JP2933491B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体に対して記
録や再生を行う磁気ヘッドの製造方法に関するものであ
り、特にディジタルＶＴＲ等に用いられる高密度記録の
ための狭トラック、狭ギャップに適した磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
録や再生を行う磁気ヘッドの製造方法に関するものであ
り、特にディジタルＶＴＲ等に用いられる高密度記録の
ための狭トラック、狭ギャップに適した磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ディジタルＶＴＲのように大容量の信号
を記録再生するには、狭トラック化や短波長化という高
密度磁気記録再生技術が必要となる。
を記録再生するには、狭トラック化や短波長化という高
密度磁気記録再生技術が必要となる。
【０００３】高密度磁気記録再生のために、記録媒体は
その保磁力を大きくすれば、また磁気ヘッドの方はその
飽和磁束密度（以下、Ｂｓ）を大きくすれば良いことが
一般に知られている。従来、磁気ヘッド材料として主流
になっていたフェライト材料はＢｓが０．５Ｔ程度であ
り、８０ｋＡ／ｍ以上の高保磁力を示すメタルテ−プに
使用すると磁気飽和が起こり、記録が十分に行われな
い。そこで現在ではフェライト材料よりもＢｓの大きい
材料、センダスト合金膜（Ｂｓ：約１．０Ｔ）やＣｏ系
アモルファス膜（Ｂｓ：約０．８〜１．１Ｔ）、さらに
はＢｓが１．３Ｔ以上のＣｏ系超構造窒化合金膜、Ｆｅ
系超構造窒化膜、Ｆｅ系窒化膜等の新材料を用いた磁気
ヘッド、その中でも特に主コアがフェライトからなり、
少なくとも前部ギャップ近傍に磁性薄膜を配置した複合
型磁気ヘッド、いわゆるＭＩＧヘッドの研究が盛んに行
われている。
その保磁力を大きくすれば、また磁気ヘッドの方はその
飽和磁束密度（以下、Ｂｓ）を大きくすれば良いことが
一般に知られている。従来、磁気ヘッド材料として主流
になっていたフェライト材料はＢｓが０．５Ｔ程度であ
り、８０ｋＡ／ｍ以上の高保磁力を示すメタルテ−プに
使用すると磁気飽和が起こり、記録が十分に行われな
い。そこで現在ではフェライト材料よりもＢｓの大きい
材料、センダスト合金膜（Ｂｓ：約１．０Ｔ）やＣｏ系
アモルファス膜（Ｂｓ：約０．８〜１．１Ｔ）、さらに
はＢｓが１．３Ｔ以上のＣｏ系超構造窒化合金膜、Ｆｅ
系超構造窒化膜、Ｆｅ系窒化膜等の新材料を用いた磁気
ヘッド、その中でも特に主コアがフェライトからなり、
少なくとも前部ギャップ近傍に磁性薄膜を配置した複合
型磁気ヘッド、いわゆるＭＩＧヘッドの研究が盛んに行
われている。
【０００４】図１０にこのＭＩＧヘッドの構造を示す。
磁気ギャップ１を介して対向配置された一対の凸状磁性
体コア２、３はそれぞれ、フェライトからなる凸状のコ
ア本体４、５と、その突出端面およびこれに続く両サイ
ド面を覆う高飽和密度磁性体膜６、７とからなり、両磁
性体コア２、３はその両サイドに設けられた一対のガラ
ス質ブロック８、９によって相互に結合されている。１
０はコイル挿通用の巻線穴を示す。
磁気ギャップ１を介して対向配置された一対の凸状磁性
体コア２、３はそれぞれ、フェライトからなる凸状のコ
ア本体４、５と、その突出端面およびこれに続く両サイ
ド面を覆う高飽和密度磁性体膜６、７とからなり、両磁
性体コア２、３はその両サイドに設けられた一対のガラ
ス質ブロック８、９によって相互に結合されている。１
０はコイル挿通用の巻線穴を示す。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の磁
気ヘッドは図１１に詳細に示すように、一対のコア本体
４、５のトラック溝４ａ、５ａの加工精度や、コア本体
４、５の突き合わせ精度等の製造上の誤差により、トラ
ックズレｄ1、ｄ2を生じ易い。その上、磁性体膜６、７
のエッジ部の丸み２ａ、２ｂ、３ａ、３ｂにより、さら
に、トラック幅精度が悪くなっていた。
気ヘッドは図１１に詳細に示すように、一対のコア本体
４、５のトラック溝４ａ、５ａの加工精度や、コア本体
４、５の突き合わせ精度等の製造上の誤差により、トラ
ックズレｄ1、ｄ2を生じ易い。その上、磁性体膜６、７
のエッジ部の丸み２ａ、２ｂ、３ａ、３ｂにより、さら
に、トラック幅精度が悪くなっていた。
【０００６】近年、必要とされるトラック幅、およびそ
の精度は、トラック幅１０μｍ以下、精度±０．５μｍ
の領域にまで至っているが、上述したように、従来技術
では、ほとんど不可能であった。
の精度は、トラック幅１０μｍ以下、精度±０．５μｍ
の領域にまで至っているが、上述したように、従来技術
では、ほとんど不可能であった。
【０００７】また、一部に、トラックを突き合わせた状
態でトラック幅規制溝を加工する方法が特公平６−５５
６７に開示されている。
態でトラック幅規制溝を加工する方法が特公平６−５５
