JP2003157515A - 薄膜磁気ヘッド用スライダおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄膜磁気ヘッド用スライダと記録媒体との衝
突によって記録媒体や薄膜磁気ヘッド素子が損傷するこ
とや、薄膜磁気ヘッド用スライダと記録媒体とが吸着す
ることを防止しながら、磁気スペースの縮小を可能にす
る。 【解決手段】 スライダ２０は、スライダ本体２１と薄
膜磁気ヘッド素子２２を備えている。スライダ本体２１
は、エアベアリング面３０と空気流入端４１と空気流出
端４２を有している。エアベアリング面３０は、空気流
出端４２に近い第１の部分３１と、空気流入端４１に近
い第２の部分３２と、第１の部分３１と第２の部分３２
との間の境界部分３３とを有している。第２の部分３２
は、エアベアリング面３０の全体の形状が境界部分３３
において屈曲した凸形状になるように、第１の部分３１
に対して傾斜している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録媒体に対向す
る媒体対向面と、媒体対向面の近傍に配置された薄膜磁
気ヘッド素子とを有する薄膜磁気ヘッド用スライダおよ
びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハードディスク装置の面記録密度
の向上に伴って、薄膜磁気ヘッドの性能向上が求められ
ている。薄膜磁気ヘッドとしては、書き込み用の誘導型
電磁変換素子を有する記録ヘッドと読み出し用の磁気抵
抗効果素子（以下、ＭＲ（Magnetoresistive）素子とも
記す。）を有する再生ヘッドとを積層した構造の複合型
薄膜磁気ヘッドが広く用いられている。ＭＲ素子として
は、異方性磁気抵抗（Anisotropic Magnetoresistive）
効果を用いたＡＭＲ素子と、巨大磁気抵抗（Giant Magn
etoresistive）効果を用いたＧＭＲ素子とがあり、ＡＭ
Ｒ素子を用いた再生ヘッドはＡＭＲヘッドあるいは単に
ＭＲヘッドと呼ばれ、ＧＭＲ素子を用いた再生ヘッドは
ＧＭＲヘッドと呼ばれる。ＡＭＲヘッドは、面記録密度
が１ギガビット／（インチ）²を超える再生ヘッドとし
て利用され、ＧＭＲヘッドは、面記録密度が３ギガビッ
ト／（インチ）²を超える再生ヘッドとして利用されて
いる。近年は、ほとんどＧＭＲヘッドが利用されるよう
になってきている。

【０００３】再生ヘッドの性能を向上させる方法として
は、ＭＲ膜をＡＭＲ膜からＧＭＲ膜等の磁気抵抗感度の
優れた材料に変える方法や、ＭＲ膜のパターン幅、すな
わち、再生トラック幅やＭＲハイトを適切化する方法等
がある。ＭＲハイトとは、ＭＲ素子のエアベアリング面
側の端部から反対側の端部までの長さ（高さ）をいう。
また、エアベアリング面は、薄膜磁気ヘッドにおける磁
気記録媒体と対向する面である。

【０００４】一方、再生ヘッドの性能向上に伴って、記
録ヘッドの性能向上も求められている。記録ヘッドの性
能のうち面記録密度を高めるには、記録トラック密度を
上げる必要がある。このためには、記録ギャップ層を挟
んでその上下に形成された下部磁極および上部磁極のエ
アベアリング面での幅を数ミクロンからサブミクロン寸
法まで狭くした狭トラック構造の記録ヘッドを実現する
必要があり、これを達成するために半導体加工技術が利
用されている。また、記録ヘッドの性能を決定する他の
要因としては、パターン幅、特に、スロートハイト（Th
roat Height）がある。スロートハイトは、２つの磁極
層が記録ギャップ層を介して対向する部分、すなわち磁
極部分の、エアベアリング面側の端部から反対側の端部
までの長さ（高さ）をいう。記録ヘッドの性能向上のた
めには、スロートハイトの縮小化が望まれている。この
スロートハイトは、エアベアリング面の加工の際の研磨
量によって決定される。

【０００５】このように、薄膜磁気ヘッドの性能の向上
のためには、記録ヘッドと再生ヘッドをバランスよく形
成することが重要である。

【０００６】高密度記録を可能にする薄膜磁気ヘッドに
要求される条件としては、再生ヘッドについては、再生
トラック幅の縮小、再生出力の増加、ノイズの低減等が
あり、記録ヘッドについては、記録トラックの縮小、記
録媒体上の既にデータを書き込んである領域にデータを
重ね書きする場合の特性であるオーバーライト特性の向
上、非線形トランジションシフト（Non-linear Transit
ion Shift）の向上等がある。

【０００７】ところで、ハードディスク装置等に用いら
れる浮上型薄膜磁気ヘッドは、一般的に、後端部に薄膜
磁気ヘッド素子が形成されたスライダによって構成され
るようになっている。スライダは、記録媒体の回転によ
って生じる空気流によって記録媒体の表面からわずかに
浮上するようになっている。

【０００８】ここで、図３４ないし図３８を参照して、
従来の薄膜磁気ヘッド素子の製造方法の一例について説
明する。なお、図３４ないし図３７において、（ａ）は
エアベアリング面に垂直な断面を示し、（ｂ）は磁極部
分のエアベアリング面に平行な断面を示している。

【０００９】この製造方法では、まず、図３４に示した
ように、例えばアルミニウムオキサイド・チタニウムカ
ーバイド（Ａｌ₂Ｏ₃・ＴｉＣ）よりなる基板１０１の上
に、例えばアルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）よりなる絶縁層１０２
を、約５〜１０μｍ程度の厚みで堆積する。次に、絶縁
層１０２の上に、磁性材料よりなる再生ヘッド用の下部
シールド層１０３を形成する。

【００１０】次に、下部シールド層１０３の上に、アル
ミナ等の絶縁材料よりなる下部シールドギャップ膜１０
４を、例えばスパッタリングにより、例えば１００〜２
００ｎｍの厚みに形成する。次に、下部シールドギャッ
プ膜１０４の上に、再生用のＭＲ素子１０５を、数十ｎ
ｍの厚みに形成する。次に、下部シールドギャップ膜１
０４の上に、ＭＲ素子１０５に電気的に接続される一対
の電極層１０６を形成する。

【００１１】次に、下部シールドギャップ膜１０４、Ｍ
Ｒ素子１０５および電極層１０６の上に、アルミナ等の
絶縁材料よりなる上部シールドギャップ膜１０７を、例
えばスパッタリングによって形成し、ＭＲ素子１０５を
シールドギャップ膜１０４，１０７内に埋設する。

【００１２】次に、上部シールドギャップ膜１０７の上
に、磁性材料からなり、再生ヘッドと記録ヘッドの双方
に用いられる上部シールド層兼下部磁極層（以下、下部
磁極層と記す。）１０８を、約３μｍの厚みに形成す
る。

【００１３】次に、図３５に示したように、下部磁極層
１０８の上に、絶縁膜、例えばアルミナ膜よりなる記録
ギャップ層１０９を０．２μｍの厚みに形成する。次
に、磁路形成のために、記録ギャップ層１０９を部分的
にエッチングして、コンタクトホール１０９ａを形成す
る。次に、磁極部分における記録ギャップ層１０９の上
に、記録ヘッド用の磁性材料よりなる上部磁極チップ１
１０を、０．５〜１．０μｍの厚みに形成する。このと
き同時に、磁路形成のためのコンタクトホール１０９ａ
の上に、磁路形成のための磁性材料からなる磁性層１１
９を形成する。

【００１４】次に、図３６に示したように、上部磁極チ
ップ１１０をマスクとして、イオンミリングによって、
記録ギャップ層１０９と下部磁極層１０８をエッチング
する。図３６（ｂ）に示したように、上部磁極部分（上
部磁極チップ１１０）、記録ギャップ層１０９および下
部磁極層１０８の一部の各側壁が垂直に自己整合的に形
成された構造は、トリム（Trim）構造と呼ばれる。

【００１５】次に、全面に、例えばアルミナ膜よりなる
絶縁層１１１を、約３μｍの厚みに形成する。次に、こ
の絶縁層１１１を、上部磁極チップ１１０および磁性層
１１９の表面に至るまで研磨して平坦化する。

【００１６】次に、平坦化された絶縁層１１１の上に、
例えば銅（Ｃｕ）よりなる誘導型の記録ヘッド用の第１
層目の薄膜コイル１１２を形成する。次に、絶縁層１１
１およびコイル１１２の上に、フォトレジスト層１１３
を、所定のパターンに形成する。次に、フォトレジスト
層１１３の表面を平坦にするために所定の温度で熱処理
する。次に、フォトレジスト層１１３の上に、第２層目
の薄膜コイル１１４を形成する。次に、フォトレジスト
層１１３およびコイル１１４上に、フォトレジスト層１
１５を、所定のパターンに形成する。次に、フォトレジ
スト層１１５の表面を平坦にするために所定の温度で熱
処理する。

【００１７】次に、図３７に示したように、上部磁極チ
ップ１１０、フォトレジスト層１１３，１１５および磁
性層１１９の上に、記録ヘッド用の磁性材料、例えばパ
ーマロイ（ＮｉＦｅ）よりなる上部磁極層１１６を形成
する。次に、上部磁極層１１６の上に、例えばアルミナ
よりなるオーバーコート層１１７を形成する。最後に、
上記各層を含むスライダの機械加工を行って、記録ヘッ
ドおよび再生ヘッドのエアベアリング面１１８を形成し
て、薄膜磁気ヘッド素子が完成する。

【００１８】図３８は、図３７に示した薄膜磁気ヘッド
素子の平面図である。なお、この図では、オーバーコー
ト層１１７や、その他の絶縁層および絶縁膜を省略して
いる。

【００１９】次に、図３９ないし図４３を参照して、従
来のスライダの構成と作用について説明する。図３９は
従来のスライダのエアベアリング面の構成の一例を示す
底面図である。この図に示したように、スライダ１２０
におけるエアベアリング面は、磁気ディスク等の記録媒
体の回転によって生じる空気流によってスライダ１２０
を記録媒体の表面からわずかに浮上させるために必要な
形状に形成されている。なお、図３９において、符号１
２１ａは凸部を表し、１２１ｂは凹部を表している。ま
た、スライダ１２０の空気流出端（図３９における上側
の端部）の近傍であってエアベアリング面の近傍の位置
には薄膜磁気ヘッド素子１２２が配置されている。この
薄膜磁気ヘッド素子１２２の構成は、例えば図３７に示
したようになっている。図３９におけるＡ部が、図３７
（ｂ）に対応する。

【００２０】スライダ１２０は、以下のようにして製造
される。まず、それぞれ薄膜磁気ヘッド素子１２２を含
むスライダとなる部分（以下、スライダ部分と言う。）
が複数列に配列されたウェハを一方向に切断して、スラ
イダ部分が一列に配列されたバーと呼ばれるブロックを
形成する。次に、このバーに対して研磨加工を行ってエ
アベアリング面を形成し、更に、凸部１２１ａおよび凹
部１２１ｂを形成する。次に、バーを切断して各スライ
ダ１２０に分離する。

【００２１】図４０は、記録媒体１４０が静止している
状態におけるスライダ１２０と記録媒体１４０とを示す
断面図である。図４０において、スライダ１２０に関し
ては、図３９の４０−４０線断面で表している。また、
図４１は、図３９における上側から見たスライダ１２０
を示している。

【００２２】図４０に示したように、スライダ１２０の
大部分は、例えばアルミニウムオキサイド・チタニウム
カーバイドよりなる基板１０１で構成されている。スラ
イダ１２０のうちの残りの部分は、例えばアルミナより
なる絶縁部１２７と、この絶縁部１２７内に形成された
薄膜磁気ヘッド素子１２２等で構成されている。絶縁部
１２７の大部分はオーバーコート層１１７である。

【００２３】図４０および図４１に示したスライダ１２
０では、下部シールド層１０３、下部磁極層１０８、上
部磁極チップ１１０、上部磁極層１１６等の腐食等を防
止するために、エアベアリング面に、ダイヤモンドライ
クカーボン（ＤＬＣ）等を用いた保護層１２８を形成し
ている。

