JPH10222811A

JPH10222811A - 磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JPH10222811A
Application number: JP1195A
Authority: JP
Inventors: Kenkichi Inada; 健吉稲田; Takeshi Miura; 岳史三浦; Masataka Egawa; 正孝江川; Takeo Yamashita; 武夫山下; Takayuki Kumasaka; 登行熊坂
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1995-01-04
Filing date: 1995-01-04
Publication date: 1998-08-21

Abstract

(57)【要約】【構成】コア基体１１上に高飽和磁束密度の金属磁性膜
１２を形成した一対のコア半体１Ａ，１Ｂを突合せ接合
した構造の磁気ヘッドで、磁気ヘッド側面部に金属磁性
膜１２を露出させない構造とする。【効果】磁気ヘッド側面部に金属磁性膜が露出していた
従来のヘッドよりも耐環境性、特に耐食性に優れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド及びその製造
方法に係り、特に、高保磁力記録媒体を用いるＶＴＲ
（ビデオテープレコーダ）等に用いて好適な磁気ヘッド
及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】高密度磁気記録には高保磁力（Ｈc）を
有するメタルテープ等が用いられているが、これに対応
する磁気ヘッドも従来のフェライト材に代わり、高飽和
磁束密度を有する金属磁性膜、例えば、Ｆe−Ａl−Ｓi
合金（センダスト）やＣo系非晶質合金を主磁気コアと
して用いた複合型の磁気ヘッドが種々実用化されてい
る。また、近年の記録波長の短波長化に伴い金属磁性膜
の高飽和磁束密度化が更に進んでいる。このような高飽
和磁束密度金属磁性膜を用いた磁気ヘッドとして特開平
５−２７４６２１号公報に記載のヘッドが実用化され始
めている。

【０００３】図６は、従来の磁気ヘッドの斜視図であ
る。同図における磁気ヘッドはＡ，Ｂの対をなすコア半
体をギャップ規制膜６３を介して充填ガラス６４で接合
した構造となっている。ここで各コア半体Ａ，Ｂはそれ
ぞれフェライトよりなるコア６２Ａ，６２Ｂとコアの磁
気ギャップ形成面側に形成した高飽和磁束密度金属磁性
膜６１Ａ，６１Ｂとを具備したものとなっている。

【０００４】この高飽和磁束密度金属磁性膜として、鉄
系の金属磁性膜を用いることにより、記録波長の短波長
化に伴う狭ギャップ長磁気ヘッドでも、高Ｈcのメタル
テープに充分記録可能な磁気ヘッドが得られるように工
夫されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、開示された磁
気ヘッドのコア基体となる鉄系の金属磁性膜は、主成分
が鉄であるため、従来のＦe−Ａl−Ｓi合金やＣo系非晶
質合金膜に比べて耐環境性、特に耐食性が劣るという問
題があり、特にヘッドのチップ切断時における応力によ
り金属磁性膜がフェライトコアから剥離を生じ、当前記
すき間部に局部的な腐食を発生し、磁性膜全体の腐食を
促進するという問題があった。

【０００６】本発明の目的は、高飽和磁束密度金属磁性
膜とフェライト材料を用いた複合型磁気ヘッドの耐食性
を向上し、信頼性の高い磁気ヘッドを提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するために、少なくとも一方にコイル巻線用溝を有
する金属酸化物磁性材料によりなるコア基体の磁気ギャ
ップ形成面側に、略山形の突起を形成し、更に高飽和磁
束密度の金属磁性膜を形成した前記一対のコア半体をギ
ャップ規制膜を介して突合せ磁気ギャップを形成し、磁
気ギャップが所定のアジマス角度の傾きを有するように
切断して形成される磁気ヘッドで、一対のコア半体の切
断面、すなわち、ヘッド側面部に高飽和磁束密度の金属
磁性膜を露出させない構造とする。

【０００８】

【作用】高飽和磁束密度の金属磁性膜を一対のコア半体
の切断面、すなわち、ヘッドチップ側面部に露出させな
いことにより、ヘッドチップ切断加工時に金属磁性膜を
研削もしくは切削加工することがなくなるため、金属磁
性膜に加工歪を与えることなくヘッドチップ切断加工が
可能となり、金属磁性膜のフェライトコア材からの剥
離、脱落を防止することができる。

【０００９】また、磁気ヘッド完成後も外気に接触する
金属磁性膜部が非常に少なくなり、耐食性を大幅に向上
した磁気ヘッドが得られる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明を図示した実施例によって説明
する。

【００１１】図１は本発明の第一実施例に係る磁気ヘッ
ドのテープ摺動面から見た正面図である。図１で１Ａ，
１Ｂは一対のコア半体を示し、１１は金属酸化物磁性材
料よりなり、１１ａはコア基体１１の突起部、１２は金
属磁性膜、１３は磁気ギャップ、１４は一対のコア半体
を接合せしめる非磁性充填材料を示す。

