JPH02189747A - 光記録媒体製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光記録媒体の製造方法に係り、特に書き込み
後直接読み出しくＤＲＡＷ）型の光デイスク装置に使用
される光記録媒体の製造方法に関する。

（従来の技術） ＤＲＡＷ型光ディスク装置に使用される光記録媒体には
種々の方式のものがあるが、表面の微細構造を変化させ
て反射率を変える方式の一つに、ＭＥ　（Ｍｏｔｈ　Ｅ
ｙｅ、蛾の目）ディスクがある。

第４図は、ＭＥディスクの信号記録・再生原理を説明す
るための部分拡大断面図で、同図（Ａ）は信号記録前の
状態、同図（Ｂ）は信号記録後の状態を表す。

同図（Ａ）に示すようにＭＥディスク２１は、プラスチ
ック製のディスク基板２２の表面に記録ピット１ｂりも
十分型さいメツシュ状凹凸（微細ピット）２５が形成さ
れ、金属８２３でコートされたものである。この基板２
２を通してレーザビームで信号記録を行なうと、この金
属膜２３がレーザ光を吸収して発熱する。このため、こ
の部分に接するこのディスク基板２２も軟化し、表面張
力のために、表面積を減らす方向に力が働き、同図（Ｂ
）に示すように、この信号記録部分２７が平坦化される
。信号記録前の同図（Ａ）の表面構造では反射率は数％
と低いが、信号記録後の同図（Ｂ）のこの信号記録部分
２７の反射率は数十％に達する。これがＭＥディスクの
信号記録・再生原理である。

次に、上述のＭＥディスクの従来例の製造方法において
、記録ピット径よりも十分小さい０．２〜０．３μｍピ
ッチのメツシュ状表面凹凸を形成するために、レーザ光
線の干渉縞を利用するホログラフィ法について説明する
。

第５図は、従来のＭＥディスクの製造方法の例における
メツシュ状パターン記録工程を説明する斜視図である。

図において、ガラス基板２上にフォトレジスト膜３が塗
布されたワーク１が固定されている。本例では、レーザ
光線の４光束を同時に用いて、メツシュ状の干渉縞パタ
ーンを得ている。図示しないレーザ光源（Ｈｅ−Ｃｄレ
ーザ、波長３２５　ｎｍ）からのレーザ光線は４分割さ
れ、コリメートレンズ３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ，３０Ｄ
により各々平行光にされ、前記フォトレジスト膜３上の
露光部分３７を照射する。平行ビーム３６Ａ及び３６Ｃ
は挟角３８を有し、平行ビーム３０Ｂ及び３０Ｄは挟角
３９を有す。この平行ビーム３６Ａ及び３６Ｃは同一の
人、射手面上に有り、又、この平行ビーム３６Ｂ及び３
６Ｄも同一の入射平面上に有り、これ等２つの入射平面
は略直交している。この結果、前記干渉縞はメツシュ状
になる。前記平行ビーム３６Ａ〜３６Ｄの各々の入射角
を略４５゜にすると、このメツシュのピッチは略０．２
３μｍとなる。

光デイスク媒体として製造する場合は、トラッキング用
のプリグループも表面に必要である。このためには、プ
リグループパターンをあらかじめ露光したフォトレジス
ト膜上に、上述のホログラフィ法でメツシュパターンを
露光する。ホログラフィ法で露光したフォトレジスト膜
を現像して製作したメツシュ状凹凸表面に、無電解めっ
きでニッケル膜を形成し、これを電極にしてニッケルの
電解めっきしたものを電鋳法により金型化する。

この金型を用いることで、通常の光デイスク基板を製造
するのと同様に、射出成形法等によって、片面にメツシ
ュ状凹凸を有するプラスチック製のディスク基板が複製
出来る。このプラスチック材料としては、アクリル、塩
化ビニル、ポリカーボネート等が適している。次に、光
吸収層であり、信号記録後の反射層になる金属膜を、前
記ディスク基板のメツシュ状凹凸表面に蒸着、スパッタ
リング等により形成する。この金属材料としては、比較
的変形しやすい、アルミニウム、クロム、金等が適して
おり、膜厚略１０００λ程度で吸収層となる。

第３図は、本発明の一実施例及び従来例の製造方法によ
り形成されたＭＥディスクの例を示す部分拡大破断斜視
図である。

図に示すようにＭＥディスク２１は、前記ディスク基板
２２上のトラックピッチ１．８μｍの同心円状の前記プ
リグループ２４に、０．２〜０．３μｍピッチの前述の
メツシュ状の多数の微細ピット（メツシュ状凹凸）２５
が同心円状に均一に形成され、その上に前記金属膜２３
が形成されたものである。

（発明が解決しようとする課題） 上述の従来例のＭＥディスクの製造方法におけるメツシ
ュ状パターン記録工程は、直径１３０關の前記ガラス基
板２上のフォトレジスト膜３上に均一な前記メツシュ状
パターンを形成するためには、大口径レンズ等の高精度
な光学系装置と精密な調整を必要とするため、製造コス
トが高くなるという問題点があった。