【００２４】図４２は、記録媒体１４０が停止している
状態から回転を開始した直後におけるスライダ１２０と
記録媒体１４０とを示す断面図である。また、図４３
は、記録媒体１４０が回転し、スライダ１２０が記録媒
体１４０の表面から浮上し、薄膜磁気ヘッド素子１２２
によって記録や再生が行われている状態を表している。
スライダ１２０の浮上時において、スライダ１２０と記
録媒体１４０との最短距離Ｈ１１は８〜１０ｎｍ程度で
あり、スライダ１２０の空気流出端と記録媒体１４０と
の距離Ｈ１２は、１００〜５００ｎｍ程度である。

【００２５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ハードディ
スク装置の性能、特に面記録密度を向上させる方法に
は、線記録密度を高める方法とトラック密度を高める方
法とがある。高性能のハードディスク装置を設計する際
には、線記録密度とトラック密度のどちらに重点を置く
かによって、記録ヘッド、再生ヘッド、あるいは薄膜磁
気ヘッド全体における具体的な方策が異なる。すなわ
ち、トラック密度に重点を置いた設計の場合には、例え
ば、記録ヘッドと再生ヘッドの双方においてトラック幅
の縮小が求められる。

【００２６】一方、線記録密度に重点を置いた設計の場
合には、例えば、再生ヘッドにおいて、再生出力の向上
や、下部シールド層と上部シールド層との間の距離であ
るシールドギャップ長の縮小が求められる。線記録密度
に重点を置いた設計の場合には、更に、記録媒体と薄膜
磁気ヘッド素子との間の距離（以下、磁気スペースと言
う。）の縮小が求められる。

【００２７】磁気スペースの縮小は、スライダの浮上量
の縮小によって達成される。磁気スペースの縮小は、再
生ヘッドにおける再生出力の向上に寄与する他に、記録
ヘッドにおけるオーバーライト特性の向上に寄与する。

【００２８】以下、磁気スペースを縮小する場合におけ
る問題点について説明する。従来、スライダ１２０のエ
アベアリング面の研磨は、例えば、ダイヤモンドスラリ
ーを用い、回転するスズ定盤上で行っていた。

【００２９】ところで、スライダ１２０を構成する複数
の材料には硬度に差がある。例えば、基板１０１に使用
されるセラミックス材であるアルミニウムオキサイド・
チタニウムカーバイドと、下部シールド層１０３、下部
磁極層１０８、上部磁極チップ１１０、上部磁極層１１
６等に使用される磁性材料、例えばＮｉＦｅと、絶縁部
１２７に使用されるアルミナとで硬度を比較すると、ア
ルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドの硬度が
最も大きく、ＮｉＦｅの硬度が最も小さく、アルミナの
硬度はアルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイド
の硬度とＮｉＦｅの硬度の中間である。

【００３０】このように互いに硬度の異なる複数の層を
含むスライダ１２０を、研磨剤としてダイヤモンドスラ
リーを用いてスズ定盤上で研磨すると、硬度の異なる複
数の層の間で段差が生じることがあった。例えば、図４
０に示したように、絶縁部１２７と基板１０１との間で
は、基板１０１に対して絶縁部１２７が引っ込むように
段差が生じる。この段差の大きさＲは、例えば３〜５ｎ
ｍである。また、図示しないが、ＮｉＦｅ等の磁性材料
よりなる層、例えば上部磁極層１１６と絶縁部１２７と
の間では、絶縁部１２７に対して上部磁極層１１６が引
っ込んだ状態で１〜２ｎｍ程度の段差が生じる。これら
の段差は、磁気スペースの縮小を妨げていた。

【００３１】このように、従来の薄膜磁気ヘッドでは、
スライダ１２０のエアベアリング面において、薄膜磁気
ヘッド素子１２２に対応する部分が他の部分よりも引っ
込んだ状態で段差が生じることから、磁気スペースを縮
小することが困難であり、その結果、記録密度を向上さ
せることが難しいという問題点があった。

【００３２】また、従来の薄膜磁気ヘッドでは、上述の
ように、磁気スペースを縮小することが困難であること
から、特に、再生ヘッドにおける再生出力の向上や半値
幅の縮小といった再生ヘッドの特性の向上を十分に図る
ことができなかった。そのため、従来は、高密度記録用
のハードディスク装置のエラーレートが高くなり、ハー
ドディスク装置の歩留りが低くなるという問題点があっ
た。

【００３３】一方、磁気スペースを縮小してゆくと、ス
ライダと記録媒体との衝突が生じやすくなり、記録媒体
や薄膜磁気ヘッド素子の損傷が生じやすくなる。これを
防止するには、記録媒体の表面の平滑性を高めることが
必要になる。しかし、記録媒体の表面の平滑性を高める
と、スライダと記録媒体との吸着が生じやすくなる。そ
の結果、記録媒体が停止して、スライダが記録媒体に接
触している状態から、記録媒体が回転を開始したとき
に、スライダが記録媒体から離れにくくなるという問題
点がある。

【００３４】従来は、スライダと記録媒体との吸着を防
止するために、スライダのエアベアリング面にクラウン
やキャンバを形成していた。クラウンとは、図４０に示
したように、スライダ１２０の長手方向において緩やか
に湾曲した凸面を言う。キャンバとは、図４１に示した
ように、スライダ１２０の幅方向において緩やかに湾曲
した凸面を言う。クラウンにおける高低差Ｃ１は、１０
〜５０ｎｍ程度である。また、キャンバにおける高低差
Ｃ２は、５〜２０ｎｍ程度である。

【００３５】従来、クラウンは、例えば、バーのエアベ
アリング面の研磨の際に、定盤に対するバーの姿勢を変
化させることによって形成していた。

【００３６】一方、キャンバは、従来、例えば次のよう
な方法で形成していた。すなわち、まず、ＭＲハイトを
調整するためにバーのエアベアリング面の研磨を行った
後、バーにおける各スライダ部分の間の切断予定位置
に、ダイヤモンドグラインダ等によって切れ込みを入れ
る。次に、凹面形状の定盤上でバーのエアベアリング面
を軽く再研磨する。

【００３７】しかしながら、キャンバを形成するための
上記の方法では、バーのエアベアリング面の研磨によっ
てＭＲハイトを正確に調整した後に、キャンバを形成す
るために、再度、バーのエアベアリング面を１０〜２０
ｎｍ程度研磨する。そのため、この方法では、ＭＲハイ
トが所望の値からずれる場合があるという問題点があ
る。また、この方法では、凹面形状の定盤上でバーのエ
アベアリング面を研磨する際に、定盤の汚れや定盤上の
ごみによってバーに引っかき傷が入る場合があり、薄膜
磁気ヘッドの歩留りを低下させるという問題点がある。
また、この方法では、凹面形状の定盤上でバーのエアベ
アリング面を研磨する際に、ＭＲ素子に接続された電極
層の削り粉が、エアベアリング面と定盤との間に挟まれ
て延びて、スメアーと呼ばれる不良が発生する場合があ
る。このスメアーは、ＭＲ素子とシールド層との間の電
気的な短絡を引き起こす場合がある。この短絡は、再生
ヘッドの感度を低下させたり、再生出力にノイズを発生
させたりして、再生ヘッドの特性を劣化させる。

【００３８】また、スライダのエアベアリング面にクラ
ウンやキャンバを形成する場合には、これらの形成の工
程の存在によって、スライダの製造コストが高くなると
いう問題点がある。

【００３９】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、薄膜磁気ヘッド用スライダと記録媒
体との衝突によって記録媒体や薄膜磁気ヘッド素子が損
傷することや、薄膜磁気ヘッド用スライダと記録媒体と
が吸着することを防止しながら、磁気スペースの縮小を
可能にした薄膜磁気ヘッド用スライダおよびその製造方
法を提供することにある。

【００４０】

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
用スライダは、回転する記録媒体に対向する媒体対向面
と空気流入端と空気流出端とを有するスライダ本体と、
スライダ本体における空気流出端の近傍であって媒体対
向面の近傍に配置された薄膜磁気ヘッド素子とを備え、
媒体対向面は、空気流出端に近い第１の部分と、空気流
入端に近い第２の部分と、第１の部分と第２の部分との
間の境界部分とを有し、媒体対向面全体の形状が境界部
分において屈曲した凸形状になるように、第２の部分は
第１の部分に対して傾斜しているものである。

【００４１】本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダでは、
媒体対向面全体の形状が境界部分において屈曲した凸形
状になり、スライダ本体が記録媒体の面に接触する際に
は、境界部分が記録媒体の面に接触する。

【００４２】本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダにおい
て、第２の部分は、記録媒体が回転している間、境界部
分よりも空気流入端が記録媒体から離れるように記録媒
体の面に対して傾くものであってもよい。この場合、記
録媒体が回転している間、第２の部分と記録媒体の面と
のなす角度は３０°以下であってもよい。

【００４３】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
において、スライダ本体は、記録媒体が静止している間
は記録媒体の面に接触し、記録媒体が回転している間は
記録媒体の面から離れるものであってもよい。この場
合、スライダ本体は、記録媒体の面に対して接触を開始
する時に、境界部分が最初に記録媒体の面に接触するも
のであってもよい。また、スライダ本体は、記録媒体の
面から離れる時に、境界部分が最後に記録媒体の面から
離れるものであってもよい。

【００４４】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
において、媒体対向面は、記録媒体の回転時におけるス
ライダ本体の姿勢を制御するための凹凸を有していても
よい。

【００４５】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
において、記録媒体が回転している間および記録媒体が
静止している間のいずれにおいても、スライダ本体は境
界部分において記録媒体の面に接触し、第１の部分およ
び第２の部分は、空気流出端および空気流入端が記録媒
体から離れるように記録媒体の面に対して傾くものであ
ってもよい。

【００４６】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
において、第１の部分と第２の部分とのなす角度は３０
°以下であってもよい。

【００４７】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
において、媒体対向面は、境界部分を含む領域において
形成された凹部を有していてもよい。

【００４８】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
において、スライダ本体は、記録媒体に向く面を有し薄
膜磁気ヘッド素子の下地となる基板部と、記録媒体に向
く面を有し薄膜磁気ヘッド素子を囲う絶縁部とを含んで
いてもよい。この場合、媒体対向面は、境界部分を含む
領域において形成された凹部を有し、凹部は基板部に形
成されていてもよい。

【００４９】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
において、スライダ本体が基板部と絶縁部とを含む場合
には、スライダ本体は、更に、基板部および絶縁部の各
記録媒体に向く面を覆う保護層を含んでいてもよい。こ
の場合、媒体対向面は、境界部分を含む領域において形
成された凹部を有し、凹部は保護層に形成されていても
よい。また、保護層は、アルミナまたはダイヤモンドラ
イクカーボンよりなるものであってもよい。

【００５０】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
において、スライダ本体が基板部と絶縁部とを含む場合
には、絶縁部の記録媒体に向く面は、基板部の記録媒体
に向く面のうちの、絶縁部の記録媒体に向く面に隣接す
る部分よりも、記録媒体から離れた位置に配置されてい
てもよい。この場合、記録媒体が回転している間および
記録媒体が静止している間のいずれにおいても、スライ
ダ本体は記録媒体の面に接触し、且つ少なくとも記録媒
体が回転している間において、第１の部分のうち基板部
に含まれる部分は記録媒体の面に接触してもよい。

【００５１】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
において、スライダ本体が基板部と絶縁部とを含む場合
には、第１の部分のうち基板部に含まれる部分の空気通
過方向の長さは、基板部全体の空気通過方向の長さの５
０％以下であってもよい。

【００５２】本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造
方法は、回転する記録媒体に対向する媒体対向面と空気
流入端と空気流出端とを有するスライダ本体と、スライ
ダ本体における空気流出端の近傍であって媒体対向面の
近傍に配置された薄膜磁気ヘッド素子とを備え、媒体対
向面は、空気流出端に近い第１の部分と、空気流入端に
近い第２の部分と、第１の部分と第２の部分との間の境
界部分とを有し、媒体対向面全体の形状が境界部分にお
いて屈曲した凸形状になるように、第２の部分は第１の
部分に対して傾斜している薄膜磁気ヘッド用スライダを
製造する方法である。

