JPS6176689A - 浮動ヘツドスライダの製造方法 - Google Patents
浮動ヘツドスライダの製造方法Info
- Publication number
- JPS6176689A JPS6176689A JP19803484A JP19803484A JPS6176689A JP S6176689 A JPS6176689 A JP S6176689A JP 19803484 A JP19803484 A JP 19803484A JP 19803484 A JP19803484 A JP 19803484A JP S6176689 A JPS6176689 A JP S6176689A
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- JP
- Japan
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- groove
- substrate
- slider
- floating head
- head slider
- Prior art date
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- Pending
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は浮動ヘソドスライタ２の製造方法に関し、特に
リジッド型の磁気ディスク装置に用いられる超微小隙間
で浮上する浮動ヘッドスライダの製造方法に関するもの
である。
リジッド型の磁気ディスク装置に用いられる超微小隙間
で浮上する浮動ヘッドスライダの製造方法に関するもの
である。
（従来技術とその問題点）
リジッド型磁気ディスク装置においてはその記録再生を
行う磁気ヘッドとして動圧型気体軸受の原理を応用した
浮動ヘッドスライダが用いられている。このスライダは
磁気ディスク面上をす、プミクロンの微小隙間を保って
浮揚するものである。
行う磁気ヘッドとして動圧型気体軸受の原理を応用した
浮動ヘッドスライダが用いられている。このスライダは
磁気ディスク面上をす、プミクロンの微小隙間を保って
浮揚するものである。
第３図（ａ）、（ｂ）に現在実用化あるいは試作検討さ
れている代表的なスライダの形状を示す。同図において
（ａ）はウィンチェスタ技術として実用化された正圧ス
ライダであり、双胴型の正圧を発生する気体軸受面とブ
リードスロット部といわれる薄部とからなる。また（ｂ
）は未だ実用化にはいたっていないが現在試作検討され
ている負圧スライダである。
れている代表的なスライダの形状を示す。同図において
（ａ）はウィンチェスタ技術として実用化された正圧ス
ライダであり、双胴型の正圧を発生する気体軸受面とブ
リードスロット部といわれる薄部とからなる。また（ｂ
）は未だ実用化にはいたっていないが現在試作検討され
ている負圧スライダである。
このスライダは正圧を発生する気体軸受面と負圧を発生
するリバースステップ面とから構成されている。このブ
リードスロット部あるいはリバースステップ面は所望の
スライダ浮揚特性を実現するためには概略４〜２０μｍ
程度の溝深さに加工されなければならない。通常これら
の蒋は機械的な加工方法あるいはドライプロセスのイオ
ンエツチング法が適用される。（電々公社研究実用化報
告第３１巻第２号（１９８２）Ｐ１０９〜Ｐ１２０）特
に負圧スライダの負圧発生面は４〜５μｍの深さでしか
もその溝深さの加工公差も土１μｍ程度であるため、イ
オンエツチング法が用いられる。また正圧スライダの場
合もその磁気トランスデユーサのトラック幅がきわめて
狭い高密度大容量記憶用の磁気ヘッドに対しては同様に
イオンエツチング法が用いられる。そのエツチングのド
ライプロセスを第２図に示す。他方それらスライダの基
板材料は薄膜磁気トランスデユーサの特性やあるいは磁
気ディスク媒体との摩擦特性の観点から機械的硬度２０
００程度のセラミックス材（例えばＡ１．０．−Ｔ ｉ
Ｃ’）ｉ）ｉ用いられている。従ってイオンエツチング
法を浮動ヘッドスライダの加工方法として適用すると、
セラミックス材がきわめて硬いため、溝加工時間が長く
かかシ低価格の磁気ヘッドを早く製造するためには得策
ではなかった。また第２図に示したごとくエツチング加
工プロセスも工程が複雑であるという大きな欠点もあっ
た。
するリバースステップ面とから構成されている。このブ
リードスロット部あるいはリバースステップ面は所望の
スライダ浮揚特性を実現するためには概略４〜２０μｍ
程度の溝深さに加工されなければならない。通常これら
の蒋は機械的な加工方法あるいはドライプロセスのイオ
ンエツチング法が適用される。（電々公社研究実用化報
告第３１巻第２号（１９８２）Ｐ１０９〜Ｐ１２０）特
に負圧スライダの負圧発生面は４〜５μｍの深さでしか
もその溝深さの加工公差も土１μｍ程度であるため、イ
オンエツチング法が用いられる。また正圧スライダの場
合もその磁気トランスデユーサのトラック幅がきわめて
狭い高密度大容量記憶用の磁気ヘッドに対しては同様に
イオンエツチング法が用いられる。そのエツチングのド
ライプロセスを第２図に示す。他方それらスライダの基
板材料は薄膜磁気トランスデユーサの特性やあるいは磁
気ディスク媒体との摩擦特性の観点から機械的硬度２０
００程度のセラミックス材（例えばＡ１．０．−Ｔ ｉ
Ｃ’）ｉ）ｉ用いられている。従ってイオンエツチング
法を浮動ヘッドスライダの加工方法として適用すると、
