JPH0721510A

JPH0721510A - 磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH0721510A
Application number: JP5183287A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Saito; 正斎藤; Shinji Takahashi; 伸司高橋; Toshinobu Watanabe; 利信渡辺
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1993-06-30
Filing date: 1993-06-30
Publication date: 1995-01-24

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気ヘッドの再生出力を良好なものとし、そ
の製造歩留りを向上する。【構成】積層磁性膜１，２を磁性フェライト材よりな
る一対の基板３，５及び４，６により膜厚方向より挟み
込んだ一対の磁気コア半体７，８が、上記積層磁性膜
１，２を突き合わせるように接合一体化され、積層磁性
膜１，２の突き合わせ面間にフロントギャップｇ₁ 及び
バックギャップが形成される磁気ヘッドにおいて、基板
３，４，５，６及び積層磁性膜１，２の一部を切り欠く
ようにして設けられ、磁気ギャップのトラック幅を規制
するトラック幅規制溝１５ａ，１５ｂ，１６ａ，１６ｂ
のフロントギャップ側には第１の融着ガラス９、バック
ギャップ側には第１の融着ガラスよりも低融点の第２の
融着ガラス１０を溶融充填する。また、この時、溶融充
填時の第１の融着ガラスの粘度η₁ を１０⁴ Ｐａ・ｓ≦
η₁ 、第２の融着ガラスの粘度η₂ を１０³ Ｐａ・ｓ≦
η₂ ≦１０^3.5 Ｐａ・ｓとしても良い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ等に搭載される磁気ヘッドに関し、特に高密度磁
気記録用ヘッドとして好適な磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、磁気記録の分野においては、高
周波特性に優れる高密度記録用の磁気ヘッドとして膜厚
の薄い磁性金属薄膜を絶縁膜を介して何層にも積層して
なる、いわゆる積層磁性膜を用いた磁気ヘッドの開発が
行われている。かかる磁気ヘッドの一例として、上記積
層磁性膜を非磁性材料よりなる基板によって膜厚方向よ
り挟み込んでなる磁気コア半体同士を、積層磁性膜同士
を突き合わせるようにして接合一体化した、いわゆるラ
ミネートタイプの磁気ヘッドが挙げられる。

【０００３】上記ラミネートタイプの磁気ヘッドにおい
ては、積層磁性膜の突き合わせ面間に磁気ギャップが形
成され、該積層磁性膜の幅が磁気ギャップのトラック幅
となることから、挟トラック化が可能であり、高密度記
録が達成される。

【０００４】しかしながら、かかる磁気ヘッドにおい
て、さらなる高密度記録を達成するためにトラック幅を
さらに狭くする、すなわち積層磁性膜の幅をさらに狭め
て行くと、磁路を構成するコア断面積の減少によってヘ
ッド効率が劣化する。

【０００５】このため、従来においては、コア断面積の
確保によってヘッド効率の劣化を防止すべく、基板に磁
性フェライト材を使用する方法が提案されている。この
方法によれば、狭トラック化した場合でも、磁性フェラ
イト材基板が補助コアとして機能し、コア断面積が充分
に確保されることから、非磁性基板を用いた磁気ヘッド
に比べてヘッド効率の劣化を抑制することができる。

【０００６】ただし、上記のように基板として磁性フェ
ライト材を用いた磁気ヘッドにおいては、当然のことな
がら、磁気コア半体の積層磁性膜の突き合わせ面間に形
成されるフロントギャップ及びバックギャップのトラッ
ク幅を規制するために、上記磁気コア半体の突き合わせ
部分、すなわち積層磁性膜の突き合わせ面の幅を規制す
る必要がある。従って、磁気ヘッドの製造工程中に積層
磁性膜の突き合わせ面の幅を規制する工程を組み込む必
要がある。

【０００７】上記のような磁気ヘッドは一般に次のよう
にして形成される。先ず、一方の磁性フェライト基板上
に、膜厚の薄い磁性金属薄膜を絶縁膜を介して何層にも
積層した積層メタル膜である積層磁性膜をスパッタリン
グ等によって形成し、これに他方の磁性フェライト基板
を接合して磁気コア半体を形成する。次に、上記磁気コ
ア半体とこれと同様に形成される磁気コア半体同士を、
互いの突き合わせ面に呈する積層磁性膜同士を突き合わ
せ、磁気コア半体間に融着ガラスを溶融充填させて接合
一体化して磁気ヘッドを完成する。

