JPH01315048A - 光ディスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 - Google Patents
光ディスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法Info
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- JPH01315048A JPH01315048A JP2510489A JP2510489A JPH01315048A JP H01315048 A JPH01315048 A JP H01315048A JP 2510489 A JP2510489 A JP 2510489A JP 2510489 A JP2510489 A JP 2510489A JP H01315048 A JPH01315048 A JP H01315048A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ディスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造
法に関し、さらに詳しくはレーザ光等のコヒーレンスの
高い光を干渉させて得られる干渉縞を利用することによ
りなる精度の優れたしかも検出の容易な案内溝を有し、
ランダムアクセスが容易で、量産に適した光デイスク作
製用原板の製造法に関する。
法に関し、さらに詳しくはレーザ光等のコヒーレンスの
高い光を干渉させて得られる干渉縞を利用することによ
りなる精度の優れたしかも検出の容易な案内溝を有し、
ランダムアクセスが容易で、量産に適した光デイスク作
製用原板の製造法に関する。
一般に、光学記録方式は磁気記録方式に比べて記録密度
を1桁以上高くすることができる優れた記録方式として
採用されている。
を1桁以上高くすることができる優れた記録方式として
採用されている。
この光学記録方式においては特定の情報を所定の位置に
記録し、また検出を行うには記録位置を示す標識が必要
である。この標識がないと、書き込まれる情報の位置精
度は機械的な位置決め精度によって決まってしまい、そ
のため任意の位置への記録、記録位置からの再生、書き
込まれた情報のメンテナンス(追加、削除および変更等
)は不可能になってしまい、いわゆるランダムアクセス
を行うことができない。
記録し、また検出を行うには記録位置を示す標識が必要
である。この標識がないと、書き込まれる情報の位置精
度は機械的な位置決め精度によって決まってしまい、そ
のため任意の位置への記録、記録位置からの再生、書き
込まれた情報のメンテナンス(追加、削除および変更等
)は不可能になってしまい、いわゆるランダムアクセス
を行うことができない。
そこで、従来、ホトレジスト層を被着した円板を回転さ
せると共に、半径方向に移動させながら光を連続的に照
射して露光し、その後現像することによりスパイラル状
の案内トラックを形成することが知られている(特開昭
49−113601号公報)。
せると共に、半径方向に移動させながら光を連続的に照
射して露光し、その後現像することによりスパイラル状
の案内トラックを形成することが知られている(特開昭
49−113601号公報)。
このようなスパイラル状の案内トラックは、レコードデ
ィスク(音楽等の録音板)等に主として使用されている
が、種々の情報を1枚の光ディス夕を用いて記録および
再生するには、記録区域は同心円状である方が情報群同
士の区別が容易である。そのため、従来、フォトレジス
ト等を表面に形成した感材に対し、レーザ光を用いて1
本ずつ、即ち円を一つずつ露光した後現像することによ
り同心円状の案内トラックを形成することが行われてい
る。
ィスク(音楽等の録音板)等に主として使用されている
が、種々の情報を1枚の光ディス夕を用いて記録および
再生するには、記録区域は同心円状である方が情報群同
士の区別が容易である。そのため、従来、フォトレジス
ト等を表面に形成した感材に対し、レーザ光を用いて1
本ずつ、即ち円を一つずつ露光した後現像することによ
り同心円状の案内トラックを形成することが行われてい
る。
しかしながら、スパイラル状の案内トラックは、前述し
たように情報群同士の区別の点で難点があり、またレー
ザ光を用いて1本ずつ、即ち円を一つずつ露光した後現
像する方法では、スパイラル状案内トラックの難点は解
消するものの、案内トラックを1本づつ形成するために
能率が悪く、しかも隣接する各日の間隔(ピッチ)は機
械的な精度によって決まってしまうので、高精度化は困
難であった。
たように情報群同士の区別の点で難点があり、またレー
ザ光を用いて1本ずつ、即ち円を一つずつ露光した後現
像する方法では、スパイラル状案内トラックの難点は解
消するものの、案内トラックを1本づつ形成するために
能率が悪く、しかも隣接する各日の間隔(ピッチ)は機