セラミックス材がきわめて硬いため、溝加工時間が長く
かかシ低価格の磁気ヘッドを早く製造するためには得策
ではなかった。また第２図に示したごとくエツチング加
工プロセスも工程が複雑であるという大きな欠点もあっ
た。
（本発明の目的）
本発明の目的は上記従来の浮動ヘッドスライダの製造方
法のもっている欠点を除去しきわめて硬度の高いセラミ
ックス材料を基板とするスライダ潤滑面内に短時間に溝
を加工し、低価格の浮動ヘッドスライダが実現できるス
ライダの製造方法を提供することにある。
法のもっている欠点を除去しきわめて硬度の高いセラミ
ックス材料を基板とするスライダ潤滑面内に短時間に溝
を加工し、低価格の浮動ヘッドスライダが実現できるス
ライダの製造方法を提供することにある。
（発明の構成）
本立ＢＪＪＫよれば浮動ヘッドスライダ基板上に金属薄
板のメタルマスクを位置決めしそれにより加工されるべ
き溝を選択し、その後レーザアシストケミカルエツチン
グ法によシその基板上にｒｔ−加工することを特徴とす
る浮動ヘッドスライダの製造方法が得られる。
板のメタルマスクを位置決めしそれにより加工されるべ
き溝を選択し、その後レーザアシストケミカルエツチン
グ法によシその基板上にｒｔ−加工することを特徴とす
る浮動ヘッドスライダの製造方法が得られる。
（実施例）
以下図面を用いて本発明について詳細に説明する。
第１図は本発明による浮動ヘッドスライダの製造方法に
ついて示したものである。本発明の製造方法はスライダ
基板１上にあらかじめフォトエツチング法等でパターン
がつくられている薄い金属のメタルマスク２ｔｔず位置
決めする。このメタルマスク２によりスライダ基板上に
形成されるべき溝の位置およびその形状が選択的に決定
される。
ついて示したものである。本発明の製造方法はスライダ
基板１上にあらかじめフォトエツチング法等でパターン
がつくられている薄い金属のメタルマスク２ｔｔず位置
決めする。このメタルマスク２によりスライダ基板上に
形成されるべき溝の位置およびその形状が選択的に決定
される。
しかる後その基板材を化学エツチング液４の中に浸し基
板台５上に設定する。そして上から集光レンズにより細
くしぼられたレーザ光３を溝が加工されるべきところに
スポット状に照射することになる。そしてそのレーザ光
３を溝形状に促して走査しながら微細な溝を加工するも
のである。エツチング液４は水酸化カリウムが、またレ
ーザ光３はアルゴンガスレーザがそれぞれ通常用いられ
る。
板台５上に設定する。そして上から集光レンズにより細
くしぼられたレーザ光３を溝が加工されるべきところに
スポット状に照射することになる。そしてそのレーザ光
３を溝形状に促して走査しながら微細な溝を加工するも
のである。エツチング液４は水酸化カリウムが、またレ
ーザ光３はアルゴンガスレーザがそれぞれ通常用いられ
る。
この本発明の方法の場合、従来のイオンエツチング法に
よる溝加工法と比較して大きな利点がある。
よる溝加工法と比較して大きな利点がある。
すなわちイオンエツチング法の場合、Ａｌ４０．−Ｔ
ｉ Ｃなどの超硬度セラミックスを加工する時のエラチ
ンフレイトは大体０．５μｍ／ｈｏｕｒ程度であるため
１５〜１０μｍの深さの溝を加工するためには１０〜２
０時間程度の工数が必要である。このため大量に磁気ヘ
ッドを製造するためには実用的に大きな問題であった。
ｉ Ｃなどの超硬度セラミックスを加工する時のエラチ
ンフレイトは大体０．５μｍ／ｈｏｕｒ程度であるため
１５〜１０μｍの深さの溝を加工するためには１０〜２
０時間程度の工数が必要である。このため大量に磁気ヘ
ッドを製造するためには実用的に大きな問題であった。
この点に関し本発明の製造方法はレーザスポット光の強
度やその走査速度を種々かえることによシ、セラミック
スへの化学エツチングのプロセスが促進されるため、エ
ツチング速度が２〜３μｍ／ｈｏｕｒ程度と非常に大き
くとれる。それ故上記値の深さの溝を加工するためには
２〜３時間程度ですむことにな９実用的には大きく改善
されることがわかった。それにつけ加え、エツチング速
度がはやいため比較的深い溝加工にも適している。正圧
スライダのブリードスロットｍ１ｕｌニスライダの浮揚
特性に悪影響をあたえないためには約２０μｍ程度の深
さが必要であるが、その加工にも十分適用できる製造方
法である。またエツチング加工された溝表面のトポグラ
フィおよびその溝形状もきわめて良好で、イオンエツチ
ング法によシ加工されたものと同等でスライダの浮揚特
性には影響ｔ−あたえないことを確認している。加工す
る溝深さの制御もミクロンオーダで可能であシ、薄膜ヘ
ッドを指向した微小浮揚量負圧スライダにも有効である
。
度やその走査速度を種々かえることによシ、セラミック
スへの化学エツチングのプロセスが促進されるため、エ
ツチング速度が２〜３μｍ／ｈｏｕｒ程度と非常に大き
くとれる。それ故上記値の深さの溝を加工するためには
２〜３時間程度ですむことにな９実用的には大きく改善
されることがわかった。それにつけ加え、エツチング速
度がはやいため比較的深い溝加工にも適している。正圧
スライダのブリードスロットｍ１ｕｌニスライダの浮揚
特性に悪影響をあたえないためには約２０μｍ程度の深
さが必要であるが、その加工にも十分適用できる製造方
法である。またエツチング加工された溝表面のトポグラ
フィおよびその溝形状もきわめて良好で、イオンエツチ
ング法によシ加工されたものと同等でスライダの浮揚特
性には影響ｔ−あたえないことを確認している。加工す
