行することもない。したがって、初期摩耗後に
は、スライダ３０と磁気ディスク１６表面との干渉とい
った問題は生じない。しかも、磁気ディスク１６の回転
中、段差４７平面と浮上面３３平面とが互いに交わる交
線（エッジ４８研摩後には仮想的なもの）は常時磁気デ
ィスク１６内に留まることとなる。。なお、こうした研
摩加工は、一般にＨＤＤ１０の工場出荷に先立って執り
行われる。
【００３０】このような疑似コンタクトヘッド１７によ
れば、エッジ４８が磁気ディスク１６表面に接触して
も、エッジ４８からヘッド素子露出面４６までの距離Ｄ
Ｄだけ磁気ディスク１６表面と読み取りギャップ３５と
の距離Ｓ１が常に確保される。したがって、磁気ディス
ク１６の表面粗さによって形成される微小な突起が読み
取りギャップ３５に誤って衝突することが防止される。
衝突による瞬間的な温度上昇いわゆるサーマルアスペリ
ティが読み取りギャップ３５に生じないことから、磁気
ディスク１６からの正確な情報の読み出しを確保するこ
とが可能となる。
れば、エッジ４８が磁気ディスク１６表面に接触して
も、エッジ４８からヘッド素子露出面４６までの距離Ｄ
Ｄだけ磁気ディスク１６表面と読み取りギャップ３５と
の距離Ｓ１が常に確保される。したがって、磁気ディス
ク１６の表面粗さによって形成される微小な突起が読み
取りギャップ３５に誤って衝突することが防止される。
衝突による瞬間的な温度上昇いわゆるサーマルアスペリ
ティが読み取りギャップ３５に生じないことから、磁気
ディスク１６からの正確な情報の読み出しを確保するこ
とが可能となる。
【００３１】サスペンション２３や板バネ２６からスラ
イダ３０に作用するバネ圧は０．５ｇ重以下であること
が望ましい。このバネ圧を考慮すると、スライダ３０の
重量は１．４ｍｇ〜１．８ｍｇ（好ましくは１．６ｍ
ｇ）であることが望ましい。バネ圧が強いと、エッジ４
８と磁気ディスク１６との接触時に必要以上にエッジ４
８が削り取られてしまうからである。しかも、バネ圧が
０．５ｇ重以下であれば、着座状態から浮上状態にスラ
イダ３０が移行する間にスライダ３０が研摩加工される
ことが極力回避される。さらに、制振部材２８の働きに
よれば、スライダ３０の姿勢を安定化させ、磁気スペー
スＳ１の変動を極力回避することができる。
イダ３０に作用するバネ圧は０．５ｇ重以下であること
が望ましい。このバネ圧を考慮すると、スライダ３０の
重量は１．４ｍｇ〜１．８ｍｇ（好ましくは１．６ｍ
ｇ）であることが望ましい。バネ圧が強いと、エッジ４
８と磁気ディスク１６との接触時に必要以上にエッジ４
８が削り取られてしまうからである。しかも、バネ圧が
０．５ｇ重以下であれば、着座状態から浮上状態にスラ
イダ３０が移行する間にスライダ３０が研摩加工される
ことが極力回避される。さらに、制振部材２８の働きに
よれば、スライダ３０の姿勢を安定化させ、磁気スペー
スＳ１の変動を極力回避することができる。
【００３２】上記した疑似コンタクトヘッド１７を製造
するにあたっては、まず、アルミナ層３７が表面に形成
されたアルチック製ウェハー基板を用意する。アルミナ
層３７上に、薄膜プロセスを用いて、下部シールド層３
８、ＭＲ素子、上部シールド層３９、コイル４０、上部
磁極４３およびアルミナ保護層４４を順次形成してい
く。薄膜プロセスが終了したらウェハー基板からスライ
ダ３０を切り出す。切り出されたスライダ３０に、マス
クを用いてイオンミリングを施し、浮上面３３のレール
３４等を形成する。
するにあたっては、まず、アルミナ層３７が表面に形成
されたアルチック製ウェハー基板を用意する。アルミナ
層３７上に、薄膜プロセスを用いて、下部シールド層３
８、ＭＲ素子、上部シールド層３９、コイル４０、上部
磁極４３およびアルミナ保護層４４を順次形成してい
く。薄膜プロセスが終了したらウェハー基板からスライ
ダ３０を切り出す。切り出されたスライダ３０に、マス
クを用いてイオンミリングを施し、浮上面３３のレール
３４等を形成する。
【００３３】段差４７は、ウェハー基板から切り出され
る以前あるいは切り出された後に、マスクを用いてイオ
ンミリングなどを施すことによって形成されればよい。
その他、薄膜プロセスを用いる過程で、形成されていく
下部シールド層３８やＭＲ素子、上部シールド層３９、
コイル４０、上部磁極４３、アルミナ保護層４４にマス
クを施しイオンミリングなどによって段差４７を形成す
るようにしてもよい。
る以前あるいは切り出された後に、マスクを用いてイオ
ンミリングなどを施すことによって形成されればよい。
その他、薄膜プロセスを用いる過程で、形成されていく
下部シールド層３８やＭＲ素子、上部シールド層３９、