【０００８】そこで、上記のような磁気ヘッドの積層磁
性膜の突き合わせ面の幅を規制する方法として次のよう
な方法が挙げられる。先ず、一対の磁性フェライト基板
の磁気ギャップ近傍となる部分を機械加工等により予め
除去し、そこに非磁性材を充填する。そして、このうち
一方の磁性フェライト基板上に積層磁性膜を形成し、他
方の磁性フェライト基板と接合した後、積層磁性膜のト
ラック幅方向に平行な面で切断を行い、磁気コア半体を
形成する。その結果、切断面（突き合わせ面）には非磁
性材と積層磁性膜が露呈し、非磁性材により上記積層磁
性膜の突き合わせ面の幅が規制されることとなる。とこ
ろが、この方法では磁気ヘッドの製造工程が煩雑となる
ばかりでなく、積層磁性膜をスパッタリングするべく磁
性フェライト基板とこれに充填されている非磁性材に平
面研削を行うと、これらの間に段差が生じ、形成される
積層磁性膜の膜特性に影響を及ぼしてしまう。

【０００９】上記問題を解決する方法として、一方の磁
性フェライト基板にスパッタリング等によって積層磁性
膜を形成し、これと他方のフェライト基板を接合した後
に、上記積層磁性膜の突き合わせ面を所定トラック幅に
規制できるようなトラック幅規制溝を磁気コア半体の突
き合わせ面となる面の磁気ギャップ近傍となる部分に形
成する方法が提案されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記のような方法で積
層磁性膜の突き合わせ面の幅を規制した磁気コア半体を
用いて磁気ヘッドを作製する場合においても、前述のよ
うに上記磁気コア半体の積層磁性膜同士を突き合わせ、
磁気コア半体間に融着ガラスを溶融充填させて接合一体
化する。従って、トラック幅規制溝内にも融着ガラスが
溶融充填され、磁気コア半体同士がより強固に接合され
ることとなると同時に、トラック幅規制溝内において、
フェライト基板，積層磁性膜と融着ガラスは直に接する
こととなる。

【００１１】しかしながら、融着ガラスは積層磁性膜を
侵食しやすく、トラックエッジ部となる積層磁性膜のエ
ッジ部の侵食が発生すると、積層磁性膜間に形成される
磁気ギャップのトラック幅が減少し、トラック幅精度が
著しく低下してしまう。また、このようにトラック幅が
減少すると、再生出力が低下するといった不都合が生じ
る。なお、上記のような傾向は、トラック幅を１３μｍ
以下とした場合に特に顕著である。

【００１２】そこで、上記課題を解決する方法として、
特願平４−３５２８１９に示されるように融着ガラスの
粘度を１０⁴ Ｐａ・ｓ以上として磁気コア半体間への溶
融充填融着を行い、トラック幅規制溝内に溶融充填され
た融着ガラスによる積層磁性膜の侵食を防止することが
提案されている。

【００１３】ところで、上記のような磁気ヘッドの磁気
コア半体同士の接合強度は、前述のようにトラック幅規
制溝内に融着ガラスが溶融充填されていることから、溶
融充填される融着ガラスの充填状態によって決定され
る。なお、上記接合強度は、フロントギャップ側のデプ
スが１０μｍ〜３０μｍ程度であるのに対してバックギ
ャップ側のデプスが５００μｍ〜１．５ｍｍ程度である
ことからバックギャップ側の融着ガラスの充填状態によ
って決定される。

【００１４】ところが、上述のように融着ガラスの積層
磁性膜に対する侵食を防止するために融着ガラスの粘度
を１０⁴ Ｐａ・ｓ以上として溶融充填を行うと、融着ガ
ラスの粘度が高く、流れづらくなる。この時、デプスの
短いフロントギャップ側のトラック幅規制溝においては
流し込み距離が短いために融着ガラスが十分に充填さ
れ、十分な接合強度が得られるが、デプスの長いバック
ギャップ側のトラック幅規制溝においては流し込み距離
が長いために融着ガラスがその一部にしか充填されず、
ガラス不足の状態となり十分な接合強度を得ることはで
きない。従って、磁気コア同士の接合強度は十分ではな
い。

【００１５】このように、磁気コア半体同士の接合強度
が十分でないと、例えば磁気ヘッドのスライシング或い
は洗浄といった製造工程において、磁気コア半体接合部
分から折れや割れが多発し、磁気ヘッドの製造歩留りが
大きく低下する。

【００１６】そこで本発明は従来の実情に鑑みて提案さ
れたものであり、融着ガラスの積層磁性膜への侵食の発
生が抑えられ、トラック幅精度が高く、再生出力が良好
であり、また磁気コア半体同士の接合強度が高く、製造
歩留りの向上された磁気ヘッドを提供することを目的と
する。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、磁性金属薄膜が絶縁膜を介して積層され
てなる積層磁性膜を磁性フェライト材よりなる一対の基
板により膜厚方向より挟み込んでなる一対の磁気コア半
体が、上記積層磁性膜を突き合わせるように融着ガラス
により接合一体化され、これら積層磁性膜の突き合わせ
面間にフロントギャップ及びバックギャップが形成され
てなる磁気ヘッドにおいて、上記フロントギャップ，バ
ックギャップのトラック幅を規制するトラック幅規制溝
が基板及び積層磁性膜の一部を切り欠くようにして設け
られるとともに、フロントギャップ側のトラック幅規制
溝内には第１の融着ガラス、バックギャップ側のトラッ
ク幅規制溝内には第２の融着ガラスが溶融充填されてな
り、第２の融着ガラスの融点が第１の融着ガラスの融点
よりも低いことを特徴とするものである。

