JPH0997482A - 情報記録再生装置及び露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 凹凸パターンをサーボ情報として利用する情
報記録媒体を多段に重ねて情報記録再生装置に組み込む
ことを可能にする。 【解決手段】 中央部に情報記録再生装置の回転支持機
構に取り付けられる取り付け穴４９を有する情報記録媒
体用基板４８に、基板４８の回転軸を中心として同心円
に設定される記録トラックのサーボ情報あるいは再生専
用情報を担持するレチクルパターンを縮小投影露光装置
によって露光する。露光装置のステージ４７は基板の取
り付け穴４９に合致する凸部５１、凸部の中心に設けら
れたレーザ光源６１を有し、レチクル４３ａのパターン
中心に設けられた光透過部をレーザ光源６１からの光線
が透過するように検出器６３でモニタしながら位置合わ
せを行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気情報記録媒体又は
光情報記録媒体に対して情報の記録、再生等を行う情報
記録再生装置及びそこで用いられる情報記録媒体を作製
する装置に係わり、より詳しくは高密度記録対応型の情
報記録再生装置及び情報記録媒体作製用の露光装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来の情報記録媒体、例えば磁気情報記
録媒体である磁気ディスクは、ＮｉＰメッキされたアル
ミニウム合金基板上に磁気記録膜をスピン塗布やスパッ
タリングなどで形成することにより製造されていた。上
記磁気ディスクは磁気的及び構造的に一様かつ平滑であ
り、いわゆるサーボ・トラック・ライティング方式によ
りサーボ信号の書き込みが行われ、浮上ヘッドの採用と
その低浮上化、即ちディスクとヘッド間の狭ギャップ化
により高記録密度化が図られてきた〔応用物理；６３
（３）、２６８（１９９４）参照〕。

【０００３】しかしながらサーボ・トラック・ライティ
ング方式には、サーボ信号を書き込む装置の機械的制約
から記録密度、特にトラック数密度が制限される問題が
あった。そこで、ディスク上に磁気的に分離した情報ト
ラックを形成し、光学的に位置決め信号を得るサーボ方
式の検討が行われた〔M. Futamoto et al., IEEE Tran
s. on Magn. MAG-27, 5280(1991)〕。しかし、この方式
は、光学的に位置決め信号を得るために磁気ヘッドに半
導体レーザを搭載し、磁気ヘッドの構成が従来に比べ複
雑となる問題がある。

【０００４】上記の問題を解決するため、例えば、表面
に凹凸サーボ・パターンを形成した樹脂製の基板上に、
磁気記録膜を一様に形成した磁気ディスクも提案されて
いる（古川等、１９９４年電子情報通信学会春季大会予
稿集、ＳＣ−３−５）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、磁気
情報記録再生装置、特に大容量記録が可能なハードディ
スク装置は、一般に装置製造メーカーが、サーボ・トラ
ック・ライティング方式によりサーボ信号などの書き込
みを行った後に出荷している。サーボ・トラック・ライ
ティング作業は、磁気的及び構造的に一様かつ平滑であ
る磁気ディスク上に、位置を示すパターンをあらかじめ
形成するものである。具体的には、レーザ測長計などの
位置決め手段を用いて、情報を記録するトラック上の正
しい場所にヘッドを位置決めするための磁気的なパター
ンを記録する。この作業はハードディスク装置１台ごと
に行う必要があり、１台の作業に約１０分かかる。この
ため１時間当たり６台の生産性しか得られず、磁気ディ
スク装置の製造コストを押し上げる要因になっている。
また、サーボ・トラック・ライティング作業を行うサー
ボ・トラック・ライターは高価であるという問題もあ
る。

【０００６】図２に、サーボ・トラック・ライターの一
例の摸式図を示す。磁気ディスク２を備える磁気ディス
ク装置１はサーボ・トラック・ライターの台２０の上に
載置され、簡単なクランプ装置２１ａ，２１ｂ，２１ｃ
で固定される。サーボ信号の記録は、サーボ・トラック
・ライターのアーム２２で磁気ディスク装置のアーム３
を駆動して磁気ディスク２上にヘッド４を位置決めし、
磁気ディスク装置１のスピンドル５を低速で回転しなが
ら行われる。しかし、磁気ディスク装置１は簡単なクラ
ンプ装置２１ａ，２１ｂ，２１ｃで固定されているだけ
なので振動などの外部擾乱の影響を受けやすく、また一
般に磁気ディスク装置１に組み込まれているスピンドル
５は安価なものが多く、スピンドル５の回転速度によっ
て回転中心位置が変動しやすい。