る溝深さの制御もミクロンオーダで可能であシ、薄膜ヘ
ッドを指向した微小浮揚量負圧スライダにも有効である
。
さらに加工速度のみでなく加工のプロセスにおいても簡
略化されておシ、ドライプロセスのイオンエツチング法
に比して有利である。すなわち第２図に示した従来のプ
ロセスではスライダ基板上に加工する溝を選択するまで
には数回のクロム膜、フォトレジストのエツチングや塗
布プロセスを経なければならないが、本製造方法では金
属のメタルマスクを使ってそれを位置決めするのみです
むことになる。従って短時間に基板上に加工されるべき
溝を決定することができる。なおこのメタルマスクにつ
いてはエツチング液に侵されないことが必要であること
は言うまでもなく、５０μｍ程度のステンレス材が良好
なマスクとなる。
略化されておシ、ドライプロセスのイオンエツチング法
に比して有利である。すなわち第２図に示した従来のプ
ロセスではスライダ基板上に加工する溝を選択するまで
には数回のクロム膜、フォトレジストのエツチングや塗
布プロセスを経なければならないが、本製造方法では金
属のメタルマスクを使ってそれを位置決めするのみです
むことになる。従って短時間に基板上に加工されるべき
溝を決定することができる。なおこのメタルマスクにつ
いてはエツチング液に侵されないことが必要であること
は言うまでもなく、５０μｍ程度のステンレス材が良好
なマスクとなる。
以上のことよｐ本発明の製造方法は溝加工の加工時間の
みでなく加工前処理においても従来のイオンエツチング
法よシもすぐれた方法であることがいえる。
みでなく加工前処理においても従来のイオンエツチング
法よシもすぐれた方法であることがいえる。
なお本発明の思想を逸脱しない範囲でどのような変形を
行っても差支えなく、例えばマスク形状、マスク材質、
エツチング液、レーザ光源などはそれぞれの場合に最適
化すれば良く、上記実施例が本発明の範囲を何ら限定す
るものではないことは言うまでもない。
行っても差支えなく、例えばマスク形状、マスク材質、
エツチング液、レーザ光源などはそれぞれの場合に最適
化すれば良く、上記実施例が本発明の範囲を何ら限定す
るものではないことは言うまでもない。
（発明の効果）
以上本発明について詳細に説明したように、本発明の浮
動ヘッドスライダ製造方法はメタルマスクにより加工す
べき溝をスライダ基板上で選択しレーザアシストケミカ
ルエツチング法でその溝を加工することにより簡単にし
かも短時間に高精度の溝加工ができるものである。
動ヘッドスライダ製造方法はメタルマスクにより加工す
べき溝をスライダ基板上で選択しレーザアシストケミカ
ルエツチング法でその溝を加工することにより簡単にし
かも短時間に高精度の溝加工ができるものである。
それ放像価格でしかも信頼度の高い浮動ヘッドスライダ
を製造できるという効果がある。
を製造できるという効果がある。
第１図は本発明の浮動ヘッドスライダ製造方法の実施例
を示す図、第２図は従来のイオンエツチング法による加
工方法のプロセスを示す図、および第３図は磁気ディス
ク装置用の浮動ヘッドスライダを示す図である。 図において １・・スライダ基板 ２・・・メタルマス
ク ３・・・レーｆｉ ４・・・エツチング液 ５・
・・基板台 ぐ 第１図 第２図 第３図 （ａ） （ｂ＞
を示す図、第２図は従来のイオンエツチング法による加
工方法のプロセスを示す図、および第３図は磁気ディス
ク装置用の浮動ヘッドスライダを示す図である。 図において １・・スライダ基板 ２・・・メタルマス
ク ３・・・レーｆｉ ４・・・エツチング液 ５・
・・基板台 ぐ 第１図 第２図 第３図 （ａ） （ｂ＞
Claims (1)
- 浮動ヘッドスライダ基板上に金属薄板のメタルマスクを
位置決めし、それにより加工されるべき溝を選択し、そ
の後レーザアシストケミカルエッチング法によりその基
板上に溝を加工することを特徴とする浮動ヘッドスライ
ダの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19803484A JPS6176689A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 浮動ヘツドスライダの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19803484A JPS6176689A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 浮動ヘツドスライダの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6176689A true JPS6176689A (ja) | 1986-04-19 |
Family
ID=16384429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19803484A Pending JPS6176689A (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 | 浮動ヘツドスライダの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6176689A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0256938A2 (en) * | 1986-08-08 | 1988-02-24 | Quantum Corporation | Lithographic technique using laser for fabrication of electronic components and the like |