【００１８】また本発明は、上記のような磁気ヘッドに
おいて、溶融充填時の第１の融着ガラスの粘度η₁ が１
０⁴ Ｐａ・ｓ≦η₁ 、第２の融着ガラスの粘度η₂ が１
０³Ｐａ・ｓ≦η₂ ≦１０^3.5 Ｐａ・ｓであることを特
徴とするものである。

【００１９】さらに本発明は、上記のような磁気ヘッド
において、フロントギャップ及びバックギャップのトラ
ック幅をＴｗとしたときに、Ｔｗ≦１３μｍであること
を特徴とするものである。

【００２０】

【作用】フロントギャップ側のトラック幅規制溝内に溶
融充填される第１の融着ガラスの溶融充填時の粘度η₁
が１０⁴ Ｐａ・ｓ≦η₁ であることから、融着ガラスの
積層磁性膜への侵食の発生が抑えられ、また、バックギ
ャップ側のトラック幅規制溝内に溶融充填される第２の
融着ガラスの溶融充填時の粘度η₂ が１０³ Ｐａ・ｓ≦
η₂ ≦１０^3.5 Ｐａ・ｓであることからバックギャップ
側のトラック幅規制溝内にも融着ガラスが十分に充填さ
れ、磁気コア半体同士の接合強度が高まる。

【００２１】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。本実施例の磁
気ヘッドは、図１に示すように、積層磁性膜１，２がそ
の膜厚方向より磁性フェライト材よりなる第１の基板
３，４と第２の基板５，６によって挟み込まれてなる一
対の磁気コア半体７，８からなり、これら磁気コア半体
７，８が上記積層磁性膜１，２同士を突き合わせるよう
にして第１の融着ガラス９及び第２の融着ガラス１０に
より接合一体化されて構成されている。この時、上記積
層磁性膜１，２が断面略コ字形状をなしているため、積
層磁性膜１，２の突き合わせ面は媒体対向面側とその対
面側に形成され、媒体対向面側に形成される積層磁性膜
１，２の突き合わせ面間にはフロントギャップｇ₁ 、他
方の突き合わせ面間には図示しないバックギャップが形
成され、フロントギャップｇ₁ 側には第１の融着ガラス
９、バックギャップ側には第２の融着ガラス１０が配さ
れている。

【００２２】上記のように磁気コア半体７，８は、主コ
アとなる積層磁性膜１，２とこれを膜厚方向より挾み込
む補助コアとなる第１の基板３，４と第２の基板５，６
とから構成され、該第２の基板５，６の一主面に被着形
成される積層磁性膜１，２を挾み込むようにして第１の
基板３，４が積層されることにより接合一体化されてい
る。

【００２３】上記積層磁性膜１，２は、図２に示すよう
に、高周波特性を向上させる目的で膜厚の薄い磁性金属
薄膜１ａ，１ｂ，１ｃ及び２ａ，２ｂ，２ｃが絶縁膜１
１ｂ₁ ，１１ｂ₂ ，１２ｂ₁ ，１２ｂ₂ を介して積層さ
れてなる積層メタル膜とされている。そして、上記第２
の基板５，６と磁性金属薄膜１ａ，２ａとの界面には、
これらの付着力の向上等のために下地膜１１ａ，１２ａ
が成膜されている。

【００２４】なお、上記磁性金属薄膜１ａ，１ｂ，１ｃ
及び２ａ，２ｂ，２ｃを構成する材料としては、センダ
スト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）やＦｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ、
又はこれらにＯ，Ｎ等を添加した結晶質磁性金属材料或
いはＦｅ系又はＣｏ系の微結晶磁性金属材料等が挙げら
れる。また、上記磁性金属薄膜の膜厚は、高周波特性の
向上のために１層当たり２〜５μｍとすることが望まし
い。

【００２５】また、一方の絶縁膜１１ｂ₁ ，１１ｂ₂ ，
１２ｂ₁ ，１２ｂ₂ としては、例えばＳｉＯ₂，Ｔａ₂
Ｏ₅等の酸化物膜やＳｉ₃Ｎ₄等の窒化物膜等が使用さ
れる。上記絶縁膜の膜厚としては、例えば０．１〜０．
３μｍ程度が好ましい。

