JP2020042886A - 磁気ヘッドおよびこれを備える磁気ディスク装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】信頼性の向上した磁気ヘッドおよび磁気ディスク装置を提供する。【解決手段】磁気ディスク装置において、磁気ヘッド17は、空気支持面40を有するスライダ31と、スライダに設けられデータの処理を行うヘッド部33とを備えている。スライダ31は、空気支持面のリーディング側端部に設けられたリーディングステップ52と、空気支持面のトレーリング側端部に設けられ、ヘッド部33を内蔵するトレーリングステップ62と、リーディングステップ52とトレーリングステップ62との間に形成され、空気支持面および一対の側面に開口した深溝50と、深溝50とトレーリングステップ62との間の領域で一対の側縁間の中央領域に設けられた浅溝70あるいは傾斜面とを有している。【選択図】図3
Description
この発明の実施形態は、磁気ヘッドおよびこれを備える磁気ディスク装置に関する。
磁気ディスク装置として、例えば、ハードディスクドライブ(HDD)は、回転自在に設けられた磁気ディスクと、磁気ディスクに対してデータの記録、読取りを行う磁気ヘッドと、を有している。HDDの動作状態において、磁気ヘッドは、磁気ディスクの回転によって生じる空気流により浮上し、磁気ディスクの表面に僅かな隙間を置いて対向する。
HDDに外部衝撃が作用した場合、衝撃により、磁気ディスクの内周部あるいは外周部が凸状あるいは凹状に変形する場合がある。磁気ディスクが変形すると、磁気ヘッドの浮上が変化し、磁気ディスク表面に磁気ヘッドが接触する可能性がある。このような接触が生じた場合、磁気ディスクおよび/あるいは磁気ヘッドが損傷するおそれがある。
この発明の実施形態の課題は、記録媒体との接触を抑制し、信頼性の向上を図ることが可能な磁気ヘッドおよびこれを備える磁気ディスク装置を提供することにある。
この発明の実施形態の課題は、記録媒体との接触を抑制し、信頼性の向上を図ることが可能な磁気ヘッドおよびこれを備える磁気ディスク装置を提供することにある。
実施形態によれば、磁気ヘッドは、一対の側縁を有する空気支持面と、前記空気支持面の一対の側縁に沿った一対の側面と、リーディング側端面と、トレーリング側端面とを有するスライダと、前記スライダに設けられデータの処理を行うヘッド部と、を備えている。前記スライダは、前記空気支持面のリーディング側端部に設けられたリーディングステップと、前記空気支持面のトレーリング側端部に設けられ、前記ヘッド部を内蔵するトレーリングステップと、前記リーディングステップとトレーリングステップとの間に形成され、前記空気支持面および前記一対の側面に開口した深溝と、前記深溝と前記トレーリングステップとの間の領域で前記一対の側縁間の中央領域に設けられた浅溝あるいは傾斜面と、を有している。
以下図面を参照しながら、実施形態に係る磁気ディスク装置ついて説明する。
なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更であって容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更であって容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
(第1の実施形態)
磁気ディスク装置の一例として、実施形態に係るハードディスクドライブ(HDD)について詳細に説明する。図1は、第1の実施形態に係るHDDの内部構造を示している。
図1に示すように、HDDは筐体10を備えている。筐体10は、上面の開口した矩形箱状のベース12と、ベース12の上端開口を閉塞する図示しないトップカバーと、を有している。ベース12は、矩形状の底壁12aと、底壁12aの周縁に沿って立設された側壁12bとを有している。
筐体10内には、ディスク状の記録媒体としての1枚あるいは複数枚の磁気ディスク16、および磁気ディスク16を支持および回転させる駆動部としてのスピンドルモータ23が設けられている。磁気ディスク16は、スピンドルモータ23の図示しないハブに互いに同軸的に嵌合されているとともにクランプばね27によりクランプされ、ハブに固定されている。磁気ディスク16は、スピンドルモータ23により矢印A方向に所定の速度で回転される。
磁気ディスク装置の一例として、実施形態に係るハードディスクドライブ(HDD)について詳細に説明する。図1は、第1の実施形態に係るHDDの内部構造を示している。