| JPH01179387U (ja) * | 1988-06-08 | 1989-12-22 | ||
| JPH0287314A (ja) * | 1988-09-24 | 1990-03-28 | Ngk Insulators Ltd | 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 |
| EP0416938A2 (en) * | 1989-09-08 | 1991-03-13 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of producing a core for magnetic head |
| US5104483A (en) * | 1989-01-09 | 1992-04-14 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of producing a negative-pressure type magnetic head slider |
| US5221422A (en) * | 1988-06-06 | 1993-06-22 | Digital Equipment Corporation | Lithographic technique using laser scanning for fabrication of electronic components and the like |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5645219A (en) * | 1979-09-20 | 1981-04-24 | Toshiba Corp | Forming method for three dimensionally curved sheet |
| JPS58221690A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 固体の加工方法 |
-
1984
- 1984-09-21 JP JP19803484A patent/JPS6176689A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5645219A (en) * | 1979-09-20 | 1981-04-24 | Toshiba Corp | Forming method for three dimensionally curved sheet |
| JPS58221690A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 固体の加工方法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0256938A2 (en) * | 1986-08-08 | 1988-02-24 | Quantum Corporation | Lithographic technique using laser for fabrication of electronic components and the like |
| EP0256938A3 (en) * | 1986-08-08 | 1991-02-27 | Quantum Corporation | Lithographic technique using laser for fabrication of electronic components and the like |
| US5221422A (en) * | 1988-06-06 | 1993-06-22 | Digital Equipment Corporation | Lithographic technique using laser scanning for fabrication of electronic components and the like |
| JPH01179387U (ja) * | 1988-06-08 | 1989-12-22 | ||
| JPH0287314A (ja) * | 1988-09-24 | 1990-03-28 | Ngk Insulators Ltd | 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 |
| US5104483A (en) * | 1989-01-09 | 1992-04-14 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of producing a negative-pressure type magnetic head slider |
| EP0416938A2 (en) * | 1989-09-08 | 1991-03-13 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of producing a core for magnetic head |
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