JP2000020908A

JP2000020908A - 磁気ヘッド、その製造方法、および磁気記録再生装置

Info

Publication number: JP2000020908A
Application number: JP19073098A
Authority: JP
Inventors: Yoshiyasu Honma; 義康本間
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1998-07-06
Filing date: 1998-07-06
Publication date: 2000-01-21

Abstract

(57)【要約】【課題】高密度磁気記録に対応可能な狭トラックの磁気
ヘッドを提供する。さらに、この磁気ヘッドを、歩留ま
り良く、低コストで作り得る製造方法を提供する。【解決手段】磁気ギャップ材１を導電性の材料とし、ト
ラック幅ＴＷを規制する切欠部１４を放電加工により形
成することにより、ギャップ部エッジ８、９がシャープ
に形成される。それにより、磁気特性の劣化、すなわ
ち、フリンジの低減等がはかれ、実効トラック幅精度も
安定した、良好な特性の狭トラック磁気ヘッドを実現で
きる。また、高密度記録化に対応する狭トラック磁気ヘ
ッドを歩留まり良く、低コストで製造できる製造方法を
提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に対し
て記録や再生を行う磁気ヘッドに関するものであり、特
に、ディジタルＶＴＲ等に用いられる高密度記録用の磁
気ヘッドおよびその製造方法、ならびに、この磁気ヘッ
ドを用いた磁気記録再生装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ディジタルＶＴＲのように大容量の情報
信号を記録再生するには、狭トラック化や、記録波形の
短波長化という高密度磁気記録再生技術が必要となる。
高密度磁気記録再生の実現のためには、磁気記録媒体は
その保磁力を大きくすることが必要であり、また、磁気
ヘッドの方はその飽和磁束密度（以下、Ｂｓと略記す
る）を大きくすれば良いことが一般に知られている。し
かし、従来の磁気ヘッド材料として主流になっているフ
ェライト材料はＢｓが０．５Ｔ程度であって、それほど
大きくない。そのため、フェライト材料から構成された
従来の磁気ヘッドを、８０ｋＡ／ｍ以上の高保磁力を示
すメタルテ−プ等の磁気記録媒体に対して使用すると磁
気飽和が起こって、情報の記録が正しく行われないこと
がある。

【０００３】そこで、現在ではフェライト材料よりもＢ
ｓの大きい材料の、例えば、Ｂｓが約１．０Ｔのセンダ
スト合金膜や、Ｂｓが約０．８〜１．１ＴのＣｏ系アモ
ルファス膜、さらにはＢｓが１．３Ｔ以上のＣｏ系超構
造窒化合金膜、あるいは、Ｆｅ系膜（超構造窒化膜、窒
化膜等）等の新材料を用いた磁気ヘッドの研究が行われ
ている。それらの中でも、特に、主コアがフェライト
（特に単結晶）からなり、少なくとも磁気記録媒体との
摺動面となるフロント部の磁気ギャップの両側に磁性薄
膜を配置した複合型磁気ヘッド、いわゆるメタルインギ
ャップヘッド（以下、ＭＩＧヘッドと略称する。）の研
究が盛んに行われている。

【０００４】図１９は、従来のＭＩＧヘッドの構造の一
例を示す斜視図である。図１９に示すように、従来のＭ
ＩＧヘッド５００では、一対の凸状の磁性体コア５０
２、５０３が、磁気ギャップ材５０１（以下、単にギャ
ップ材と称する。）を介して対向配置されている。磁性
体コア５０２、５０３は、それぞれフェライトからなる
凸状のコア本体５０４、５０５と、そのコア本体５０
４、５０５のそれぞれの表面に形成された高い飽和磁束
密度を有する磁性薄膜５０６、５０７とから構成されて
いる。そして、磁性薄膜５０６、５０７は、コア本体５
０４、５０５の、ギャップ材５０１に面した突出端面
と、これに続く両側面とを覆うように形成されている。
また、ギャップ材５０１の材料には非磁性膜のＳｉ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅等が用いられている。さらに、
このように突き合わされて配置された磁性体コア５０
２、５０３は、その両側に設けられた一対のガラス質ブ
ロック５０８、５０９によって相互に結合されている。
これらのガラス質ブロック５０８、５０９は、このＭＩ
Ｇヘッド５００の磁気記録媒体との摺動面における摺動
に対する強度を向上させる効果もある。また、このＭＩ
Ｇヘッド５００の中央付近にはコイル挿通用の巻線窓５
１０が設けられている。

【０００５】上述したＭＩＧへッドは、磁性体コア５０
２、５０３の突き合わせ精度等の製造上の誤差による位
置ずれにより、トラック幅を決めるギャップ部の長さ
（以下、ギャップ長と略記する）の精度が低下する。ま
た、ギャップエッジでの磁束の漏れ、いわゆるフリンジ
が増大するために、歩留まりの低下を引き起こしてい
た。さらにギャップエッジが直角でないため、ギャップ
エッジの端を一義的に決定することができず、組立時の
ヘッド高さ調整工程においても正確な位置決めが困難で
あり、ここでも歩留の低下を引き起こしていた。

【０００６】この問題を解決するために、特開平７−２
２０２１８号公報の例では、図２０に示すように、磁性
体コアの磁気記録媒体との摺動面において、磁気ギャッ
プ材６０１を含むギャップ部の長手方向の長さであるギ
ャップ長を所定値にするために凹状部６４０に、切欠部
６１３、６１４を設けた磁気ヘッド６００が示されてい
る。これにより、磁性体コア６０３、６０２の突き合わ
せ精度の影響によるギャップエッジのずれがなくなり、
トラック幅の精度が向上し、かつ、ギャップエッジでの
磁束の漏れ、いわゆるフリンジも大幅に低減する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この磁
気ヘッド６００においては、ギャップ材６０１の材料と
磁性膜６０６、６０７の材料との性質が異なるため、切
欠部６１４の加工時に、異質材料の接合界面における加
工量に差ができていた。ギャップエッジを拡大して見る
と、図２１に示すように、切欠部６１４とギャップ材６
０１の境界部分、すなわちギャップエッジにおいて、磁
性体コア６０２、６０３の磁性膜６０６、６０７のエッ
ジ部７００が、０．１５〜２μｍ程度の曲率半径で丸く
なっていた。なお、この切欠部６１４に充填するガラス
質ブロックと、磁性膜６０６、６０７、およびギャップ
材６０１との間で生じる加熱充填時における反応を防止
するために、反応防止膜６２０が形成されている。この
エッジ部７００が丸くなることにより、わずかではある
が、前述したような、磁束の漏れ、すなわちフリンジが
発生し、特性劣化を引き起こすという問題があり、さら
なる改善が望まれていた。