本発明は上記の点に着目してなされたもので、比較的簡
単な設備と調整により製造コストの低減が可能な、ＭＥ
ディスク等の光記録媒体の製造方法を提供することを目
的とするものである。

（課題を解決するための手段） 本発明の光記録媒体製造方法は、フォトレジスト膜が塗
布されたガラス基板を回転装置により回転させ、送り装
置によりこの回転装置を径方向に移動させ、光学系装置
からの断続するレーザ光線の分割による互いに干渉しな
い複数の微細光束により前記フォトレジスト膜を同心円
状又はスパイラル状に順次露光させ、周方向、径方向に
所定ピッチのメツシュ状パターンを記録した後現像し、
前記フォトレジスト膜に記録ピットの直径よりも小さい
ピッチのメツシュ状凹凸を形成する工程と、このメツシ
ュ状凹凸が形成された前記フォトレジスト膜から電鋳法
により金型を形成する工程と、この金型を用いてプラス
チック成形によりメツシュ状凹凸を片面に有するディス
ク基板を形成する工程と、このディスク基板のこのメツ
シュ状凹凸を有する面上に金属膜を形成する工程とを有
する構成としたものである。

（実施例） 本発明の光記録媒体製造方法の一実施例におけるメツシ
ュ状パターンを記録する工程は、フォトレジスト膜が塗
布されたガラス基板を回転装置により回転させ、光学系
装置からの断続するレーザ光線の分割による互いに干渉
しない複数の微細光束により、このフォトレジスト膜を
同心円状に露光させ、１周の露光完了後送り装置により
この回転装置を径方向に移動させることにより、周方向
、径方向に所定ピッチのメツシュ状パターンを記録する
ものである。

本発明の光記録媒体製造方法は、このメツシュ状パター
ン記録工程が従来例と異なるものであり、これ以外の工
程は従来例と同様であるから、従来例と同様部分は説明
を省略する。

第１図は、本発明の光記録媒体製造方法の一実施例にお
けるメツシュ状パターン記録工程の製造設備の例を示す
構成図である。

図に示すように、本発明の一実施例におけるメツシュ状
パターン記録工程の製造設備は、光学系装置７及びワー
ク駆動装置４等からなる。

ワーク１であるフォトレジスト膜３が塗布されたガラス
基板２は、このワーク駆動装置４の回転装置５により、
所定のスピードで回転駆動される。

この回転装置５は、後述するこのワーク１の１周の露光
終了のたびに、このワーク駆動装置４の送り装置６によ
り、所定のピッチで径方向に移動させられる。

この光学系装置７は、レーザ発振器８、光変調器９、コ
リメートレンズ１０、スリット板１１、半透明ｖ１１２
、反射鏡１３、偏向ビームスプリッタ１４、対物レンズ
１５等から構成されている。

このレーザ発振器８からのレーザ光線は、この光変調器
により所定の周期で断続される。次に、このレーザ光線
は前記コリメートレンズ１０により平行光とされ、この
平行光は前記スリット板１１により正方形ビームとなる
。この正方形ビームは、前記半透明鏡１２により、直進
ビーム１６Ａと迂回ビーム１６Ｂの２つのビームに分割
される。この直進ビーム１６Ａは、前記偏向ビームスプ
リッタ１４、対物レンズ１５を通り、前記ワーク１のフ
ォトレジスト膜３上に正方形の光スポット１７Ａとして
照射される。

前記迂回ビーム１６Ｂは、２個の前記反射鏡１３で反射
し、この直進ビーム１６Ａと光路長の差により９０″位
相が異なるためこの偏向ビームスプリッタ１４で反射し
、この対物レンズ１５を通り、このフォトレジスト膜３
上に正方形の光スポット１７Ｂとして照射される。この
正方形の光スポット１７Ａ、１７Ｂは、前記光学系装置
７の調整により、例えばそれぞれ０．１３μｌ口であり
、両者間の前記ワーク１の径方向のピッチは０．２６μ
ｍである。又、前記光変調器９によるレーザ光線の断続
を１０ＭＨｚで行ない、前記回転装置５によるこのワー
ク１の回転を、線速度２．６ｎ＋／　ｓｅｅのＣＬＶ回
転で行なえば、周方向のピッチも０．２６μｌとなる。

そして、この断続する光スポット１７Ａ。

１７Ｂによる露光が、このワーク１の回転に伴い順次行
なわれ、同心円状にこのワーク１の１周にわたって完了
するたびに、前記送り装置６によりこの回転装置５は径
方向に０，５２μ量ずつ移動させられるから、このワー
ク１の周方向、径方向共に０，２６μ個ピッチのメツシ
ュ状パターンが記録される。