コイル４０、上部磁極４３、アルミナ保護層４４にマス
クを施しイオンミリングなどによって段差４７を形成す
るようにしてもよい。
【００３４】図７に示すように、エッジ４８には、予め
バリ取り処理が施されてもよい。このバリ取り処理によ
れば、スライダ３０加工時のバリを予め取り除いておく
ことによって、バリによる磁気ディスク１６表面の傷の
発生や、初期摩耗による摩耗粉の発生を極力防止するこ
とが可能となる。バリ取り処理を実施するにあたって
は、例えば、ラッピングシートにエッジ４８を接触させ
た状態でスライダ３０を擦り動かせばよい。
バリ取り処理が施されてもよい。このバリ取り処理によ
れば、スライダ３０加工時のバリを予め取り除いておく
ことによって、バリによる磁気ディスク１６表面の傷の
発生や、初期摩耗による摩耗粉の発生を極力防止するこ
とが可能となる。バリ取り処理を実施するにあたって
は、例えば、ラッピングシートにエッジ４８を接触させ
た状態でスライダ３０を擦り動かせばよい。
【００３５】前述したように段差４７をスライダ３０に
形成することに代えて、例えば図８に示されるように、
ヘッド素子内蔵膜３６に段差４７ａを形成してもよい。
こうした段差４７ａによれば、段差４７ａと浮上面３３
とを接続させるエッジ４８はアルミナ膜３７に形成され
ることとなる。アルミナはアルチックに比べて柔らかい
ことから、磁気ディスク１６にエッジ４８が衝突しても
磁気ディスク１６の損傷を極力回避することができる。
形成することに代えて、例えば図８に示されるように、
ヘッド素子内蔵膜３６に段差４７ａを形成してもよい。
こうした段差４７ａによれば、段差４７ａと浮上面３３
とを接続させるエッジ４８はアルミナ膜３７に形成され
ることとなる。アルミナはアルチックに比べて柔らかい
ことから、磁気ディスク１６にエッジ４８が衝突しても
磁気ディスク１６の損傷を極力回避することができる。
【００３６】こうした段差４７ａをヘッド素子内蔵膜３
６に形成するには、前述した段差４７を形成する場合と
同様にマスクを用いてイオンミリング等を施すにあたっ
てアルミナ膜３７を残存させるようにすればよい。な
お、段差４７ａをヘッド素子内蔵膜３６に形成する場合
でも、例えば図９に示されるように、エッジ４８に予め
バリ取り処理が施されてもよい。
６に形成するには、前述した段差４７を形成する場合と
同様にマスクを用いてイオンミリング等を施すにあたっ
てアルミナ膜３７を残存させるようにすればよい。な
お、段差４７ａをヘッド素子内蔵膜３６に形成する場合
でも、例えば図９に示されるように、エッジ４８に予め
バリ取り処理が施されてもよい。
【００３７】なお、スライダ３０の浮上面３３の形状は
前述されたものに限定されるものではない。例えば、図
１０に示されるように、２筋のレール３４間で狭い流通
路５０から極端に広い流通路５１を連続させて、２つの
流通路５０、５１を通過する空気流れ３１によって負圧
を生成されるようにしてもよい。生成された負圧によっ
て磁気ディスク１６側に吸引力が作用し、この吸引力
は、スライダ３０の浮上量を決定するにあたってバネ圧
側に付加されることとなる。
前述されたものに限定されるものではない。例えば、図
１０に示されるように、２筋のレール３４間で狭い流通
路５０から極端に広い流通路５１を連続させて、２つの
流通路５０、５１を通過する空気流れ３１によって負圧
を生成されるようにしてもよい。生成された負圧によっ
て磁気ディスク１６側に吸引力が作用し、この吸引力
は、スライダ３０の浮上量を決定するにあたってバネ圧
側に付加されることとなる。
【００３８】こういったスライダ３０には、レール３４
のＡＢＳ面から突出する吸着防止パッド５２が形成され
る。この吸着防止パッド５２は、スライダ３０が磁気デ
ィスク１６表面に着座した際に、レール３４のＡＢＳ面
と磁気ディスク１６表面との接触面積を減少させる。こ
うした接触面積が減少すれば、磁気ディスク１６表面に
広がる潤滑油の粘着力がスライダ３０に伝わりにくくな
り、その結果、スライダ３０の浮上開始が妨げられるこ
とが極力回避される。スライダ３０が浮上しやすくな
る。
のＡＢＳ面から突出する吸着防止パッド５２が形成され
る。この吸着防止パッド５２は、スライダ３０が磁気デ
ィスク１６表面に着座した際に、レール３４のＡＢＳ面
と磁気ディスク１６表面との接触面積を減少させる。こ
うした接触面積が減少すれば、磁気ディスク１６表面に
広がる潤滑油の粘着力がスライダ３０に伝わりにくくな
り、その結果、スライダ３０の浮上開始が妨げられるこ
とが極力回避される。スライダ３０が浮上しやすくな
る。