【０００８】本発明の目的は、上記の問題点を解決する
ために、従来例を示す図２１でのギャップ材の端部近傍
における両磁性膜の縁をほぼ直角にすることにより、磁
束の漏れをなくし、フリンジによる特性劣化をなくし、
磁気記録の高密度化に対応できるようにした高性能の磁
気ヘッドを提供することにある。また、本発明の別の目
的は、高性能な磁気ヘッドを、歩留まり良く、低コスト
で作製できる製造方法を提供することにある。そして、
本発明のさらに別の目的は、この磁気ヘッドを用いて、
狭トラックピッチに適した高密度磁気記録再生装置を提
供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の磁気ヘッドは、非磁性のギャップ材を介し
て対向配置され、トラック幅を決めるギャップ部の長さ
（以下、ギャップ長と略記する）をあらかじめ所定値に
する凸状部が設けられ、前記凸状部の突出端面には磁性
膜が被着形成されている一対の磁性体コア半体と、前記
一対の磁性体コア半体を相互に結合するために、前記一
対の磁性体コア半体を対向配置して形成される両側の凹
部に設けられた一対のガラス質ブロックとからなり、前
記一対の磁性体コア半体の磁気記録媒体との摺動面に磁
気ギャップの両端部の前記磁性膜領域に形成した切欠部
を有する磁気ヘッドにおいて、前記ギャップ材が導電性
材料であり、かつ、前記切欠部にギャップ材が露出する
領域における前記切欠部の表面粗さが、その切欠部の磁
性膜上の表面粗さ以下であることを特徴とする。ギャッ
プ材に導電性材料を用いることにより、切欠部を形成し
たとき、切欠部におけるギャップ材のエッジ部における
両磁性膜の縁がほぼ直角になる。その結果トラックエッ
ジにおける磁束の漏れがなくなり、フリンジによる特性
劣化を防ぐことができる。

【００１０】また、本発明の他の観点による磁気ヘッド
は、磁性膜と電気絶縁膜との積層膜から構成される磁性
体コア半体を非磁性のギャップ材を介して突き合わせた
一対の磁性体コア半体と、前記一対の磁性体コア半体の
磁気記録媒体との摺動面において、磁気ギャップ長を所
定の長さにする切欠部を磁気ギャップの両端部に有する
積層形の磁気ヘッドにおいて、少なくとも前記切欠部に
はガラス質ブロックが充填されており、かつ、前記ギャ
ップ材が導電性材料であり、かつ、前記切欠部に前記ギ
ャップ材が露出する領域における前記切欠部の表面粗さ
が、その切欠部の磁性膜上の表面粗さ以下であることを
特徴とする。このような構成により、積層形の磁気ヘッ
ドにおいても切欠部におけるギャップ材のエッジ部にお
ける両磁性膜の縁がほぼ直角になる。その結果トラック
エッジにおける磁束の漏れがなくなり、フリンジによる
特性劣化をなくすことができる。

【００１１】上述した２つの構成の磁気ヘッドにおい
て、前記ギャップ材は複数の非磁性膜が積層されている
のが好ましい。さらに、前記切欠部が放電加工により形
成されるのが好ましい。さらに、前記ギャップ材を構成
するすべての材料の体積抵抗率が、磁性膜の体積抵抗率
以下であるのが好ましい。さらに、前記切欠部が巻線溝
にまで至るものであるのが好ましい。さらに、上述のよ
うな構成上の特徴を有する磁気ヘッドを用いることによ
り、狭トラックピッチに適した高密度磁気記録再生装置
が提供できる。

【００１２】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、
あらかじめ凸状部が設けられた各々の突出端面に磁性膜
が被着形成されている一対の磁性体コア半体の突出端面
同士を、導電性を有するギャップ材を介して、前記一対
の磁性体コア半体の磁性膜が電気的につながった状態に
突き合わせて接合する第一の工程と、放電加工により、
一方の磁性体コアの磁性膜からギャップ材に至り、そし
て、もう一方の磁性体コアの磁性膜に至る切欠部を磁気
ギャップの両端部に一つずつ形成して、磁気ギャップの
長さを所定値にする第二の工程と、前記切欠部の表面に
反応防止膜を被着形成する第三の工程と、少なくとも磁
気記録媒体との摺動面となるフロント部両側の凹部、お
よびフロント部の切欠部にガラス質ブロックを熱処理に
より充填する第四の工程とを備えたことを特徴とする。
このような製造方法により、切欠部におけるギャップ材
のエッジ部における両磁性膜の縁をほぼ直角に加工でき
るため、トラックエッジにおける磁束の漏れがなくな
り、フリンジによる特性劣化をなくした磁気ヘッドを作
製することができる。

【００１３】本発明の他の観点による磁気ヘッドの製造
方法は、あらかじめ凸状部が設けられた各々の突出端面
に磁性膜が被着形成されている一対の磁性体コア半体の
突出端面同士を、導電性を有するギャップ材を介して突
き合わせる第一の工程と、前記一対の磁性体コア半体を
突き合わせた状態で、加圧熱処理して、前記ギャップ材
で接合し、前記一対の磁性体コア半体の磁性膜を電気的
につながった状態にする第二の工程と、放電加工によ
り、一方の磁性体コア半体の磁性膜からギャップ材に至
り、そして、もう一方の磁性体コア半体の磁性膜に至る
切欠部を磁気ギャップの両端部に形成して、磁気ギャッ
プの長さを所定値にする第三の工程と、前記切欠部表面
に反応防止膜を被着形成する第四の工程と、少なくとも
磁気記録媒体との摺動面となるフロント部両側の凹部、
およびフロント部の切欠部にガラス質ブロックを熱処理
により充填する第五の工程とを備えたことを特徴とす
る。