【０００７】また、ヘッド４の位置検出精度を高めるた
めレーザ検出系が用いられる。レーザ光源２５から出射
された光は、台２０に固定されたミラー２６で反射さ
れ、続いてアーム３に固定されたミラー２７で反射され
てポジションセンサー２８に入射する。ヘッド４の位置
は、ポジションセンサー２８への光入射位置から検出さ
れる。ここで、ミラー２７はサーボ・トラック・ライテ
ィング作業のためにだけ必要とされ、作業のたびに人手
により磁気ディスク装置のアーム３に取り付け、作業が
終了すると取り外さなければならないため、作業効率及
び取り付け精度ともに悪い。

【０００８】磁気ディスク２の情報記録密度を高めるた
めには、情報を記録するトラックを高密度で設け、トラ
ック上の正しい場所にヘッドを位置決めするためのサー
ボ情報を高精度に記録しなければなければならないが、
上記の理由により、作業に長時間を要し、製造コストが
押し上げられる。また、書き込みできるパターンの位置
精度が機械的精度により制限されるため、このサーボ・
トラック・ライティング方式はトラック幅０.８μｍ以
下の装置には適用できない。

【０００９】さらに、表面に凹凸サーボ・パターンを形
成したプラスチックディスクでは、サーボ・パターンを
回転軸に対して完全に心合わせすることができないため
に複数のディスクを多段に重ねることができなかった。
本発明は、これらの問題を解決し、大量生産に適した精
密なサーボ・パターンの形成方法、及びその形成に用い
られる装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明では、磁気記録媒
体あるいは光磁気記録媒体の情報記録媒体において、縮
小投影露光工程を経てディスク表面に凹凸サーボパター
ンを形成したディスク上に、磁気記録膜を一様に形成す
ることにより前記目的を達成する。凹凸サーボパターン
は、マスクあるいはレチクル（以下、レチクルという）
に予め形成したパターンをディスク上に露光転写し、エ
ッチングする、リソグラフィー法によって形成すること
ができる。この方法はディスクの材質に依存せず、ガラ
ス基板やＮｉＰメッキされたアルミニウム合金基板など
いずれの材質の基板に対しても適用することができる。

【００１１】露光装置に、ディスクの構造上の回転中心
とレチクルのパターン中心との位置合わせを行う機構を
備えることよって、ディスク表面に露光・形成される凹
凸パターンの中心とディスクの実際の回転中心との偏心
を５μｍ以下にすることができる。この位置合わせは、
基板を載置する露光装置のステージに、基板の取り付け
穴に合致する凸部を設けること、あるいは凸部とともに
凹部の中心に光源からなる目標指示部を設け、レチクル
のパターン中心と目標指示部との位置合わせを行う機構
を設けることで行うことができる。このようにして凹凸
パターンの中心とディスクの回転中心とを一致させるこ
とにより、ディスクを多段に重ねることが可能となる。

【００１２】ディスクの両面に凹凸パターンを露光して
形成する場合、露光装置のステージに凹部を設け、ディ
スクの裏面とステージとが接触する領域をディスクの周
縁部だけに限ることにより、ディスクの裏面に塗布され
たレジストや既に形成された凹凸パターンがステージと
接触することを回避してゴミの付着や傷の発生を防止す
ることができる。

【００１３】また、回転支持機構用の穴が設けられてい
ないディスク基板に、縮小投影露光装置によって、凹凸
サーボパターンと回転支持機構用の取り付け穴の像を同
時に縮小投影露光し、露光後、エッチングにより凹凸パ
ターンを形成し、次いで取り付け穴を除く領域にレジス
トを塗布し、レジストが塗布されていない領域を選択的
にエッチングして取り付け穴を形成することにより、サ
ーボパターンにより決まる記録トラックの中心と回転支
持機構用の穴の中心とを完全に同心にすることができ
る。

【００１４】レチクルのパターンは、一基準点を中心に
パターンを円弧ごとにレーザカッティングで描画する
と、滑らかなエッジを有するパターンを高精度に形成す
ることができる。