図1に示すように、HDDは筐体10を備えている。筐体10は、上面の開口した矩形箱状のベース12と、ベース12の上端開口を閉塞する図示しないトップカバーと、を有している。ベース12は、矩形状の底壁12aと、底壁12aの周縁に沿って立設された側壁12bとを有している。
筐体10内には、ディスク状の記録媒体としての1枚あるいは複数枚の磁気ディスク16、および磁気ディスク16を支持および回転させる駆動部としてのスピンドルモータ23が設けられている。磁気ディスク16は、スピンドルモータ23の図示しないハブに互いに同軸的に嵌合されているとともにクランプばね27によりクランプされ、ハブに固定されている。磁気ディスク16は、スピンドルモータ23により矢印A方向に所定の速度で回転される。
筐体10内に、磁気ディスク16に対してデータのライト/リードを行なう複数の磁気ヘッド17、および、これらの磁気ヘッド17を磁気ディスク16に対して移動可能に支持したキャリッジアッセンブリ22が設けられている。筐体10内に、キャリッジアッセンブリ22を回動および位置決めするボイスコイルモータ(以下VCMと称する)24、磁気ヘッド17が磁気ディスク16の最外周に移動した際、磁気ヘッド17を磁気ディスク16から離間したアンロード位置に保持するランプロード機構25、HDDに衝撃等が作用した際、キャリッジアッセンブリ22を退避位置に保持するラッチ機構26、および変換コネクタ等を有する基板ユニット21が設けられている。
ベース12の底壁12a外面には、図示しないプリント回路基板がねじ止めされている。プリント回路基板に制御部が構成されている。制御部は、基板ユニット21を介してVCM24、および磁気ヘッド17の動作を制御するとともに、スピンドルモータ23の動作を制御する。
図2は、浮上状態の磁気ヘッドおよび磁気ディスクを模式的に示している。図1および図2に示すように、磁気ディスク16は、例えば、直径約88.9mm(3.5インチ)の円板状に形成された非磁性体からなる基板101を有している。基板101の両面には、下地層として軟磁気特性を示す材料からなる軟磁性層102と、磁気記録層103と、保護膜層104とが順に積層されている。
キャリッジアッセンブリ22は、ベース12に回動自在に支持された軸受部(本体ブロック)と、軸受部から延出した複数本のアーム28と、各アーム28から延出するヘッドジンバルアッセンブリ30と、を有している。各ヘッドジンバルアッセンブリ30は、細長い板ばね状のサスペンション34と、サスペンション34上に設けられた配線部材としてのフレクシャ41と、磁気ヘッド17と、を有している。磁気ヘッド17は、フレクシャ41のジンバル部36を介して、サスペンション34の先端部に支持されている。
図2に示すように、磁気ヘッド17は浮上型のヘッドとして構成され、ほぼ直方体状に形成されたスライダ31と、スライダ31の流出端(トレーリング)側の端部に形成されたヘッド部33とを有している。スライダ31は、磁気ディスク16の表面に対向する空気支持面(ABS)40を有している。磁気ヘッド17は、磁気ディスク16の回転によって磁気ディスク16の表面とスライダ31のABS40との間に生じる空気流Bにより浮上する。空気流Bの方向は、磁気ディスク16の回転方向Aと一致している。
次に、磁気ヘッド17の構成について詳細に説明する。図3は磁気ヘッドのABS側を示す斜視図、図4は磁気ヘッドのABS側を示す平面図である。
図3および図4に示すように、磁気ヘッド17のスライダ31は、ほぼ直方体状に形成され、磁気ディスク16の表面に対向する矩形状の空気支持面(ディスク対向面)(air bearing surface :ABS)40、ABS40と直交して延びる流入側端面(リーディング側端面)42a、ABS40と直交して延びる流出側端面(トレーリング側端面)42b、およびそれぞれABS40と直交して流入側端面42aと流出側端面42bとの間を延びる一対の側面(サイド部)42cを有している。スライダ31は、ABS40と反対側に位置する背面を有し、この背面がフレクシャ41のジンバル部に固定される。