【００１４】このような製造方法により、切欠部におけ
るギャップ材のエッジ部における両磁性膜の縁をほぼ直
角に加工できるため、トラックエッジにおける磁束の漏
れがなくなり、フリンジによる特性劣化をなくした磁気
ヘッドを作製することができる。また、一対の磁性体コ
ア半体がギャップ材で接合されているため、バックガラ
ス質ブロックによる接合工程を省略することができる。

【００１５】本発明のさらに他の観点による磁気ヘッド
の製造方法は、磁性膜と電気的絶縁膜との積層膜から構
成される一対の磁性体コア半体を導電性を有するギャッ
プ材を介して電気的につながった状態に突き合わせ接合
する第一の工程と、放電加工により、一方の磁性体コア
半体の磁性膜からギャップ材に至り、そして、もう一方
の磁性体コア半体の磁性膜に至る切欠部を磁気ギャップ
の両端部に形成して、磁気ギャップの長さを所定値にす
る第二の工程と、前記切欠部表面に反応防止膜を被着形
成する第三の工程と、少なくとも磁気記録媒体との摺動
面となるフロント部両側の切欠部にガラス質ブロックを
熱処理により充填する第四の工程とを備えたことを特徴
とする。このような製造方法により、切欠部におけるギ
ャップ材のエッジ部における両磁性膜の縁をほぼ直角に
加工できるため、トラックエッジにおける磁束の漏れを
なくし、フリンジによる特性劣化をなくした磁気ヘッド
を作製することができる。

【００１６】本発明のさらに他の観点による磁気ヘッド
の製造方法は、磁性膜と電気的絶縁膜との積層膜から構
成される一対の磁性体コア半体を導電性を有するギャッ
プ材を介して突き合わせる第一の工程と、前記一対の磁
性体コア半体が突き合わせた状態で、加圧熱処理し、前
記ギャップ材で接合し、前記一対の磁性体コア半体を電
気的につながった状態にする第二の工程と、放電加工に
より、一方の磁性体コアの磁性膜からギャップ材に至
り、そして、もう一方の磁性体コアの磁性膜に至る切欠
部を磁気ギャップの両端部に一つずつ形成して、磁気ギ
ャップの長さを所定値にする第三の工程と、前記切欠部
表面に反応防止膜を被着形成する第四の工程と、少なく
とも磁気記録媒体との摺動面となるフロント部両側の切
欠部にガラス質ブロックを熱処理により充填する第五の
工程とを備えたことを特徴とする。

【００１７】このような製造方法により、切欠部におけ
るギャップ材のエッジ部における両磁性膜の縁をほぼ直
角に加工できるため、トラックエッジにおける磁束の漏
れをなくなり、フリンジによる特性劣化をなくした磁気
ヘッドを作製することができる。また、両磁性体コアが
ギャップ材で接合されているため、バックガラス質ブロ
ックによる接合工程を省略することができる。

【００１８】上述した４つの磁気ヘッド製造方法におい
て、前記ギャップ材が複数の非磁性膜が積層されてなる
のが好ましい。さらに、前記ギャップ材を構成するすべ
ての材料の体積抵抗率が、磁性膜の体積抵抗率以下であ
るのが好ましい。さらに、前記切欠部が巻線溝にまで至
っているのが好ましい。さらに、上述のような特徴を有
する磁気ヘッドの製造方法により製造された磁気ヘッド
用いて、狭トラックピッチに適した磁気記録再生装置を
提供することができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気ヘッドの好適
な実施例について、添付の図１ないし図１８を参照しつ
つ説明する。《実施例１》図１は、図２のＡで囲んだ部分を拡大し
た、実施例１の磁気ヘッドのギャップ部の部分拡大図を
示す。図２において、ギャップ材１をはさんで形成され
るギャップ部の長さＴＷを「ギャップ長」という。理解
を容易にするために、図１、図２におけるギャップ部の
幅は実際の磁気ヘッドのものよりも大きく図示してい
る。実施例１の磁気ヘッドが、図２０および図２１に示
した従来の磁気ヘッド半体と基本的に異なるところは、
切欠部１４における磁性膜６、７のエッジ部８、９が略
直角になっていて、切欠部１４の磁性膜６、７上の表面
１０の粗さと、その切欠部１４にギャップ材１が露出す
る部分の表面５０の粗さとが同じにされている点であ
る。この表面粗さはほぼＲmax０．１μｍ以下である。
切欠部１４のガラス質ブロック３０と磁性膜６、７との
界面には反応防止膜４０が設けられている。

【００２０】図２に全体の形状を示すように、磁気ヘッ
ド１００は、ギャップ材１を介して対向配置された一対
の凸状の磁性体コア半体１１、１２をガラス質ブロック
３０により接合してなるものである。図２において、ギ
ャップ材１を有する磁気ギャップの長手方向は磁気ヘッ
ドの外形に対してアジマス角だけ斜めになされている。
各凸状の磁性体コア半体１１、１２は、その大部分がフ
ェライトからなっていて、コア本体１７、１８の突出端
面、およびこれに続く両側面をそれぞれ高飽和磁束密度
の磁性膜６、７で覆っている。磁性体コア半体１１、１
２には、磁性膜６、７の側面からくい込んで、前記磁性
膜６、７のみを磁気ギャップの端部近傍において、低部
の曲率半径がやや大きい略円弧状に切り込んだ切欠部１
３、１４が設けられている。前記切欠部１３、１４によ
って磁気ヘッドの磁気記録媒体との摺動面での磁気ギャ
ップ長ＴＷを所定値にする。尚、この切欠部１３、１４
は、円弧状であってもよいが、磁気ギャップの長手方向
に平行な部分を持たない形状が望ましい。