【００５３】本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造
方法は、スライダ本体となる部分と薄膜磁気ヘッド素子
とを含むスライダ用素材を形成する工程と、スライダ用
素材に、第１の部分、第２の部分および境界部分を有す
る媒体対向面と空気流入端と空気流出端とが形成される
ように、スライダ用素材を加工する工程とを備えたもの
である。

【００５４】本発明の製造方法によって製造される薄膜
磁気ヘッド用スライダでは、媒体対向面全体の形状が境
界部分において屈曲した凸形状になり、スライダ本体が
記録媒体の面に接触する際には、境界部分が記録媒体の
面に接触する。

【００５５】本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造
方法において、スライダ用素材を加工する工程は、第１
の部分を形成するためにスライダ用素材を研磨する工程
と、第２の部分を形成するためにスライダ用素材を研磨
する工程とを含んでいてもよい。

【００５６】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
の製造方法において、スライダ用素材を加工する工程
は、媒体対向面に、記録媒体の回転時におけるスライダ
本体の姿勢を制御するための凹凸を形成する工程を含ん
でいてもよい。

【００５７】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
の製造方法において、第１の部分と第２の部分とのなす
角度は３０°以下であってもよい。

【００５８】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
の製造方法において、スライダ用素材を加工する工程
は、媒体対向面における境界部分を含む領域に凹部を形
成する工程を含んでいてもよい。

【００５９】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
の製造方法において、スライダ本体となる部分は、記録
媒体に向く面を有し薄膜磁気ヘッド素子の下地となる基
板部と、記録媒体に向く面を有し薄膜磁気ヘッド素子を
囲う絶縁部とを含んでいてもよい。この場合、スライダ
用素材を加工する工程は、基板部をエッチングすること
によって、媒体対向面における境界部分を含む領域に凹
部を形成する工程を含んでいてもよい。

【００６０】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
の製造方法において、スライダ本体となる部分が基板部
と絶縁部とを含む場合には、スライダ用素材を加工する
工程は、基板部および絶縁部の各記録媒体に向く面を覆
う保護層を形成する工程を含んでいてもよい。また、ス
ライダ用素材を加工する工程は、保護層をエッチングす
ることによって、媒体対向面における境界部分を含む領
域に凹部を形成する工程を含んでいてもよい。また、保
護層は、アルミナまたはダイヤモンドライクカーボンよ
りなるものであってもよい。

【００６１】また、本発明の薄膜磁気ヘッド用スライダ
の製造方法において、スライダ本体となる部分が基板部
と絶縁部とを含む場合には、絶縁部の記録媒体に向く面
は、基板部の記録媒体に向く面のうちの、絶縁部の記録
媒体に向く面に隣接する部分よりも、記録媒体から離れ
た位置に配置されてもよい。また、第１の部分のうち基
板部に含まれる部分の空気通過方向の長さは、基板部全
体の空気通過方向の長さの５０％以下であってもよい。

【００６２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。 ［第１の実施の形態］まず、図１および図２を参照し
て、本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド用
スライダ（以下、単にスライダと記す。）の構成につい
て説明する。図１は本実施の形態に係るスライダの側面
図、図２は本実施の形態に係るスライダの斜視図であ
る。

【００６３】本実施の形態に係るスライダ２０は、スラ
イダ本体２１と、薄膜磁気ヘッド素子２２とを備えてい
る。スライダ本体２１は、回転する記録媒体に対向する
媒体対向面としてのエアベアリング面３０と、記録媒体
の回転によって生じる空気流が流入する端部である空気
流入端４１と、この空気流が流出する端部である空気流
出端４２とを有している。薄膜磁気ヘッド素子２２は、
スライダ本体２１における空気流出端４２の近傍であっ
てエアベアリング面３０の近傍に配置されている。

【００６４】エアベアリング面３０は、空気流出端４２
に近い第１の部分３１と、空気流入端４１に近い第２の
部分３２と、第１の部分３１と第２の部分３２との間の
境界部分３３とを有している。第１の部分３１は、スラ
イダ本体２１におけるエアベアリング面３０とは反対側
の面に対して平行になっている。第２の部分３２は、エ
アベアリング面３０の全体の形状が境界部分３３におい
て屈曲した凸形状（屋根形）になるように、第１の部分
３１に対して傾斜している。第１の部分３１と第２の部
分３２とのなす角度θは３０°以下であることが好まし
い。

【００６５】スライダ本体２１は、記録媒体に向く面
（図１における下側の面）を有し薄膜磁気ヘッド素子２
２の下地となる基板部２３と、記録媒体に向く面（図１
における下側の面）を有し薄膜磁気ヘッド素子２２を囲
う絶縁部２４とを含んでいる。スライダ本体２１は、更
に、基板部２３および絶縁部２４の各記録媒体に向く面
を覆う保護層２５を含んでいる。基板部２３は、例えば
アルミニウムオキサイド・チタニウムカーバイドによっ
て構成される。絶縁部２４は、例えば、主にアルミナに
よって構成される。保護層２５は、例えばアルミナまた
はダイヤモンドライクカーボンよりなる。

【００６６】図２に示したように、エアベアリング面３
０は、記録媒体の回転時におけるスライダ本体２１の姿
勢を制御するための凹凸を有している。具体的には、エ
アベアリング面３０は、記録媒体に最も近い面３０ａ
と、この面３０ａに対して所定の第１の段差を有する面
３０ｂと、面３０ａに対して第１の段差よりも大きな第
２の段差を有する面３０ｃとを含んでいる。面３０ａは
スライダ本体２１の幅方向（図２における左右方向）の
両側近傍に配置され、面３０ｂは空気流入端４１の近傍
に配置され、面３０ｃは、エアベアリング面３０の全体
から面３０ａおよび面３０ｂを除いた部分となってい
る。

【００６７】本実施の形態に係るスライダ２０では、エ
アベアリング面３０における凹凸の形状に応じて、空気
流によって、スライダ本体２１に対して記録媒体から離
れる方向の力または記録媒体に近づく方向の力を与える
ことができる。従って、エアベアリング面３０における
凹凸の形状の設計によって、記録媒体の回転時における
スライダ本体２１の姿勢を制御することが可能である。

【００６８】図１に示したように、エアベアリング面３
０の第１の部分３１は、基板部２３と絶縁部２４にまた
がって配置されている。第１の部分３１のうち基板部２
３に含まれる部分の空気通過方向（図１における左右方
向）の長さＬ１は、基板部２３全体の空気通過方向の長
さＬ０の５０％以下であることが好ましい。

【００６９】なお、基板部２３全体の空気通過方向の長
さＬ０は、例えば１．２ｍｍである。これに対し、絶縁
部２４の空気通過方向の長さＬ３は、３０〜４０μｍ程
度である。従って、スライダ本体２１の空気通過方向の
長さは、基板部２３全体の空気通過方向の長さＬ０とほ
ぼ等しい。

【００７０】また、空気流出端４２におけるスライダ本
体２１の高さ（図１における上下方向の長さ）Ｈ０は、
例えば０．３ｍｍである。また、保護層２５の厚みは、
例えば約３〜５ｎｍである。

【００７１】ここで、図１に示したように、エアベアリ
ング面３０の第１の部分３１を含む仮想の平面と空気流
入端４１との間の距離を、高低差と呼び、記号Ｈ１で表
す。この高低差Ｈ１は、長さＬ０，Ｌ１と角度θとによ
って決まる。以下に、長さＬ０を１．２ｍｍとした場合
における長さＬ１と角度θと高低差Ｈ１との関係の例を
示す。

【００７２】まず、長さＬ１を１０μｍとした場合に
は、角度θが０．５°、１°、１０°、３０°のときの
高低差Ｈ１は、それぞれ、１０．３９μｍ、２０．７７
μｍ、２０９．８３μｍ、６８７．０５μｍとなる。

【００７３】また、長さＬ１を５０μｍとした場合に
は、角度θが０．５°、１°、１０°、３０°のときの
高低差Ｈ１は、それぞれ、１０．０４μｍ、２０．０７
μｍ、２０２．７８μｍ、６６３．９５μｍとなる。

【００７４】また、長さＬ１を１００μｍとした場合に
は、角度θが０．５°、１°、１０°、３０°のときの
高低差Ｈ１は、それぞれ、９．６０μｍ、１９．２０μ
ｍ、１９３．９６μｍ、６３５．０９μｍとなる。

【００７５】次に、図３ないし図９を参照して、本実施
の形態に係るスライダにおける薄膜磁気ヘッド素子２２
の製造方法の一例について説明する。なお、図３ないし
図８において、（ａ）はエアベアリング面および基板の
上面に垂直な断面を示し、（ｂ）は磁極部分のエアベア
リング面に平行な断面を示している。

【００７６】本例における薄膜磁気ヘッド素子２２の製
造方法では、まず、図３に示したように、例えばアルミ
ニウムオキサイド・チタニウムカーバイド（Ａｌ₂Ｏ₃・
ＴｉＣ）よりなる基板１の上に、例えばアルミナ（Ａｌ
₂Ｏ₃）よりなる絶縁層２を、約５μｍの厚みで堆積す
る。次に、絶縁層２の上に、磁性材料、例えばパーマロ
イよりなる再生ヘッド用の下部シールド層３を、約３μ
ｍの厚みに形成する。下部シールド層３は、例えば、フ
ォトレジスト膜をマスクにして、めっき法によって、絶
縁層２の上に選択的に形成する。次に、図示しないが、
全体に、例えばアルミナよりなる絶縁層を、例えば４〜
５μｍの厚みに形成し、例えばＣＭＰ（化学機械研磨）
によって、下部シールド層３が露出するまで研磨して、
表面を平坦化処理する。

【００７７】次に、図４に示したように、下部シールド
層３の上に、絶縁膜としての下部シールドギャップ膜４
を、例えば約２０〜４０ｎｍの厚みに形成する。次に、
下部シールドギャップ膜４の上に、磁気的信号検出用の
ＭＲ素子５を、数十ｎｍの厚みに形成する。ＭＲ素子５
は、一端部がエアベアリング面３０に配置される。ＭＲ
素子５は、例えば、スパッタによって形成したＭＲ膜を
選択的にエッチングすることによって形成する。なお、
ＭＲ素子５には、ＡＭＲ素子、ＧＭＲ素子、あるいはＴ
ＭＲ（トンネル磁気抵抗効果）素子等の磁気抵抗効果を
示す感磁膜を用いた素子を用いることができる。次に、
下部シールドギャップ膜４の上に、ＭＲ素子５に電気的
に接続される一対の電極層６を、数十ｎｍの厚みに形成
する。次に、下部シールドギャップ膜４およびＭＲ素子
５の上に、絶縁膜としての上部シールドギャップ膜７
を、例えば約２０〜４０ｎｍの厚みに形成し、ＭＲ素子
５をシールドギャップ膜４，７内に埋設する。シールド
ギャップ膜４，７に使用する絶縁材料としては、アルミ
ナ、窒化アルミニウム、ダイヤモンドライクカーボン
（ＤＬＣ）等がある。また、シールドギャップ膜４，７
は、スパッタ法によって形成してもよいし、化学的気相
成長（ＣＶＤ）法によって形成してもよい。

【００７８】次に、上部シールドギャップ膜７の上に、
磁性材料からなり、再生ヘッドと記録ヘッドの双方に用
いられる上部シールド層兼下部磁極層（以下、下部磁極
層と記す。）８の第１の層８ａを、約１．０〜１．５μ
ｍの厚みで、選択的に形成する。なお、下部磁極層８
は、この第１の層８ａと、後述する第２の層８ｂ、第３
の層８ｃとで構成される。下部磁極層８の第１の層８ａ
は、後述する薄膜コイルの少なくとも一部に対向する位
置に配置される。

【００７９】次に、下部磁極層８の第１の層８ａの上
に、下部磁極層８の第２の層８ｂおよび第３の層８ｃ
を、約１．５〜２．５μｍの厚みに形成する。第２の層
８ｂは、下部磁極層８の磁極部分を形成し、第１の層８
ａの後述する記録ギャップ層側（図４において上側）の
面に接続される。第３の層８ｃは、第１の層８ａと後述
する上部磁極層とを接続するための部分であり、後述す
る薄膜コイルの中心の近傍の位置に配置される。第２の
層８ｂのうち上部磁極層と対向する部分におけるエアベ
アリング面３０とは反対側の端部の位置は、スロートハ
イトを規定する。