【００２６】さらに、下地膜１１ａ，１２ａには、第２
の基板５，６と磁性金属薄膜１ａ，２ａの付着力を高め
る必要性から、ＳｉＯ₂，Ｔａ₂Ｏ₅等の酸化物膜、Ｓ
ｉ₃Ｎ₄等の窒化物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金
属膜及びそれらの合金膜、或いはそれらを組合わせた積
層膜等が使用される。

【００２７】なお、本実施例においては、磁性金属薄膜
１ａ，１ｂ，１ｃ及び２ａ，２ｂ，２ｃとしてセンダス
ト膜、絶縁膜１１ｂ₁ ，１１ｂ₂ ，１２ｂ₁ ，１２ｂ₂
としてＳｉＯ₂膜を使用した。そのときの膜厚は、図２
中Ｔｗで示すフロントギャップｇ₁ 及びバックギャップ
のトラック幅を５μｍとするために、一層あたりの磁性
金属薄膜１ａ，１ｂ，１ｃ及び２ａ，２ｂ，２ｃを３μ
ｍとし、絶縁膜１１ｂ₁，１１ｂ₂，１２ｂ₁，１２ｂ₂を
０．２μｍとした。また、下地膜１１ａ，１２ａとし
て、膜厚５０ｎｍのＳｉＯ₂膜を用いた。

【００２８】また、第１の基板３，４及び第２の基板
５，６は、前述のように磁性フェライト材よりなる。上
記磁性フェライト材としては、単結晶フェライト、多結
晶フェライト、単結晶フェライトと多結晶フェライトの
接合材、面指数の異なる単結晶フェライトの接合材の何
れを用いても良い。

【００２９】さらに、上記のような第１の基板３，４と
第２の基板５，６は、図２に示すようにガラス膜１９，
２０によって接合一体化されており、第１の基板３，４
及び第２の基板５，６とガラス膜１９，２０間にはこれ
らの反応防止等のために下地膜１７ａ，１７ｂ及び１８
ａ，１８ｂが設けられている。

【００３０】上記ガラス膜１９，２０には、低融点ガラ
スをスパッタリングして形成したもの、或いはフリット
ガラスをスピンコーティング等によって塗布して形成し
たものが使用でき、その膜厚としては、０．１μｍ〜
０．５μｍが好ましい。上記下地膜１７ａ，１７ｂ及び
１８ａ，１８ｂには、磁性金属薄膜１ｃ，２ｃまたは第
１の基板３，４とガラス膜１９，２０の反応防止等を目
的として、ＳｉＯ₂，Ｔａ₂Ｏ₅等の酸化物膜、Ｓｉ₃
Ｎ₄等の窒化物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜及びこ
れらの合金膜、或いはそれらを組合わせた積層膜等が使
用できる。

【００３１】なお、本実施例においては、下地膜１７
ａ，１７ｂ及び１８ａ，１８ｂとして膜厚０．１μｍの
Ｃｒ膜を用い、ガラス膜１９，２０として膜厚０．２μ
ｍのスパッタリングによって形成したＰｂ系ガラス膜を
使用した。

【００３２】また、前述のように上記磁気コア半体７，
８の突き合わせ面、すなわち積層磁性膜１，２の突き合
わせ面間にはフロントギャップｇ₁ 及びバックギャップ
が形成されているが、これら磁気ギャップのトラック幅
Ｔｗを規制するために、上記磁気コア半体７，８の突き
合わせ部分、すなわち積層磁性膜１，２の突き合わせ面
の幅は、トラック幅規制溝１５ａ，１５ｂ，１６ａ，１
６ｂによって規制されている。

【００３３】この時、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、上記トラック幅規制溝１５ａ，１５ｂ，１６ａ，１
６ｂによる溝部のうちフロントギャップｇ₁ 側には第１
の融着ガラス９、バックギャップ側には第２の融着ガラ
ス１０が溶融充填されている。なお、上記第１の融着ガ
ラスは、第２の融着ガラスよりも高融点のガラスであ
る。そして、これら融着ガラス９，１０は、溶融充填時
の第１の融着ガラスの粘度η₁ を１０⁴ Ｐａ・ｓ≦η₁
とし、第２の融着ガラスの粘度η₂ を１０³ Ｐａ・ｓ≦
η₂ ≦１０^3.5 Ｐａ・ｓとして溶融充填されている。

【００３４】さらに、磁気コア半体７，８の突き合わせ
面側にはコイル巻装用の巻き線溝１３，１４、ガラス溝
２３，２４が設けられており、磁気コア半体７，８の接
合強度を確保するため、これらにも融着ガラス９，１０
が溶融充填されている。さらに、この磁気ヘッドにおい
ては、磁気記録媒体に対する当たりを確保するために磁
気記録媒体と摺接する磁気記録媒体摺動面に段差が設け
られるとともに、巻線溝１３，１４に形成されたコイル
の巻装状態を良好なものとなすためにこの巻線溝１３，
１４と相対向する位置に巻線補助溝２１，２２が形成さ
れている。