【００２１】ギャップ材１は導電性の材料からなる。た
とえば磁性膜６，７がＦｅ系膜で抵抗率が７０μΩ・ｃ
ｍであれば、前記ギャップ材１はそれよりも抵抗率の低
い材料が望ましい。その場合、金属材料が好適である。
たとえば、Ａｕ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ａｇ及びこれらの合金等
が使用できる。ギャップ材１を金属にすると、磁性膜
６、７とギャップ材１との光の反射率等の光学的な差が
なくなり磁気ギャップ材の視認が困難になる問題が発生
する。この場合はギャップ材１を、ＳｉＯ₂やＡｌ₂Ｏ₃
と金属の材料とが粒状で混合しているグラニュラー構造
にし、視認を可能にすることもできる。前記ギャップ材
１を金属材料にすることにより、後で詳細に説明するよ
うに、図１で示した切欠部１４の磁性膜６、７のエッジ
部８、９が略直角になり、切欠部１４の磁性膜６、７上
の表面１０の粗さと、その切欠部１４にギャップ材１が
露出する部分の表面５０の粗さとを同じにすることがで
きる。この場合の表面粗さは、ほぼＲmax０．１μｍ以
下である。

【００２２】尚、磁性膜６、７と前記ガラス質ブロック
３０との界面には、反応防止膜４０が設けられているの
で、磁性膜６、７、およびギャップ材１と、切欠部１４
に充てんされるフロントガラス質ブロック３０とが反応
することがない。従ってエッジ部が丸くなることがな
く、磁界の分布においても明瞭な境界を有する磁気ヘッ
ドを提供できる。

【００２３】ここで、前記ギャップ材１として金属材料
を用いることにより、図１で示したように、切欠部１４
の両磁性体コア半体１１、１２の突き合わせ部の磁性膜
６、７のエッジ部８、９が略直角になる理由について詳
細に述べる。切欠部１４は、一般には、放電加工により
形成される。放電加工は放電により、被加工物を溶融し
て加工するものである。切欠部１４の面を滑らかに形成
するためには、放電加工をする際に、前記磁性膜６、７
と磁気ギャップ材１とが、同電位になることが望まし
い。同電位にすると放電が均一化され、切欠部１４の磁
性膜６、７上の表面１０の粗さと、切欠部１４内で磁気
ギャップ材１が露出する部分の近傍の表面５０の粗さと
が同じなる。ギャップ材１の抵抗率が磁性膜６、７の抵
抗率よりも高い場合には、放電が磁性膜６、７のエッジ
に集中し、図１９に示した従来の磁気ヘッドのように磁
性膜のエッジ７００が丸まってしまうことになる。これ
は、従来の磁気ヘッドは、ギャップ材６０１としては主
にＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂０₅、ガラス等の酸化物が用
いられており、これらの抵抗率が磁性膜５０６、５０７
の抵抗率に比べて非常に高いためである。

【００２４】以上詳述したように、実施例１の磁気ヘッ
ドは、高い精度で磁気ギャップ長ＴＷを規制することが
可能になる。それにより、高密度記録における、狭トラ
ック化に適した磁気ヘッドを歩留まり良く、低コストで
得ることができる。しかも、エッジ部が略直角であるの
で、記録再生におけるフリンジも大幅に低減できる。さ
らに、この磁気ヘッドを用いることにより、デジタルＶ
ＴＲに適した高密度記録再生装置を提供できる。

【００２５】磁性膜６、７の材質としては、センダスト
合金膜やＣｏ系アモルファス膜、Ｃｏ系超構造窒化膜、
Ｆｅ系超構造窒化膜、Ｆｅ系窒化膜等が使用可能であ
る。これらは、蒸着、イオンプレーティング、スパッタ
リング等の真空薄膜形成技術によって、コア半体１７、
１８に付設される。また、ギャップ材１も同様に真空薄
膜形成技術で磁性膜６、７の少なくともどちらか一方に
付設される。

【００２６】上記実施例の磁気ヘッドは、切欠部１３、
１４を放電加工により形成した場合に効果が高いが、レ
ーザー等の他の加工法を用いた場合にも効果が得られる
ものである。これは、ギャップ材１が、磁性膜６、７に
より近い金属材料であるために、加工量を同等にできる
からである。反応防止膜４０の形成は切欠部１３、１４
の表面のみでもかまわないし、図２に示すように、切欠
部以外の部分、すなわち磁性膜６、７とガラス質ブロッ
ク３０の界面全域にわたって形成してもよい。また、ガ
ラス質ブロック３０の成分によっては、この反応防止膜
４０をなくすことも可能である。これは、本実施例のギ
ャップ材１が金属材料であることによるものである。従
来のギャップ材はＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂０₅、ガラス
等が用いられているがこれらと、同質の材料であるガラ
ス質ブロック３０が磁気ギャップ材１を浸食するため、
反応防止膜４０は必要不可欠であった。

【００２７】次に、本発明の実施例１の磁気ヘッドの製
造方法について、図４〜図１０を参照して説明する。ま
ず、表面をラップ処理等により所望の平行度と平滑度を
有するように加工した、例えば、Ｍｎ−Ｚｎフェライト
よりなる一対の基板を用意する。それぞれの基板には、
図４に示すように、互いに平行なギャップ長を大略の値
にするための溝１７ａ、１８ａが、回転砥石等により形
成され、これによって、一対のフェライト製のコア半体
１７、１８ができあがる。尚、コア半体１７、１８の少
なくとも一方にはコイル挿通用の巻線溝２２が設けられ
る。

【００２８】次に、図５に示すように、コア半体１７、
１８の突き合わせる側の面に、高飽和磁束密度の磁性膜
６、７が、真空薄膜形成技術によって、それぞれに被着
形成され、これによって一対の磁性体コア半体１１、１
２が完成する。磁性膜６、７としては、センダスト合金
膜やＣｏ系アモルファス膜、Ｃｏ系超構造窒化膜、Ｆｅ
系超構造窒化膜、Ｆｅ系窒化膜等が使用可能である。こ
れらは、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング
等の真空薄膜形成技術によって形成される。

【００２９】次に、磁性体コア半体１１、１２のいずれ
か一方、または、双方に、磁気ギャップを形成するため
の、膜状のギャップ材１が付設される。そして、このギ
ャップ材１をはさんで、磁性体コア半体１１と１２が、
図６に示すように、対向配置される。この時、ギャップ
材１は導電性のものを用いる。ギャップ材１の抵抗率
は、前記磁性膜６、７の抵抗率以下であるのが望まし
い。ギャップ材１の材料としては、Ａｕ、Ｃｒ、Ｐｔ、
Ａｇ及びこれらの合金等の金属を用いることができる。