６７に開示されている。
【０００８】しかしながらこの方法では、突き合わせた
状態で第１の溝を形成するため、最終的に狭トラック幅
を得ようとすると、第１の溝幅もかなり狭くしなければ
ならない。そうすると、磁気媒体と対向する部分の、磁
気コアの面積が小さくなり、磁気特性が劣化することに
なる。また、チップ強度も低下する。
状態で第１の溝を形成するため、最終的に狭トラック幅
を得ようとすると、第１の溝幅もかなり狭くしなければ
ならない。そうすると、磁気媒体と対向する部分の、磁
気コアの面積が小さくなり、磁気特性が劣化することに
なる。また、チップ強度も低下する。
【０００９】これを防止するために、第１の溝幅を大き
くすると、第２の溝加工領域が大きくなり、加工精度劣
化、加工時間の増加を招き、いずれにせよ実用上、問題
であった。
くすると、第２の溝加工領域が大きくなり、加工精度劣
化、加工時間の増加を招き、いずれにせよ実用上、問題
であった。
【００１０】そこで本発明は、このような従来の磁気ヘ
ッドの課題に鑑み、高密度記録のための狭トラック、狭
ギャップに適した磁気ヘッドの製造方法を提供すること
を目的とする。
ッドの課題に鑑み、高密度記録のための狭トラック、狭
ギャップに適した磁気ヘッドの製造方法を提供すること
を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、あらかじめ凸状に加工された一対の磁性体
コアの突出端面同士を磁気ギャップを介して突き合わせ
る第一の工程と、突き合わせた状態で、両磁性体コアの
突き合わされた部分に巻線溝にいたるまで放電加工によ
り切欠部を形成してトラック端を規制する第二の工程
と、前記一対の凸状磁性体コアの両サイドの溝及び切欠
部溝にガラス質ブロックを熱処理により充填する第三の
工程と、を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法を提供する。
に本発明は、あらかじめ凸状に加工された一対の磁性体
コアの突出端面同士を磁気ギャップを介して突き合わせ
る第一の工程と、突き合わせた状態で、両磁性体コアの
突き合わされた部分に巻線溝にいたるまで放電加工によ
り切欠部を形成してトラック端を規制する第二の工程
と、前記一対の凸状磁性体コアの両サイドの溝及び切欠
部溝にガラス質ブロックを熱処理により充填する第三の
工程と、を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法を提供する。
【００１２】
【００１３】
【００１４】
【００１５】
【００１６】
【００１７】
【００１８】
【作用】本発明によると、あらかじめ凸状に加工された
一対の磁性体コアを突き合わせた状態で、ギャップ近傍
部の、トラック幅を規制する一対の磁性体部分を、一度
に加工することにより、トラックズレのないヘッドを供
給できる。
一対の磁性体コアを突き合わせた状態で、ギャップ近傍
部の、トラック幅を規制する一対の磁性体部分を、一度
に加工することにより、トラックズレのないヘッドを供
給できる。
【００１９】また、巻線溝に至るまでトラック幅が一定
のため、摩耗してもトラック幅が変動することがなく、
高信頼性のヘッドを供給できる。
のため、摩耗してもトラック幅が変動することがなく、
高信頼性のヘッドを供給できる。
【００２０】さらには、コア端部を加工する際、ギャッ
プ部分をしっかり対向させ接着させている場合には、ギ
ャップ長精度がさらに安定する。
プ部分をしっかり対向させ接着させている場合には、ギ
ャップ長精度がさらに安定する。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００２２】本実施例の磁気ヘッドの製造方法で製造さ
れた、図１および図２に示す磁気ヘッドが、図１０およ
び図１１に示した従来の磁気ヘッドと基本的に異なると
ころは、一対の凸状磁性体コア１１、１２上の両磁性体
コアの磁性体膜１９、２０の側面が、その磁気テープス
ライド面から巻線窓２１に至るまでくい込んで、トラッ
ク幅方向に直交した方向に切りそろえる切欠部１３ａ、
１４ａが設けられている点と、該切欠部１３ａ、１４ａ
によってトラック幅ＴＷが規制されている点である。
れた、図１および図２に示す磁気ヘッドが、図１０およ
び図１１に示した従来の磁気ヘッドと基本的に異なると
ころは、一対の凸状磁性体コア１１、１２上の両磁性体
コアの磁性体膜１９、２０の側面が、その磁気テープス
ライド面から巻線窓２１に至るまでくい込んで、トラッ
ク幅方向に直交した方向に切りそろえる切欠部１３ａ、
１４ａが設けられている点と、該切欠部１３ａ、１４ａ
によってトラック幅ＴＷが規制されている点である。
【００２３】この磁気ヘッドは、磁気ギャップ１を介し
て対向配置された一対の凸状磁性体コア１１、１２をガ
ラス質ブロック１５、１６により接合してなるものであ
る。
て対向配置された一対の凸状磁性体コア１１、１２をガ