図3および図4に示すように、磁気ヘッド17のスライダ31は、ほぼ直方体状に形成され、磁気ディスク16の表面に対向する矩形状の空気支持面(ディスク対向面)(air bearing surface :ABS)40、ABS40と直交して延びる流入側端面(リーディング側端面)42a、ABS40と直交して延びる流出側端面(トレーリング側端面)42b、およびそれぞれABS40と直交して流入側端面42aと流出側端面42bとの間を延びる一対の側面(サイド部)42cを有している。スライダ31は、ABS40と反対側に位置する背面を有し、この背面がフレクシャ41のジンバル部に固定される。
ABS40の長手方向を第1方向X、これと直交する幅方向を第2方向Yとする。磁気ヘッド17の中心軸線Dは、磁気ヘッド17の中心を通り第1方向Xに延在している。一例では、スライダ31は、第1方向Xの長さLが1.25mm以下、例えば、1.235mm、第2方向Yに沿った幅Wが1.0mm以下、例えば、0.7mm、厚さT1が0.15〜0.3mmに形成され、いわゆるペムトスライダとして構成されている。
図5は図3の線V−Vに沿ったスライダの縦断面図、図6は図3の線VI−VIに沿ったスライダの横断面図である。図示のように、スライダ31の上面(ABS40)は、第1方向Xに沿って凸となる円弧状に湾曲し、いわゆるクラウンを形成している。また、ABS40は、第2方向Yに沿って凸となる円弧状に湾曲し、いわゆるキャンバを形成している。クラウンおよびキャンバの中央部の高さT2は、一例では、15nm程度に形成されている。
図3ないし図5に示すように、ABS40の第1方向Xのほぼ中央部に帯状の深溝50が形成されている。深溝50は、スライダ31の第2方向Yの全長に亘って延在し、スライダ31の両側面42cに開口している。スライダ31の厚さT1を、例えば0.23mmとした場合、深溝50の深さは、1〜5μm、例えば3μmに形成されている。深溝50を設けることにより、HDDで実現される全てのヨー角において、深溝50のリーディング側で負圧を発生させることができる。
ABS40のリーディング側端部に、ほぼ矩形状のリーディングステップ52が形成されている。リーディングステップ52は、深溝50の底面に対し突出して設けられ、かつ、空気流Cに対して深溝50の流入側に位置している。
磁気ヘッド17のピッチ角を維持するため、リーディングステップ52上には、空気膜によってスライダ31を支えるリーディングパッド(流入側の圧力発生面)53が突設されている。リーディングパッド53は、流入側に向かって複数個所が開放するM字形状に形成されている。リーディングパッド53の上面は、スライダ31の最上面を構成し、ABS40の一部を構成している。リーディングステップ52の流入端から僅かに流出側にずれた位置に、リーディング溝55が形成されている。
磁気ヘッド17のピッチ角を維持するため、リーディングステップ52上には、空気膜によってスライダ31を支えるリーディングパッド(流入側の圧力発生面)53が突設されている。リーディングパッド53は、流入側に向かって複数個所が開放するM字形状に形成されている。リーディングパッド53の上面は、スライダ31の最上面を構成し、ABS40の一部を構成している。リーディングステップ52の流入端から僅かに流出側にずれた位置に、リーディング溝55が形成されている。
図3ないし図5に示すように、ABS40のほぼ中央部から流出側端面42bに亘って、凹所からなる負圧キャビティ54が形成されている。負圧キャビティ54は、深溝50の流出端側に位置し、流出側端面42bに向かって開放している。負圧キャビティ54は、深溝50よりも浅く形成され、すなわち、深溝50の底面よりも高い位置に形成されている。負圧キャビティ54の深さは500〜1500nm、例えば1000nmに形成されている。負圧キャビティ54を設けることにより、HDDで実現される全てのヨー角において、負圧を発生させることができる。
ABS40において負圧キャビティ54を囲うようにリブ状の中間クロスレール56、一対のサイドパッド58、および一対のセンターレール(センターパッド)68が形成されている。中間クロスレール56は、深溝50と負圧キャビティ54との間に位置し、第2方向Yに沿ってABS40の両側縁間を延びている。中間クロスレール56は、負圧キャビティ54の底面に対し突出して設けられ、かつ、空気流Cに対して負圧キャビティ54の流入側に位置している。
一対のサイドパッド58は、ABS40の各側縁に沿って形成され、中間クロスレール56からABS40の流出端側に延出し、側縁側に屈曲し、更に、リーディング側に屈曲し、側縁に沿ってリーディング側に延出している。これらのサイドパッド58は負圧キャビティ54の底面に対し突出している。