【００３５】このように構成された本実施例の磁気ヘッ
ドにおいては、トラック幅規制溝１５ａ，１５ｂ，１６
ａ，１６ｂによる溝部のうちフロントギャップｇ₁ 側に
溶融充填される第１の融着ガラス９の溶融充填時の粘度
η₁ が１０⁴ Ｐａ・ｓ≦η₁であることから、第１の融
着ガラス９の積層磁性膜１，２への侵食の発生が抑えら
れ、トラック幅精度を良好なものとすることができ、そ
の再生出力は良好なものとなる。また、バックギャップ
側に溶融充填される第２の融着ガラス１０の溶融充填時
の粘度η₂ が１０³ Ｐａ・ｓ≦η₂ ≦１０^3.5 Ｐａ・ｓ
であることからバックギャップ側のトラック幅規制溝１
５ａ，１５ｂ，１６ａ，１６ｂ内にも第２の融着ガラス
１０が十分に充填され、磁気コア半体７，８同士の接合
強度が高まり、製造工程中の破損等が発生しにくくな
り、製造歩留が大幅に向上する。

【００３６】次いで、前述した図１の磁気ヘッドを製造
する方法について工程順に従って説明する。先ず、図３
（ａ）に示すように、フェライト基板２５を用意し、こ
のフェライト基板２５の一主面２５ａをポリッシング加
工等によって鏡面加工する。

【００３７】次に、上記フェライト基板２５の一主面２
５ａに、マスクスパッタにより必要最小限の面積に積層
磁性膜２６，２７を帯状に所定間隔を持って平行となる
ように被着形成する。

【００３８】積層磁性膜２６，２７を形成するに際して
は、前述のようにフェライト基板２５との付着力向上等
のために、図３（ｂ）中に示されるように膜厚５０ｎｍ
のＳｉＯ₂ よりなる下地膜２８を予め形成する。そし
て、高周波特性を向上させるために、積層磁性膜２６，
２７はＳｉＯ₂ よりなる絶縁膜２９ａ，２９ｂを介して
膜厚の薄いセンダスト膜よりなる磁性金属薄膜２６ａ，
２６ｂ，２６ｃ（一方の積層磁性膜２７は図示を省略す
る。）を何層にも積層することにより形成する。なお、
積層磁性膜２６，２７の厚さは、後行程においてトラッ
ク幅規制溝を形成する必要があることから目的とする記
録トラック幅の１．２〜３倍とすることが好ましい。本
実施例の磁気ヘッドを形成するに際しては、トラック幅
５μｍの磁気ギャップを形成するために一層あたりの膜
厚０．２μｍのＳｉＯ₂ 膜よりなる絶縁膜２９ａ，２９
ｂを介して一層あたりの膜厚３μｍのセンダスト膜より
なる磁性金属薄膜２６ａ，２６ｂ，２６ｃを３層重ね
た。

【００３９】さらに、上記フェライト基板２５上の積層
磁性膜２６，２７の上に、図４に示すように（図中に
は、積層磁性膜２６のみを示す。）、下地膜３１を成膜
した後、ガラス膜３２を成膜する。本実施例において
は、下地膜３１として膜厚０．１μｍのＣｒ膜を形成
し、ガラス膜３２として膜厚０．２μｍのＰｂＯ系の低
融点ガラス膜をスパッタリングによって形成した。

【００４０】また、図５に示すように、他方のフェライ
ト基板３０上にも上記フェライト基板２５と同様に下地
膜３３，ガラス膜３４を形成する。

【００４１】そして、積層メタル膜が形成されたフェラ
イト基板２５と上記フェライト基板３０を、図６（ａ）
に示すように、互いの突合わせ面に形成されたガラス膜
３２，３４同士を突合わせ、圧着しながら、５００℃〜
７００℃に加熱する。この結果、互いの突合わせ面に形
成されたガラス膜３２，３４同士は図６（ｂ）に示すよ
うに融合する。

【００４２】なお、本実施例においては、一対のフェラ
イト基板２５，３０の両者にガラス膜３２，３４を形成
してこれらを融着させたが、フェライト基板２５，３０
の少なくとも一方のみにガラス膜を形成して融着させて
も良い。

【００４３】次に、この接合一体化された積層基板を、
作製する磁気ヘッドに付与するアジマス角と同じ角度を
持って図７中線Ａ−Ａ´，線Ｂ−Ｂ´，線Ｃ−Ｃ´で示
す位置で切断する。

【００４４】次いで、フェライトの不要部分を平面研削
盤等を用いて除去した後、各磁気コア半体ブロック４
０，４１に、図８及び図９に示すようにコイルを巻装す
るための断面略コ字状をなす巻線溝４２，４３とガラス
融着する際のガラス溝４４，４５をそれぞれの突合わせ
面に形成する。