【００１５】

【作用】本発明によれば、縮小投影露光装置を用いてデ
ィスクの回転中心との位置合わせを行いながら凹凸パタ
ーンを露光転写することによって、サーボパターンが形
成されたディスクを短時間に大量露光し、量産すること
が可能となる。また、リソグラフィ法によりサーボパタ
ーンとディスクの回転支持機構用の穴を同時に形成する
ことにより、サーボパターンに想定されている中心と回
転支持機構用の穴の中心とを完全に同心にすることがで
きる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。 〔実施例１〕図１は、本発明による情報記録再生装置の
一実施例を示す説明図である。本実施例の情報記録媒体
１１は、石英ガラス基板に磁性膜を成膜した磁気情報記
録媒体である。情報記録媒体１１の基板は石英ガラスに
限る必要はなく、例えば、シリコン基板や表面を熱酸化
させた熱酸化シリコン基板などを用いてもよい。情報記
録媒体１１は回転機構１２により支持され、回転駆動さ
れる。信号の記録再生は、磁気信号記録再生ヘッド１３
によって行われる。ヘッド１３は、駆動機構１４により
情報記録媒体１１の表面上で移動され、目的とするトラ
ック上にサーボ制御される。電気回路系１５は、ヘッド
１３に記録信号を供給し、またヘッド１３から得られる
再生信号を処理する。

【００１７】情報記録媒体１１の表面には、凹凸パター
ン１６が形成されている。凹凸パターン１６には、図１
下方の円内にその一部を拡大して示すように、クロック
・パターン１７ａ，１７ｂ及びクロック・パターン１８
ａ，１８ｂで挾まれてサーボ・パターン１９が形成され
ており、サーボ領域として利用される。記録トラックは
凹凸パターン１６からなるサーボ領域と交差するように
ディスク円周方向に設定されている。なお、一部のトラ
ックにはサーボ・パターン１９やクロック・パターン１
７ａ，１７ｂ，１８ａ，１８ｂを形成したのと同様の方
法でデータやプログラムが再生専用メモリ、すなわちＲ
ＯＭパターンとして形成されていてもよい。

【００１８】次に、情報記録媒体１１、特に凹凸パター
ン１６の製造工程について説明する。図３は、図１のＡ
ーＡ’断面に相当する図である。まず中心に直径２０ｍ
ｍの穴の開いた、直径２.５インチの石英ガラス基板１
０を用意した〔図３（ａ）、ただし図３（ａ）には穴は
示されていない〕。次に、図３（ｂ）に示すように、基
板１０の表面上にレジスト３１を塗布し、後述する縮小
投影露光装置を用いてフォトリソグラフィー法により基
板１０上の所定の領域に図１の円内に示したようにパタ
ーンを露光し現像する。こうして、図３（ｃ）に示すよ
うに選択的にレジスト膜３１を残した。しかる後、フレ
オン系の反応性イオンエッチングにより、石英ガラス基
板１０のレジスト膜３１のない領域を選択的に、例えば
１００ｎｍエッチングし、図３（ｄ）のように石英ガラ
ス基板１０の表面に所望の凹凸パターンを形成した。こ
の工程の後、情報記録媒体１１を、例えば磁気情報記録
媒体として用いる場合には、石英ガラス基板１０上に残
ったレジストを除去し、一般に磁気情報記録媒体を作製
する方法と同様に、例えば下地膜３２としてＣｒを５０
ｎｍ、磁性膜３３としてＣｏＣｒを５０ｎｍを成膜し、
最後に保護膜３４としてＣを１０ｎｍ成膜する〔図３
（ｅ）〕。

【００１９】このように凹凸のある領域の磁性膜３３を
面内方向に磁化すると、図４に模式的に示すように、凹
凸の境界部分に＋及び−の磁極が出現する。従って、磁
気ヘッドが図５（ａ）に実線で示すように、記録トラッ
ク上に位置決めされた状態でサーボ領域を通過すると、
図５（ｂ）のような検出信号が得られる。一方、図５
（ａ）に破線で示すように、記録トラックからずれた状
態でサーボ領域を通過すると、そのずれの方向とずれ量
に応じて図５（ｃ）に示すようなサーボ信号が発生す
る。磁気記録装置は、検出信号が図５（ｂ）に示すよう
な波形に近づくように磁気ヘッドのトラック幅方向位置
を制御し、磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの位置決め
を行うことができる。

