JPS5933631A - 光デイスク用基板に案内溝を形成する方法 - Google Patents
光デイスク用基板に案内溝を形成する方法Info
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- JPS5933631A JPS5933631A JP57142607A JP14260782A JPS5933631A JP S5933631 A JPS5933631 A JP S5933631A JP 57142607 A JP57142607 A JP 57142607A JP 14260782 A JP14260782 A JP 14260782A JP S5933631 A JPS5933631 A JP S5933631A
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- photoresist
- photosensitive resin
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光デイスク用基板に案内溝を形成する方法に関
する。
する。
従来の光学式情報記録用光ディスクは、表面を光学的平
面に仕上げたガラスやプラスティックなどの基板上に金
属や感光色素などの光記録層を被着したもので、この光
ディスクに情報を記録する場合、機械的方法を用いて、
高精ｆｉのトラッキング制御機構により、貫き込み方向
を制御するとともに送り量をきわめて精密に制御してい
る。このため記録する情報トラックのビツヂを一定とし
、且つ高密度とするには、制作１機構が複雑で高価とな
る。そこで、記録時のトラッキングを容易にするために
、光ディスクに案内溝を形成する方法がとられる。この
案内溝の形成はガラス外との基板上に微小径のダイヤモ
ンドなどの加工釧でスパイラル状にけがくことでなされ
る。次いで案内溝ｆ＝ｊき基板を母型として公知の複製
技術により案内溝１４き基板を複製し、この表面に記録
ｌ＠を被覆して記録用光ディスクとする。
面に仕上げたガラスやプラスティックなどの基板上に金
属や感光色素などの光記録層を被着したもので、この光
ディスクに情報を記録する場合、機械的方法を用いて、
高精ｆｉのトラッキング制御機構により、貫き込み方向
を制御するとともに送り量をきわめて精密に制御してい
る。このため記録する情報トラックのビツヂを一定とし
、且つ高密度とするには、制作１機構が複雑で高価とな
る。そこで、記録時のトラッキングを容易にするために
、光ディスクに案内溝を形成する方法がとられる。この
案内溝の形成はガラス外との基板上に微小径のダイヤモ
ンドなどの加工釧でスパイラル状にけがくことでなされ
る。次いで案内溝ｆ＝ｊき基板を母型として公知の複製
技術により案内溝１４き基板を複製し、この表面に記録
ｌ＠を被覆して記録用光ディスクとする。
しかしながら、案内溝のけかきのために高精度の加工針
送り制御機構が必要となる。複製技術で太随生産するに
１〜でも母型製造用に高精度制御機構を用いることは不
経済である。
送り制御機構が必要となる。複製技術で太随生産するに
１〜でも母型製造用に高精度制御機構を用いることは不
経済である。
本発明は−Ｈ記問題に鑑みなされたものであって、品価
で、はがきに時間を愛する従来の機械的外方法に代えて
、簡単な構成で容易に基板に案内溝を形成する方法を提
供することを目的とする。また、本発明の別の目的は等
Ｊ９干渉の原理を応用する簡ＣＩｉで合理的な凹凸形状
の形式方法を提供することである。
で、はがきに時間を愛する従来の機械的外方法に代えて
、簡単な構成で容易に基板に案内溝を形成する方法を提
供することを目的とする。また、本発明の別の目的は等
Ｊ９干渉の原理を応用する簡ＣＩｉで合理的な凹凸形状
の形式方法を提供することである。
本発明によれば、ディスク状基板に感光性樹脂を塗布し
て感光性樹脂層を形成さす、次に円錐状のＸ″Ｌ体をそ
の頂点と前記感光性樹脂層とが対向するように配＋ｈ＋
、、次に平行なコヒーレント光を照射し等浮子渉によっ