【００３９】このスライダ３０では、一方のレール３４
の延長線上に読み取りギャップ３５や書き込みギャップ
４２が配置される。磁気ディスク１６回転中の空気流れ
３１が浮上面３３に作用すると、スライダ３０は前傾す
るだけでなく、幅方向に傾斜してレール３４の先端外側
エッジ５５を真っ先に磁気ディスク１６表面に近づけさ
せる。このような前傾および幅方向傾斜の組み合わせに
よって、吸着防止パッド５２と磁気ディスク１６表面と
の衝突が回避されるのである。したがって、この先端外
側エッジ５５を切り欠けば、先端外側エッジ５５を磁気
ディスク１６表面に接触させることなく読み取りギャッ
プ３５や書き込みギャップ４２を極力磁気ディスク１６
表面に接近させることが可能となる。
の延長線上に読み取りギャップ３５や書き込みギャップ
４２が配置される。磁気ディスク１６回転中の空気流れ
３１が浮上面３３に作用すると、スライダ３０は前傾す
るだけでなく、幅方向に傾斜してレール３４の先端外側
エッジ５５を真っ先に磁気ディスク１６表面に近づけさ
せる。このような前傾および幅方向傾斜の組み合わせに
よって、吸着防止パッド５２と磁気ディスク１６表面と
の衝突が回避されるのである。したがって、この先端外
側エッジ５５を切り欠けば、先端外側エッジ５５を磁気
ディスク１６表面に接触させることなく読み取りギャッ
プ３５や書き込みギャップ４２を極力磁気ディスク１６
表面に接近させることが可能となる。
【００４０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、段差によ
って浮上面からヘッド素子露出面を引っ込ませることに
よって、磁気ヘッド素子と磁気ディスク表面との干渉を
回避しつつ磁気ディスク表面に磁気ヘッド素子を極力接
近させることが可能となる。
って浮上面からヘッド素子露出面を引っ込ませることに
よって、磁気ヘッド素子と磁気ディスク表面との干渉を
回避しつつ磁気ディスク表面に磁気ヘッド素子を極力接
近させることが可能となる。
【図１】 ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）の外観を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図２】 ＨＤＤの内部構造を示す平面図である。
【図３】 キャリッジアーム先端の拡大平面図である。
【図４】 図３の４−４線に沿ったキャリッジアーム先
端の一部拡大断面図である。
端の一部拡大断面図である。
【図５】 本発明に係る疑似コンタクトヘッドのスライ
ダを示す斜視図である。
ダを示す斜視図である。
【図６】 図５の６−６線に沿ったヘッド素子内蔵膜の
一部拡大断面図である。
一部拡大断面図である。
【図７】 図６と同様な図であって一変形例を示す図で
ある。
ある。
【図８】 図６と同様な図であって他の変形例を示す図
である。
である。
【図９】 図６と同様な図であってさらに他の変形例を
示す図である。
示す図である。
【図１０】 他の形態に係る疑似コンタクトヘッドのス
ライダを示す平面図である。
ライダを示す平面図である。
１０ 磁気ディスク装置としてのハードディスクドライ
ブ（ＨＤＤ）、１６磁気ディスク、１７疑似コンタクト
ヘッド、２６ 板バネ、２８ 制振部材、３０ スライ
ダ、３３ 浮上面、３５ 磁気抵抗効果（ＭＲ）素子が
形成するギャップ、３６ ヘッド素子内蔵膜、４６ ヘ
ッド素子露出面、４７，４７ａ 段差、４８ エッジ、
ＤＤ エッジからヘッド素子露出面までの距離、Ｓ１
磁気スペース。
ブ（ＨＤＤ）、１６磁気ディスク、１７疑似コンタクト
ヘッド、２６ 板バネ、２８ 制振部材、３０ スライ
ダ、３３ 浮上面、３５ 磁気抵抗効果（ＭＲ）素子が
形成するギャップ、３６ ヘッド素子内蔵膜、４６ ヘ
ッド素子露出面、４７，４７ａ 段差、４８ エッジ、
ＤＤ エッジからヘッド素子露出面までの距離、Ｓ１
磁気スペース。
Claims (21)
- 【請求項１】 磁気ディスクに対向する浮上面が形成さ
れたスライダと、スライダの空気流出端に形成されて、
段差を介して浮上面から引っ込んだヘッド素子露出面が
形成されるヘッド素子内蔵膜とを備え、前記段差と浮上
面とが交わるエッジは研摩加工されることを特徴とする
疑似コンタクトヘッド。 - 【請求項２】 請求項１に記載の疑似コンタクトヘッド
において、前記ヘッド素子内蔵膜には、前記ヘッド素子
露出面に臨むギャップを備える磁気抵抗効果素子が内蔵
されることを特徴とする疑似コンタクトヘッド。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の疑似コンタク