ラス質ブロック１５、１６により接合してなるものであ
る。
【００２４】各凸状磁性体コア１１、１２はその大部分
がフェライトからなっていて、これら凸状コア本体１
７、１８の突出端面およびこれに続く両サイド面には高
飽和磁束密度の磁性体膜１９、２０が覆い形成されてい
る。両磁性体コア１１、１２に形成された磁性体膜１
９、２０には、側面からくい込んで該磁性体膜のみをト
ラック幅方向に直交した方向に切りそろえる切欠部１３
ａ、１４ａが設けられ、該切欠部は磁気テープスライド
面でのトラック幅ＴＷを維持したまま前記巻線溝２１ま
でいたっている。１７ａ、１８ａはトラック溝を示す。
がフェライトからなっていて、これら凸状コア本体１
７、１８の突出端面およびこれに続く両サイド面には高
飽和磁束密度の磁性体膜１９、２０が覆い形成されてい
る。両磁性体コア１１、１２に形成された磁性体膜１
９、２０には、側面からくい込んで該磁性体膜のみをト
ラック幅方向に直交した方向に切りそろえる切欠部１３
ａ、１４ａが設けられ、該切欠部は磁気テープスライド
面でのトラック幅ＴＷを維持したまま前記巻線溝２１ま
でいたっている。１７ａ、１８ａはトラック溝を示す。
【００２５】切欠部１３ａ、１４ａがあることにより、
凸状コア本体１７、１８の突き合わせずれや、磁性体膜
１９、２０のエッジの丸みの影響がなくなる。
凸状コア本体１７、１８の突き合わせずれや、磁性体膜
１９、２０のエッジの丸みの影響がなくなる。
【００２６】そして、切欠部１３ａ、１４ａの相互間距
離でトラック幅ＴＷが決まる為、高い精度でトラック幅
ＴＷを規制することが可能になる。
離でトラック幅ＴＷが決まる為、高い精度でトラック幅
ＴＷを規制することが可能になる。
【００２７】また、巻線溝２１に至るまでトラック幅Ｔ
Ｗが一定のため、摩耗してもトラック幅ＴＷが変動する
ことがなく、高信頼性のヘッドを供給できる。
Ｗが一定のため、摩耗してもトラック幅ＴＷが変動する
ことがなく、高信頼性のヘッドを供給できる。
【００２８】磁性体膜１９、２０の材質としては、セン
ダスト合金膜やＣｏ系アモルファス膜、Ｃｏ系超構造窒
化膜、Ｆｅ系超構造窒化膜、Ｆｅ系窒化膜等が使用可能
である。これらは、蒸着、イオンプレーティング、スパ
ッタリング等の方法によって、凸状コア本体１７、１８
に付設される。
ダスト合金膜やＣｏ系アモルファス膜、Ｃｏ系超構造窒
化膜、Ｆｅ系超構造窒化膜、Ｆｅ系窒化膜等が使用可能
である。これらは、蒸着、イオンプレーティング、スパ
ッタリング等の方法によって、凸状コア本体１７、１８
に付設される。
【００２９】両磁性体コア１１、１２は、少なくとも一
方の突出端面に膜付けされるギャップ材を介して突き合
わされる。なお、上記ギャップ材（図では省略）として
はＳｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｔａ2０5、ガラス、Ｃｒ、あるい
はこれらの複合体等を用いることができる。
方の突出端面に膜付けされるギャップ材を介して突き合
わされる。なお、上記ギャップ材（図では省略）として
はＳｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｔａ2０5、ガラス、Ｃｒ、あるい
はこれらの複合体等を用いることができる。
【００３０】この時、前記ギャップ材の少なくとも一部
を結晶化ガラスで形成すれば、さらに良好なギャップを
形成できる。
を結晶化ガラスで形成すれば、さらに良好なギャップを
形成できる。
【００３１】尚、ギャップスペーサー全てを結晶化ガラ
スで形成することも可能である。
スで形成することも可能である。
【００３２】また、結晶化ガラスとは、溶融、成形した
後、特殊な条件下で再加熱すると、元の形を変えること
無く、アモルファス状になり結晶化し、元のガラスより
機械的、熱的に向上した性質を持つようになるガラスで
ある。
後、特殊な条件下で再加熱すると、元の形を変えること
無く、アモルファス状になり結晶化し、元のガラスより
機械的、熱的に向上した性質を持つようになるガラスで
ある。
【００３３】切欠部１３ａ、１４ａ作製時には、この結
晶化ガラスで両磁性体コア１１、１２が強固に溶着され
ているため、加工時のトラック幅エッジの欠け等も防止
できる。これにより、安定したトラック幅、ギャップ長
が形成できる。
晶化ガラスで両磁性体コア１１、１２が強固に溶着され
ているため、加工時のトラック幅エッジの欠け等も防止
できる。これにより、安定したトラック幅、ギャップ長
が形成できる。
【００３４】望ましくは、結晶化後の前記結晶化ガラス
の屈伏点温度がガラス質ブロック１５、１６の屈伏点温
度より高い方が良い。そうすれば、ガラス質ブロック１
５、１６形成の際、ギャップ部が緩むこともなく、更に
良好なギャップが形成できる。
の屈伏点温度がガラス質ブロック１５、１６の屈伏点温
度より高い方が良い。そうすれば、ガラス質ブロック１
５、１６形成の際、ギャップ部が緩むこともなく、更に