て生じる干渉縞を前記感光性樹脂層に露光し次いで現１
象処理により前記樹脂層に同心円状の案内溝を形成させ
ることを特徴とする、光デイスク用基板に案内溝を形成
する方法が提供きれる。
て感光性樹脂層を形成さす、次に円錐状のＸ″Ｌ体をそ
の頂点と前記感光性樹脂層とが対向するように配＋ｈ＋
、、次に平行なコヒーレント光を照射し等浮子渉によっ
て生じる干渉縞を前記感光性樹脂層に露光し次いで現１
象処理により前記樹脂層に同心円状の案内溝を形成させ
ることを特徴とする、光デイスク用基板に案内溝を形成
する方法が提供きれる。
本発明は一般に「等浮子渉」といわれる現象を応用した
ものである。ここで「等浮子渉」とは、平行平面板また
は僅かに傾いた喫形面に光が入射するとき、画境界面に
よって反射される光またはこれを透過する光を、適当な
有限の距ｐｅｌｔ Ｋ調節した眼または望遠鏡で見た場
合の干渉現象をいう。この現象を本発明と関連して第１
図により説明すると、いま、２枚の平行平板１．４が角
度θで接した状態の断面を考える。平板１の上方より波
長λの単色性の平行光化されたコヒーレント光（レーザ
光）７を照射する。このとべ平行平板４の表面５上には
干面３と平面５との間の等浮子渉縞が観測される。平行
平板１と４との接線Ｃから距離Ｘの点Ａでの平面３と平
面５の間隔ｈ（平面５からの垂直な距離）は１Ｎ ＝
Ｘ ｔａｎθ （１）で表
わされる。点Ａで等浮子渉縞の強度が極小となる榮件は ）１＝竺λ （ｍ−０，１，２，３−）（２１である
。したがって λ （３） ２ｔａ、ｎθ とあられされ、接線Ｃからの距離がλ／（２ｔａｎθ）
ごとに、等）Ｖ干渉縞の強度が極小となる。すなわち、
等間隔の（−渉縞が平面５で観、測される。
ものである。ここで「等浮子渉」とは、平行平面板また
は僅かに傾いた喫形面に光が入射するとき、画境界面に
よって反射される光またはこれを透過する光を、適当な
有限の距ｐｅｌｔ Ｋ調節した眼または望遠鏡で見た場
合の干渉現象をいう。この現象を本発明と関連して第１
図により説明すると、いま、２枚の平行平板１．４が角
度θで接した状態の断面を考える。平板１の上方より波
長λの単色性の平行光化されたコヒーレント光（レーザ
光）７を照射する。このとべ平行平板４の表面５上には
干面３と平面５との間の等浮子渉縞が観測される。平行
平板１と４との接線Ｃから距離Ｘの点Ａでの平面３と平
面５の間隔ｈ（平面５からの垂直な距離）は１Ｎ ＝
Ｘ ｔａｎθ （１）で表
わされる。点Ａで等浮子渉縞の強度が極小となる榮件は ）１＝竺λ （ｍ−０，１，２，３−）（２１である
。したがって λ （３） ２ｔａ、ｎθ とあられされ、接線Ｃからの距離がλ／（２ｔａｎθ）
ごとに、等）Ｖ干渉縞の強度が極小となる。すなわち、
等間隔の（−渉縞が平面５で観、測される。
本発明では等浮子渉縞を生じさせる物体として「円錐状
の守゛体」を用いる。「円ωＩＥ状の立体」には円ｆ＋
：１１：体、円錐体の１戊而に平行に切断したいわゆる
円ζ１ト台形々どが包含される。
の守゛体」を用いる。「円ωＩＥ状の立体」には円ｆ＋
：１１：体、円錐体の１戊而に平行に切断したいわゆる
円ζ１ト台形々どが包含される。
以［に図面を参照して本発明の方法を具体的に説明する
。第２図は本発明の好適な態様を示すものであって、円
錐状の立体として円錐体を用いる例である。
。第２図は本発明の好適な態様を示すものであって、円
錐状の立体として円錐体を用いる例である。
ディスク状ガラス基板１０の表面に感光性樹脂であるホ
トレジスト１１をスピナーで塗布して感光性樹脂層を形
成する。円錐体１２は円錐体の頂点１５がディスク状ガ
ラス基板１０−トのホトレジスト面２１と対向するよう
に配置されている。波長λのコヒーレント光を発するレ
ーザ１５からの光束は対物レンズ１６で集束され、焦点
附近に配置されたピンホール１７を通過し、はぼガウス
状の強度分布を有する光束となる。
トレジスト１１をスピナーで塗布して感光性樹脂層を形
成する。円錐体１２は円錐体の頂点１５がディスク状ガ
ラス基板１０−トのホトレジスト面２１と対向するよう