【００８０】下部磁極層８の第２の層８ｂおよび第３の
層８ｃは、ＮｉＦｅ（Ｎｉ：８０重量％，Ｆｅ：２０重
量％）や、高飽和磁束密度材料であるＮｉＦｅ（Ｎｉ：
４５重量％，Ｆｅ：５５重量％）等を用い、めっき法に
よって形成してもよいし、高飽和磁束密度材料であるＦ
ｅＮ，ＦｅＺｒＮ等の材料を用い、スパッタによって形
成してもよい。この他にも、高飽和磁束密度材料である
ＣｏＦｅ，Ｃｏ系アモルファス材等を用いてもよい。

【００８１】次に、図５に示したように、全体に、例え
ばアルミナよりなる絶縁膜９を、約０．３〜０．６μｍ
の厚みに形成する。

【００８２】次に、フォトレジストをフォトリソグラフ
ィ工程によりパターニングして、薄膜コイルをフレーム
めっき法によって形成するための図示しないフレームを
形成する。次に、このフレームを用いて、フレームめっ
き法によって、例えば銅（Ｃｕ）よりなる薄膜コイル１
０を、例えば約１．０〜２．０μｍの厚みおよび１．２
〜２．０のコイルピッチで形成する。次に、フレームを
除去する。なお、図中、符号１０ａは、薄膜コイル１０
を、後述する導電層（リード）と接続するための接続部
を示している。

【００８３】次に、図６に示したように、全体に、例え
ばアルミナよりなる絶縁層１１を、約３〜４μｍの厚み
で形成する。次に、例えばＣＭＰによって、下部磁極層
８の第２の層８ｂおよび第３の層８ｃが露出するまで、
絶縁層１１を研磨して、表面を平坦化処理する。ここ
で、図６（ａ）では、薄膜コイル１０は露出していない
が、薄膜コイル１０が露出するようにしてもよい。

【００８４】次に、露出した下部磁極層８の第２の層８
ｂおよび第３の層８ｃと絶縁層１１の上に、絶縁材料よ
りなる記録ギャップ層１２を、例えば０．２〜０．３μ
ｍの厚みに形成する。記録ギャップ層１２に使用する絶
縁材料としては、一般的に、アルミナ、窒化アルミニウ
ム、シリコン酸化物系材料、シリコン窒化物系材料、ダ
イヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等がある。また、
記録ギャップ層１２は、スパッタ法によって形成しても
よいし、ＣＶＤ法によって形成してもよい。

【００８５】次に、磁路形成のために、下部磁極層８の
第３の層８ｃの上において、記録ギャップ層１２を部分
的にエッチングしてコンタクトホールを形成する。ま
た、薄膜コイル１０の接続部１０ａの上の部分におい
て、記録ギャップ層１２および絶縁層１１を部分的にエ
ッチングしてコンタクトホールを形成する。

【００８６】次に、図７に示したように、記録ギャップ
層１２の上において、エアベアリング面３０から下部磁
極層８の第３の層８ｃの上の部分にかけて上部磁極層１
３を約２．０〜３．０μｍの厚みに形成すると共に、薄
膜コイル１０の接続部１０ａに接続されるように導電層
１６を約２．０〜３．０μｍの厚みに形成する。上部磁
極層１３は、下部磁極層８の第３の層８ｃの上の部分に
形成されたコンタクトホールを介して、下部磁極層８の
第３の層８ｃに接触し、磁気的に連結されている。

【００８７】上部磁極層１３は、ＮｉＦｅ（Ｎｉ：８０
重量％，Ｆｅ：２０重量％）や、高飽和磁束密度材料で
あるＮｉＦｅ（Ｎｉ：４５重量％，Ｆｅ：５５重量％）
等を用い、めっき法によって形成してもよいし、高飽和
磁束密度材料であるＦｅＮ，ＦｅＺｒＮ等の材料を用
い、スパッタによって形成してもよい。この他にも、高
飽和磁束密度材料であるＣｏＦｅ，Ｃｏ系アモルファス
材等を用いてもよい。また、高周波特性の改善のため、
上部磁極層１３を、無機系の絶縁膜とパーマロイ等の磁
性層とを何層にも重ね合わせた構造としてもよい。

【００８８】次に、上部磁極層１３をマスクとして、ド
ライエッチングにより、記録ギャップ層１２を選択的に
エッチングする。このときのドライエッチングには、例
えば、ＢＣｌ₂，Ｃｌ₂等の塩素系ガスや、ＣＦ₄，ＳＦ₆
等のフッ素系ガス等のガスを用いた反応性イオンエッチ
ング（ＲＩＥ）が用いられる。次に、例えばアルゴンイ
オンミリングによって、下部磁極層８の第２の層８ｂを
選択的に約０．３〜０．６μｍ程度エッチングして、図
７（ｂ）に示したようなトリム構造とする。このトリム
構造によれば、狭トラックの書き込み時に発生する磁束
の広がりによる実効的なトラック幅の増加を防止するこ
とができる。

【００８９】次に、図８に示したように、全体に、例え
ばアルミナよりなるオーバーコート層１７を、２０〜４
０μｍの厚みに形成し、その表面を平坦化して、その上
に、図示しない電極用パッドを形成する。最後に、上記
各層を含むスライダの研磨加工を行って、記録ヘッドお
よび再生ヘッドのエアベアリング面３０を形成して、薄
膜磁気ヘッド素子が完成する。

【００９０】図９は、図８に示した薄膜磁気ヘッド素子
の主要部分を示す平面図である。なお、図９では、オー
バーコート層１７や、その他の絶縁層および絶縁膜を省
略している。

【００９１】本例における薄膜磁気ヘッド素子は、再生
ヘッドと記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）とを備えて
いる。再生ヘッドは、磁気的信号検出用のＭＲ素子５
と、記録媒体に対向する媒体対向面すなわちエアベアリ
ング面３０側の一部がＭＲ素子５を挟んで対向するよう
に配置され、ＭＲ素子５をシールドする下部シールド層
３および上部シールド層（下部磁極層８）とを有してい
る。

【００９２】記録ヘッドは、互いに磁気的に連結され、
エアベアリング面３０側において互いに対向する磁極部
分を含み、それぞれ少なくとも１つの層を含む下部磁極
層８および上部磁極層１３と、下部磁極層８の磁極部分
と上部磁極層１３の磁極部分との間に設けられた記録ギ
ャップ層１２と、少なくとも一部が下部磁極層８および
上部磁極層１３の間に、これらに対して絶縁された状態
で設けられた薄膜コイル１０とを有している。

【００９３】図１および図２に示したスライダ本体２１
のうちの基板部２３は、図８における基板１によって構
成されている。また、スライダ本体２１のうちの絶縁部
２４の大部分はオーバーコート層１７である。

【００９４】次に、本実施の形態に係るスライダの製造
方法の概略について説明する。本実施の形態に係るスラ
イダの製造方法では、まず、それぞれスライダ２０とな
る部分（以下、スライダ部分と言う。）が複数列に配列
されたウェハを一方向に切断して、スライダ部分が一列
に配列されたバーと呼ばれるブロックを形成する。スラ
イダ部分は、スライダ本体２１となる部分と薄膜磁気ヘ
ッド素子２２とを含んでいる。バーは、本発明における
スライダ用素材に対応する。

【００９５】次に、バーに対して、第１の部分３１、第
２の部分３２および境界部分３３を有するエアベアリン
グ面３０と、空気流入端４１と、空気流出端４２とを形
成する。第１の部分３１、第２の部分３２および境界部
分３３は、例えば、研磨装置を用いて、定盤に対するバ
ーの姿勢を変えてバーの研磨を２回行うことによって形
成する。この場合には、始めに、バーに含まれる複数の
スライダ部分のＭＲ素子５の抵抗値を検出しながら、複
数のスライダ部分におけるＭＲハイトおよびスロートハ
イトが等しくなるように、バーの研磨を行って、バーに
対して第１の部分３１を含む面を形成する。次に、定盤
に対するバーの姿勢を変えてバーの研磨を行って、第２
の部分３２と境界部分３３とを形成する。

【００９６】その後、例えばエッチングによって、エア
ベアリング面３０に面３０ａ，３０ｂ，３０ｃを形成す
る。最後に、隣接するスライダ部分の間でバーを切断し
て各スライダ２０に分離する。

【００９７】図１０は、ウェハにおけるスライダ部分の
配列を示す斜視図である。図１０において、符号５０は
スライダ部分を示している。バーは、図１０において左
右方向に一列に並ぶ複数のスライダ部分５０を含む。な
お、図１０では、分かりやすくするために、最上段のス
ライダ部分５０は、エアベアリング面が形成された後の
状態で表している。

【００９８】ここで、図１１および図１２を参照して、
バーに含まれる複数のスライダ部分５０のＭＲ素子５の
抵抗値を検出しながら、複数のスライダ部分５０におけ
るＭＲハイトおよびスロートハイトが等しくなるよう
に、バーの研磨を行う方法の一例について説明する。

【００９９】図１１は、バーの研磨を行うための研磨装
置の概略の構成を示す斜視図である。この研磨装置５１
は、テーブル６０と、このテーブル６０上に設けられた
回転ラッピングテーブル６１と、この回転ラッピングテ
ーブル６１の側方において、テーブル６０上に設けられ
た支柱６２と、この支柱６２に対してアーム６３を介し
て取り付けられた素材支持部７０とを備えている。回転
ラッピングテーブル６１は、バーに当接するラッピング
プレート６１ａを有している。

【０１００】素材支持部７０は、冶具保持部７３と、こ
の治具保持部７３の前方位置に等間隔に配設された３本
の荷重付加棒７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃとを有している。
冶具保持部７３には、治具８０が固定されるようになっ
ている。治具８０には、断面が長円形の孔からなる３つ
の荷重付加部が設けられている。荷重付加棒７５Ａ，７
５Ｂ，７５Ｃの各下端部には、それぞれ、冶具８０の各
荷重付加部（孔）に挿入される断面が長円形の頭部を有
する荷重付加ピンが設けられている。各荷重付加ピン
は、それぞれ図示しないアクチュエータによって、上下
方向、左右方向（治具８０の長手方向）および回転方向
に駆動されるようになっている。

【０１０１】治具８０は、バーを保持する保持部を有し
ている。この治具８０では、３つの荷重付加部に対して
種々の方向の荷重を付加することにより、保持部および
バーが変形される。これにより、バーに含まれる複数の
薄膜磁気ヘッド素子２２のＭＲハイトおよびスロートハ
イトの値を目標とする値となるように制御しながら、バ
ーのエアベアリング面３０をラッピングすることが可能
となる。

【０１０２】図１２は、図１１に示した研磨装置の回路
構成の一例を示すブロック図である。この研磨装置は、
治具８０の各荷重付加部にそれぞれ３方向の荷重を付加
するための９つアクチュエータ９１〜９９と、バー内の
複数のＭＲ素子５の抵抗値を監視してアクチュエータ９
１〜９９を制御する制御装置８６と、図示しないコネク
タを介して、バー内の複数のＭＲ素子５に接続され、こ
れらのＭＲ素子５のいずれかを選択的に制御装置８６に
接続するマルチプレクサ８７とを備えている。

【０１０３】この研磨装置では、制御装置８６は、マル
チプレクサ８７を介してバー内の複数のＭＲ素子５の抵
抗値を監視して、バー内の各薄膜磁気ヘッド素子２２に
おけるＭＲハイトおよびスロートハイトが全て許容誤差
の範囲内となるように、アクチュエータ９１〜９９を制
御する。

【０１０４】次に、図１３ないし図１７を参照して、本
実施の形態に係るスライダの製造方法について詳しく説
明する。図１３ないし図１７は、それぞれスライダ部分
５０の側面図である。スライダ部分５０は、基板部２３
と、絶縁部２４と、薄膜磁気ヘッド素子２２とを含んで
いる。