良好なギャップが形成できる。
【００３５】次にこの磁気ヘッドの製造方法について図
３−図８を用い説明する。
３−図８を用い説明する。
【００３６】まず、表面をラップ処理等により平行度良
くかつ平滑度良く加工された例えばＭｎ−Ｚｎフェライ
トよりなる一対の基板を用意する。それぞれには図３に
示すように、互いに並行なトラック規制用のトラック溝
１７ａ、１８ａが、回転砥石等により形成され、これに
よって、一対の凸状コア本体１７、１８ができあがる。
尚、前記凸状コア本体１７、１８の少なくとも一方には
コイル挿通用の巻線溝２１が設けられる。
くかつ平滑度良く加工された例えばＭｎ−Ｚｎフェライ
トよりなる一対の基板を用意する。それぞれには図３に
示すように、互いに並行なトラック規制用のトラック溝
１７ａ、１８ａが、回転砥石等により形成され、これに
よって、一対の凸状コア本体１７、１８ができあがる。
尚、前記凸状コア本体１７、１８の少なくとも一方には
コイル挿通用の巻線溝２１が設けられる。
【００３７】次に、図４に示すように、両コア本体１
７、１８の一側面に高飽和磁束密度の磁性体膜１９、２
０が、真空薄膜形成技術によってそれぞれに被着形成さ
れ、これによって一対の磁性体コア１１、１２が完成す
る。
７、１８の一側面に高飽和磁束密度の磁性体膜１９、２
０が、真空薄膜形成技術によってそれぞれに被着形成さ
れ、これによって一対の磁性体コア１１、１２が完成す
る。
【００３８】次に、一対の磁性体コア１１、１２のいず
れか一方に、磁気ギャップを形成するための膜状のギャ
ップ材が付設される。そして、このギャップ材を介して
両磁性体コア１１、１２が図５に示すように対向配置さ
れる。ギャップ材（図では省略）の素材としてはＳｉＯ
2、ＺｒＯ2、Ｔａ2０5、ガラス、Ｃｒ、あるいはこれら
の複合体等を用いることができる。
れか一方に、磁気ギャップを形成するための膜状のギャ
ップ材が付設される。そして、このギャップ材を介して
両磁性体コア１１、１２が図５に示すように対向配置さ
れる。ギャップ材（図では省略）の素材としてはＳｉＯ
2、ＺｒＯ2、Ｔａ2０5、ガラス、Ｃｒ、あるいはこれら
の複合体等を用いることができる。
【００３９】次に、突き合わされた状態にある一対の磁
性体コア１１、１２に対し、図６のように放電電極２５
をサイドから近接して放電を発生させ、切欠部２２を形
成する。このようにすると、切欠部２２は上面でのトラ
ック幅ＴＷを維持したまま巻線溝２１までいたることに
なる。尚、この突き合わされた状態は、治具でサポート
するような構成でも良いし、接着剤で仮止めしてもかま
わない。
性体コア１１、１２に対し、図６のように放電電極２５
をサイドから近接して放電を発生させ、切欠部２２を形
成する。このようにすると、切欠部２２は上面でのトラ
ック幅ＴＷを維持したまま巻線溝２１までいたることに
なる。尚、この突き合わされた状態は、治具でサポート
するような構成でも良いし、接着剤で仮止めしてもかま
わない。
【００４０】尚、さらにギャップ精度を上げるために以
下のようにすることもできる。
下のようにすることもできる。
【００４１】前記ギャップ材の少なくとも一部分、両磁
性体コア１１、１２の最表面側を結晶化ガラスで形成す
る。
性体コア１１、１２の最表面側を結晶化ガラスで形成す
る。
【００４２】そして、この突き合わされた状態のまま、
電気炉等で加熱溶着される。
電気炉等で加熱溶着される。
【００４３】そうすると、前記結晶化ガラスはアモルフ
ァス状になり結晶化し、元のガラスより機械的、熱的に
向上した性質を持つようになり、強固にギャップ部で接
着することができる。
ァス状になり結晶化し、元のガラスより機械的、熱的に
向上した性質を持つようになり、強固にギャップ部で接
着することができる。
【００４４】このとき、結晶化ガラスの代わりに、Ａ
ｔ、Ａｇ等の金属を使用し、加熱、加圧により、拡散接
合することも可能である。また、一般の低融点ガラスで
加熱接着することも可能である。
ｔ、Ａｇ等の金属を使用し、加熱、加圧により、拡散接
合することも可能である。また、一般の低融点ガラスで
加熱接着することも可能である。
【００４５】要するに、ギャップ面で接触接着する手段
であればいかなる方法でもかまわない。
であればいかなる方法でもかまわない。
【００４６】次に、ギャップ部で溶着状態にある一対の
磁性体コア１１、１２に対し、図６のように放電電極２
５をサイドから近接して放電を発生させ、切欠部２２を
形成する。
磁性体コア１１、１２に対し、図６のように放電電極２
５をサイドから近接して放電を発生させ、切欠部２２を
形成する。
【００４７】切欠部２２作製時には、前記結晶化ガラス
で両磁性体コア１１、１２が溶着されているため、加工
負荷によるギャップ開き、ギャップ隙間への加工くずの
混入、ギャップエッジの欠け等が防止でき、ギャップ長
精度、トラック幅精度が飛躍的に向上する。
で両磁性体コア１１、１２が溶着されているため、加工