【００２０】情報記録媒体１１は回転支持機構１２に取
り付けて回転させるものであるため、情報記録媒体１１
の表面上に設けられた凹凸パターン１６によって決まる
同心円又は螺旋形の記録トラックを回転中心と同心にす
る必要がある。記録トラックが回転中心と同心でない場
合には、ヘッド１３が所望のトラック上を情報記録媒体
１１の回転に合わせて追従することが難しくなる。従来
のサーボ・トラック・ライティング方式による磁気ディ
スクへのサーボ信号の書き込みは、前述したように、デ
ィスクを回転支持機構に取り付けた後に行うため、記録
トラックの中心と回転中心とを同心にすることはあまり
問題にならなかった。

【００２１】凹凸パターンによってサーボ情報を形成す
る記録媒体において、この記録トラックの中心とディス
クの回転中心とを一致させることのできる本発明の縮小
投影露光装置を図６により説明する。図６中、下方の円
内に示したのはステージ部分の拡大説明図である。情報
記録媒体の基板として、前述したように直径２０ｍｍの
取り付け穴４９の開いた石英ガラス基板４８を用いた。
基板の材質は石英ガラスに限る必要はないが、穴４９を
回転支持機構１２に取り付けるため、穴の直径の公差を
ある値に、例えば５μｍに設定された石英ガラス基板を
用いる。縮小投影露光装置のステージ４７上には、前記
公差の最大値にあわせた直径の、例えば円柱状の凸部５
１が設けられている。凸部５１のステージ４７上におけ
る位置は、凸部５１の円形中心が、レチクル４３上に描
画されたパターンに設定された回転中心を通った光が通
過する、あるいは通過するであろう位置である。

【００２２】ステージ４７の凸部５１に石英ガラス基板
４８の穴４９をはめ込み、レチクル４３のパターンを縮
小投影露光した。光源４１を出射した光は、開口マスク
４２を通過した後、露光したいパターンが描画されたレ
チクル４３に入射する。レチクル４３を透過した光は縮
小レンズ系４５に入射する。縮小レンズ系４５の設定に
よって縮小率は変わるが、例えば縮小レンズ系４５が
２：１縮小レンズ系である場合には、レチクル４３に描
画されたパターンの大きさに対し２分の１に大きさが縮
小された像４６が、焦点上に結ばれる。ステージ４７上
にある被投影体４８をこの焦点上に配置することで、レ
チクル４３に描画された所望のパターンを縮小投影露光
することができる。

【００２３】この結果、石英ガラス基板４８上に露光さ
れたパターンから凹凸パターン１６が形成され、凹凸パ
ターン１６によって決まる同心円又は螺旋形の記録トラ
ックの中心は、石英ガラス基板４８の回転中心に対して
所望の精度で一致した。縮小投影露光装置によると、レ
チクル４３に描画されたパターンが縮小されて投影露光
されるので、１：１で露光される露光装置、例えば、密
着露光装置に比べて微細なパターンを高精度に露光でき
る。また、レチクル４３上に傷が生じたりゴミが付着し
てもその大きさが解像度以下の寸法なら転写されないメ
リットもある。また、密着露光装置では、マスクと被露
光体との密着度の善し悪しが、被露光体に露光転写され
るパターン精度に影響するため、露光のたびごとに行う
密着作業に時間がかかる。これに対し、縮小投影露光装
置では密着を行う必要がないため、一度の露光にかかる
時間を低減することができる。

【００２４】このように、縮小投影露光装置を用いるこ
とにより、本発明による情報記録再生装置の情報記録媒
体１１を作製する露光工程が、密着露光装置によって露
光する場合よりも微細化高精度化できる。また、サーボ
パターンを形成する工程全体として見ても、サーボ・ト
ラック・ライティング方式よりパターン精度が高く、生
産性においても優れる。 〔実施例２〕図７は、本発明による露光装置の他の実施
例の概略図であり、下方の円内に示すのはステージ部分
の拡大説明図である。図６と同一の構成部分について
は、図６と同一の参照符号を付してその詳細な説明は省
略する。