一対のサイドパッド58は、ABS40の各側縁に沿って形成され、中間クロスレール56からABS40の流出端側に延出し、側縁側に屈曲し、更に、リーディング側に屈曲し、側縁に沿ってリーディング側に延出している。これらのサイドパッド58は負圧キャビティ54の底面に対し突出している。
一対のスカート60はABS40の各側縁(側面42c)に沿って形成され、それぞれ第1方向Xに沿ってサイドパッド58からABS40の流出側端面42b近傍まで延びている。各スカート60は、負圧キャビティ54の底面に対し突出して設けられ、かつ、サイドパッド58よりも低く形成されている。
中間クロスレール56、一対のサイドパッド58、および一対のスカート60は、全体として、上流側が閉塞され、下流側に向かって開放したほぼU字形状に形成されている。中間クロスレール56、一対のサイドパッド58、および一対のスカート60により負圧キャビティ54が規定されている。
中間クロスレール56、一対のサイドパッド58、および一対のスカート60は、全体として、上流側が閉塞され、下流側に向かって開放したほぼU字形状に形成されている。中間クロスレール56、一対のサイドパッド58、および一対のスカート60により負圧キャビティ54が規定されている。
図3ないし図6に示すように、スライダ31は、空気流Cの方向に対して、ABS40の流出側端部に形成されたトレーリングステップ62を有している。トレーリングステップ62は、負圧キャビティ54の底面に対し突出して形成され、その突出高さは、リーディングステップ52と同程度の高さに形成されている。トレーリングステップ62は、ABS40の第2方向Yのほぼ中央に位置している。トレーリングステップ62の上面には、空気膜によってスライダ31を支えるトレーリングパッド(流出側の圧力発生面)63が突設されている。
トレーリングパッド63は、トレーリングステップ62の流出側端面、ここでは、スライダ31の流出側端面42bから流入側に隙間を置いて設けられている。トレーリングパッド63は、リーディングパッド53、中間クロスレール56、サイドパッド58と同一高さレベルに形成され、スライダ31の最上面となりABS40の一部を構成している。
磁気ヘッド17のヘッド部33は、磁気ディスク16に対して情報の記録再生を行う記録素子65および再生素子66を有している。これら記録素子65および再生素子66は、空気流Cの方向に対して、スライダ31の下流側端部内、ここでは、トレーリングステップ62内に埋め込まれている。記録素子65および再生素子66の先端部は、トレーリングパッド63の位置でABS40に露出している。
スライダ31のABS40は、第1方向Xに沿って、中間クロスレール56からトレーリングステップ58まで延びる細長い一対のセンターレール68を有している。一対のセンターレール68は、スライダ31の中心軸線Dの両側に位置し、第2方向Yに隙間を置いて、互いに対向している。センターレール68は、深溝50とトレーリングステップ62との間の領域で、かつ、スライダ31の一対の側縁間の中央領域(幅方向の中央部)に設けられている。センターレール68は、負圧キャビティ54の底面からの高さが、中間クロスレール56およびトレーリングパッド63の高さと同一に形成されている。一対のセンターレール68の間に、空気流をトレーリングステップ62およびトレーリングパッド63に導くガイド溝76が形成されている。このガイド溝76は、中心軸線Dに沿って形成され、深溝50を通り、更に、リーディングステップ52まで延びている。
また、図3ないし図6に示すように、各センターレール68に浅溝(切欠き)70が形成されている。浅溝70は、少なくとも、センターレール68の第1方向Xの中央部に形成されている。本実施形態では、浅溝70は、センターレール68のほぼ全長に亘って設けられている。一例では、浅溝70の深さDGは、2〜30nm、第1方向Xの長さLGは、30〜300μm程度に形成されている。浅溝70は、全長に亘り、ほぼ一定の深さDGに形成されている。浅溝70は、例えば、センターレール68の少なくも一部をミリングすることにより形成することができる。
なお、浅溝70の深さDGは、一定の場合に限らず、浅溝70の長手方向に深さが変化するように構成してもよい。