【０１０５】本実施の形態に係るスライダの製造方法で
は、まず、図１３に示したように、バーに含まれる複数
のスライダ部分５０のＭＲ素子５の抵抗値を検出しなが
ら、複数のスライダ部分５０におけるＭＲハイトおよび
スロートハイトが等しくなるようにバーの研磨を行っ
て、スライダ部分５０に対して、エアベアリング面３０
の第１の部分３１を含む面３１Ａを形成する。この時点
で、スライダ部分５０に空気流出端４２が形成される。

【０１０６】次に、図１４に示したように、定盤に対す
るバーの姿勢を変えてバーの研磨を行って、スライダ部
分５０に対して、エアベアリング面３０の第２の部分３
２と境界部分３３とを形成する。また、この研磨後に残
った面３１Ａは第１の部分３１となる。この時点で、ス
ライダ部分５０に空気流入端４１が形成される。また、
この時点において、スライダ部分５０には、記録媒体に
最も近い面３０ａを含む面５０ａが形成されている。

【０１０７】次に、図１５に示したように、スライダ部
分５０の面５０ａを選択的にエッチングして、面３０ｂ
を含む面５０ｂを形成する。このエッチング後に残った
面５０ａは面３０ａとなる。面３０ａに対する面５０ｂ
の深さは、例えば約１μｍである。

【０１０８】次に、図１６に示したように、スライダ部
分５０の面５０ｂを選択的にエッチングして面３０ｃを
形成する。このエッチング後に残った面５０ｂは面３０
ｂとなる。面３０ａに対する面３０ｃの深さは、例えば
約２〜３μｍである。

【０１０９】スライダ部分５０の面５０ａや面５０ｂの
エッチングは、例えば、ＢＣｌ₂，Ｃｌ₂等の塩素系ガス
や、ＣＦ₄，ＳＦ₆等のフッ素系ガス等のガスを用いた反
応性イオンエッチング（ＲＩＥ）によって行われる。

【０１１０】次に、図１７に示したように、基板部２３
および絶縁部２４の各記録媒体に向く面を覆うように保
護層２５を形成する。保護層２５の材料には、例えば、
アルミナまたはダイヤモンドライクカーボンが用いられ
る。また、保護層２５の厚みは、例えば約３〜５ｎｍで
ある。その後、隣接するスライダ部分５０の間でバーを
切断して各スライダ２０に分離する。

【０１１１】なお、スライダ部分５０に対して面３０ｂ
または面３０ｃを形成する際に同時に、空気流出端４２
のエッジを面取りしてもよい。

【０１１２】図１８は、スライダ２０の形状の一例を示
している。この例では、基板部２３全体の空気通過方向
の長さＬ０は１．２ｍｍであり、空気流出端４２におけ
るスライダ本体２１の高さＨ０は０．３ｍｍであり、第
１の部分３１のうち基板部２３に含まれる部分の空気通
過方向の長さＬ１は５０μｍであり、第１の部分３１と
第２の部分３２とのなす角度θは１°であり、高低差Ｈ
１は２０μｍである。

【０１１３】図１８に示したスライダ２０を後述するサ
スペンションに取り付けて、回転する記録媒体４５上に
浮上させたところ、第１の部分３１と記録媒体４５との
間の距離は５．０ｎｍ程度であった。

【０１１４】次に、図１９ないし図２１を参照して、本
実施の形態に係るスライダ２０が取り付けられるヘッド
ジンバルアセンブリおよびハードディスク装置について
説明する。まず、図１９を参照して、ヘッドジンバルア
センブリ２２０について説明する。ハードディスク装置
において、スライダ２０は、回転駆動される円盤状の記
録媒体であるハードディスク２６２に対向するように配
置される。ヘッドジンバルアセンブリ２２０は、スライ
ダ２０と、このスライダ２０を弾性的に支持するサスペ
ンション２２１とを備えている。サスペンション２２１
は、例えばステンレス鋼によって形成された板ばね状の
ロードビーム２２２、このロードビーム２２２の一端部
に設けられると共にスライダ２０が接合され、スライダ
２０に適度な自由度を与えるフレクシャ２２３と、ロー
ドビーム２２２の他端部に設けられたベースプレート２
２４とを有している。ベースプレート２２４は、スライ
ダ２０をハードディスク２６２のトラック横断方向ｘに
移動させるためのアクチュエータのアーム２３０に取り
付けられるようになっている。アクチュエータは、アー
ム２３０と、このアーム２３０を駆動するボイスコイル
モータとを有している。フレクシャ２２３において、ス
ライダ２０が取り付けられる部分には、スライダ２０の
姿勢を一定に保つためのジンバル部が設けられている。

【０１１５】ヘッドジンバルアセンブリ２２０は、アク
チュエータのアーム２３０に取り付けられる。１つのア
ーム２３０にヘッドジンバルアセンブリ２２０を取り付
けたものはヘッドアームアセンブリと呼ばれる。また、
複数のアームを有するキャリッジの各アームにヘッドジ
ンバルアセンブリ２２０を取り付けたものはヘッドスタ
ックアセンブリと呼ばれる。

【０１１６】図１９は、ヘッドアームアセンブリの一例
を示している。このヘッドアームアセンブリでは、アー
ム２３０の一端部にヘッドジンバルアセンブリ２２０が
取り付けられている。アーム２３０の他端部には、ボイ
スコイルモータの一部となるコイル２３１が取り付けら
れている。アーム２３０の中間部には、アーム２３０を
回動自在に支持するための軸２３４に取り付けられる軸
受け部２３３が設けられている。

【０１１７】次に、図２０および図２１を参照して、ヘ
ッドスタックアセンブリの一例とハードディスク装置に
ついて説明する。図２０はハードディスク装置の要部を
示す説明図、図２１はハードディスク装置の平面図であ
る。ヘッドスタックアセンブリ２５０は、複数のアーム
２５２を有するキャリッジ２５１を有している。複数の
アーム２５２には、複数のヘッドジンバルアセンブリ２
２０が、互いに間隔を開けて垂直方向に並ぶように取り
付けられている。キャリッジ２５１においてアーム２５
２とは反対側には、ボイスコイルモータの一部となるコ
イル２５３が取り付けられている。ヘッドスタックアセ
ンブリ２５０は、ハードディスク装置に組み込まれる。
ハードディスク装置は、スピンドルモータ２６１に取り
付けられた複数枚のハードディスク２６２を有してい
る。各ハードディスク２６２毎に、ハードディスク２６
２を挟んで対向するように２つのスライダ２０が配置さ
れる。また、ボイスコイルモータは、ヘッドスタックア
センブリ２５０のコイル２５３を挟んで対向する位置に
配置された永久磁石２６３を有している。

【０１１８】スライダ２０を除くヘッドスタックアセン
ブリ２５０およびアクチュエータは、スライダ２０を支
持すると共にハードディスク２６２に対して位置決めす
る。

【０１１９】このハードディスク装置では、アクチュエ
ータによって、スライダ２０をハードディスク２６２の
トラック横断方向に移動させて、スライダ２０をハード
ディスク２６２に対して位置決めする。スライダ２０に
含まれる薄膜磁気ヘッドは、記録ヘッドによって、ハー
ドディスク２６２に情報を記録し、再生ヘッドによっ
て、ハードディスク２６２に記録されている情報を再生
する。

【０１２０】次に、図２２および図２３を参照して、本
実施の形態に係るスライダ２０の作用と効果について説
明する。図２２は記録媒体４５が回転しているときのス
ライダ２０の状態を示す側面図、図２３は記録媒体４５
が静止しているときのスライダ２０の状態を示す側面図
である。

【０１２１】図２２に示したように、スライダ本体２１
は、記録媒体４５が回転している間は、記録媒体４５の
回転によって生じる空気流によって浮上して、記録媒体
４５の面から離れる。一方、図２３に示したように、ス
ライダ本体２１は、記録媒体４５が静止している間は、
記録媒体４５の面に接触する。

【０１２２】図２２に示したように、記録媒体４５が回
転している間、エアベアリング面３０の第２の部分３２
は、境界部分３３よりも空気流入端４１が記録媒体４５
から離れるように記録媒体４５の面に対して傾く。ま
た、記録媒体４５が回転している間、エアベアリング面
３０の第１の部分３１は、記録媒体４５の面に対してほ
ぼ平行になる。記録媒体４５が回転している間、第２の
部分３２と記録媒体４５の面とのなす角度は３０°以下
であることが好ましい。記録媒体４５が回転している
間、エアベアリング面３０の第１の部分３１が記録媒体
４５の面に対して平行になる場合には、第２の部分３２
と記録媒体４５の面とのなす角度は、第１の部分３１と
第２の部分３２とのなす角度θと等しい。このときの第
１の部分３１と記録媒体４５の面との間の距離ＦＨは５
ｎｍ程度である。このような記録媒体４５の回転時にお
けるスライダ本体２１の姿勢は、エアベアリング面３０
の凹凸の形状によって制御することができる。

【０１２３】記録媒体４５が回転状態から静止状態に移
行する際に、スライダ本体２１が記録媒体４５の面に対
して接触を開始する時には、境界部分３３が最初に記録
媒体４５の面に接触する。また、記録媒体４５が静止状
態から回転状態に移行する際に、スライダ本体２１が記
録媒体４５の面から離れる時には、境界部分３３が最後
に記録媒体４５の面から離れる。このように、境界部分
３３は、飛行機の車輪のような機能を有する。

【０１２４】このように、本実施の形態に係るスライダ
２０では、スライダ本体２１は境界部分３３において記
録媒体４５の面に接触する。そのため、従来のスライダ
に比べて、スライダ本体２１と記録媒体４５の面との接
触面積が非常に小さくなり、スライダ本体２１と記録媒
体４５の面との摩擦抵抗も非常に小さくなる。従って、
本実施の形態に係るスライダ２０によれば、記録媒体４
５の面に対するスライダ本体２１の接触の開始と、記録
媒体４５の面からのスライダ本体２１の分離とを円滑に
行うことができる。その結果、本実施の形態によれば、
スライダ２０と記録媒体４５との衝突によって記録媒体
４５や薄膜磁気ヘッド素子２２の損傷が生じることを防
止することができる。

【０１２５】更に、本実施の形態に係るスライダ２０に
よれば、従来のスライダに比べて、記録媒体４５の静止
時におけるスライダ本体２１と記録媒体４５の面との接
触面積が非常に小さくなる。従って、スライダ２０と記
録媒体４５とが吸着することを防止することができる。

【０１２６】また、本実施の形態に係るスライダ２０で
は、図２２に示したように、記録媒体４５が回転してい
る間、エアベアリング面３０の第２の部分３２は、境界
部分３３よりも空気流入端４１が記録媒体４５から離れ
るように記録媒体４５の面に対して傾く。その結果、薄
膜磁気ヘッド素子２２は記録媒体４５の面に接近する。
そのため、本実施の形態に係るスライダ２０によれば、
記録媒体４５が回転している間、薄膜磁気ヘッド素子２
２を記録媒体４５の面の近くに配置しながら、エアベア
リング面３０の第２の部分３２を、薄膜磁気ヘッド素子
２２に比べて記録媒体４５から離すことができる。従っ
て、本実施の形態によれば、磁気スペースをより縮小し
ながら、スライダ２０と記録媒体４５との衝突を防止す
ることができる。

【０１２７】また、空気流出端４２のエッジを面取りし
た場合には、スライダ２０と記録媒体４５との衝突をよ
り確実に防止することができる。

【０１２８】以上のことから、本実施の形態に係るスラ
イダ２０によれば、スライダ２０と記録媒体４５との衝
突によって記録媒体４５や薄膜磁気ヘッド素子２２が損
傷することや、スライダ２０と記録媒体４５とが吸着す
ることを防止しながら、磁気スペースを縮小することが
できる。

【０１２９】また、本実施の形態によれば、磁気スペー
スの縮小により、薄膜磁気ヘッド素子２２の再生ヘッド
における再生出力の向上や半値幅の縮小が可能になり、
その結果、記録密度を向上させることができる。図２４
は、本実施の形態に係るスライダ２０の薄膜磁気ヘッド
素子２２における再生出力の波形の一例を示したもので
ある。この図において、符号ＰＷ５０は再生出力におけ
る半値幅を表している。半値幅ＰＷ５０は、再生出力が
ピーク時の５０％以上となる時間である。また、本実施
の形態によれば、磁気スペースの縮小により、薄膜磁気
ヘッド素子２２の記録ヘッドにおけるオーバーライト特
性や非線形トランジションシフトを向上させることが可
能になる。