械的な精度によって決まってしまうので、高精度化は困
難であった。
本発明は上記の従来の欠点を解消するためのもので、レ
ーザ光の干渉を利用し、作製効率がよくしかも精度の優
れた光干渉型案内溝を作製することが可能な原板の製造
方法を提供することを目的とする。
ーザ光の干渉を利用し、作製効率がよくしかも精度の優
れた光干渉型案内溝を作製することが可能な原板の製造
方法を提供することを目的とする。
そのために本発明の光ディスクの光干渉型案内溝作製用
原板の製造法は、基板上に形成されたフォトレジスト層
に一方が平行光束、他方が発散光である2光東のレーザ
光を同一方向から照射して同心円状の干渉縞を記録した
後、現像することを特徴とするものである。
原板の製造法は、基板上に形成されたフォトレジスト層
に一方が平行光束、他方が発散光である2光東のレーザ
光を同一方向から照射して同心円状の干渉縞を記録した
後、現像することを特徴とするものである。
〔作用]
本発明は、基板上に形成されたフォトレジスト層に平行
光束と発散光の2光束のレーザ光を照射して干渉縞を記
録し、しかる後現像することにより、−度の露光で同心
円状の案内トラックを形成することができる。
光束と発散光の2光束のレーザ光を照射して干渉縞を記
録し、しかる後現像することにより、−度の露光で同心
円状の案内トラックを形成することができる。
以下、実施例を図面に基づき説明する。
本発明に適する光ディスクの型としては、材質、記録・
再生の原理を問わないが、量産を考慮すると熱可塑性合
成樹脂シートまたは板を基体とし、光学記録層としては
、Te%Bi、In5Pb等の低融点金属薄膜、並びに
該金属薄膜の積層体等が好ましい。
再生の原理を問わないが、量産を考慮すると熱可塑性合
成樹脂シートまたは板を基体とし、光学記録層としては
、Te%Bi、In5Pb等の低融点金属薄膜、並びに
該金属薄膜の積層体等が好ましい。
次に光ディスクの表面に設けられている光学的記録およ
び再生時の記録位置を示すため光干渉型案内溝について
述べると、第1図に模式的に示すように、中央部に穴を
有する光ディスク2の表面に符号1で示すような同心円
状のものが設けられている。
び再生時の記録位置を示すため光干渉型案内溝について
述べると、第1図に模式的に示すように、中央部に穴を
有する光ディスク2の表面に符号1で示すような同心円
状のものが設けられている。
第2図は第1図の光ディスクの光干渉型案内溝の形状を
示す断面図であって、光干渉型案内溝lは凸部の頂部3
および凹部の底部4が平坦でかつそれらの面は基体と平
行となっている。
示す断面図であって、光干渉型案内溝lは凸部の頂部3
および凹部の底部4が平坦でかつそれらの面は基体と平
行となっている。
第21!Iにおいて、凸部3の図面左右方向の幅は実際
使用する上では0.5〜0.2μm1凹邪の幅は同様に
0.5〜2μmが好ましいがこの限りではない。また、
凹部の底から凸部の頂までの長さ、即ち光干渉型案内溝
の深さとしては0.1〜1.0μmが可能であるが、光
干渉型案内溝の深さは記録および再生に使用するレーザ
光の波長をλとすると、λ/4、λ/8、・・・・・・
であることが望ましい。
使用する上では0.5〜0.2μm1凹邪の幅は同様に
0.5〜2μmが好ましいがこの限りではない。また、
凹部の底から凸部の頂までの長さ、即ち光干渉型案内溝
の深さとしては0.1〜1.0μmが可能であるが、光
干渉型案内溝の深さは記録および再生に使用するレーザ
光の波長をλとすると、λ/4、λ/8、・・・・・・
であることが望ましい。
以上のような光干渉型案内溝を有する光ディスクにレー
ザ光を所要サイズのスポット状にして照射すると、該案
内溝の凸部の頂で反射した光と凹部の底で反射した光と
が、前記したごとくλ/4、λ/8、・・・・・・に相
当する光路差を生じ、光の干渉が起きて記録位置の検出
が容易にできる。
ザ光を所要サイズのスポット状にして照射すると、該案
内溝の凸部の頂で反射した光と凹部の底で反射した光と
が、前記したごとくλ/4、λ/8、・・・・・・に相
当する光路差を生じ、光の干渉が起きて記録位置の検出
が容易にできる。
次に、以上のような光干渉型案内溝を有する光ディスク
の製造法の実施例について説明する。
の製造法の実施例について説明する。
第3図および第4図は本発明の一実施例を示す図である
。
。
まず、ガラス等の適宜な平坦な基板10aに7オトレジ
スト液をスピンナーコーティング等により塗布し、フォ
トレジスト10bを形成してフォトレジスト原板IOを
形成する。フォトレジスト10bはポジ型であってもネ
ガ型であっても差支えない。次に第3図に示すごとくレ
ーザ光源5より発するレーザ光をハーフミラ−6にて2
光東に分割し、ミラー7aおよび7bにて反射させ、二
枚の凸レンズを1組として例示するレンズ系8a。
スト液をスピンナーコーティング等により塗布し、フォ
トレジスト10bを形成してフォトレジスト原板IOを