また、図3ないし図6に示すように、各センターレール68に浅溝(切欠き)70が形成されている。浅溝70は、少なくとも、センターレール68の第1方向Xの中央部に形成されている。本実施形態では、浅溝70は、センターレール68のほぼ全長に亘って設けられている。一例では、浅溝70の深さDGは、2〜30nm、第1方向Xの長さLGは、30〜300μm程度に形成されている。浅溝70は、全長に亘り、ほぼ一定の深さDGに形成されている。浅溝70は、例えば、センターレール68の少なくも一部をミリングすることにより形成することができる。
なお、浅溝70の深さDGは、一定の場合に限らず、浅溝70の長手方向に深さが変化するように構成してもよい。
上述したリーディングステップ52は、スライダ31の流入側のステップ部を構成し、また、中間クロスレール56、サイドパッド58、およびトレーリングステップ62は、スライダ31の流出側のステップ部を構成している。そして、深溝50は、流入側ステップ部と流出側ステップ部との間に設けられている。
図7は、磁気ディスクの変形(径方向位置)による等価的なクラウン/キャンバ変化を示す図である。図示のように、等価的なクラウン/キャンバは、磁気ディスクの内周側ほど大きくなる。そのため、磁気ディスクに変形が生じた場合、磁気ディスク内周領域では、スライダの浮上姿勢が大きく崩れ、スライダは磁気ディスクに接触する可能性がある。図8(a)に示すように、通常、磁気ヘッドの浮上姿勢は、スライダ31のトレーリング端42b側が磁気ディスク16に近く、リーディング端42a側がより多く磁気ディスク16から離間した傾斜状態となる。また、スライダ31のABS40にクラウンが付いている。そのため、図8(b)に示すように、外部衝撃等に起因して磁気ディスク16が磁気ヘッド17に対して凸状に変形した場合、磁気ディスクの変形に等価クラウンが足されることになり、スライダ31の中央部とトレーリングパッドとの間の領域、ここでは、スライダ31のセンターレール68付近が最も磁気ディスク表面に接近する、すなわち、センターレール付近の浮上量が最少となる。
これに対して、前述したように、本実施形態に係る磁気ヘッド17によれば、スライダ31のセンターレール68に浅溝70を設けているため、浅溝70の深さ分だけ、磁気ディスク16表面とスライダ31との間の隙間を拡大することができる。これにより、磁気ディスク16が変形した場合でも、スライダ31と磁気ディスク16との接触、衝突を防止することができる。なお、浅溝70の深さDGが2〜30nmの場合、浅溝70がスライダ31の浮上姿勢に大きな影響を及ぼすことはない。
図9は、本実施形態に係る磁気ヘッドと比較例に係る磁気ヘッド(浅溝70が設けられていない磁気ヘッド)とについて、耐衝撃力を比較して示す図である。図示のように、比較例の磁気ヘッドでは、印加加速度70Gの外部衝撃が作用した際に磁気ヘッドが磁気ディスクに接触するのに対して、本実施形態に係る磁気ヘッドでは、印加加速度90G程度まで磁気ディスクとの接触が生じないことが分かる。本実施形態に係る磁気ヘッドによれば、比較例に対して、28%程度、耐衝撃力が向上している。
以上のことから、本実施形態によれば、記録媒体との接触を抑制し、信頼性の向上を図ることが可能な磁気ヘッドおよびこれを備える磁気ディスク装置を得ることができる。
なお、スライダは、センターレールを有するABS40を備えたものに限定されない。浅溝70は、センターレールに限らず、スライダ中央部とトレーリングパッドとの間の領域に設けられていればよい。
以上のことから、本実施形態によれば、記録媒体との接触を抑制し、信頼性の向上を図ることが可能な磁気ヘッドおよびこれを備える磁気ディスク装置を得ることができる。
なお、スライダは、センターレールを有するABS40を備えたものに限定されない。浅溝70は、センターレールに限らず、スライダ中央部とトレーリングパッドとの間の領域に設けられていればよい。
次に、他の実施形態に係る磁気ヘッドについて説明する。なお、以下に説明する他の実施形態において、前述した第1の実施形態と同一の部分には、同一の参照符号を付してその詳細な説明を省略あるいは簡略化し、第1の実施形態と異なる部分を中心に詳しく説明する。
(第2の実施形態)
図10は、第2の実施形態に係る磁気ヘッドを模式的に示す図である。図示のように、第2の実施形態では、スライダ31の中央部とトレーリングパッドとの間の領域をスライダ31の全幅に亘って研磨等により削り、斜めに傾斜した傾斜面70Aを形成している。削り量は、最大位置で、2〜30nmとしている。
上記の構成においても、傾斜面70Aの削り量分だけ、磁気ディスク16表面とスライダ31との間の隙間を拡大することができ、スライダ31と磁気ディスク16との接触、衝突を防止することができる。傾斜面70Aの削り量が2〜30nmの場合、スライダ31の浮上姿勢に大きな影響を及ぼすことはない。