【０１３０】このように、本実施の形態によれば、薄膜
磁気ヘッド素子２２の再生ヘッドおよび記録ヘッドの双
方の特性を向上させることができ、その結果、本実施の
形態に係るスライダ２０を用いるハードディスク装置の
歩留りを向上させることができる。

【０１３１】また、本実施の形態では、スライダのエア
ベアリング面にクラウンやキャンバを形成する場合に比
べて、スライダ２０のエアベアリング面３０の形成を容
易に行うことができると共に、クラウンやキャンバを形
成する場合における不具合の発生がない。従って、本実
施の形態によれば、スライダのエアベアリング面にクラ
ウンやキャンバを形成する場合に比べて、エアベアリン
グ面３０の形状を正確に決定でき、スライダ２０の歩留
りを向上させることができ、スライダ２０の製造コスト
を低減することができ、更にこれらのことから量産性に
優れている。

【０１３２】また、本実施の形態において、第１の部分
３１のうち基板部２３に含まれる部分の空気通過方向の
長さＬ１は、基板部２３全体の空気通過方向の長さＬ０
の５０％以下であることが好ましい。これにより、記録
媒体４５の回転時に、基板部２３全体のうち、記録媒体
４５の面に接近する部分（第１の部分３１のうち基板部
２３に含まれる部分）の長さＬ１が、記録媒体４５の面
から離れる部分（第２の部分３２）の長さ以下になり、
スライダ２０と記録媒体４５との衝突をより確実に防止
することができる。

【０１３３】なお、図１に示したスライダ２０では、エ
アベアリング面３０のうちの第１の部分３１が、スライ
ダ本体２１のエアベアリング面３０とは反対側の面に対
して平行になっている。しかし、本実施の形態に係るス
ライダ２０は、図２５に示したような形状であってもよ
い。図２５に示したスライダ２０は、エアベアリング面
３０のうちの第２の部分３２が、スライダ本体２１のエ
アベアリング面３０とは反対側の面に対して平行になっ
ている。第１の部分３１は、エアベアリング面３０の全
体の形状が境界部分３３において屈曲した凸形状になる
ように、第２の部分３２に対して傾斜している。第１の
部分３１と第２の部分３２とのなす角度θは３０°以下
であることが好ましい。また、第１の部分３１のうち基
板部２３に含まれる部分の空気通過方向（図２５におけ
る左右方向）の長さＬ２は、基板部２３全体の空気通過
方向の長さＬ０の５０％以下であることが好ましい。図
２５に示したスライダ２０のその他の構成は、図１に示
したスライダ２０と同様である。

【０１３４】ここで、図２５に示したスライダ２０にお
いて、エアベアリング面３０の第２の部分３２を含む仮
想の平面と、第１の部分３１のうち基板部２３に含まれ
る部分の空気流出端４２側の端部との間の距離を、高低
差と呼び、記号Ｈ２で表す。この高低差Ｈ２は、長さＬ
０，Ｌ２と角度θとによって決まる。以下に、長さＬ０
を１．２ｍｍとした場合における長さＬ２と角度θと高
低差Ｈ２との関係の例を示す。

【０１３５】まず、長さＬ２を１０μｍとした場合に
は、角度θが０．５°、１°、１０°、３０°のときの
高低差Ｈ２は、それぞれ、０．０９μｍ、０．１８μ
ｍ、１．７６μｍ、５．７７μｍとなる。

【０１３６】また、長さＬ２を５０μｍとした場合に
は、角度θが０．５°、１°、１０°、３０°のときの
高低差Ｈ２は、それぞれ、０．４４μｍ、０．８７μ
ｍ、８．８２μｍ、２８．８７μｍとなる。

【０１３７】また、長さＬ２を１００μｍとした場合に
は、角度θが０．５°、１°、１０°、３０°のときの
高低差Ｈ２は、それぞれ、０．８７μｍ、１．７５μ
ｍ、１７．６３μｍ、５７．７３μｍとなる。

【０１３８】［第２の実施の形態］次に、図２６ないし
図２８を参照して、本発明の第２の実施の形態に係るス
ライダについて説明する。図２６は本実施の形態に係る
スライダの構成の一例を示す斜視図である。本実施の形
態に係るスライダ２０は、記録媒体４５が回転している
間および記録媒体４５が静止している間のいずれにおい
ても、スライダ本体２１が、エアベアリング面３０の境
界部分３３において記録媒体４５の面に接触するもので
ある。

【０１３９】図２６に示したように、本実施の形態に係
るスライダ２０において、エアベアリング面３０は、境
界部分３３を含む領域において形成された複数の凹部３
５を有している。本実施の形態に係るスライダ２０のそ
の他の構成は、第１の実施の形態と同様である。本実施
の形態に係るスライダ２０では、エアベアリング面３０
が、境界部分３３を含む領域において形成された凹部３
５を有することにより、第１の実施の形態に比べて、ス
ライダ本体２１と記録媒体４５の面との接触面積が小さ
くなる。

【０１４０】図２６に示したスライダ２０は保護層２５
を有し、凹部３５はこの保護層２５をエッチングするこ
とによって形成されている。

【０１４１】図２８は、保護層２５のない場合における
本実施の形態に係るスライダ２０を示している。このス
ライダ２０では、凹部３５は基板部２３をエッチングす
ることによって形成されている。

【０１４２】本実施の形態に係るスライダ２０の製造方
法では、エアベアリング面３０を形成する工程が、上記
凹部３５を形成する工程を含む。保護層２５を有するス
ライダ２０の製造方法では、凹部３５を形成する工程
は、保護層２５を形成する工程の後に行われ、保護層２
５をエッチングすることによって凹部３５を形成する。
保護層２５のないスライダ２０の製造方法では、凹部３
５を形成する工程は、面３０ａ〜３０ｃを形成する工程
の後に行われ、基板部２３をエッチングすることによっ
て凹部３５を形成する。本実施の形態に係るスライダ２
０の製造方法のその他の工程は、第１の実施の形態と同
様である。

【０１４３】次に、図２７を参照して、本実施の形態に
係るスライダ２０の作用と効果について説明する。図２
７は記録媒体４５が回転しているとき、および記録媒体
４５が静止しているときのスライダ２０の状態を示す側
面図である。図２７に示したように、本実施の形態で
は、スライダ２０は、記録媒体４５が回転している間お
よび記録媒体４５が静止している間のいずれにおいて
も、スライダ本体２１が、エアベアリング面３０の境界
部分３３において記録媒体４５の面に接触している。ま
た、エアベアリング面３０の第１の部分３１および第２
の部分３２は、それぞれ、空気流出端４２および空気流
入端４１が記録媒体４５から離れるように記録媒体４５
の面に対して傾く。

【０１４４】また、記録媒体４５が回転している間、ス
ライダ本体２１の空気流出端４２と記録媒体４５の面と
の間の距離Ｈ４は５ｎｍ程度である。

【０１４５】本実施の形態に係るスライダ２０では、第
１の実施の形態に係るスライダ２０よりも磁気スペース
を縮小することができる。また、本実施の形態では、ス
ライダ本体２１が常に記録媒体４５の面に接触している
ので、スライダ本体２１が記録媒体４５の面に接触した
り離れたりすることによるスライダ本体２１と記録媒体
４５との衝突の発生を防止することができる。

【０１４６】また、本実施の形態に係るスライダ２０に
よれば、エアベアリング面３０が、境界部分３３を含む
領域において形成された凹部３５を有するので、第１の
実施の形態に比べて、スライダ本体２１と記録媒体４５
の面との接触面積が小さくなり、スライダ本体２１と記
録媒体４５の面との摩擦抵抗も小さくすることができ
る。

【０１４７】本実施の形態に係るスライダ２０によれ
ば、第１の実施の形態に係るスライダ２０よりも磁気ス
ペースを縮小することができることから、第１の実施の
形態よりも、再生ヘッドにおける再生出力の向上や半値
幅の縮小が可能になると共に、記録ヘッドにおけるオー
バーライト特性や非線形トランジションシフトの向上が
可能になる。また、その結果、ハードディスク装置の歩
留りをより向上させることができる。

【０１４８】なお、本実施の形態に係るスライダ２０で
は、第１の実施の形態と同様に、エアベアリング面３０
は、段差を有する面３０ａ，３０ｂ，３０ｃによって形
成される凹凸を有している。本実施の形態では、この凹
凸は、記録媒体４５が回転している間のスライダ本体２
１の姿勢を制御するために用いられる。

【０１４９】本実施の形態におけるその他の構成、作用
および効果は、第１の実施の形態と同様である。

【０１５０】［第３の実施の形態］次に、図２９および
図３０を参照して、本発明の第３の実施の形態に係るス
ライダについて説明する。図２９は本実施の形態に係る
スライダの斜視図である。本実施の形態に係るスライダ
２０は、記録媒体４５が回転している間および記録媒体
４５が静止している間のいずれにおいても、スライダ本
体２１が記録媒体４５の面に接触するものである。

【０１５１】本実施の形態に係るスライダ２０では、エ
アベアリング面３０の第１の部分３１は、基板部２３の
記録媒体４５に向く面に形成されている。そして、絶縁
部２４の記録媒体４５に向く面３４は、基板部２３の記
録媒体４５に向く面のうちの、面３４に隣接する部分、
すなわち第１の部分３１よりも、記録媒体４５から離れ
た位置に配置されている。面３４は、エアベアリング面
３０の一部を構成する。面３４と第１の部分３１との間
の段差の大きさＲ１は、３〜４ｎｍ程度である。この段
差は、図１３に示した工程、すなわちスライダ部分５０
に対して第１の部分３１を含む面３１Ａを形成する工程
において、基板部２３と絶縁部２４の硬度の違いによっ
て生じる。本実施の形態では、この段差を利用して、磁
気スペースの縮小を図っている。本実施の形態に係るス
ライダ２０のその他の構成は、第２の実施の形態と同様
である。

【０１５２】次に、図３０を参照して、本実施の形態に
係るスライダ２０の作用と効果について説明する。図３
０は記録媒体４５が回転しているときのスライダ２０の
状態を示す側面図である。図３０に示したように、本実
施の形態に係るスライダ２０では、記録媒体４５が回転
している間、エアベアリング面３０の第１の部分３１お
よび境界部分３３が記録媒体４５の面に接触する。この
状態で、絶縁部２４の記録媒体４５に向く面３４と記録
媒体４５の面との間の距離は、Ｒ１に等しく、３〜４ｎ
ｍ程度である。従って、本実施の形態によれば、磁気ス
ペースを極めて小さくすることができる。

【０１５３】しかも、本実施の形態では、絶縁部２４の
記録媒体４５に向く面３４は記録媒体４５の面に接触し
ないので、上述のように磁気スペースを極めて小さくし
ながら、薄膜磁気ヘッド素子２２は記録媒体４５の面に
接触しない。従って、薄膜磁気ヘッド素子２２が記録媒
体４５に接触することによる薄膜磁気ヘッド素子２２や
記録媒体４５が損傷することを防止することができる。

【０１５４】記録媒体４５が静止している間におけるス
ライダ２０の姿勢は、図３０に示した姿勢と同じであっ
てもよいし、図２７と同様に、スライダ本体２１が、エ
アベアリング面３０の境界部分３３において記録媒体４
５の面に接触する姿勢であってもよい。

【０１５５】本実施の形態に係るスライダ２０によれ
ば、第１および第２の各実施の形態に係るスライダ２０
よりも磁気スペースを縮小することができる。従って、
本実施の形態に係るスライダ２０によれば、第１および
第２の実施の形態よりも、再生ヘッドにおける再生出力
の向上や半値幅の縮小が可能になると共に、記録ヘッド
におけるオーバーライト特性や非線形トランジションシ
フトの向上が可能になる。また、その結果、ハードディ
スク装置の歩留りをより向上させることができる。

【０１５６】本実施の形態におけるその他の構成、作用
および効果は、第２の実施の形態と同様である。

【０１５７】［第４の実施の形態］次に、図３１ないし
図３３を参照して、本発明の第４の実施の形態に係るス
ライダについて説明する。図３１は、記録媒体４５が回
転しているときの、本実施の形態に係るスライダ２０の
状態を示す側面図である。図３２は本実施の形態に係る
スライダの構成の一例を示す斜視図、図３３は本実施の
形態に係るスライダの構成の他の例を示す斜視図であ
る。