【００２５】レチクル４３ａに描画された所望のパター
ンを縮小投影露光するときのパターン像４６と被投影体
４８との位置合わせについて説明する。本実施例の縮小
投影露光装置のステージ４７上には、円内の拡大図に示
すように、前記実施例１と同様に円柱状の凸部５１が設
けられている。また、凸部５１の円形中心に目標指示部
として、例えばレーザ光源６１が設けられている。

【００２６】図８に、本実施例で用いるレチクル４３ａ
の一例を示す。基板に露光するパターンは、円６５と円
６６に挟まれた環状領域に描画してある。円６５の内側
では、描画された前記パターンに設定された回転中心６
２に光透過部を設け、かつ回転中心６２の周囲は光を透
過しないようにレチクル４３ａを作製した。基板４８と
して実施例１と同様に直径２０ｍｍの穴４９の開いた石
英ガラス基板を用い、ステージ４７の凸部５１に石英ガ
ラス基板４８の穴４９をはめ込んだ後、ステージ駆動機
構６９及び７０によって石英ガラス基板４８をレチクル
像４６の形成されている領域に移動させた。次に凸部５
１の中心に位置するレーザ光源６１を発光させ、その出
射光がレチクル４３の回転中心６２を透過し、ミラー６
４で反射されてディテクタ６３に受光されるように、ス
テージ４７をステージ駆動機構６９及び７０を用いて微
動させた。

【００２７】こうして基板４８の位置決めを行った後、
石英ガラス基板４８上にレチクル４３ａのパターンを縮
小投影露光した。その結果、石英ガラス基板４８上に露
光されたパターンから凹凸パターン１６が形成され、凹
凸パターン１６によって決まる同心円又は螺旋形の記録
トラックの中心は、石英ガラス基板４８の回転中心に対
して公差の範囲内の同心となった。なお、レーザ光をデ
ィテクタ６３に導くミラー６４の寸法を、ｘｙ平面に投
影した外形６８が円６５内に納まるように設定すると、
パターン露光時にミラー６４が光源４１からの光線を遮
ることがない。 〔実施例３〕図９，１０及び１１を用いて、情報記録媒
体製造方法の他の実施例を説明する。図９は露光装置の
概略図、図１０は情報記録再生装置の概略図、図１１は
情報記録媒体の製造工程を示す説明図である。なお、図
９において、図６と同一の構成部分は図６と同一の参照
符号を付してその詳細な説明は省略する。また図１０に
おいて、図１と同一の構成部分は図１と同一の参照番号
を付してその詳細な説明を省略する。

【００２８】図９に示すように、本実施例における露光
方法は、ステージ４７の駆動機構６９及び７０によって
基板５０を所望の位置に移動させ露光する、という移動
と露光の組み合わせステップを反復する方法である。そ
して、ディスク複数枚分の露光を連続して行った後に、
エッチングによってディスクの形で取り出すので、大量
生産が可能となる。

【００２９】本実施例で使用するレチクル４３ｂには、
情報記録媒体１１の外形となる外周円７１（図１０）
と、回転支持機構１２に取り付けて回転させるための穴
とする内周円７２と、凹凸パターン１６とが一枚のレチ
クルに描画されている。したがって情報記録媒体の外形
と凹凸パターンを同時に露光するので、情報記録媒体の
表面上に設けられた凹凸パターンによって決まる同心円
又は螺旋形の記録トラックを回転中心と同心にするため
に、露光の際に位置合わせを行う必要がない。

【００３０】前記レチクル４３ｂを用いて露光された基
板を処理して情報記録媒体を製造する工程を図１１を用
いて説明する。図１１の左列の図は図１０のＡーＡ’断
面に相当する模式図であり、図１１の右列の図は図１０
のＢーＢ’断面に相当する模式図である。まず２.５イ
ンチ四方の正方形より大きなシリコン基板５０を用意し
た〔図１１（ａ）〕。次に、図１１（ｂ）に示すよう
に、基板５０の表面上にレジスト３１を塗布し、縮小投
影露光装置を用いて、半導体素子の作製プロセスによく
使われるステップ・アンド・リピート法によって、基板
５０上の所定の領域に図１０の円内に拡大して示した凹
凸パターン１７ａ，１７ｂ，１８ａ，１８ｂ，１９と、
ディスク型にするための外周円７１と、回転支持機構１
２に取り付けて回転させるための穴とするための内周円
７２とを、露光し現像した。そして、図１１（ｃ）に示
すように、選択的にレジスト膜３１を残した。しかる
後、フレオン系の反応性イオンエッチングにより、石英
ガラス基板５０のレジスト膜３１で被覆されていない領
域を選択的に、例えば１００ｎｍエッチングし、図１１
（ｄ）のように石英ガラス基板５０表面に所望の凹凸パ
ターンを形成した。