【００１２】各コア半体１Ａ，１Ｂはそれぞれ金属酸化
物磁性材料Ｍn−Ｚnフェライトの単結晶材もしくは多結
晶材よりなるコア基体１１と、コア基体１１の突合せ面
側にスッパタリング等の方法で形成した鉄系微結晶材料
等の金属磁性膜１２とを具備しており、各コア基体の突
合せ面側には、略山形を呈する突起部１１ａ，１１ｂが
機械加工等によって形成されている。尚、本図で示す略
山形とは、先端にいくに従って漸次先細になる突起を差
しているが、第二実施例、第三実施例としてこの山形突
起の先端部に平面部が存在する形状（図２の２１ａ，２
１ｂ、図３の３１ａ，３１ｂ）もこれに含まれる。

【００１３】突起部１１ａ，１１ｂの形成面側に金属磁
性膜１２がスパッタリング等の方法で所定の膜厚だけ成
膜されており、この金属磁性膜先端部を平坦化すること
で所定のトラック幅を形成している。尚、この金属磁性
膜は図１、図２では突起部１１ａ，１１ｂの両傾斜面に
形成されているが、第四実施例として図４に示すように
突起部４１ａ，４１ｂの一方の傾斜面にのみ形成するこ
とも可能である。ここで、金属磁性膜がヘッドチップ切
断面（１Ｘ−１Ｘ'，１Ｙ−１Ｙ'）に露出せぬよう前記
金属磁性膜１２は１５に示す円弧もしくは直線で切断さ
れている。(この切断部は磁気ギャップ１３と非平行と
なるよう注意する必要がある。）次に図５は本発明の第
一実施例の磁気ヘッドの側面図である。図５で金属磁性
膜１２はヘッド側面部に露出していない。またコア半体
１Ａ，１Ｂの少なくとも一方には巻線用の窓５１が形成
されており、この巻線用窓部にも金属磁性膜１２は存在
していない。

【００１４】次に図１に示した磁気ヘッドの製造方法を
図７を用いて詳細に説明する。図７（ａ）はコア基体１
１の母材となる母材ブロック７１に略山形の突起部７２
を複数個形成するための工程を示している。すなわち、
母材ブロック７１の突合せ面となる面側に深さが５０〜
３００μｍで、断面形状が略山形で、略山形頂点部の角
度が４０゜〜１００゜になるＶ字溝７３を複数平行に機
械加工等により形成する。この母材ブロック７１となる
材料はＭn−Ｚn単結晶、Ｍn−Ｚn多結晶、あるいはこれ
らを接合したフェライト材料でもよい。

【００１５】次に図７（ｂ）に示すように、突起部７２
の形成面上に突合せ面となる方向からスパッタリング
法、蒸着法等により金属磁性膜７４を被着させる。金属
磁性膜７４は鉄系の微結晶膜等を用いる。金属磁性膜７
４の膜厚は磁気ヘッドの特性、トラック幅から設定する
が、その範囲は１〜１００μｍである。この時、スパッ
タリング法などで形成したＳiＯ₂等の非磁性膜を１００
〜５００ｎｍの厚さを介して磁性膜の多層化を行っても
よい。この後、金属磁性膜７４の上部にＳiＯ₂，Ｃr，
Ｃr₂Ｏ₃等の非磁性膜７５を保護膜として形成し、磁気
特性を得るために磁場中または無磁場中で熱処理を行
う。

【００１６】次に図８（ａ）に示すように、金属磁性膜
７４の傾斜部を機械加工等により除去を行う。この加工
により残される突起部７２の頂部の金属磁性膜７４は、
後述する磁気ヘッドチップの幅寸法より短くなくてはな
らない。この除去加工の後に金属磁性膜７４及び金属磁
性膜を除去した部分にＳiＯ₂，Ｃr，Ｃr₂Ｏ₃等の非磁性
膜７６を保護膜として形成する。

【００１７】次に図８（ｂ）に示すように、金属磁性膜
７４及び非磁性膜７５の上に非磁性材７７を充填する。
この工程では少なくともＶ字溝７３が埋まる程度に非磁
性材７７を充填する。非磁性材７７は、ＰbＯ系、Ｖ₂Ｏ
₅系、Ｚn系のガラス材料またはスパッタリングで形成し
たＭg₂ＳiＯ₄（フォルステライト）、ＭgＳiＯ₃（ステ
アタイト）、ＣaＭgＳi₂Ｏ₆（ダイオプサイト）等の材
料を選択する。

【００１８】次に図９（ａ）に示すように、充填された
非磁性材７７の除去・研磨を行う。この工程では、非磁
性材７７及び金属磁性膜７４の一部が機械研磨等により
除去され、かつ突合せ面の鏡面研磨が行われる。つまり
突起部７２の頂部の金属磁性膜７４が所定のトラック幅
Ｔwとなるまで研磨が行われる。次に図９（ａ）に示す
Ｅ₁−Ｅ₁'，Ｅ₂−Ｅ₂'線に沿って母材ブロックを切断し
一対の母材ブロック７Ａ，７Ｂを作成する。