形成する。フォトレジスト10bはポジ型であってもネ
ガ型であっても差支えない。次に第3図に示すごとくレ
ーザ光源5より発するレーザ光をハーフミラ−6にて2
光東に分割し、ミラー7aおよび7bにて反射させ、二
枚の凸レンズを1組として例示するレンズ系8a。
8bを用いて2光東とも発散光とした後、角度θの交角
をもって2光束を前記フォトレジストに照射する。この
際、回転台11に7オトレジスト原板10を真空チャッ
ク等により固定しておき、フォトレジスト原板上に該原
板の半径方向に沿ってスリット状の窓を有するマスク1
2を近接させて固定しておき、回転台11を回転させる
。こうして、回転台を回転させつつ照射を行うと、d=
λ/Sinθ なる関係式で決まるdのピッチを有する同心円状の光の
干渉縞がフォトレジスト層に記録され、所定の現像を行
うことにより干渉縞における光の強弱に応じた凹凸が形
成される。
をもって2光束を前記フォトレジストに照射する。この
際、回転台11に7オトレジスト原板10を真空チャッ
ク等により固定しておき、フォトレジスト原板上に該原
板の半径方向に沿ってスリット状の窓を有するマスク1
2を近接させて固定しておき、回転台11を回転させる
。こうして、回転台を回転させつつ照射を行うと、d=
λ/Sinθ なる関係式で決まるdのピッチを有する同心円状の光の
干渉縞がフォトレジスト層に記録され、所定の現像を行
うことにより干渉縞における光の強弱に応じた凹凸が形
成される。
以上の製造法においては光干渉型案内溝の深さはレジス
ト層の厚みによって決まるが、現像をコントロールする
ことによりさらに深さを浅くすることも可能である。ま
た、前記のマスクのスリット幅は狭い方がよく、広くす
るとフォトレジストに記録される干渉縞の精度を損なう
ので、0.1關〜10mmぐらいが好ましい。
ト層の厚みによって決まるが、現像をコントロールする
ことによりさらに深さを浅くすることも可能である。ま
た、前記のマスクのスリット幅は狭い方がよく、広くす
るとフォトレジストに記録される干渉縞の精度を損なう
ので、0.1關〜10mmぐらいが好ましい。
以上の実施例においては、フォトレジスト原板を回転さ
せているが、次のようなフォトレジスト原板を固定させ
て記録する方法によっても能率てきな案内トラックの作
製が可能である。
せているが、次のようなフォトレジスト原板を固定させ
て記録する方法によっても能率てきな案内トラックの作
製が可能である。
第5図は本発明の他の実施例を示す図である。
本実施例においては、レーザ光源5から発したレーザ光
をハーフミラ−6により2光東に分割し、一方の光束は
ミラー7a、7bを経てレンズ系8により平行光とした
後、フォトレジスト層tabおよび基板10aからなる
フォトレジスト原板10に導かれ、他方の光束は凸面鏡
9により発散光とした後、フォトレジスト原板10に導
かれ、両者の干渉縞が同心円状に生じる。こうして露光
した後、現像することにより一度の露光で同心円状の案
内トラックを形成することができる。但し、この実施例
においては、交角θはフォトレジスト原板上の任意の点
における2光東の交角であるから、フォトレジスト原板
の中心に向かうほどθが小さくなり、従って、干渉縞の
間隔はフォトレジスト原板の中心に向かうほど大きくな
る傾向を有する。
をハーフミラ−6により2光東に分割し、一方の光束は
ミラー7a、7bを経てレンズ系8により平行光とした
後、フォトレジスト層tabおよび基板10aからなる
フォトレジスト原板10に導かれ、他方の光束は凸面鏡
9により発散光とした後、フォトレジスト原板10に導
かれ、両者の干渉縞が同心円状に生じる。こうして露光
した後、現像することにより一度の露光で同心円状の案
内トラックを形成することができる。但し、この実施例
においては、交角θはフォトレジスト原板上の任意の点
における2光東の交角であるから、フォトレジスト原板
の中心に向かうほどθが小さくなり、従って、干渉縞の
間隔はフォトレジスト原板の中心に向かうほど大きくな
る傾向を有する。
以上のように本発明によれば、従来のごとく一本ずつ、
即ち円を1つずつ露光する方法に比べて能率が高く、し
かも同心円状の精度は前記したごと<d=λ/Sinθ
で決まり、露光用のレーザ光源を一定にすればλは一定
であり、θは露光装置を一度固定すればバランかないも
のであるから、機減的な精度の影響を受けず精度のよい
露光ができ、従って迅速に精度のよい光干渉型案内溝作
製用原板が得られるものである。
即ち円を1つずつ露光する方法に比べて能率が高く、し
かも同心円状の精度は前記したごと<d=λ/Sinθ
で決まり、露光用のレーザ光源を一定にすればλは一定
であり、θは露光装置を一度固定すればバランかないも
のであるから、機減的な精度の影響を受けず精度のよい
露光ができ、従って迅速に精度のよい光干渉型案内溝作
製用原板が得られるものである。
第1図および第2図は光干渉型案内溝を有する光ディス