【００３１】さらに、形成した凹凸パターンにレジスト
あるいは耐酸性膜８１を塗布した後、ＫＯＨ系のエッチ
ング液によって、レジストあるいは耐酸性膜膜８１で覆
われた領域を除いた領域、すなわち外周円７１の外側及
び内周円７２の内側を、選択的にエッチングして完全に
反応・溶解させた〔図１１（ｅ）〕。その結果、ディス
ク型で、回転支持機構１２に取り付けて回転させるため
の穴４９が開き、かつ凹凸パターン１６が形成された情
報記録媒体１１の原型ができた。この工程の後、情報記
録媒体を、例えば磁気情報記録媒体として用いる場合に
は、石英ガラス基板５０上に残ったレジスト３１を除去
し、一般に磁気情報記録媒体を作製する方法と同様に、
例えば下地膜３２としてＣｒを５０ｎｍ、磁性膜３３と
してＣｏＣｒを５０ｎｍを成膜し、最後に保護膜３４と
してＣを１０ｎｍ成膜する〔図１１（ｆ）〕。こうし
て、凹凸パターンからなるサーボ領域あるいは再生専用
情報領域を有し、同心円又は螺旋形の記録トラックの中
心と回転支持機構への取り付け穴４９の中心とが一致し
た情報記録媒体が得られた。 〔実施例４〕次に、レチクルのパターン描画方法につい
て説明する。図１２は、レチクルに形成されたサーボパ
ターンの説明図であり、図１２（ａ）はレチクルの概略
図、図１２（ｂ）はその円内の拡大図、図１２（ｃ）及
び図１２（ｄ）はサーボパターンをさらに拡大した詳細
図である。

【００３２】一般に露光装置に用いられるレチクル４３
は、電子線描画法によってパターンを描画している。こ
の描画方法はＸＹ系の直交座標系によって全てのパター
ンを微小の矩形に分割し、その矩形をなぞるように電子
線描画していくため、曲線ないしはエッジが傾斜してい
る微小パターンを描画する場合には、パターンエッジが
階段状になり精度良いパターン描画ができない。ところ
で、情報記録再生装置のようなディスクを回転させるタ
イプの情報記録再生装置のディスクパターンは、ディス
クの回転中心と同心円状のパターンとなる。したがって
電子線描画法によると、図１２（ｄ）の円内に拡大して
示すように、エッジがギザギザに描画されたパターンが
形成され、滑らかな傾斜ないし曲率を有するパターンを
高精度に形成することができない。

【００３３】本実施例では、凹凸パターン１６を露光す
るためのレチクル４３のパターン描画をレーザカッティ
ングで行う。レーザカッティングによると、円弧に沿っ
てパターンを描画することができるため、図１２（ｃ）
の円内に拡大して示すように、パターン１６のエッジを
精度良く滑らかに描画することが可能となる。このレチ
クルを縮小投影露光して形成したクロックパターンある
いはサーボパターンも滑らかなエッジを有するため、高
精度なクロック信号及びサーボ信号を発生することがで
き、ヘッドのトラッキング精度及びトラッキングの安定
性を向上することができる。 〔実施例５〕図１３は、表裏両面を記録面とする情報記
録媒体及びその製造工程で使用される露光装置の実施例
の説明図である。図１３において、図６と同一の構成部
分には図６と同一の参照符号を付してその詳細な説明を
省略する。