【００１９】次に図９（ｂ）に示すように、一対のコア
ブロック７Ａ，７Ｂを一体化する。この工程では母材ブ
ロックの少なくとも一方の突合せ面上にギャップ規制膜
となるＳiＯ₂等の非磁性酸化膜、またはＣr等の非磁性
膜７８を所定の厚さにスパッタリング法等により形成
し、母材ブロック７Ａ，７Ｂを位置合わせ後、加圧して
加熱して非磁性材７７を溶融して、ガラスボンディング
により接合一体化する。尚、図８（ｂ）の工程でスパッ
タリング等で形成する非磁性材を用いた場合は、ギャッ
プ規制膜上に少なくともボンディング温度で溶融する低
融点のガラス膜を形成しておく。

【００２０】この様にして母材ブロック７Ａ，７Ｂを一
体化したボンディングブロック７Ｃを磁気ギャップを中
心にして所定のアジマス角度を得られるように磁気ギャ
ップに対して所定角度だけ傾いた図９（ｂ）のＦ−Ｆ'
線で順次切断して図１に示す摺動面の形状の磁気ヘッド
が得られることになる。ここでボンディングブロック７
Ｃの切断面（Ｆ−Ｆ'線）が金属磁性材７４に接触する
ことなく切断する必要がある。

【００２１】

【発明の効果】本発明によれば高飽和磁束密度の金属磁
性膜をヘッド側面部に露出させない構造となっているた
め、耐環境性、特に耐食性に優れた磁気ヘッドが得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一実施例の磁気ヘッドの摺動面を示
す正面図。

【図２】本発明の第二実施例の磁気ヘッドの摺動面を示
す正面図。

【図３】本発明の第三実施例の磁気ヘッドの摺動面を示
す正面図。

【図４】本発明の第四実施例の磁気ヘッドの摺動面を示
す正面図。

【図５】本発明の第一実施例の磁気ヘッドの側面図。

【図６】従来技術による磁気ヘッドの斜視図。

【図７】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す説明図。

【図８】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す説明図。

【図９】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す説明図。

【符号の説明】

１Ａ，１Ｂ…コア半体、１１…コア基体、１１ａ，１１ｂ…突起部、１２…金属磁性膜、１３…磁気ギャップ、１４…非磁性充填材、１５…金属磁性膜の切断部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者江川正孝茨城県ひたちなか市稲田1410番地株式会社日立製作所パーソナルメディア機器事業部内 (72)発明者山下武夫茨城県ひたちなか市稲田1410番地株式会社日立製作所パーソナルメディア機器事業部内 (72)発明者熊坂登行茨城県ひたちなか市稲田1410番地株式会社日立製作所パーソナルメディア機器事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方にコイル巻線用溝を有する
金属酸化物磁性材料によりなるコア基体の磁気ギャップ
形成面側に、略山形の突起を形成し、更に高飽和磁束密
度の金属磁性膜を形成した一対のコア半体をギャップ規
制膜を介して突合せ、前記磁気ギャップを形成し、前記
磁気ギャップが所定のアジマス角度の傾きを有するよう
に切断することにより形成される磁気ヘッドにおいて、
前記磁気ヘッドの側面部に前記金属磁性膜を露出させな
いことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】請求項１において、前記高飽和磁束密度の
金属磁性膜として鉄系の合金膜を用いる磁気ヘッド。
【請求項３】請求項１において、前記略山形の突起の先
端部に平坦面が存在しない磁気ヘッド。
【請求項４】請求項１において、前記略山形の突起の先
端部に平坦面が存在する磁気ヘッド。
【請求項５】請求項１において、前記略山形の突起の一
方の傾斜面のみに、前記高飽和磁束密度の金属磁性膜が
形成されている磁気ヘッド。
【請求項６】少なくとも一方にコイル巻線用溝を有する
金属酸化物磁性材料によりなるコア基体の磁気ギャップ
形成面側に、略山形の突起を形成し、更に高飽和磁束密
度の金属磁性膜を形成した一対のコア半体をギャップ規
制膜を介して突合せ磁気ギャップを形成し、前記磁気ギ
ャップが所定のアジマス角度の傾きを有するように切断
することにより形成される磁気ヘッドにおいて、前記磁
気ヘッドの側面部に前記金属磁性膜を露出させない磁気
ヘッドの製造方法において、前記コア半体の母材となる
母材ブロックに前記略山形の突起部を複数個形成する工
程と、前記突起部にスパッタリング法、蒸着法等により
金属磁性膜を被着させる、前記金属磁性膜の傾斜部を機
械加工により除去し、前記金属磁性膜上に非磁性材を充
填し、前記非磁性材を除去研磨し、前記コア半体の少な
くとも一方の突合せ面上に前記ギャップ規制膜を形成
し、一対のコア半体を接合一体化し、前記一対のコアブ
ロックを所定のアジマス角度を有し切断することを特徴
とする磁気ヘッドの製造方法。