【００３０】次に、図７において、磁性体コア半体１１
と１２の下部の突き合わせ部Ｂ（以下、バック突き合わ
せ部Ｂという）を接着するためのバックガラス棒２３を
巻線溝２２に挿入し、熱処理によってガラスを溶融させ
て、磁性体コア半体１１と１２を溶着する。この時、上
部の突き合わせ部Ｆ（以下、フロント突き合わせ部Ｆと
いう）において、磁性体コア半体１１と１２の磁性膜６
と７とが導電性のギャップ材１を挟んで、電気的につな
がっていることが必要である。図８に示すように、バッ
ク突き合わせ部Ｂがバックガラス質ブロック３１で溶着
された状態にある磁性体コア半体１１、１２において、
放電電極２５を孔５５に挿入し、各々のフロント突き合
わせ部Ｆのギャップ材１の端部に近づけて放電を発生さ
せ、切欠部１４を形成する。切欠部１３も上記と同様の
方法で形成される。これにより、上面で所定のギャップ
長ＴＷを維持した状態で巻線溝２２にいたる切欠部１
３、１４が形成される。

【００３１】この時、図９の拡大図に詳細に示すよう
に、磁性膜６、７とギャップ材１とが電気的につながっ
ている。そのため、放電加工する際に、放電電極２５と
切欠部１４との間の放電が均一になり、フロント突き合
わせ部Ｆの磁性膜６、７のエッジ部８、９がほぼ直角に
なるように加工される。また、前記切欠部１４の磁性膜
上の表面１０の粗さと、切欠部１４に露出するギャップ
材１と近傍の表面５０の粗さとが同じになる。

【００３２】この際、図８に示すように、放電電極２５
を円柱形状にし、回転させながら放電加工をすることに
より、電極の摩耗が均一になる。また、放電電極２５の
たわみも発生しないため、切欠部１３、１４の形状が一
定になる。放電電極２５は直径が５μｍから３０μｍ程
度のものを使用するのが好ましい。直径が５μｍ未満で
は電極の強度がなくなり、加工中に折損しやすい。ま
た、３０μｍを越えたものでは、形状による絞り込み効
果の低下により電磁変換特性の劣化を生じる。すなわ
ち、磁性膜６、７の膜厚をかなり厚くしないとコア本体
にまで切欠部が至る場合があり、コア本体や磁性膜の界
面に損傷を与えるおそれがあるので好ましくない。また
膜厚を厚くすると磁性膜６、７の渦電流損失により、電
磁変換特性の劣化を引き起こす。放電電極２５の直径
は、１０〜２０μmが適当である。放電加工では、一般
には絶縁オイル中で加工するが、純水中で加工すること
もできる。この場合は、後工程で、絶縁オイルの洗浄を
行う必要がなく、工程を簡略化できる。さらに、表面粗
さもエッチング効果により向上する。

【００３３】次に、形成された切欠部１３、１４の表面
に反応防止膜４０を形成する。反応防止膜４０の素材と
しては、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｔａ₂０₅、ガラス、Ｃｒ、
Ｃｒ酸化物あるいはこれらの複合体等を用いることがで
きる。成膜方法としては、一般にスパッタリングが用い
られる。スパッタリングでは、フロント突き合わせ部Ｆ
の上面からしかスパッタリングができないため、図８に
おいて縦の溝として形成された切欠部１３、１４の表面
に適正な膜質、膜厚で成膜することが難しい。すなわち
スパッタリングの場合ターゲットに対して垂直の面には
粒子が到達しにくいため、膜厚の制御が難しく、また、
膜の組成もターゲットと異なるものになりやすい。この
問題は、溶着された一対の磁性体コア半体１１、１２を
ターゲットに対して適当に傾けることによりかなり改善
できる。さらに、乾式の方法ではプラズマＣＶＤ、湿式
の方法では、ディッピング、めっき等の手段を用いれ
ば、上記の問題も解決でき、さらに良好に成膜できる。

【００３４】次に、図１０に示すように、各フロント突
き合わせ部Ｆ間の孔５５にフロントガラス質ブロック３
０を熱を加えて充填する。切欠部１３、１４および磁性
膜６、７とフロントガラス質ブロック３０との境界面
に、図９に示すように、反応防止膜４０があるのでギャ
ップ材１および磁性膜６、７とフロントガラス質ブロッ
ク３０とが反応することがなく、図２１に示すようなギ
ャップエッジの広がりも発生せず、磁界の分布において
も明瞭な境界を有する磁気ヘッドを提供できる。

【００３５】さらに、図６の工程で、ギャップ材１を貴
金属系のもの、例えば、ＡｕやＰｔ等にしておけば、熱
圧着により磁性体コア１１と１２とを溶着する事ができ
る。このようにすれば、バック突き合わせ部Ｂを溶着接
合するガラス棒２３の熱処理工程が省略できる。すなわ
ちバックガラス質ブロック３１とフロントガラス質ブロ
ック３０とを同時に熱処理して、充填することができ
る。さらに、この場合には、図８に示すバック突き合わ
せ部Ｂの長さＬを長くすることで、ギャップ材１の接着
強度を増加させ、バックガラス質ブロック３１を不要に
することも可能である。すなわち、バック突き合わせ部
Ｂの面積を大きくすることで、その部分の熱圧着のみで
十分な磁気ヘッドの接合強度が得られるわけである。最
後に、図１０に示すように、一点鎖線に沿って切断し、
３個の磁気ヘッドチップが得られる。各ヘッドチップの
巻線溝２２の部分に巻線を施して磁気ヘッドが完成す
る。

【００３６】上述したように、本実施例は特に、狭ギャ
ップ、狭トラックＭＩＧヘッドを得るのに有効である
が、比較的トラック幅の広い磁気ヘッドにも適用できる
ものであり、ギャップ材のエッジの精度改善により、磁
気ヘッドの性能向上、および製造歩留まり向上を実現す
るものである。