【００３４】縮小投影露光装置のステージ４７上には、
円柱状の凸部５１が設けられ、凸部５１の周囲にはすり
鉢状の凹部８５が形成されている。凸部５１はディスク
基板４８の穴４９をはめ込むためのものである。すり鉢
状の凹部８５の直径は、被投影体である基板４８の直径
（例えば２.５インチ）よりは小さいが、基板４８に露
光される凹凸パターン１６の最外周直径よりは大きい。
その結果、基板４８の両面に凹凸パターン１６を露光す
る時に、ステージ４７の上面に対する基板４８の一面
（以下Ｂ面と称する）に傷が生じたり、ゴミが付着した
りすることを低減できる。また、基板４８のＢ面に既に
レジスト膜３１が塗布されていた時には、レジスト膜３
１に傷が生じたり、ゴミが付着したりすることを低減で
きる。さらに、基板４８のＢ面に既に凹凸パターン１６
が形成されている時には、基板４８のＢ面や凹凸パター
ン１６に傷が生じたり、ゴミが付着したりすることを低
減できる。

【００３５】このようにして、本実施例のステージを用
いると、基板の両面に記録層を形成する情報記録媒体の
製造において、その歩留まりを上げることができる。 〔実施例６〕図１４は、本発明による情報記録媒体を用
いた情報記録再生装置の概略図であり、図１４（ａ）は
平面図、図１４（ｂ）はそのＡ−Ａ’断面図である。

【００３６】情報記録媒体１１は実施例１の方法で製造
したものであり、サーボ領域が凹凸パターン１６で形成
されている。また、凹凸パターン１６によって決まる同
心円状の記録トラックの中心と、情報記録媒体１１の回
転中心とが一致するように製造されている。その結果、
図１４（ｂ）に示すように、複数の情報記録媒体１１を
積層配置したとき、全ての情報記録媒体の回転中心が同
心となるように配置することができ、各情報記録媒体１
１の表面上に設けられた凹凸パターン１６によって決ま
ってくる円弧状の記録トラックの中心を互いに同心とす
ることができた。これにより、複数のヘッド１３が所望
のトラック上を、情報記録媒体１１の回転に合わせて追
従することが可能となった。なお、凹凸パターン１６
は、複数の情報記録媒体１１の全ての面に設ける必要は
なく、例えば１枚の情報記録媒体１１の片面に設けるだ
けでも構わない。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、情報記録媒体の回転中
心とサーボパターン領域あるいは再生専用情報領域を形
成する凹凸パターンの中心とを一致させた情報記録媒体
を得ることができ、従ってその情報記録媒体を多段に重
ねた大容量（数〜１０ＴＢ以上／シリンダ）の情報記録
再生装置を構成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による情報記録再生装置の一実施例を示
す図。

【図２】サーボ・トラック・ライターの説明図。

【図３】情報記録媒体の製造工程を示す図。

【図４】磁化状態の説明図。

【図５】サーボ・パターンとサーボ信号の説明図。

【図６】本発明による露光装置の一実施例を示す図であ
る。

【図７】露光装置の第２の実施例を示す図である。

【図８】レチクルの平面図。

【図９】露光装置の第３の実施例を示す図である。

【図１０】本発明による情報記録再生装置の第２の実施
例を示す図である。

【図１１】情報記録媒体の他の一製造工程を示す図であ
る。

【図１２】レチクルに形成されたパターンの詳細図。

【図１３】本発明による露光装置の第４の実施例を示す
図である。

【図１４】情報記録再生装置の概略図。

【符号の説明】

１…磁気ディスク装置、２…磁気ディスク、３…アー
ム、４…ヘッド、５…スピンドル、１０…石英ガラス基
板、１１…情報記録媒体、１２…回転機構、１３…ヘッ
ド、１４…駆動機構、１５…電気回路系、１６…凹凸パ
ターン、１７ａ，１７ｂ，１８ａ，１８ｂ…クロック・
パターン、１９…サーボ・パターン、２０…サーボトラ
ック・ライターの台、２１ａ，２１ｂ，２１ｃ…クラン
プ装置、２２…アーム、２５…レーザ光源、２６…固定
ミラー、２７…ミラー、２８…ポジションセンサー、３
１…レジスト膜、３３…磁性膜、４１…光源、４２…開
口マスク、４３，４３ａ，４３ｂ…レチクル、４５…縮
小レンズ系、４６…パターン像、４７…ステージ、４８
…被投影体、４９…回転支持機構への取り付け穴、５０
…基板、５１…凸部、６１…レーザ光源、６３…ディテ
クタ、６９，７０…ステージ駆動機構、８５…凹部