トヘッドにおいて、前記エッジにはバリ取り処理が施さ
れることを特徴とする疑似コンタクトヘッド。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の疑似コ
ンタクトヘッドにおいて、前記段差の前記浮上面からの
深さは２０ｎｍ〜３０ｎｍに設定されることを特徴とす
る疑似コンタクトヘッド。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の疑似コ
ンタクトヘッドにおいて、前記エッジは、前記研摩加工
によって２ｎｍ〜３ｎｍの大きさだけ前記ヘッド素子露
出面に向かって後退することを特徴とする疑似コンタク
トヘッド。 - 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載の疑似コ
ンタクトヘッドにおいて、前記ヘッド素子内蔵膜の厚み
は３０μｍ〜４０μｍに設定されることを特徴とする疑
似コンタクトヘッド。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の疑似コ
ンタクトヘッドにおいて、前記スライダの重量は１．４
ｍｇ〜１．８ｍｇに設定されることを特徴とする疑似コ
ンタクトヘッド。 - 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載の疑似コ
ンタクトヘッドにおいて、前記エッジは前記スライダに
形成されることを特徴とする疑似コンタクトヘッド。 - 【請求項９】 請求項１〜７のいずれかに記載の疑似コ
ンタクトヘッドにおいて、前記エッジは前記ヘッド素子
内蔵膜に形成されることを特徴とする疑似コンタクトヘ
ッド。 - 【請求項１０】 磁気ディスクと、この磁気ディスクに
対向する浮上面が形成されたスライダと、スライダの空
気流出端に形成されて、段差を介して浮上面から引っ込
んだヘッド素子露出面が形成されるヘッド素子内蔵膜と
を備え、磁気ディスクの回転中、浮上面と段差との交線
は磁気ディスク内に留まることを特徴とする磁気ディス
ク装置。 - 【請求項１１】 請求項１０に記載の磁気ディスク装置
において、前記ヘッド素子内蔵膜には、前記ヘッド素子
露出面に臨むギャップを備える磁気抵抗効果素子が内蔵
されることを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項１２】 請求項１０または１１に記載の磁気デ
ィスク装置において、前記エッジにはバリ取り処理が施
されることを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項１３】 請求項１０〜１２のいずれかに記載の
磁気ディスク装置において、前記スライダには、前記磁
気ディスクに向けて０．５ｇ重以下のバネ圧が作用する
ことを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項１４】 請求項１０〜１３のいずれかに記載の
磁気ディスク装置において、前記スライダは板バネの先
端に支持され、その板バネには、板バネの振動を吸収す
る制振部材が貼り付けられることを特徴とする磁気ディ
スク装置。 - 【請求項１５】 請求項１０〜１４のいずれかに記載の
磁気ディスク装置において、前記段差の前記浮上面から
の深さは２０ｎｍ〜３０ｎｍに設定されることを特徴と
する磁気ディスク装置。 - 【請求項１６】 請求項１０〜１５のいずれかに記載の
磁気ディスク装置において、前記エッジは、前記研摩加
工によって２ｎｍ〜３ｎｍの大きさだけ前記ヘッド素子
露出面に向かって後退することを特徴とする磁気ディス
ク装置。 - 【請求項１７】 請求項１０〜１６のいずれかに記載の
磁気ディスク装置において、前記ヘッド素子内蔵膜の厚
みは３０μｍ〜４０μｍに設定されることを特徴とする
磁気ディスク装置。 - 【請求項１８】 請求項１０〜１７のいずれかに記載の
磁気ディスク装置において、前記スライダの重量は１．
４ｍｇ〜１．８ｍｇに設定されることを特徴とする磁気
ディスク装置。 - 【請求項１９】 請求項１０〜１８のいずれかに記載の
磁気ディスク装置において、前記エッジは前記スライダ
に形成されることを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項２０】 請求項１０〜１８のいずれかに記載の
磁気ディスク装置において、前記エッジは前記ヘッド素
子内蔵膜に形成されることを特徴とする磁気ディスク装
置。 - 【請求項２１】 磁気ディスクに対向する浮上面と、段
差を介して浮上面から引っ込んだヘッド素子露出面とを