このメツシュ状パターン及び前述のプリグループパター
ンの露光部分の現像後、従来の技術説明で述べた工程を
経て、金型化される。

第２図は、本発明の光記録媒体製造方法の一実施例にお
けるメツシュ状凹凸形成工程の説明図である。

最初に、同図（１）に示すように、前記ワーク１のガラ
ス基板２上のフォトレジスト膜３上に、前述のプリグル
ープパターンが露光される。即ち、このワーク１の径方
向の幅がそれぞれ０．８μ畷の、露光部分３ａ及び非露
光部分３ｂが交互に同心円状に形成される。次に、同図
（２）に示すように、前記フォトレジスト膜３上に、第
１図で前述のメツシュ状パターンが露光され、前記光ス
ポット１７Ａ、１７Ｂによる露光部分３Ｃが形成される
。

次に、このフォトレジスト膜３上の露光部分３ｃの分解
能向上のため、周知の加熱処理が施される。

次に、同図（４）に示すように、このフォトレジスト膜
３の現像が行なわれ、前記露光部分３ａ及び３Ｃは除去
されて、除去部分３ｄ及び除去部分（メツシュ状凹凸）
３ｅとなる。

この除去部分３ｄ及び３ｅによるこのフォトレジスト膜
３の凹凸は、従来の技術説明で述べた製、遣方法と同様
に電鋳法により金型化される。この凹凸は前述のプリグ
ループ２４及び微細ピット２５に対応したものであるか
ら、この金型を用いて従来例と同様に射出成形法等によ
って、前述のプラスチック製のディスク基板２２が製造
される。

なお、上述の本発明の一実施例の製造方法は、前記ＭＥ
ディスク２１上のプリグループ２４及び微細ピット２５
が同心円状の場合に対応したものであるが、スパイラル
状の場合にも適用可能である。この場合は、前記送り装
置６により前記回転装置５を径方向に常時一定のスピー
ドで移動することにより、前記光スポット１７Ａ、１７
Ｂによる露光部分はスパイラル状になる。

又、上述の本発明の一実施例においては、前記光スポッ
ト１７Ａ、１７Ｂが正方形の場合について説明したが、
これ以外の形状でも良いのは勿論である。

（発明の効果） 以上説明した本発明の光記録媒体製造方法におけるメツ
シュ状パターン記録工程は、比較的簡単な設備と調整に
より製造可能であるから、この製造方法による光記録媒
体のコスト低減が可能である。

又、前記ディスク基板のメツシュ状凹凸が同心円状の場
合及びスパイラル状の場合共製造可能であるから、応用
範囲が広い。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体製造方法の一実施例におけ
るメツシュ状パターン記録工程の製造設備の例を示す構
成図、第２図は本発明の光記録媒体製造方法の一実施例
におけるメツシュ状凹凸形成工程の説明図、第３図は本
発明の一実施例及び従来例の製造方法により形成された
ＭＥディスクの例を示す部分拡大破断斜視図、第４図は
ＭＥディスクの信号記録・再生原理を説明するための部
分拡大断面図、第５図は従来のＭＥディスクの製造方法
の例におけるメツシュ状パターン記録工程を説明する斜
視図である。 １・・・ワーク、２・・・ガラス基板、３・・・フォト
レジスト膜、３ａ、３ｃ・・・露光部分、３ｂ・・・非
露光部分、３ｄ・・・除去部分、３ｅ・・・除去部分（
メツシュ状凹凸）、４・・・ワーク駆動装置、５・・・
回転装置、６・・・送り装置、７・・・光学系装置、１
６Ａ・・・直進ビーム、１６Ｂ・・・迂回ビーム、１７
Ａ、１７Ｂ・・・光スポット、 ２１・・・ＭＥディスク（光記録媒体）、２２・・・デ
ィスク基板、２３・・・金属膜、２４・・・プリグルー
プ、 ２５・・・微細ピット（メツシュ状凹凸）。 特許出願人　日本ビクター株式会社 代表者　垣木邦夫 ｇｚ図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. フォトレジスト膜が塗布されたガラス基板を回転装置に
   より回転させ、送り装置によりこの回転装置を径方向に
   移動させ、光学系装置からの断続するレーザ光線の分割
   による互いに干渉しない複数の微細光束により前記フォ
   トレジスト膜を同心円状又はスパイラル状に順次露光さ
   せ、周方向、径方向に所定ピッチのメッシュ状パターン
   を記録した後現像し、前記フォトレジスト膜に記録ピッ
   トの直径よりも小さいピッチのメッシュ状凹凸を形成す
   る工程と、このメッシュ状凹凸が形成された前記フォト
   レジスト膜から電鋳法により金型を形成する工程と、こ
   の金型を用いてプラスチック成形によりメッシュ状凹凸
   を片面に有するディスク基板を形成する工程と、このデ
   ィスク基板のこのメッシュ状凹凸を有する面上に金属膜
   を形成する工程とを有することを特徴とする光記録媒体
   製造方法。