(第2の実施形態)
図10は、第2の実施形態に係る磁気ヘッドを模式的に示す図である。図示のように、第2の実施形態では、スライダ31の中央部とトレーリングパッドとの間の領域をスライダ31の全幅に亘って研磨等により削り、斜めに傾斜した傾斜面70Aを形成している。削り量は、最大位置で、2〜30nmとしている。
上記の構成においても、傾斜面70Aの削り量分だけ、磁気ディスク16表面とスライダ31との間の隙間を拡大することができ、スライダ31と磁気ディスク16との接触、衝突を防止することができる。傾斜面70Aの削り量が2〜30nmの場合、スライダ31の浮上姿勢に大きな影響を及ぼすことはない。
(第3の実施形態)
図11は、第3の実施形態に係る磁気ヘッドのABS側を示す斜視図、図12は、第3の実施形態に係る磁気ヘッドのABS側を示す平面図である。
外部衝撃等に起因して磁気ディスク16が磁気ヘッド17に対して凹状に変形した場合、磁気ディスクの変形に等価クラウンが足されることになり、スライダ31の両側縁部、すなわち、サイドパッド58の領域付近が最も磁気ディスク表面に接近する、すなわち、サイドパッド58の領域付近の浮上量が最少となる。そこで、第3の実施形態では、図11および図12に示すように、各サイドパッド58の外側角部、すなわち、スライダ31の側面42c側かつトレーリング端面42b側に位置する外側角部、に浅溝74を設けている。浅溝74は、サイドパッド58の上記外側角部を除去あるいは切除するとこにより、形成される。浅溝74の深さは、2ないし30nmとしている。浅溝74は、ABS40に対して垂直に形成してもよいし、あるいは、ABS40に対して斜めに傾斜するように形成してもよい。
図11は、第3の実施形態に係る磁気ヘッドのABS側を示す斜視図、図12は、第3の実施形態に係る磁気ヘッドのABS側を示す平面図である。
外部衝撃等に起因して磁気ディスク16が磁気ヘッド17に対して凹状に変形した場合、磁気ディスクの変形に等価クラウンが足されることになり、スライダ31の両側縁部、すなわち、サイドパッド58の領域付近が最も磁気ディスク表面に接近する、すなわち、サイドパッド58の領域付近の浮上量が最少となる。そこで、第3の実施形態では、図11および図12に示すように、各サイドパッド58の外側角部、すなわち、スライダ31の側面42c側かつトレーリング端面42b側に位置する外側角部、に浅溝74を設けている。浅溝74は、サイドパッド58の上記外側角部を除去あるいは切除するとこにより、形成される。浅溝74の深さは、2ないし30nmとしている。浅溝74は、ABS40に対して垂直に形成してもよいし、あるいは、ABS40に対して斜めに傾斜するように形成してもよい。
上記構成によれば、サイドパッド58に浅溝74を設けることにより、浅溝74の深さ分だけ、磁気ディスク16表面とスライダ31との間の隙間を拡大することができる。これにより、磁気ディスク16が凹状に変形した場合でも、スライダ31と磁気ディスク16との接触、衝突を防止することができる。浅溝74の深さが2〜30nmの場合、浅溝74がスライダ31の浮上姿勢に大きな影響を及ぼすことはない。
なお、図示の例では、センターレール68にも浅溝70を設ける構成としているが、これに限定されることはない。センターレール68の浅溝70を無くし、サイドパッド58のみに浅溝74を設ける構成としてもよい。この場合でも、外部衝撃に対する磁気ヘッドの耐衝撃力を向上することが可能である。
なお、図示の例では、センターレール68にも浅溝70を設ける構成としているが、これに限定されることはない。センターレール68の浅溝70を無くし、サイドパッド58のみに浅溝74を設ける構成としてもよい。この場合でも、外部衝撃に対する磁気ヘッドの耐衝撃力を向上することが可能である。
なお、本発明の実施形態および種々の変形例を説明したが、これらの実施形態および変形例は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
例えば、磁気ヘッドのスライダは、ペムトスライダに限らず、ピコスライダ、フェムトスライダ、あるいは、より寸法の大きなスライダにも適用可能である。スライダにおける、トレーリングステップ、トレーリングパッド、その他の部分の形状、寸法等は、必要に応じて変更可能である。ディスクドライブにおいて、磁気ディスクは、3.5インチに限らず、他の大きさの磁気ディスクとしてもよい。磁気ディスクは2枚に限らず、1枚あるいは3枚以上としてもよく、磁気ヘッドの数も磁気ディスクの設置枚数に応じて増減すればよい。