に配置されている。波長λのコヒーレント光を発するレ
ーザ１５からの光束は対物レンズ１６で集束され、焦点
附近に配置されたピンホール１７を通過し、はぼガウス
状の強度分布を有する光束となる。
この光束はコリメータレンズ１８により平行光束となり
、逆ガウス分布状の透過率をもつ光重分布補正フィルタ
１９を透過し、はぼ均−党則分布の光束となる。この光
束はミラー２０で反射され、円錐体１２の底面よりディ
スク状ガラス基板１０に垂直に入射する。入射した光は
円錐体１２の曲面２２とホトレジスト１１０表面２１と
の間で等浮子渉を生じ、その干渉縞に応じた光強度でホ
トレジスト１１を露光する。その後、ホトレジストを所
定の現像処３Ｊ１１を行なうと第６図に〆示すｌよつな
光の干渉縞の間隔に対応して同心円状の凹凸形状が形成
される。
、逆ガウス分布状の透過率をもつ光重分布補正フィルタ
１９を透過し、はぼ均−党則分布の光束となる。この光
束はミラー２０で反射され、円錐体１２の底面よりディ
スク状ガラス基板１０に垂直に入射する。入射した光は
円錐体１２の曲面２２とホトレジスト１１０表面２１と
の間で等浮子渉を生じ、その干渉縞に応じた光強度でホ
トレジスト１１を露光する。その後、ホトレジストを所
定の現像処３Ｊ１１を行なうと第６図に〆示すｌよつな
光の干渉縞の間隔に対応して同心円状の凹凸形状が形成
される。
円錐体１２の曲面２２とホトレジスト１１の表面２１と
の等原子渉縞は円錐体１２の頂点１３を中心とする等間
隔ピッチの同心円であり、ディスク状ガラス基板りのホ
トレジストの凹凸も等間隔ピッチの同心円とス「つてい
る。この同心円のピッチに１、−１−１記式（３１ｊす
λ、／（２ｔａｎθ） となる。
の等原子渉縞は円錐体１２の頂点１３を中心とする等間
隔ピッチの同心円であり、ディスク状ガラス基板りのホ
トレジストの凹凸も等間隔ピッチの同心円とス「つてい
る。この同心円のピッチに１、−１−１記式（３１ｊす
λ、／（２ｔａｎθ） となる。
このホトレジストの同心円状の凹凸をもつディスク表面
に光記録層を破着すれば情報記録用の光ディスクが形成
される。捷だ、ホトレジストの同心円状の凹凸をもつデ
ィスクを母型として既知の複製技術により複製ディスク
を作成し、その表面に光記録層を被着して情報記錬用光
ディスクとすることもできる。
に光記録層を破着すれば情報記録用の光ディスクが形成
される。捷だ、ホトレジストの同心円状の凹凸をもつデ
ィスクを母型として既知の複製技術により複製ディスク
を作成し、その表面に光記録層を被着して情報記錬用光
ディスクとすることもできる。
肌２図に示した本発明の好適な態様で七よ、コヒーレン
ト光を円錐体の底面から入射させたが別の態様としてデ
ィスク状基板に入射させることもできる。すなわち、本
発明では円錐状の立体が透明である場合は立体の底面側
にコヒーレント光を照射することができ、一方円錐状の
立体の曲面に反射体例えばアルミニウムが被着されてい
る場合は基板側にコヒーレント光を照射することができ
る。
ト光を円錐体の底面から入射させたが別の態様としてデ
ィスク状基板に入射させることもできる。すなわち、本
発明では円錐状の立体が透明である場合は立体の底面側
にコヒーレント光を照射することができ、一方円錐状の
立体の曲面に反射体例えばアルミニウムが被着されてい
る場合は基板側にコヒーレント光を照射することができ
る。
また、鑵光、現像したホトレジストの凸部の幅をさらに
狭くしたい場合には円錐体の曲面に反射体を被着し基板
側からコヒーレント光を入射させて等原子渉縞の鮮鋭度
（１ｓｉｂｌ−１１ｔｙ ）を高くすればよい。
狭くしたい場合には円錐体の曲面に反射体を被着し基板
側からコヒーレント光を入射させて等原子渉縞の鮮鋭度
（１ｓｉｂｌ−１１ｔｙ ）を高くすればよい。
本発明において用いられる基板は当業各において知０れ
たものであって、光照射に対して透明でなくてｔよなら
ない。ガラス、Ｉ、−よびプラスチックなどの一般の記
録君料基板を使用でき特にプラスチックが安全１７１：
、Ｊｉｅ録感度回上および平面性の観点から好適である