【０１５８】本実施の形態に係るスライダ２０は、第３
の実施の形態と同様に、記録媒体４５が回転している間
および記録媒体４５が静止している間のいずれにおいて
も、スライダ本体２１が記録媒体４５の面に接触するも
のである。

【０１５９】本実施の形態に係るスライダ２０では、エ
アベアリング面３０は、記録媒体４５が回転している間
のスライダ本体２１の姿勢を制御するため凹凸を有して
いない。しかし、エアベアリング面３０は、境界部分３
３を含む領域において形成された複数の凹部３５を有し
ている。図３２に示した例では、凹部３５は空気流入端
４１まで形成されている。図３３に示した例では、凹部
３５は境界部分３３の近傍にのみ形勢されている。図３
３に示した例では、エアベアリング面３０の周縁部にお
いて、スライダ本体２１のエッジを面取りしている。

【０１６０】本実施の形態に係るスライダ２０では、エ
アベアリング面３０に、記録媒体４５が回転している間
のスライダ本体２１の姿勢を制御するため凹凸は形成さ
れていない。しかし、本実施の形態に係るスライダ２０
は、記録媒体４５が回転している間および記録媒体４５
が静止している間のいずれにおいても、スライダ本体２
１が記録媒体４５の面に接触しているので、上記の凹凸
がなくとも、記録媒体４５が回転している間のスライダ
本体２１の姿勢を一定に保つことができる。また、図３
３に示したように、エアベアリング面３０の周縁部にお
いてスライダ本体２１のエッジを面取りすることによ
り、スライダ２０と記録媒体４５との衝突をより確実に
防止することができる。

【０１６１】本実施の形態におけるその他の構成、作用
および効果は、第３の実施の形態と同様である。

【０１６２】なお、本発明は、上記各実施の形態に限定
されず、種々の変更が可能である。例えば、本発明は、
誘導型電磁変換素子を有しない再生専用の薄膜磁気ヘッ
ドや、誘導型電磁変換素子のみを有する記録専用の薄膜
磁気ヘッドや、誘導型電磁変換素子によって記録と再生
を行う薄膜磁気ヘッドにも適用することができる。

【０１６３】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１ないし１
８のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダでは、
スライダ本体の媒体対向面は、空気流出端に近い第１の
部分と、空気流入端に近い第２の部分と、第１の部分と
第２の部分との間の境界部分とを有し、媒体対向面全体
の形状が境界部分において屈曲した凸形状になるよう
に、第２の部分は第１の部分に対して傾斜している。こ
のスライダでは、媒体対向面全体の形状が境界部分にお
いて屈曲した凸形状になり、スライダ本体が記録媒体の
面に接触する際には、境界部分が記録媒体の面に接触す
る。従って、本発明によれば、薄膜磁気ヘッド用スライ
ダと記録媒体との衝突によって記録媒体や薄膜磁気ヘッ
ド素子が損傷することや、薄膜磁気ヘッド用スライダと
記録媒体とが吸着することを防止しながら、磁気スペー
スを縮小することが可能になるという効果を奏する。

【０１６４】また、請求項２または３記載の薄膜磁気ヘ
ッド用スライダでは、第２の部分は、記録媒体が回転し
ている間、境界部分よりも空気流入端が記録媒体から離
れるように記録媒体の面に対して傾く。この場合、薄膜
磁気ヘッド素子は記録媒体の面に接近する。従って、本
発明によれば、記録媒体が回転している間、薄膜磁気ヘ
ッド素子を記録媒体の面の近くに配置しながら、第２の
部分を、薄膜磁気ヘッド素子に比べて記録媒体から離す
ことができる。従って、本発明によれば、磁気スペース
をより縮小しながら、薄膜磁気ヘッド用スライダと記録
媒体との衝突を防止することができるという効果を奏す
る。

【０１６５】また、請求項５記載の薄膜磁気ヘッド用ス
ライダでは、スライダ本体は、記録媒体が静止している
間は記録媒体の面に接触し、記録媒体が回転している間
は記録媒体の面から離れ、また、スライダ本体は、記録
媒体の面に対して接触を開始する時に、境界部分が最初
に記録媒体の面に接触する。従って、本発明によれば、
記録媒体の面に対するスライダ本体の接触の開始を円滑
に行うことができ、その結果、スライダと記録媒体との
衝突によって記録媒体や薄膜磁気ヘッド素子の損傷が生
じることを防止することができるという効果を奏する。

【０１６６】また、請求項６記載の薄膜磁気ヘッド用ス
ライダでは、スライダ本体は、記録媒体が静止している
間は記録媒体の面に接触し、記録媒体が回転している間
は記録媒体の面から離れ、また、スライダ本体は、記録
媒体の面から離れる時に、境界部分が最後に記録媒体の
面から離れる。従って、本発明によれば、記録媒体の面
からのスライダ本体の分離を円滑に行うことができ、そ
の結果、スライダと記録媒体との衝突によって記録媒体
や薄膜磁気ヘッド素子の損傷が生じることを防止するこ
とができるという効果を奏する。

【０１６７】また、請求項８記載の薄膜磁気ヘッド用ス
ライダでは、記録媒体が回転している間および記録媒体
が静止している間のいずれにおいても、スライダ本体は
境界部分において記録媒体の面に接触し、且つ第１の部
分および第２の部分は、空気流出端および空気流入端が
記録媒体から離れるように記録媒体の面に対して傾く。
従って、本発明によれば、スライダ本体が記録媒体の面
に接触したり離れたりすることによるスライダ本体と記
録媒体との衝突の発生を防止することができるという効
果を奏する。

【０１６８】また、請求項１０記載の薄膜磁気ヘッド用
スライダでは、媒体対向面は、境界部分を含む領域にお
いて形成された凹部を有する。従って、本発明によれ
ば、スライダ本体と記録媒体の面との接触面積を小さく
でき、その結果、スライダ本体と記録媒体の面との摩擦
抵抗を小さくすることができるという効果を奏する。

【０１６９】また、請求項１６または１７記載の薄膜磁
気ヘッド用スライダでは、スライダ本体は、記録媒体に
向く面を有し薄膜磁気ヘッド素子の下地となる基板部
と、記録媒体に向く面を有し薄膜磁気ヘッド素子を囲う
絶縁部とを含み、絶縁部の記録媒体に向く面は、基板部
の記録媒体に向く面のうちの、絶縁部の記録媒体に向く
面に隣接する部分よりも、記録媒体から離れた位置に配
置されている。従って、本発明によれば、媒体対向面の
第１の部分のうち基板部に含まれる部分を記録媒体の面
に接触させることにより、磁気スペースを極めて小さく
することができるという効果を奏する。

【０１７０】また、請求項１８記載の薄膜磁気ヘッド用
スライダでは、第１の部分のうち基板部に含まれる部分
の空気通過方向の長さは、基板部全体の空気通過方向の
長さの５０％以下である。従って、本発明によれば、記
録媒体の回転時に、基板部全体のうち、記録媒体の面に
接近する部分の長さが、記録媒体の面から離れる部分の
長さ以下になり、スライダと記録媒体との衝突をより確
実に防止することができるという効果を奏する。

【０１７１】また、請求項１９ないし３０のいずれかに
記載の製造方法によって製造される薄膜磁気ヘッド用ス
ライダでは、スライダ本体の媒体対向面は、空気流出端
に近い第１の部分と、空気流入端に近い第２の部分と、
第１の部分と第２の部分との間の境界部分とを有し、媒
体対向面全体の形状が境界部分において屈曲した凸形状
になるように、第２の部分は第１の部分に対して傾斜し
ている。このスライダでは、媒体対向面全体の形状が境
界部分において屈曲した凸形状になり、スライダ本体が
記録媒体の面に接触する際には、境界部分が記録媒体の
面に接触する。従って、本発明によれば、薄膜磁気ヘッ
ド用スライダと記録媒体との衝突によって記録媒体や薄
膜磁気ヘッド素子が損傷することや、薄膜磁気ヘッド用
スライダと記録媒体とが吸着することを防止しながら、
磁気スペースを縮小することが可能になるという効果を
奏する。

【０１７２】また、請求項２３記載の薄膜磁気ヘッド用
スライダの製造方法では、スライダ用素材を加工する工
程は、媒体対向面における境界部分を含む領域に凹部を
形成する工程を含む。従って、本発明によれば、スライ
ダ本体と記録媒体の面との接触面積を小さくでき、その
結果、スライダ本体と記録媒体の面との摩擦抵抗を小さ
くすることができるという効果を奏する。

【０１７３】また、請求項２９記載の薄膜磁気ヘッド用
スライダの製造方法では、スライダ本体となる部分は、
記録媒体に向く面を有し薄膜磁気ヘッド素子の下地とな
る基板部と、記録媒体に向く面を有し薄膜磁気ヘッド素
子を囲う絶縁部とを含み、絶縁部の記録媒体に向く面
は、基板部の記録媒体に向く面のうちの、絶縁部の記録
媒体に向く面に隣接する部分よりも、記録媒体から離れ
た位置に配置される。従って、本発明によれば、媒体対
向面の第１の部分のうち基板部に含まれる部分を記録媒
体の面に接触させることにより、磁気スペースを極めて
小さくすることができるという効果を奏する。

【０１７４】また、請求項３０記載の薄膜磁気ヘッド用
スライダの製造方法では、第１の部分のうち基板部に含
まれる部分の空気通過方向の長さは、基板部全体の空気
通過方向の長さの５０％以下である。従って、本発明に
よれば、記録媒体の回転時に、基板部全体のうち、記録
媒体の面に接近する部分の長さが、記録媒体の面から離
れる部分の長さ以下になり、スライダと記録媒体との衝
突をより確実に防止することができるという効果を奏す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係るスライダの側
面図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態に係るスライダの斜
視図である。

【図３】薄膜磁気ヘッド素子の製造方法の一例における
一工程を示す断面図である。

【図４】図３に続く工程を説明するための断面図であ
る。

【図５】図４に続く工程を説明するための断面図であ
る。

【図６】図５に続く工程を説明するための断面図であ
る。

【図７】図６に続く工程を説明するための断面図であ
る。

【図８】薄膜磁気ヘッド素子の一例の構成を示す断面図
である。

【図９】図８に示した薄膜磁気ヘッド素子の主要部分を
示す平面図である。

【図１０】本発明の第１の実施の形態に係るスライダの
製造方法で使用されるウェハにおけるスライダ部分の配
列を示す斜視図である。

【図１１】本発明の第１の実施の形態においてバーの研
磨を行うための研磨装置の概略の構成を示す斜視図であ
る。

【図１２】図１１に示した研磨装置の回路構成の一例を
示すブロック図である。

【図１３】本発明の第１の実施の形態に係るスライダの
製造方法における一工程を示す側面図である。

【図１４】図１３に続く工程を説明するための側面図で
ある。

【図１５】図１４に続く工程を説明するための側面図で
ある。

【図１６】図１５に続く工程を説明するための側面図で
ある。

【図１７】図１６に続く工程を説明するための側面図で
ある。

【図１８】本発明の第１の実施の形態に係るスライダの
形状の一例を示す側面図である。

【図１９】本発明の第１の実施の形態に係るスライダが
取り付けられるヘッドジンバルアセンブリを示す斜視図
である。

【図２０】本発明の第１の実施の形態に係るスライダが
用いられるハードディスク装置の要部を示す説明図であ
る。

【図２１】本発明の第１の実施の形態に係るスライダが
用いられるハードディスク装置の平面図である。

【図２２】記録媒体回転時における本発明の第１の実施
の形態に係るスライダの状態を示す側面図である。

【図２３】記録媒体静止時における本発明の第１の実施
の形態に係るスライダの状態を示す側面図である。

【図２４】本発明の第１の実施の形態に係るスライダの
薄膜磁気ヘッド素子における再生出力の波形の一例を示
す波形図である。

【図２５】本発明の第１の実施の形態に係るスライダの
他の形状の例を示す側面図である。

【図２６】本発明の第２の実施の形態に係るスライダの
構成の一例を示す斜視図である。

【図２７】記録媒体回転時および静止時における図２６
に示したスライダの状態を示す側面図である。

【図２８】本発明の第２の実施の形態に係るスライダの
構成の他の例を示す斜視図である。

【図２９】本発明の第３の実施の形態に係るスライダの
斜視図である。

【図３０】記録媒体回転時における図２９に示したスラ
イダの状態を示す側面図である。

【図３１】記録媒体回転時における本発明の第４の実施
の形態に係るスライダの状態を示す側面図である。

【図３２】本発明の第４の実施の形態に係るスライダの
構成の一例を示す斜視図である。

【図３３】本発明の第４の実施の形態に係るスライダの
構成の他の例を示す斜視図である。

【図３４】従来の薄膜磁気ヘッド素子の製造方法におけ
る一工程を説明するための断面図である。

【図３５】図３４に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図３６】図３５に続く工程を説明するための断面図で
ある。