【００３７】《実施例２》本発明の実施例２の磁気ヘ
ッドは、いわゆる積層型の磁気ヘッドに関するものであ
り、図３および図１１を参照して説明する。図３に示す
ように、積層型の磁気ヘッドは、磁性膜６０と電気的絶
縁膜６１とを交互に積層した積層膜から構成される磁気
コア半体７０、７１の両側をそれぞれの非磁性の基板８
０、８１で補強したものを、ギャップ材１を介して対向
配置し、ギャップ材１を含む磁気ギャップ部の両側をガ
ラス質ブロック９０により接合してなるものである。磁
気ギャップ部においては、磁気コア半体７０、７１の側
面から前記磁性膜６０を、円弧上に切り込み切欠部１
３、１４を形成する。前記切欠部１３、１４によって、
磁気ヘッドが接する磁気記録媒体の摺動面でのトラック
幅を規定する磁気ギャップ長ＴＷが定まる。

【００３８】尚、この切欠部１３、１４は、必ずしも円
弧状である必要はないが、磁気ギャップ部の長手方向に
平行な部分を持たない形状が望ましい。また、このギャ
ップ材１は導電性の材料からなる。たとえば磁気コア半
体７０、７１を構成する磁性膜６０がＦｅ系膜で抵抗率
が７０μΩ・ｃｍであれば、前記ギャップ材１はそれよ
りも抵抗率の低い材料が望ましい。その場合、金属材料
が好適である。例えば、Ａｕ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ａｇ等が使
用できる。

【００３９】ギャップ材１を金属にすると、ギャップ材
１と磁性膜６０との光の反射率等の光学的な差がなくな
り、磁気ギャップの視認が困難になるという問題が発生
する。これに対処するため、ギャップ材１をＳｉＯ₂や
Ａｌ₂Ｏ₃と金属系の材料とのグラニュラー構造にし、視
認可能にすることもできる。前記ギャップ材１を金属材
料にすることにより、図１１に詳細に示すように、切欠
部１３における磁性膜６０の各々のエッジ部８、９が略
直角になり、切欠部１３の磁性膜６０上の表面１０の粗
さと、切欠部１３に露出するギャップ材１の部分の表面
５０の粗さとを同じにすることができる。この場合の表
面粗さはほぼＲmax０．１μｍ以下である。

【００４０】切欠部１３には後工程でガラス質ブロック
が設けられるが、磁性膜６０と前記ガラス質ブロック９
０との境界には、反応防止膜４０が設けられているの
で、磁性膜６０とフロントガラス質ブロック９０が反応
することがなく、トラックエッジの広がりも発生せず、
磁界の分布においても明瞭な境界を有する磁気ヘッドを
提供できる。切欠部１３は、電気的絶縁膜６１から離れ
ているのが望ましい。そうすることによって、切欠部１
３の面粗さが均一化される。

【００４１】以上述べたように本実施例の積層型の磁気
ヘッドにおいても、第１の実施例のＭＩＧ型ヘッドと同
様に、高い精度でトラック幅を決めるギャップ長ＴＷを
所定の長さに規制することが可能になる。これにより、
高密度磁気記録における狭トラック化に適した磁気ヘッ
ドを歩留まり良く、低コストで製造することができる。
また、エッジ部が略直角になるので、記録再生フリンジ
も低減できる。さらに、その磁気ヘッドを用いることに
より、デジタルＶＴＲに適した高密度記録再生装置を提
供できる。

【００４２】次に、この積層型の磁気ヘッドの製造方法
について、図１２〜図１６を参照して説明する。まず、
図１２に示すように、表面をラップ処理等により、所望
の平行と平滑度を有するように加工した非磁性基板８０
の片面に、磁気コア半体となる磁性膜６０と電気的絶縁
膜６１とを、スパッタ等の真空薄膜形成技術により、交
互に形成し短冊状の基板９１を作製する。次に、図１３
に示すように、短冊状基板９１の両面に、図示しない接
合膜を形成した後、いくつかの短冊状基板９１を重ね
て、加圧固定し、熱処理して一体化させ、コア基板９２
を作製する。次に、このコア基板９２を、図１４に示す
ように、Ａ−Ａ、Ｂ−Ｂのラインに沿って切断し、図１
５に示すような磁気コアブロック９４を多数作製する。

【００４３】次に、図１６に示すように、各磁気コアブ
ロック９４の１つの側面に溝９６を回転砥石等で形成す
る。その溝９６は積層された磁性膜６０の両側にその磁
性膜６０に接するか、もしくは食い込むように形成され
る。図３に示す磁気ヘッドは、食い込むように溝が形成
されたものである。溝９６を形成したとき、残部の磁性
膜６０の幅はトラック幅の大略値を決めるギャップ長と
なる。さらに、この磁気コアブロック９４の少なくとも
一方には、コイル挿通用の巻線溝８２が形成される。次
に、一対の磁気コアブロック９４、９４の対向面のいず
れか一方、または双方に、磁気ギャップを形成するため
の膜状のギャップ材１が付設される。そして、このギャ
ップ材１を介して一対の磁気コアブロック９４、９４が
溝９６同士が対向するように配置される。この時、ギャ
ップ材１は導電性のものを用いる。ギャップ材１の抵抗
率は、磁性膜６０の抵抗率以下が望ましい。ギャップ材
１の材料としては、Ａｕ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ａｇ等の金属を
用いることができる。

【００４４】これ以後の工程は、前述した実施例１の磁
気ヘッドの製造方法と全く同じである。つまり、図６以
降の工程を経て、積層型の磁気ヘッドが完成されること
になる。

【００４５】以上詳述したように、実施例２の積層型の
磁気ヘッドにおいても、磁気ギャップのエッジ部におい
て、図１１に詳細に示すように、切欠部１３の磁性膜６
０のエッジ部８、９が略直角になり、切欠部１３の磁性
膜６０上の表面１０の粗さと、その切欠部１３に露出す
るギャップ材１の表面５０の粗さとを同じにすることが
できる。この場合の表面粗さはほぼＲmax０．１μｍ以
下である。

【００４６】尚、磁性膜６０と前記ガラス質ブロック９
０との界面には、反応防止膜４０が設けられているの
で、磁性膜６０とフロントガラス質ブロック９０が反応
することがない。したがって、トラックエッジの広がり
も発生せず、磁界の分布においても明瞭な境界を有する
積層型磁気ヘッドを提供できる。尚、この場合切欠部１
３は、電気的絶縁膜６１からはなれていることが望まし
い。そうすることによって、切欠部１３の面粗さが均一
化される。