。透明基板に用いられる樹脂の代表的な例には−アクリ
ル樹脂、ポリカーボネートなどがある。′また、本発明
に用いられる感光性樹脂はその膜が丸照射により急速に
橋かり〕、不溶化・する篩分子であって、例えばポリビ
ニルアルコール、ノボラック（か１脂、アクリル酸系＋
Ｖｒ、ｌ脂およびエポキシ系樹脂などにケイ皮酸残基、
カルコン残基、アクリド酸残基、ジアゾニウム塩残基、
フェニルアジド残基および０−キノンアシド残基などの
ような感光基をｆｉｆｉ人したものである。
たものであって、光照射に対して透明でなくてｔよなら
ない。ガラス、Ｉ、−よびプラスチックなどの一般の記
録君料基板を使用でき特にプラスチックが安全１７１：
、Ｊｉｅ録感度回上および平面性の観点から好適である
。透明基板に用いられる樹脂の代表的な例には−アクリ
ル樹脂、ポリカーボネートなどがある。′また、本発明
に用いられる感光性樹脂はその膜が丸照射により急速に
橋かり〕、不溶化・する篩分子であって、例えばポリビ
ニルアルコール、ノボラック（か１脂、アクリル酸系＋
Ｖｒ、ｌ脂およびエポキシ系樹脂などにケイ皮酸残基、
カルコン残基、アクリド酸残基、ジアゾニウム塩残基、
フェニルアジド残基および０−キノンアシド残基などの
ような感光基をｆｉｆｉ人したものである。
次に、本発明の好適な例を以下に掲けるが、これに限定
されるものではない。すなわち、感光性樹脂としてＡＺ
１３５０（シゾレイ社製）を用いてガラス基板上に０．
５ ｔｐｍの厚さで塗布し感光性樹脂層を形成した。次
に、透明円錐体（頂角＝１６４．２８°、θ＝１８６°
）の頂点と前記感光性樹脂層とが対向するように配置し
、Ｈθ−Ｃｄレーザ（４４１６Ａ＞のコヒーレント光を
円錐体の底面１１１１に照射して２０秒間露光した。次
いで、ＡＺ現１１！孜の１：１希釈液（２０”’ｃ ）
を用いて６０秒間現像したところガラス基板上にビツヂ
１．’ ６７ｕ＋＋の同心円状の凹凸が形成された。凸
部は１ワさ約０．３ｆｔｍ、幅０．８μ？１１であった
。
されるものではない。すなわち、感光性樹脂としてＡＺ
１３５０（シゾレイ社製）を用いてガラス基板上に０．
５ ｔｐｍの厚さで塗布し感光性樹脂層を形成した。次
に、透明円錐体（頂角＝１６４．２８°、θ＝１８６°
）の頂点と前記感光性樹脂層とが対向するように配置し
、Ｈθ−Ｃｄレーザ（４４１６Ａ＞のコヒーレント光を
円錐体の底面１１１１に照射して２０秒間露光した。次
いで、ＡＺ現１１！孜の１：１希釈液（２０”’ｃ ）
を用いて６０秒間現像したところガラス基板上にビツヂ
１．’ ６７ｕ＋＋の同心円状の凹凸が形成された。凸
部は１ワさ約０．３ｆｔｍ、幅０．８μ？１１であった
。
ヒ述したように本発明の方法によれば、Ｃ１肴中な構成
の光学系を用いて容易に案内溝付き’ｌｉＶ ？１４記
録用の光ディスクが製造できるとともに、光学的記録方
法のため案内ｍピッチを高密＋１（かつ高精度の一ボ間
隔にでき、そして短時間かつ安価に光ディスクを製造で
きるという利点がイ１ｔられる。
の光学系を用いて容易に案内溝付き’ｌｉＶ ？１４記
録用の光ディスクが製造できるとともに、光学的記録方
法のため案内ｍピッチを高密＋１（かつ高精度の一ボ間
隔にでき、そして短時間かつ安価に光ディスクを製造で
きるという利点がイ１ｔられる。
第１図は本発明に応用する等浮子渉の原理を説明する概
念図であり、第２図は本発明の好適な態様を説明する概
念図でありそして第３図は本発明により形成される同心
円状の凹凸形状を有する基板の部分断面図である。 １．４・・・平行平板、２，３，５．６・・・平面、１
０・・・ガラス基板、１１・・・ホトレジスト、１２・
・・透明円錐体、１３・・・円Φ（１体の頂点、１５・
・・レーザ、１６・・・対物レンズ、１７・・・ピンホ
ール、１８・・・コリメータレンズ、１９・・・補正フ
ィルター、２０・・・ミラー、２１・・・ホトレジスト
表面、２２・・・円錐体の曲面。
念図であり、第２図は本発明の好適な態様を説明する概
念図でありそして第３図は本発明により形成される同心