【図３７】従来の薄膜磁気ヘッド素子の断面図である。

【図３８】従来の薄膜磁気ヘッド素子の平面図である。

【図３９】従来のスライダのエアベアリング面の構成の
一例を示す底面図である。

【図４０】記録媒体が静止している状態における従来の
スライダと記録媒体とを示す断面図である。

【図４１】図３９における上側から見た従来のスライダ
を示す正面図である。

【図４２】記録媒体が停止している状態から回転を開始
した直後における従来のスライダと記録媒体とを示す断
面図である。

【図４３】記録媒体の表面から浮上した状態の従来のス
ライダを示す断面図である。

【符号の説明】

１…基板、２…絶縁層、３…下部シールド層、５…ＭＲ
素子、８…下部磁極層、１０…薄膜コイル、１２…記録
ギャップ層、１３…上部磁極層、１７…オーバーコート
層、２０…スライダ、２１…スライダ本体、２２…薄膜
磁気ヘッド素子、２３…基板部、２４…絶縁部、２５…
保護層、３０…エアベアリング面、３１…第１の部分、
３２…第２の部分、３３…境界部分、４１…空気流入
端、４２…空気流出端。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 501416070 エスエーイー マグネティクス（エイチ. ケー．）リミティド 香港，ニュー テリトリーズ，クワイ チ ュン，クワイ フン クレセント 38− 42，エスエーイー タワー (72)発明者 佐々木 芳高 アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95035 ミルピタス サウス・ヒルビュ ー・ドライブ 678 ヘッドウェイテクノ ロジーズ インコーポレイテッド内 (72)発明者 伊藤 浩幸 アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95035 ミルピタス サウス・ヒルビュ ー・ドライブ 678 ヘッドウェイテクノ ロジーズ インコーポレイテッド内 (72)発明者 上釜 健宏 中華人民共和国 香港 エヌ・ティー ク ワイ・チュン クワイ・フン・クレセント 38−42 エスエーイータワー エスエー イー マグネティクス（エイチ．ケー．) リミティド内 Ｆターム(参考） 5D042 NA02 PA05 PA08 QA02 RA02 SA01

Claims (30)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転する記録媒体に対向する媒体対向面
   と空気流入端と空気流出端とを有するスライダ本体と、 前記スライダ本体における前記空気流出端の近傍であっ
   て前記媒体対向面の近傍に配置された薄膜磁気ヘッド素
   子とを備えた薄膜磁気ヘッド用スライダであって、 前記媒体対向面は、前記空気流出端に近い第１の部分
   と、前記空気流入端に近い第２の部分と、前記第１の部
   分と第２の部分との間の境界部分とを有し、媒体対向面
   全体の形状が前記境界部分において屈曲した凸形状にな
   るように、前記第２の部分は前記第１の部分に対して傾
   斜していることを特徴とする薄膜磁気ヘッド用スライ
   ダ。
2. 【請求項２】 前記第２の部分は、前記記録媒体が回転
   している間、前記境界部分よりも前記空気流入端が記録
   媒体から離れるように記録媒体の面に対して傾くことを
   特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド用スライダ。
3. 【請求項３】 前記記録媒体が回転している間、前記第
   ２の部分と記録媒体の面とのなす角度は３０°以下であ
   ることを特徴とする請求項２記載の薄膜磁気ヘッド用ス
   ライダ。
4. 【請求項４】 前記スライダ本体は、前記記録媒体が静
   止している間は記録媒体の面に接触し、前記記録媒体が
   回転している間は記録媒体の面から離れることを特徴と
   する請求項１ないし３のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッ
   ド用スライダ。
5. 【請求項５】 前記スライダ本体は、前記記録媒体の面
   に対して接触を開始する時に、前記境界部分が最初に記
   録媒体の面に接触することを特徴とする請求項４記載の
   薄膜磁気ヘッド用スライダ。
6. 【請求項６】 前記スライダ本体は、前記記録媒体の面
   から離れる時に、前記境界部分が最後に記録媒体の面か
   ら離れることを特徴とする請求項４または５記載の薄膜
   磁気ヘッド用スライダ。
7. 【請求項７】 前記媒体対向面は、前記記録媒体の回転
   時における前記スライダ本体の姿勢を制御するための凹
   凸を有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれ
   かに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダ。
8. 【請求項８】 前記記録媒体が回転している間および前
   記記録媒体が静止している間のいずれにおいても、前記
   スライダ本体は前記境界部分において記録媒体の面に接
   触し、且つ前記第１の部分および第２の部分は、前記空
   気流出端および空気流入端が記録媒体から離れるように
   記録媒体の面に対して傾くことを特徴とする請求項１記
   載の薄膜磁気ヘッド用スライダ。
9. 【請求項９】 前記第１の部分と第２の部分とのなす角
   度は３０°以下であることを特徴とする請求項１ないし
   ８のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダ。
10. 【請求項１０】 前記媒体対向面は、前記境界部分を含
    む領域において形成された凹部を有することを特徴とす
    る請求項１ないし９のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド
    用スライダ。
11. 【請求項１１】 前記スライダ本体は、前記記録媒体に
    向く面を有し前記薄膜磁気ヘッド素子の下地となる基板
    部と、前記記録媒体に向く面を有し前記薄膜磁気ヘッド
    素子を囲う絶縁部とを含むことを特徴とする請求項１な
    いし９のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダ。
12. 【請求項１２】 前記媒体対向面は、前記境界部分を含
    む領域において形成された凹部を有し、前記凹部は前記
    基板部に形成されていることを特徴とする請求項１１記
    載の薄膜磁気ヘッド用スライダ。
13. 【請求項１３】 前記スライダ本体は、更に、前記基板
    部および絶縁部の各記録媒体に向く面を覆う保護層を含
    むことを特徴とする請求項１１記載の薄膜磁気ヘッド用
    スライダ。
14. 【請求項１４】 前記媒体対向面は、前記境界部分を含
    む領域において形成された凹部を有し、前記凹部は前記
    保護層に形成されていることを特徴とする請求項１３記
    載の薄膜磁気ヘッド用スライダ。
15. 【請求項１５】 前記保護層は、アルミナまたはダイヤ
    モンドライクカーボンよりなることを特徴とする請求項
    １３または１４記載の薄膜磁気ヘッド用スライダ。
16. 【請求項１６】 前記絶縁部の記録媒体に向く面は、前
    記基板部の記録媒体に向く面のうちの、前記絶縁部の記
    録媒体に向く面に隣接する部分よりも、記録媒体から離
    れた位置に配置されていることを特徴とする請求項１１
    記載の薄膜磁気ヘッド用スライダ。
17. 【請求項１７】 前記記録媒体が回転している間および
    前記記録媒体が静止している間のいずれにおいても、前
    記スライダ本体は記録媒体の面に接触し、且つ少なくと
    も記録媒体が回転している間において、前記第１の部分
    のうち前記基板部に含まれる部分は記録媒体の面に接触
    することを特徴とする請求項１６記載の薄膜磁気ヘッド
    用スライダ。
18. 【請求項１８】 前記第１の部分のうち前記基板部に含
    まれる部分の空気通過方向の長さは、前記基板部全体の
    空気通過方向の長さの５０％以下であることを特徴とす
    る請求項１１ないし１７のいずれかに記載の薄膜磁気ヘ
    ッド用スライダ。
19. 【請求項１９】 回転する記録媒体に対向する媒体対向
    面と空気流入端と空気流出端とを有するスライダ本体
    と、前記スライダ本体における前記空気流出端の近傍で
    あって前記媒体対向面の近傍に配置された薄膜磁気ヘッ
    ド素子とを備え、前記媒体対向面は、前記空気流出端に
    近い第１の部分と、前記空気流入端に近い第２の部分
    と、前記第１の部分と第２の部分との間の境界部分とを
    有し、媒体対向面全体の形状が前記境界部分において屈
    曲した凸形状になるように、前記第２の部分は前記第１
    の部分に対して傾斜している薄膜磁気ヘッド用スライダ
    を製造する方法であって、 前記スライダ本体となる部分と前記薄膜磁気ヘッド素子
    とを含むスライダ用素材を形成する工程と、 前記スライダ用素材に、前記第１の部分、前記第２の部
    分および前記境界部分を有する前記媒体対向面と前記空
    気流入端と前記空気流出端とが形成されるように、前記
    スライダ用素材を加工する工程とを備えたことを特徴と
    する薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
20. 【請求項２０】 前記スライダ用素材を加工する工程
    は、前記第１の部分を形成するために前記スライダ用素
    材を研磨する工程と、前記第２の部分を形成するために
    前記スライダ用素材を研磨する工程とを含むことを特徴
    とする請求項１９記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製
    造方法。
21. 【請求項２１】 前記スライダ用素材を加工する工程
    は、前記媒体対向面に、前記記録媒体の回転時における
    前記スライダ本体の姿勢を制御するための凹凸を形成す
    る工程を含むことを特徴とする請求項１９または２０記
    載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
22. 【請求項２２】 前記第１の部分と第２の部分とのなす
    角度は３０°以下であることを特徴とする請求項１９な
    いし２１のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライダ
    の製造方法。
23. 【請求項２３】 前記スライダ用素材を加工する工程
    は、前記媒体対向面における前記境界部分を含む領域に
    凹部を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１９
    ないし２２のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド用スライ
    ダの製造方法。
24. 【請求項２４】 前記スライダ本体となる部分は、前記
    記録媒体に向く面を有し前記薄膜磁気ヘッド素子の下地
    となる基板部と、前記記録媒体に向く面を有し前記薄膜
    磁気ヘッド素子を囲う絶縁部とを含むことを特徴とする
    請求項１９ないし２２のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッ
    ド用スライダの製造方法。
25. 【請求項２５】 前記スライダ用素材を加工する工程
    は、前記基板部をエッチングすることによって、前記媒
    体対向面における前記境界部分を含む領域に凹部を形成
    する工程を含むことを特徴とする請求項２４記載の薄膜
    磁気ヘッド用スライダの製造方法。
26. 【請求項２６】 前記スライダ用素材を加工する工程
    は、前記基板部および絶縁部の各記録媒体に向く面を覆
    う保護層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項
    ２４記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
27. 【請求項２７】 前記スライダ用素材を加工する工程
    は、前記保護層をエッチングすることによって、前記媒
    体対向面における前記境界部分を含む領域に凹部を形成
    する工程を含むことを特徴とする請求項２６記載の薄膜
    磁気ヘッド用スライダの製造方法。
28. 【請求項２８】 前記保護層は、アルミナまたはダイヤ
    モンドライクカーボンよりなることを特徴とする請求項
    ２６または２７記載の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造
    方法。
29. 【請求項２９】 前記絶縁部の記録媒体に向く面は、前
    記基板部の記録媒体に向く面のうちの、前記絶縁部の記
    録媒体に向く面に隣接する部分よりも、記録媒体から離
    れた位置に配置されることを特徴とする請求項２４記載
    の薄膜磁気ヘッド用スライダの製造方法。
30. 【請求項３０】 前記第１の部分のうち前記基板部に含
    まれる部分の空気通過方向の長さは、前記基板部全体の
    空気通過方向の長さの５０％以下であることを特徴とす
    る請求項２４ないし２９のいずれかに記載の薄膜磁気ヘ
    ッド用スライダの製造方法。