備える疑似コンタクトヘッドを加工する疑似コンタクト
ヘッドの加工方法であって、前記浮上面および段差が交
わるエッジを磁気ディスクとの初期摩耗によって研摩す
ることを特徴とする疑似コンタクトヘッドの加工方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10157687A JPH11353631A (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 磁気ディスク装置および疑似コンタクトヘッド |
| US09/178,000 US6178068B1 (en) | 1998-06-05 | 1998-10-23 | Quasi contact head having a disk contacting portion |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10157687A JPH11353631A (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 磁気ディスク装置および疑似コンタクトヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11353631A true JPH11353631A (ja) | 1999-12-24 |
Family
ID=15655203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10157687A Pending JPH11353631A (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | 磁気ディスク装置および疑似コンタクトヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6178068B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11353631A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8009386B2 (en) | 2007-11-26 | 2011-08-30 | Tdk Corporation | Magnetic tape head with magnetic head layer formed on base substrate |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6282061B1 (en) * | 1994-03-17 | 2001-08-28 | Fujitsu Limited | Magnetic head with improved floating surface |
| US6804086B2 (en) * | 2000-04-27 | 2004-10-12 | Seagate Technology Llc | Unitary crystalline slider with edges rounded by laser ablation |
| US20020067574A1 (en) * | 2000-12-06 | 2002-06-06 | Gillis Donald Ray | Magnetic recording head burnishing method |
| US6934124B2 (en) * | 2001-11-19 | 2005-08-23 | Headway Technologies, Inc. | Rotating recording medium and slider of thin-film magnetic head device |
| US20080180845A1 (en) * | 2007-01-31 | 2008-07-31 | Albert Wallash | Slider air bearing for disk drives |
| KR20090111652A (ko) * | 2008-04-22 | 2009-10-27 | 삼성전자주식회사 | 하드디스크 드라이브용 슬라이더 및 그를 구비한하드디스크 드라이브 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| A977 | Report on retrieval |
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