負荷によるギャップ開き、ギャップ隙間への加工くずの
混入、ギャップエッジの欠け等が防止でき、ギャップ長
精度、トラック幅精度が飛躍的に向上する。
【００４８】トラック幅を規制する切欠部の表面粗さは
そのままトラック幅精度を左右する。従って、±０．５
μｍの精度を達成するためには、少なくとも０．５μｍ
以下の表面粗さが必要で、更に好ましくは０．２μｍ以
下の表面粗さが望ましい。
そのままトラック幅精度を左右する。従って、±０．５
μｍの精度を達成するためには、少なくとも０．５μｍ
以下の表面粗さが必要で、更に好ましくは０．２μｍ以
下の表面粗さが望ましい。
【００４９】放電加工によると、その単発放電エネルギ
ーを１０ー7Ｊまで微細化することでＦｅ−Ｔａ−Ｎ膜を
加工した時で０．１〜０．２μｍの表面粗さが得られ
た。
ーを１０ー7Ｊまで微細化することでＦｅ−Ｔａ−Ｎ膜を
加工した時で０．１〜０．２μｍの表面粗さが得られ
た。
【００５０】尚、放電加工の際、一般には絶縁油の中で
加工するが、電気抵抗率が１ＭΩ・ｃｍ以上の純水を使
用することができ、その場合後工程で洗浄の工程を削減
することができる。
加工するが、電気抵抗率が１ＭΩ・ｃｍ以上の純水を使
用することができ、その場合後工程で洗浄の工程を削減
することができる。
【００５１】そして、図７に示すように、一対の磁性体
コア１１、１２がガラス質ブロック１５、１６によって
相互に結合される。このガラス質ブロック１５、１６は
熱処理により充填される。
コア１１、１２がガラス質ブロック１５、１６によって
相互に結合される。このガラス質ブロック１５、１６は
熱処理により充填される。
【００５２】そして、チップごとにスライス（一点鎖
線）され、巻線を施される。
線）され、巻線を施される。
【００５３】本実施例では磁気ギャップ１に向かうコア
本体１７、１８のギャップ近傍側面にも磁性体膜１９、
２０があることにより、記録時のギャップ面での飽和の
発生を抑制し、記録能力に優れるというＭＩＧヘッドの
特長を十分に発揮する構造になっている。
本体１７、１８のギャップ近傍側面にも磁性体膜１９、
２０があることにより、記録時のギャップ面での飽和の
発生を抑制し、記録能力に優れるというＭＩＧヘッドの
特長を十分に発揮する構造になっている。
【００５４】尚、放電加工を行う際に、事前の凸状コア
の突き合わせ精度をある程度上げておけば、磁性膜部分
のわずかな部分を加工することによって、初期の目標を
達成することができる。この場合は、更に加工精度、速
度が向上する。
の突き合わせ精度をある程度上げておけば、磁性膜部分
のわずかな部分を加工することによって、初期の目標を
達成することができる。この場合は、更に加工精度、速
度が向上する。
【００５５】上記実施例は、切欠部２２を放電加工によ
り形成したものであるが、この加工をレーザー誘起エッ
チング加工によって加工することも可能である。この場
合、突き合わされた状態にある一対の磁性体コア１１、
１２に対し、図８のように上部からアルゴンレーザー３
０を照射する（スポット径２μｍ）、この時、一対の磁
性体コア１１、１２はアルカリ金属水酸化物（例えばＫ
ＯＨ）に浸漬してあるため、レーザーが照射された部分
のみ熱化学反応により加工される。
り形成したものであるが、この加工をレーザー誘起エッ
チング加工によって加工することも可能である。この場
合、突き合わされた状態にある一対の磁性体コア１１、
１２に対し、図８のように上部からアルゴンレーザー３
０を照射する（スポット径２μｍ）、この時、一対の磁
性体コア１１、１２はアルカリ金属水酸化物（例えばＫ
ＯＨ）に浸漬してあるため、レーザーが照射された部分
のみ熱化学反応により加工される。
【００５６】尚、この切欠部２２のトラック長手方向の
幅Ｃｗは３０μｍ以下であることが望ましい。詳細は図
２に示す（切欠部は１３ａ、１４ａ）。こうすることに
より加工エリアが少しで済み、加工速度が向上する。本
発明の場合、１０μm幅加工するのに１０秒かかった。
この場合、トラック長手方向の幅Ｃｗを３０μmとする
と切欠部１３ａ、１４ａ両側で計６０秒かかる。これは
ほぼトラック溝加工１７ａ、１８ａと同じスピードであ
り、量産する上での上限値と考える。 また、切欠部２
２を形成する部分の磁性体膜１９、２０の膜厚を３μｍ
以上にすることにより、加工精度が向上する。（レーザ
ーのスポット以下の膜厚だと照射領域が膜より大きくな
りエネルギー分布が不均一になり加工精度が低下する）
このレーザー誘起エッチングに関しては、特開平２−２
７６００９に開示されているが、この特許は、ガラスモ
ールドされたコアブロックを加工するもので、本発明の
ようにガラスモールド前の仮止めコアを加工するもので
はない。また、本発明では、レーザー誘起エッチングを
する前に、砥石加工で略トラック制限加工を行ってい
る。
幅Ｃｗは３０μｍ以下であることが望ましい。詳細は図
２に示す（切欠部は１３ａ、１４ａ）。こうすることに