例えば、磁気ヘッドのスライダは、ペムトスライダに限らず、ピコスライダ、フェムトスライダ、あるいは、より寸法の大きなスライダにも適用可能である。スライダにおける、トレーリングステップ、トレーリングパッド、その他の部分の形状、寸法等は、必要に応じて変更可能である。ディスクドライブにおいて、磁気ディスクは、3.5インチに限らず、他の大きさの磁気ディスクとしてもよい。磁気ディスクは2枚に限らず、1枚あるいは3枚以上としてもよく、磁気ヘッドの数も磁気ディスクの設置枚数に応じて増減すればよい。
10…筐体、12…ベース、16…磁気ディスク、17…磁気ヘッド、
31…スライダ、30…ヘッドジンバルアッセンブリ、33…ヘッド部、
40…空気支持面(ABS)、42c…側面、50…深溝、
52…リーディングステップ、56…中間クロスレール、
62…トレーリングステップ、68…センターレール、70、74…浅溝、
70A…傾斜面
31…スライダ、30…ヘッドジンバルアッセンブリ、33…ヘッド部、
40…空気支持面(ABS)、42c…側面、50…深溝、
52…リーディングステップ、56…中間クロスレール、
62…トレーリングステップ、68…センターレール、70、74…浅溝、
70A…傾斜面
Claims (6)
- 一対の側縁を有する空気支持面と、前記空気支持面の一対の側縁に沿った一対の側面と、リーディング側端面と、トレーリング側端面とを有するスライダと、
前記スライダに設けられデータの処理を行うヘッド部と、を備え、
前記スライダは、前記空気支持面のリーディング側端部に設けられたリーディングステップと、前記空気支持面のトレーリング側端部に設けられ、前記ヘッド部を内蔵するトレーリングステップと、前記リーディングステップとトレーリングステップとの間に形成され、前記空気支持面および前記一対の側面に開口した深溝と、前記深溝と前記トレーリングステップとの間の領域で前記一対の側縁間の中央領域に設けられた浅溝あるいは傾斜面と、を有している磁気ヘッド。 - 前記スライダは、前記空気支持面の中央部から前記トレーリングステップまで延在するセンターレールと、前記センターレールに設けられた浅溝と、を有している請求項1に記載の磁気ヘッド。
- 前記浅溝の深さは、2ないし30nmである請求項1又は2に記載の磁気ヘッド。
- 前記スライダは、前記深溝と前記トレーリングステップとの間の領域で、前記空気支持面の一対の側縁の近傍に設けられた一対のサイドパッドと、各サイドパッドの側縁側かつトレーリング端側の外側角部に設けられた浅溝と、を有している請求項1に記載の磁気ヘッド。
- 前記浅溝の深さは、2ないし30nmである請求項4に記載の磁気ヘッド。
ンブリ。 - 回転自在に設けられたディスク状の記録媒体と、
前記記録媒体に対して情報を処理する請求項1から5のいずれか1項に記載の磁気ヘッドと、を備える磁気ディスク装置。
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Family Applications (1)
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CN (1) | CN110895948A (ja) |
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2018
- 2018-09-13 JP JP2018171476A patent/JP2020042886A/ja active Pending
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- 2019-02-04 US US16/266,147 patent/US20200090692A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
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CN110895948A (zh) | 2020-03-20 |
US20200090692A1 (en) | 2020-03-19 |
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