【００４５】次に、図１０，１１に示すように上記各磁
気コア半体ブロック４０，４１に、ブロックの接合強度
を確保し、且つ磁気ギャップのトラック幅を規制するた
めのトラック幅規制溝４６ａ，４６ｂ及び４７ａ，４７
ｂを形成する。

【００４６】かかるトラック幅規制溝４６ａ，４６ｂ及
び４７ａ，４７ｂは、積層磁性膜２６，２７の両側であ
って、この積層磁性膜２６，２７に近接した位置に積層
磁性膜２６，２７の一部を切り欠くようにして、それぞ
れ断面略台形状をなす溝としてブロック全体に亘って形
成される。なお、トラック幅規制溝４６ａ，４６ｂ及び
４７ａ，４７ｂの積層磁性膜２６，２７側の一側面４６
ａ₁，４６ｂ₁及び４７ａ₁，４７ｂ₁は傾斜面となされて
おり、積層磁性膜２６，２７の突き合わせ面の幅を規制
し、磁気ギャップのトラック幅を規制するようになされ
ている。

【００４７】その結果、磁気コア半体ブロック４０，４
１の主コアとなる積層磁性膜２６，２７は断面略コ字状
をなし、積層磁性膜２６，２７の突き合わせ面は媒体対
向面側のフロントギャップ形成面２６ａ，２７ａと媒体
対向面の対面側にあたるバックギャップ形成面２６ｂ，
２７ｂのそれぞれ２箇所となる。

【００４８】次いで、積層磁性膜２６，２７の突き合わ
せ面であるフロントギャップ形成面２６ａ，２７ａとバ
ックギャップ形成面２６ｂ，２７ｂの幅が所定のトラッ
ク幅となるように各磁気コア半体ブロック４０，４１の
対向面４０ａ，４１ａをポリッシング等によって鏡面加
工する。

【００４９】そして、一方の磁気コア半体ブロック４０
の対向面４０ａ又は双方の磁気コア半体ブロック４０，
４１の対向面４０ａ及び４１ａにギャップ膜（図示は省
略する。）を形成した後、図１２に示すように、積層磁
性膜２６，２７のフロントギャップ形成面２６ａ，２７
ａ及びバックギャップ形成面２６ｂ，２７ｂ同士を突き
合わせて磁気コア半体ブロック４０，４１の記録トラッ
クの位置合わせを行い、巻線溝４２，４３間に第１の融
着ガラス４８を配し、ガラス溝４４，４５間に第２の融
着ガラス４９を配して、加圧保持しながら加熱し、溶融
充填を行う。

【００５０】前述のように、上記第１の融着ガラスは第
２の融着ガラスよりも高融点を有する融着ガラスであ
り、上記のように溶融充填を行う際には、第１の融着ガ
ラスの粘度η₁ が１０⁴ Ｐａ・ｓ≦η₁ 、第２の融着ガ
ラスの粘度η₂ が１０³ Ｐａ・ｓ≦η₂ ≦１０^3.5 Ｐａ
・ｓとなるような温度下にて行う。

【００５１】その結果、図１３に示すように、積層磁性
膜２６，２７の突合わせ面間にフロントギャップｇ₁ 及
び図示しないバックギャップが形成されるとともに、第
１の融着ガラス４８が巻線溝４２，４３間の溝部及びフ
ロントギャップｇ₁ 近傍のトラック幅規制溝４６ａ，４
６ｂ，４７ａ，４７ｂ内に溶融充填され、第２の融着ガ
ラス４９がガラス溝４４，４５間の溝部及びバックギャ
ップ近傍のトラック幅規制溝内に溶融充填され、磁気コ
ア半体ブロック４０，４１が接合一体化される。

【００５２】さらに、融着ガラス４８，４９によって接
合一体化された磁気コア半体ブロック４０，４１に、巻
線補助溝を形成した後、磁気記録媒体摺動面に円筒研磨
を行い当たり幅加工を施し、所定チップ形状となるよう
に切断する。この結果、図１に示すような磁気ヘッドが
完成する。

【００５３】そこで、本実施例の磁気ヘッドの効果を確
認すべく、以下のような実験を行った。先ず、融着ガラ
スの粘度がバックギャップ側の接合強度に及ぼす影響を
調査した。すなわち、前述のような磁気ヘッドを製造す
るに際し、溶融温度を変化させることによって融着ガラ
スの粘度を変化させて溶融充填を行い、各磁気ヘッドの
バックギャップ側の融着ガラスの充填状態を評価した。
具体的には、図１２に示すように磁気コア半体ブロック
４０，４１間に第２の融着ガラス４９を配し、所定の温
度にて溶融充填を６０分間行う。そして、必要な加工を
施して図１４に示すように形成された磁気ヘッドにおけ
るバックギャップｇ₂ 側の第２の融着ガラス４９の充填
距離Ｌを測定した。なお、融着ガラスを溶融充填する際
に所定の粘度が得られる温度での保持時間、いわゆる安
定時間は一般に６０分程度とされていることから溶融充
填時間を６０分とした。また、融着ガラスとしては表１
に示す融着ガラスＡ，Ｂ，Ｃの３種類のサンプルを用意
した。