【００４７】《実施例３》本発明の磁気ヘッドを用い
た磁気記録再生装置を実施例３として添付の図１７およ
び図１８を参照して説明する。この磁気記録再生装置に
おいては、図１７に示すように、磁気テープ３４は矢印
３４Ａの方向に走行しながら、ヘリカル走査する回転シ
リンダ３３に取り付けられた磁気ヘッド３２に接触し、
磁気テープ３４上に信号が記録再生される。信号は信号
処理回路３８により信号処理され、ステレオ音声信号、
ビデオ映像信号となる。信号は、図１８に示すように、
磁気テープ３４上に記録される。記録パターン６５は、
磁気テープ３４の長手方向に対して、ある角度をもち、
斜めに記録されることになる。ＴＰはテープ上のトラッ
ク幅を示す。

【００４８】本実施例の磁気記録再生装置に用いる磁気
ヘッドは、狭トラックで、トラックエッジが略直角であ
るため、フリンジ等のエッジでの磁束のにじみによる隣
接トラックへの誤記録も発生しない。つまり、図１８に
示すように、隣接する記録パターン６５によるデーター
抜けが生じるトラック間の間隙ｄがほとんど発生するこ
とがなく、磁気テープ３４上での実効トラック幅が広く
なり、高密度記録に非常に有利になるものである。ま
た、回転シリンダ３３に本発明の磁気ヘッド３２を取り
付ける際、エッジが略直角であるため、磁気ヘッド３２
のトラック端を一義的に決定することができ、トラック
高さ調整を精度良く行うことができる。

【００４９】尚、本発明は上述した実施例のみに限定さ
れるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種
々の変更を加えることができる。例えば、ハードディス
ク装置等の磁気デスクを用いた磁気記録再生装置用の磁
気ヘッドにも適用できる。

【００５０】

【発明の効果】本発明によれば、磁気ギャップ材を導電
性にし、トラック幅を決める磁気ギャップ長を所定値に
する切欠部を放電加工により形成することにより、磁気
ギャップ部のエッジが略直角に形成される。したがっ
て、磁気ヘッドにおける磁気特性の劣化、すなわち、フ
リンジの低減等がはかれ、実効トラック幅の精度も安定
した良好な狭トラックヘッドを供給できる。また、高密
度化に対応する狭トラック化に適した磁気ヘッドを歩留
まり良く、低コストで製造することができる。また、記
録再生フリンジも低減でき、この磁気ヘッドを用いるこ
とにより、デジタルＶＴＲに適した高密度記録再生装置
を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドの
摺動面の磁気ギャップエッジ部の拡大図である。

【図２】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドの
摺動面の一部分の平面図である。

【図３】本発明の第２の実施例における磁気ヘッドの
摺動面の一部分の平面図である。

【図４】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドの
製造方法を説明するための基板の斜視図である。

【図５】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドの
製造方法を説明するための磁性体コアの斜視図である。

【図６】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドの
製造方法を説明するための磁性体コアを接着する前の斜
視図である。

【図７】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドの
製造方法を説明するための磁性体コアを接着した後の斜
視図である。

【図８】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドの
製造方法を説明するための切欠部を形成する工程を示す
斜視図である。

【図９】本発明の第１の実施例における磁気ヘッドの
製造方法を説明するための磁気ギャップエッジの拡大図
である。

【図１０】本発明の第１の実施例における磁気ヘッド
の製造方法を説明するための切断工程を示す斜視図であ
る。

【図１１】本発明の第２の実施例における磁気ヘッド
の摺動面の磁気ギャップエッジ部の拡大図である。

【図１２】本発明の第２の実施例における磁気ヘッド
の製造方法を説明するための基板９１の製作工程を示す
斜視図である。

【図１３】本発明の第２の実施例における磁気ヘッド
の製造方法を説明するためのコア基板９２の製作工程を
示す斜視図である。

【図１４】本発明の第２の実施例における磁気ヘッド
の製造方法を説明するためのコア基板９２の切断工程を
示す斜視図である。

【図１５】本発明の第２の実施例における磁気ヘッド
の製造方法を説明するための磁気コアブロック９４の製
作工程を示す斜視図である。

【図１６】本発明の第２の実施例における磁気ヘッド
の製造方法を説明するための溝を形成する工程を示す斜
視図である。

【図１７】本発明の第３の実施例の磁気記録再生装置
の磁気ヘッドの周辺部の構成を示す斜視図である。

【図１８】図２０に示す本発明の第３の実施例の磁気
記録再生装置を用いて記録した記録媒体の記録パターン
を模式的に示す図である。

【図１９】従来の磁気ヘッドチップの斜視図である。

【図２０】従来の磁気ヘッドの摺動面の一部分の平面
図である。

【図２１】従来の磁気ヘッドの摺動面の磁気ギャップ
エッジ部の拡大図である。

【符号の説明】

１（磁気）ギャップ材６、７磁性膜８、９エッジ部１０磁性膜上の表面粗さ１１、１２磁性体コア半体１３、１４切欠部１７、１８コア半体２５放電電極３０フロントガラス質ブロック３２磁気ヘッド３３回転シリンダ３４磁気テープ４０反応防止膜５０ギャップ材と交わる部分の表面６０磁性膜６１電気的絶縁膜６５記録パターンｄデータ抜けＴＰテープ上のトラック幅ＴＷギャップ長