フロントページの続き (72)発明者 楓 弘志 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 赤城 協 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の情報記録媒体と、前記複数の情報
   記録媒体を同一の回転軸に支持して回転させる回転駆動
   機構と、前記情報記録媒体に対して情報信号の記録再生
   を行うヘッドとを備える情報記録再生装置において、 前記複数の情報記録媒体は各々表面に凹凸パターンから
   なるサーボ領域あるいは再生専用情報領域を有し、前記
   凹凸パターンにより定められる記録トラックは前記回転
   軸を中心とする同心円又は螺旋形であることを特徴とす
   る情報記録再生装置。
2. 【請求項２】 前記凹凸パターンは、前記情報記録媒体
   の回転中心との位置あわせ機構を有する縮小投影露光装
   置を用いてレチクルパターンを露光する工程を経て形成
   されたものであることを特徴とする請求項１記載の情報
   記録再生装置。
3. 【請求項３】 複数の情報記録媒体と、前記複数の情報
   記録媒体を同一の回転軸に支持して回転させる回転駆動
   機構と、前記情報記録媒体に対して情報信号の記録再生
   を行うヘッドとを備える情報記録再生装置において、 前記情報記録媒体は表面に凹凸パターンからなるサーボ
   領域あるいは再生専用情報領域を有し、前記凹凸パター
   ンは一基準点を中心に基板を回転させながら円弧状に所
   望倍率で描画したレチクルパターンを前記情報記録媒体
   の回転中心との位置あわせ機構を有する縮小投影露光装
   置を用いて露光する工程を経て形成されたものであり、
   前記凹凸パターンにより定められる記録トラックは前記
   回転軸を中心とする同心円又は螺旋形であることを特徴
   とする情報記録再生装置。
4. 【請求項４】 情報記録媒体は磁気記録媒体であること
   を特徴とする請求項１、２又は３記載の情報記録再生装
   置。
5. 【請求項５】 中央部に情報記録再生装置の回転支持機
   構に取り付けられる取り付け穴を有する情報記録媒体用
   基板に、該基板の回転軸を中心として同心円又は螺旋形
   に設定される記録トラックのサーボ情報あるいは再生専
   用情報を形成するためのレチクルパターンを縮小投影露
   光するための縮小投影露光装置において、 前記基板を載置するステージは基板の取り付け穴に合致
   する凸部を有し、前記取り付け穴を前記凸部にはめ込ん
   で基板をステージ上に載置することにより前記基板の回
   転中心とレチクルパターンの中心との位置合わせを行う
   ことを特徴とする縮小投影露光装置。
6. 【請求項６】 中央部に情報記録再生装置の回転支持機
   構に取り付けられる取り付け穴を有する情報記録媒体用
   基板に、該基板の回転軸を中心として同心円又は螺旋形
   に設定される記録トラックのサーボ情報あるいは再生専
   用情報を形成するためのレチクルパターンを縮小投影露
   光するための縮小投影露光装置において、 前記基板を載置するステージは基板の取り付け穴に合致
   する凸部、該凸部の中心に設けられた目標指示部、及び
   レチクルのパターン中心と前記目標指示部との位置合わ
   せを行う機構を有することを特徴とする縮小投影露光装
   置。
7. 【請求項７】 基板表面とステージとの接触領域を基板
   の周縁領域に限るように、前記ステージは前記凸部の周
   囲に環状の凹部が設けられていることを特徴とする請求
   項５又は６記載の縮小投影露光装置。
8. 【請求項８】 中央部に情報記録再生装置の回転支持機
   構に取り付けられる取り付け穴を有し、回転軸を中心と
   する同心円又は螺旋形の記録トラックを定めるサーボ領
   域あるいは再生専用情報領域を形成する凹凸パターンを
   有する情報記録媒体用基板の製造方法において、 縮小投影露光装置を用いてステップ・アンド・リピート
   法により前記凹凸パターン及び前記取り付け穴の像を同
   時に露光する工程を含むことを特徴とする情報記録媒体
   用基板の製造方法。
9. 【請求項９】 露光後、エッチングにより前記凹凸パタ
   ーンを形成する工程、前記取り付け穴を除く領域にレジ
   ストを塗布する工程、レジストが塗布されていない領域
   を選択的にエッチングして取り付け穴を形成する工程を
   含むことを特徴とする請求項８記載の情報記録媒体用基
   板の製造方法。