より加工エリアが少しで済み、加工速度が向上する。本
発明の場合、１０μm幅加工するのに１０秒かかった。
この場合、トラック長手方向の幅Ｃｗを３０μmとする
と切欠部１３ａ、１４ａ両側で計６０秒かかる。これは
ほぼトラック溝加工１７ａ、１８ａと同じスピードであ
り、量産する上での上限値と考える。 また、切欠部２
２を形成する部分の磁性体膜１９、２０の膜厚を３μｍ
以上にすることにより、加工精度が向上する。（レーザ
ーのスポット以下の膜厚だと照射領域が膜より大きくな
りエネルギー分布が不均一になり加工精度が低下する）
このレーザー誘起エッチングに関しては、特開平２−２
７６００９に開示されているが、この特許は、ガラスモ
ールドされたコアブロックを加工するもので、本発明の
ようにガラスモールド前の仮止めコアを加工するもので
はない。また、本発明では、レーザー誘起エッチングを
する前に、砥石加工で略トラック制限加工を行ってい
る。
【００５７】そして、図７に示すように、一対の磁性体
コア１１、１２がガラス質ブロック１５、１６によって
相互に結合される。このガラス質ブロック１５、１６は
熱処理により充填される。
コア１１、１２がガラス質ブロック１５、１６によって
相互に結合される。このガラス質ブロック１５、１６は
熱処理により充填される。
【００５８】そして、チップごとにスライス（一点鎖
線）され、巻線を施される。
線）され、巻線を施される。
【００５９】上述したように、本発明は特に狭ギャッ
プ、狭トラックＭＩＧヘッドに有効であるが、従来のフ
ェライトヘッドや比較的トラック幅の広いヘッドでも適
用できるものであり、精度改善による歩留まり向上を実
現するものである。
プ、狭トラックＭＩＧヘッドに有効であるが、従来のフ
ェライトヘッドや比較的トラック幅の広いヘッドでも適
用できるものであり、精度改善による歩留まり向上を実
現するものである。
【００６０】かつ、図２に示すように、予め各磁性体コ
ア１１、１２にトラック溝１７ａ、１８ａがあることに
より、切欠溝１３ａ、１４ａの加工量を少なくすること
が出来、量産化に適している。
ア１１、１２にトラック溝１７ａ、１８ａがあることに
より、切欠溝１３ａ、１４ａの加工量を少なくすること
が出来、量産化に適している。
【００６１】また、このトラック溝１７ａ、１８ａを各
々加工することにより、トラック幅Ｔｗが狭くても、コ
ア幅Ｋｗを広くとることが出来、チップ強度の点、ま
た、インターフェースの点でも良好なヘッドを提供でき
る。
々加工することにより、トラック幅Ｔｗが狭くても、コ
ア幅Ｋｗを広くとることが出来、チップ強度の点、ま
た、インターフェースの点でも良好なヘッドを提供でき
る。
【００６２】図９は本発明に関連する磁気記録再生装置
の１実施例を示す。ヘリカル走査する回転シリンダ３３
に取り付けられた上記本発明の磁気ヘッドの製造方法に
よって製造された磁気ヘッド３２が、走行しつつある磁
気テープ３４と接触し、磁気テープ３４上に信号が記録
再生される。本発明では狭トラックで突き合わせズレの
ないヘッドを用いてるため、サイドのフリンジ等のトラ
ックエッジでの磁束のにじみも発生せず非常に多量の情
報を記録再生することができる。
の１実施例を示す。ヘリカル走査する回転シリンダ３３
に取り付けられた上記本発明の磁気ヘッドの製造方法に
よって製造された磁気ヘッド３２が、走行しつつある磁
気テープ３４と接触し、磁気テープ３４上に信号が記録
再生される。本発明では狭トラックで突き合わせズレの
ないヘッドを用いてるため、サイドのフリンジ等のトラ
ックエッジでの磁束のにじみも発生せず非常に多量の情
報を記録再生することができる。
【００６３】
【発明の効果】以上述べたところから明らかなように、
本発明の製造方法においては、高密度化における狭トラ
ック化に適したトラックズレのない磁気ヘッドを歩留ま
り良く、低コストで得ることができる。
本発明の製造方法においては、高密度化における狭トラ
ック化に適したトラックズレのない磁気ヘッドを歩留ま
り良く、低コストで得ることができる。
【００６４】また、巻線溝に至るまでトラック幅が一定
のため、摩耗してもトラック幅が変動することがなく、
高信頼性のヘッドを供給できる。
のため、摩耗してもトラック幅が変動することがなく、
高信頼性のヘッドを供給できる。
【００６５】また、この加工の際、ギャップ部が強固に
接触接着されているため、ギャップ長精度も安定し、高
密度記録に適した高信頼性のヘッドを供給できる。
接触接着されているため、ギャップ長精度も安定し、高
密度記録に適した高信頼性のヘッドを供給できる。
【００６６】また、そのヘッドを用いることにより、デ
ジタルＶＴＲに適した高密度記録再生装置を提供でき
る。
ジタルＶＴＲに適した高密度記録再生装置を提供でき
る。
【図１】本発明の一実施例の製造方法における磁気ヘッ
ドチップの斜視図である。
ドチップの斜視図である。
【図２】本発明の一実施例の製造方法における磁気ヘッ