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 5D093 AA01 BB05 BB18 CA02 FA16 FA18 FA21 HA20 HB15 HB19 HC05 JA01 JB01 5D111 AA22 BB12 BB22 BB38 BB48 CC09 CC22 CC47 FF02 FF04 FF21 FF44 GG03 GG14 GG16 JJ08 JJ32 JJ35 KK01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性の磁気ギャップ材を介して対向配
置され、トラック幅を決める磁気ギャップ部の長さを所
定値にする凸状部があらかじめ設けられ、前記凸状部の
突出端面に、磁性膜が被着形成されている一対の磁性体
コア半体と、前記一対の磁性体コア半体を相互に結合するために、前
記一対の磁性体コア半体を対向配置して形成される両側
の凹部に設けられた一対のガラス質ブロックとを有し、前記一対の磁性体コアの磁気記録媒体との摺動面におい
て、磁気ギャップの両側の前記磁性膜の領域に設けた切
欠部を有する磁気ヘッドにおいて、前記磁気ギャップ材が導電性材料であり、かつ、前記切欠部に前記磁気ギャップ材が露出する領域
における前記切欠部の表面粗さが、その切欠部の磁性膜
上の表面粗さ以下であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】磁性膜と電気的絶縁膜との積層膜を有す
る磁性体コアを非磁性の磁気ギャップ材を介して突き合
わせた一対の磁性体コア半体の、磁気記録媒体との摺動
面となるフロント部において、トラック幅を決める磁気
ギャップ部の長さを所定値にする切欠部を磁気ギャップ
の両端部に有する磁気ヘッドにおいて、前記切欠部には少なくともガラス質ブロックが充填され
ており、前記磁気ギャップ材が導電性材料であり、前記切欠部に前記磁気ギャップ材が露出する領域におけ
る前記切欠部の表面粗さが、その切欠部の磁性膜上の表
面粗さ以下であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項３】前記磁気ギャップ材が複数の非磁性膜が
積層されてなることを特徴とする請求項１または２に記
載の磁気ヘッド。
【請求項４】前記切欠部が放電加工により形成されて
なることを特徴とする請求項１、２または３に記載の磁
気ヘッド。
【請求項５】前記磁気ギャップ材を構成する材料の体
積抵抗率が、磁性膜の体積抵抗率以下であることを特徴
とする請求項１、２、３または４に記載の磁気ヘッド。
【請求項６】前記切欠部が巻線溝にまで至ることを特
徴とする請求項１、２、３、４または５に記載の磁気ヘ
ッド。
【請求項７】あらかじめ凸状部が設けられた各々の突
出端面に、磁性膜が被着形成されている一対の磁性体コ
ア半体の突出端面同士を、導電性を有する磁気ギャップ
材を介して、前記一対の磁性体コア半体の磁性膜が電気
的につながった状態に突き合わせて接合する第一の工程
と、放電加工により、一方の磁性体コア半体の磁性膜から磁
気ギャップ材に至り、そして、もう一方の磁性体コア半体の磁性膜に至る切欠
部をトラック幅を決める磁気ギャップの両端部に形成し
て、磁気ギャップ長を所定値にする第二の工程と、前記切欠部の表面に反応防止膜を被着形成する第三の工
程と、前記一対の磁性体コア半体の、少なくとも磁気記録媒体
との摺動面となるフロント部両側の凹部、および前記フ
ロント部の切欠部にガラス質ブロックを熱処理により充
填する第四の工程と、を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】あらかじめ凸状部が設けられた各々の突
出端面に、磁性膜が被着形成されている一対の磁性体コ
ア半体の前記突出端面同士を、導電性を有する磁気ギャ
ップ材を介して突き合わせる第一の工程と、前記一対の磁性体コア半体を突き合わせた状態で、加圧
熱処理して、前記磁気ギャップ材で前記一対の磁性体コ
ア半体を接合し、前記一対の磁性体コア半体の磁性膜を
電気的につながった状態にする第二の工程と、放電加工により、一方の磁性体コア半体の磁性膜から磁
気ギャップ材に至り、そして、もう一方の磁性体コア半
体の磁性膜に至る切欠部を磁気ギャップの両端部に形成
して、磁気ギャップ長を所定値にする第三の工程と、前記切欠部表面に反応防止膜を被着形成する第四の工程
と、前記一対の磁性体コア半体の、少なくとも磁気記録媒体
との摺動面となるフロント部両側の凹部、および前記フ
ロント部の切欠部にガラス質ブロックを熱処理により充
填する第五の工程と、を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項９】磁性膜と電気的絶縁膜との積層膜から構
成される一対の磁性体コア半体を、導電性を有する磁気
ギャップ材を介して電気的につながった状態に突き合わ
せ接合する第一の工程と、放電加工により、一方の磁性体コア半体の磁性膜から磁
気ギャップ材に至り、そして、もう一方の磁性体コア半
体の磁性膜に至る切欠部を磁気ギャップの両端部に形成
して、磁気ギャップ部の長さを所定値にする第二の工程
と、前記切欠部表面に反応防止膜を被着形成する第三の工程
と、前記一対の磁性体コア半体の、少なくとも磁気記録媒体
との摺動面となるフロント部両側の切欠部にガラス質ブ
ロックを熱処理により充填する第四の工程と、を備えた
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１０】磁性膜と電気的絶縁膜との積層膜から
構成される一対の磁性体コア半体を導電性を有する磁気
ギャップ材を介して突き合わせる第一の工程と、前記一対の磁性体コア半体を突き合わせた状態で、加圧
熱処理して、前記磁気ギャップ材で接合し、前記一対の
磁性体コア半体を電気的につながった状態にする第二の
工程と、放電加工により、一方の磁性体コア半体の磁性膜から磁
気ギャップ材に至り、そして、もう一方の磁性体コア半
体の磁性膜に至る切欠部を磁気ギャップの両端部に形成
することにより磁気ギャップ部の長さを所定の値にする
第三の工程と、前記切欠部表面に反応防止膜を被着形成する第四の工程
と、前記一対の磁性体コア半体の、少なくとも磁気記録媒体
との摺動面となるフロント部両側の切欠部にガラス質ブ
ロックを熱処理により充填する第五の工程と、を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１１】前記磁気ギャップ材が複数の非磁性膜
が積層されてなることを特徴とする請求項７、８、９、
または１０に記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１２】前記磁気ギャップ材を構成する材料の
体積抵抗率が、磁性膜の体積抵抗率以下であることを特
徴とする請求項７、８、９、１０または１１に記載の磁
気ヘッドの製造方法。
【請求項１３】前記切欠部が巻線溝にまで至ることを
特徴とする請求項７、８、９、１０、１１または１２に
記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１４】請求項１乃至６のいずれかに記載の磁
気ヘッドを用いることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項１５】請求項７乃至１３のいずれかに記載の
磁気ヘッドの製造方法により製造された磁気ヘッドを用
いることを特徴とする磁気記録再生装置。