円状の凹凸形状を有する基板の部分断面図である。 １．４・・・平行平板、２，３，５．６・・・平面、１
０・・・ガラス基板、１１・・・ホトレジスト、１２・
・・透明円錐体、１３・・・円Φ（１体の頂点、１５・
・・レーザ、１６・・・対物レンズ、１７・・・ピンホ
ール、１８・・・コリメータレンズ、１９・・・補正フ
ィルター、２０・・・ミラー、２１・・・ホトレジスト
表面、２２・・・円錐体の曲面。
Claims (1)
- ディスク状基板圧感＞Ｙ−、性樹脂を塗布して感光性樹
脂層を形成させ、次に円錐状の立体をその頂点と前記感
光性樹脂層とが対向するように配置にし、次に平行なコ
ヒーレント光を照射し等ｊν干渉によって生じる干渉縞
を前記感光性樹脂層に露光し次いで現像処理により前記
樹脂層に同心円状の案内ｌｎを形成させることを特徴と
する、光デイスク用基板に案内溝な形成する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57142607A JPS5933631A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 光デイスク用基板に案内溝を形成する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57142607A JPS5933631A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 光デイスク用基板に案内溝を形成する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5933631A true JPS5933631A (ja) | 1984-02-23 |
Family
ID=15319253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57142607A Pending JPS5933631A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 光デイスク用基板に案内溝を形成する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5933631A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6284449A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多数溝同時形成方法 |
| JPH04283750A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 露光装置 |
| CN110618138A (zh) * | 2019-10-30 | 2019-12-27 | 安徽工业大学 | 一种利用等厚干涉原理检测显示屏中缺陷的系统及方法 |
-
1982
- 1982-08-19 JP JP57142607A patent/JPS5933631A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6284449A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多数溝同時形成方法 |
| JPH04283750A (ja) * | 1991-03-13 | 1992-10-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 露光装置 |
| CN110618138A (zh) * | 2019-10-30 | 2019-12-27 | 安徽工业大学 | 一种利用等厚干涉原理检测显示屏中缺陷的系统及方法 |
| CN110618138B (zh) * | 2019-10-30 | 2022-06-07 | 安徽工业大学 | 一种利用等厚干涉原理检测显示屏中缺陷的方法 |
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