【００５４】

【表１】

【００５５】結果を図１５に示す。この時、図１５の横
軸は溶融充填時の融着ガラスの粘度を示し、縦軸は充填
距離Ｌを示し、ガラスＡを用いた場合の結果を図中●で
示し、ガラスＢを用いた場合の結果を△で示し、ガラス
Ｃを用いた場合の結果を図中×で示す。図１５の結果よ
り、充填距離Ｌは融着ガラスの粘度によって大きく変化
することがわかった。また、一般にこの種の磁気ヘッド
のバックギャップｇ₂のデプスＤ₂ が５００μｍ程度で
あることから、バックギャップｇ₂ 側において十分な接
合強度を得るためには充填距離Ｌは５００μｍ以上であ
ることが望ましく、そのためには、溶融充填時の粘度を
１０^3.5 Ｐａ・ｓ以下とすれば良いことが確認された。

【００５６】なお、上記のようなバックギャップ側の充
填距離Ｌを長くする方法としては、溶融充填時間を延長
する方法も挙げられるが、溶融状態が長く続くと融着ガ
ラスによる積層磁性膜の侵食量が増加し、トラック幅精
度を損なうことから好ましくない。またこのような傾向
は高密度記録のために挟トラック化するとより顕著とな
り、好ましくない。

【００５７】次に、上記のような磁気ヘッドにおいて、
バックギャップ側の融着ガラスの積層磁性膜への侵食が
該磁気ヘッドの再生出力に及ぼす影響について調査を行
った。前述のように、融着ガラスの積層磁性膜への侵食
を防止するためには、溶融充填時の融着ガラスの粘度を
１０⁴ Ｐａ・ｓ以上とすることが好ましい。しかしなが
ら、バックギャップ側の接合強度を確保するためには、
溶融充填時の粘度を１０^3.5 Ｐａ・ｓ以下とすることが
必要である。そこで、バックギャップ側の溶融充填時の
融着ガラスの粘度を１０^3.5 Ｐａ・ｓ以下とした場合の
バックギャップ側の融着ガラスの積層磁性膜への侵食が
該磁気ヘッドの再生出力に及ぼす影響を調査した。すな
わち、溶融充填時のフロントギャップ側の融着ガラスの
粘度を１０⁴ Ｐａ・ｓに固定し、バックギャップ側の融
着ガラスの粘度を変化させて磁気ヘッドを形成し、各磁
気ヘッドの周波数に対する再生出力を測定した。なお、
バックギャップ側の融着ガラスの粘度を１０⁴ Ｐａ・ｓ
とした磁気ヘッドをサンプル１、１０^3.5 Ｐａ・ｓとし
た磁気ヘッドをサンプル２、１０^3.0 Ｐａ・ｓとした磁
気ヘッドをサンプル３、１０^2.5 Ｐａ・ｓとした磁気ヘ
ッドをサンプル４とし、各磁気ヘッドの再生出力はサン
プル１の再生出力を基準（０ｄＢ）とした場合の相対出
力とした。その結果、周波数７ＭＨｚにおいては表２に
示すような結果を得た。

【００５８】

【表２】

【００５９】表２の結果より溶融充填時の融着ガラスの
粘度を１０^3.0 Ｐａ・ｓ以上とすれば、バックギャップ
側の融着ガラスによる積層磁性膜の侵食のために発生す
る再生出力の低下を０．１ｄＢ以下とすることができる
ことが確認された。これは、バックギャップはフロント
ギャップと比較して形成面積が数十倍以上であるため、
バックギャップ側に積層磁性膜の侵食が多少発生しても
影響を受けにくいためと思われる。

【００６０】また、サンプル１の結果とサンプル４の結
果を図１６に示し、サンプル１の結果を図中×、サンプ
ル４の結果を図中△で示す。なお、サンプル２，３にお
いてもサンプル１と同様の結果を得ることができ、溶融
充填時の融着ガラスの粘度を１０^3.0 Ｐａ・ｓ以上とす
れば、バックギャップ側における融着ガラスによる積層
磁性膜の侵食のために発生する再生出力の低下を抑える
ことが可能となることが確認された。

【００６１】上述の実験結果より、本実施例の磁気ヘッ
ドのように、フロントギャップ側に溶融充填される第１
の融着ガラスの溶融充填時の粘度を１０⁴ Ｐａ・ｓ以上
とし、バックギャップ側に溶融充填される第２の融着ガ
ラスの溶融充填時の粘度を１０^3.0 Ｐａ・ｓ以上，１０
^3.5 Ｐａ・ｓ以下とした磁気ヘッドにおいては、フロン
トギャップ側における融着ガラスの積層磁性膜への侵食
の発生が抑えられ、トラック幅精度の低下による再生出
力の低下、バックギャップ側における接合強度不足が発
生せず、磁気コア半体同士の強度が高く、製造歩留りが
向上されることが確認された。