ドチップの一部分の平面図である。
ドチップの一部分の平面図である。
【図３】本発明の一実施例における製造方法を説明する
ための斜視図である。
ための斜視図である。
【図４】本発明の一実施例における製造方法を説明する
ための斜視図である。
ための斜視図である。
【図５】本発明の一実施例における製造方法を説明する
ための斜視図である。
ための斜視図である。
【図６】本発明の一実施例における製造方法を説明する
ための斜視図である。
ための斜視図である。
【図７】本発明の一実施例における製造方法を説明する
ための斜視図である。
ための斜視図である。
【図８】本発明の別の実施例における製造方法を説明す
るための斜視図である。
るための斜視図である。
【図９】本発明に関連する磁気記録装置の磁気ヘッド回
りを説明するための斜視図である。
りを説明するための斜視図である。
【図１０】従来の磁気ヘッドチップの斜視図である。
【図１１】従来の磁気ヘッドチップの一部分の平面図で
ある。
ある。
１ 磁気ギャップ １１、１２ 磁性体コア １３ａ、１４ａ 切欠部 １５、１６ ガラス質ブロック １７、１８ コア本体 １９、２０ 磁性体膜 ２２ 切欠部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−353607（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−208705（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−150243（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−276412（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−305805（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−70912（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/127 - 5/255
Claims (8)
- 【請求項１】あらかじめ凸状に加工された一対の磁性体
コアの突出端面同士を磁気ギャップを介して突き合わせ
る第一の工程と、 突き合わせた状態で、両磁性体コアの突き合わされた部
分に巻線溝にいたるまで放電加工により切欠部を形成し
てトラック端を規制する第二の工程と、 前記一対の凸状磁性体コアの両サイドの溝及び切欠部溝
にガラス質ブロックを熱処理により充填する第三の工程
と、 を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】あらかじめ凸状に加工された一対の磁性体
コアの突出端面同士を磁気ギャップを介して突き合わせ
る第一の工程と、 突き合わせた状態で磁気ギャップ材の少なくとも一部を
用い、接着する第二の工程と、 両磁性体コアの突き合わされた部分に巻線溝にいたるま
で放電加工により切欠部を形成してトラック端を規制す
る第三の工程と、 前記一対の凸状磁性体コアの両サイドの溝及び切欠部溝
にガラス質ブロックを熱処理により充填する第四の工程
と、 を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】凸状磁性体コアがフェライトと金属磁性膜
との複合体からなり、放電加工による切欠部を金属磁性
膜のみに形成することを特徴とする請求項第１または２
項記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】放電加工により切欠部を形成する工程にお
いて、放電加工用絶縁溶媒が電気抵抗率が１ＭΩ・ｃｍ
以上の水であることを特徴とする請求項第１から３項の
いずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項５】あらかじめ凸状に加工された一対の磁性体
コアの突出端面同士を磁気ギャップを介して突き合わせ
る第一の工程と、 突き合わせた状態で、両磁性体コアの突き合わされた部
分に巻線溝にいたるまでレーザー誘起エッチング加工に
より切欠部を形成してトラック端を規制する第二の工程
と、 前記一対の凸状磁性体コアの両サイドの溝及び切欠部溝
にガラス質ブロックを熱処理により充填する第三の工程
と、 を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】あらかじめ凸状に加工された一対の磁性体
コアの突出端面同士を磁気ギャップを介して突き合わせ
る第一の工程と、 突き合わせた状態で磁気ギャップ材の少なくとも一部を
用い、接着する第二の工程と、 両磁性体コアの突き合わされた部分に巻線溝にいたるま
でレーザー誘起エッチング加工により切欠部を形成して
トラック端を規制する第三の工程と、 前記一対の凸状磁性体コアの両サイドの溝及び切欠部溝