クの模式図および部分断面図、第3図乃至第5図は本発
明の実施例を示す図である。 1・・・光干渉型案内溝、2・・・光ディスク、3・・
・凸部の頂部、4・・・凹部の頂部、5・・・レーザ光
源、6・・・ハーフミラ−17,7a、7b・・・ミラ
ー、8a。 8b・・・レンズ系、9・・・凸面鏡、10・・・フォ
トレジスト原板、10a・・・基板、10b・・・フォ
トレジスト、11・・・回転台、12・・・マスク。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
蛭 川 昌 信(外5名)第5図
クの模式図および部分断面図、第3図乃至第5図は本発
明の実施例を示す図である。 1・・・光干渉型案内溝、2・・・光ディスク、3・・
・凸部の頂部、4・・・凹部の頂部、5・・・レーザ光
源、6・・・ハーフミラ−17,7a、7b・・・ミラ
ー、8a。 8b・・・レンズ系、9・・・凸面鏡、10・・・フォ
トレジスト原板、10a・・・基板、10b・・・フォ
トレジスト、11・・・回転台、12・・・マスク。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
蛭 川 昌 信(外5名)第5図
Claims (1)
- (1)基板上に形成されたフォトレジスト層に一方が平
行光束、他方が発散光である2光束のレーザ光を同一方
向から照射して同心円状の干渉縞を記録した後、現像す
ることを特徴とする光ディスクの光干渉型案内溝作製用
原板の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2510489A JPH0656672B2 (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 光ディスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2510489A JPH0656672B2 (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 光ディスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56192113A Division JPS5894149A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 光デイスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01315048A true JPH01315048A (ja) | 1989-12-20 |
JPH0656672B2 JPH0656672B2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=12156616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2510489A Expired - Lifetime JPH0656672B2 (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 光ディスクの光干渉型案内溝作製用原板の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0656672B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7459241B2 (en) * | 2003-09-22 | 2008-12-02 | Seagate Technology Llc | Rotary apertured interferometric lithography (RAIL) |
-
1989
- 1989-02-03 JP JP2510489A patent/JPH0656672B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7459241B2 (en) * | 2003-09-22 | 2008-12-02 | Seagate Technology Llc | Rotary apertured interferometric lithography (RAIL) |
US7642041B2 (en) | 2003-09-22 | 2010-01-05 | Seagate Technology Llc | Rotary apertured interferometric lithography (RAIL) |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0656672B2 (ja) | 1994-07-27 |
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