【００６２】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、フロ
ントギャップ側のトラック幅規制溝内に溶融充填される
第１の融着ガラスの溶融充填時の粘度η₁ が１０⁴ Ｐａ
・ｓ≦η₁ であることから、融着ガラスの積層磁性膜へ
の侵食の発生が抑えられ、トラック幅精度が向上し、再
生出力が良好となる。また、バックギャップ側のトラッ
ク幅規制溝内に溶融充填される第２の融着ガラスの溶融
充填時の粘度η₂ が１０³ Ｐａ・ｓ≦η₂ ≦１０^3.5 Ｐ
ａ・ｓであることからバックギャップ側のトラック幅規
制溝内にも融着ガラスが十分に充填され、磁気コア半体
同士の接合強度が確保され、製造歩留りが大きく向上す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ヘッドの実施例を示す斜
視図である。

【図２】図１の磁気ヘッドにおける磁気記録媒体摺動面
部分を示す要部拡大断面図である。

【図３】本発明を適用した磁気ヘッドを製造する方法を
工程順に示すもので、（ａ）はフェライト基板に積層磁
性膜を形成する工程を示す斜視図であり、（ｂ）は積層
磁性膜部分を示す要部拡大正面図である。

【図４】フェライト基板上に成膜された積層磁性膜上に
ガラス膜を成膜する工程を示す要部拡大正面図である。

【図５】フェライト基板上にガラス膜を成膜する工程を
示す要部拡大正面図である。

【図６】（ａ）は積層磁性膜が形成されたフェライト基
板と他方のフェライト基板を接合する工程を示す斜視図
であり、（ｂ）はその接合部分を拡大して示す要部拡大
正面図である。

【図７】接合一体化された積層基板を切断する工程を示
す斜視図である。

【図８】一方の磁気コア半体ブロックに巻線溝及びガラ
ス溝を形成する工程を示す斜視図である。

【図９】他方の磁気コア半体ブロックに巻線溝及びガラ
ス溝を形成する工程を示す斜視図である。

【図１０】一方の磁気コア半体ブロックにトラック幅規
制溝を形成する工程を示す斜視図である。

【図１１】他方の磁気コア半体ブロックにトラック幅規
制溝を形成する工程を示す斜視図である。

【図１２】磁気コア半体ブロック同士の接合一体化工程
を示す斜視図である。

【図１３】磁気コア半体ブロック同士を接合一体化した
状態を示す斜視図である。

【図１４】バックギャップ側の融着ガラスの充填距離Ｌ
を示す正面図である。

【図１５】融着ガラスの粘度と充填距離Ｌの関係を示す
図である。

【図１６】サンプル１とサンプル４の周波数に対する相
対出力の関係を示す図である。

【符号の説明】

１，２・・・積層磁性膜３，４・・・第１の基板５，６・・・第２の基板７，８・・・磁気コア半体９・・・第１の融着ガラス１０・・・第２の融着ガラス１５ａ，１５ｂ，１６ａ，１６ｂ・・・トラック幅規制
溝ｇ₁ ・・・フロントギャップｇ₂ ・・・バックギャップＴｗ・・・トラック幅

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁性金属薄膜が絶縁膜を介して積層され
てなる積層磁性膜を磁性フェライト材よりなる一対の基
板により膜厚方向より挟み込んでなる一対の磁気コア半
体が、上記積層磁性膜を突き合わせるように融着ガラス
により接合一体化され、これら積層磁性膜の突き合わせ面間にフロントギャップ
及びバックギャップが形成されてなる磁気ヘッドにおい
て、上記フロントギャップ，バックギャップのトラック幅を
規制するトラック幅規制溝が基板及び積層磁性膜の一部
を切り欠くようにして設けられるとともに、フロントギ
ャップ側のトラック幅規制溝内には第１の融着ガラス、
バックギャップ側のトラック幅規制溝内には第２の融着
ガラスが溶融充填されてなり、第２の融着ガラスの融点が第１の融着ガラスの融点より
も低いことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】溶融充填時の第１の融着ガラスの粘度η
₁ が１０⁴ Ｐａ・ｓ≦η₁ 、第２の融着ガラスの粘度η
₂ が１０³ Ｐａ・ｓ≦η₂ ≦１０^3.5 Ｐａ・ｓであるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】フロントギャップ及びバックギャップの
トラック幅をＴｗとしたときに、Ｔｗ≦１３μｍである
ことを特徴とする請求項１または２記載の磁気ヘッド。