にガラス質ブロックを熱処理により充填する第四の工程
と、 を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項７】凸状磁性体コアがフェライトと金属磁性膜
との複合体からなり、レーザー誘起エッチングによる切
欠部を金属磁性膜のみに形成することを特徴とする請求
項第５または６項記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項８】レーザー誘起エッチングにより切欠部を形
成する工程において、前記切欠部を形成する部分の金属
磁性膜の厚さが３μｍ以上であることを特徴とする請求
項第７記載の磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6235705A JP2933491B2 (ja) | 1993-10-04 | 1994-09-29 | 磁気ヘッドの製造方法 |
| EP94115437A EP0646907B1 (en) | 1993-10-04 | 1994-09-30 | Magnetic head and producing method of the same |
| DE69421882T DE69421882T2 (de) | 1993-10-04 | 1994-09-30 | Magnetkopf und Herstellungsverfahren |
| US08/461,964 US5761789A (en) | 1993-10-04 | 1995-06-05 | Method of producing a magnetic head |
| US08/895,205 US5905612A (en) | 1993-10-04 | 1997-07-16 | Magnetic head and producing method of the same |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24790193 | 1993-10-04 | ||
| JP5-247901 | 1993-12-08 | ||
| JP5-307845 | 1993-12-08 | ||
| JP30784593 | 1993-12-08 | ||
| JP6235705A JP2933491B2 (ja) | 1993-10-04 | 1994-09-29 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9359398A Division JPH10293904A (ja) | 1993-10-04 | 1998-04-06 | 磁気ヘッド及び磁気記録再生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07220218A JPH07220218A (ja) | 1995-08-18 |
| JP2933491B2 true JP2933491B2 (ja) | 1999-08-16 |
Family
ID=27332297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6235705A Expired - Fee Related JP2933491B2 (ja) | 1993-10-04 | 1994-09-29 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5761789A (ja) |
| EP (1) | EP0646907B1 (ja) |
| JP (1) | JP2933491B2 (ja) |
| DE (1) | DE69421882T2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0830909A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-02-02 | Sony Corp | 磁気ヘッド |
| US6061212A (en) | 1995-05-18 | 2000-05-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head with circular notches and magnetic recording/reproducing apparatus using the same |
| EP1126440A1 (en) | 1999-07-02 | 2001-08-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Sealing glass for magnetic head and magnetic head using the same |
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