JPS6129592A - 二次元光学用パタ−ンの形成方法 - Google Patents
二次元光学用パタ−ンの形成方法Info
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- JPS6129592A JPS6129592A JP59151813A JP15181384A JPS6129592A JP S6129592 A JPS6129592 A JP S6129592A JP 59151813 A JP59151813 A JP 59151813A JP 15181384 A JP15181384 A JP 15181384A JP S6129592 A JPS6129592 A JP S6129592A
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- optical
- pattern
- forming
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- Pending
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/24—Ablative recording, e.g. by burning marks; Spark recording
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は光学フィルタ、レンズ、位置決めなどに用い
られる２次元の光学用パターンの形成方法に関するもの
である。
られる２次元の光学用パターンの形成方法に関するもの
である。
「従来技術」
光学的記録再生において、所定の反射率、透過率を持つ
二次元のパターンの形成は、非常ζこ重要になりつつあ
る。すなわち例えば光ディスク等のレーザ・ビーム等を
用いる光記録再生方式においては、情報の高密度記録、
高速度の検索のために円形パターン、即ち光学案内溝が
用いられることが通例である。
二次元のパターンの形成は、非常ζこ重要になりつつあ
る。すなわち例えば光ディスク等のレーザ・ビーム等を
用いる光記録再生方式においては、情報の高密度記録、
高速度の検索のために円形パターン、即ち光学案内溝が
用いられることが通例である。
従来はこのような光学案内溝の作製には、レコード原盤
の作製法と同様の工程が用いられていた。
の作製法と同様の工程が用いられていた。
つまり、（１）原盤のカッティング、（２）原盤表面へ
のメッキ１． （３）メッキ部分を分離したマスクの作
製、（４）マスクを利用したマザーの作製、（５）スタ
ンパ−といった一連の工程により光学案内溝の作製が行
なわれていた。この方法は大量生産性には優れているが
、中途工程でのゴミ、欠陥発生が多く、高精度を要求さ
れる光学ディスク用の光学案内溝には適していなかった
。またこの方法は溝間隔の変更、溝深さ変更等、少量多
品種生産には本質的に不適である。
のメッキ１． （３）メッキ部分を分離したマスクの作
製、（４）マスクを利用したマザーの作製、（５）スタ
ンパ−といった一連の工程により光学案内溝の作製が行
なわれていた。この方法は大量生産性には優れているが
、中途工程でのゴミ、欠陥発生が多く、高精度を要求さ
れる光学ディスク用の光学案内溝には適していなかった
。またこの方法は溝間隔の変更、溝深さ変更等、少量多
品種生産には本質的に不適である。
二次元光学用パターンの他方面での応用は、フーリエ変
換された特定パターン状を刻んだ光学フィルタ的用途で
ある。従来はこの種の二次元光学パター・ンのフィルタ
は、高解像度の銀塩フィルムを露光現像して作製してい
たが、高解像度を保証するための特殊現像工程が必要で
ある等作製条件が厳しく、正確なパターンの作製は困難
かつ作製所用時間が長くかかる欠点を持っていた。
換された特定パターン状を刻んだ光学フィルタ的用途で
ある。従来はこの種の二次元光学パター・ンのフィルタ
は、高解像度の銀塩フィルムを露光現像して作製してい
たが、高解像度を保証するための特殊現像工程が必要で
ある等作製条件が厳しく、正確なパターンの作製は困難
かつ作製所用時間が長くかかる欠点を持っていた。
この発明は以上述べた光学案内溝の作製方法の欠点を解
決するため、高精度の二次元光学用パターンを少ない工
程で簡便に作製することができる二次元光学用パターン
の瘉成方法を提供することにある。
決するため、高精度の二次元光学用パターンを少ない工
程で簡便に作製することができる二次元光学用パターン
の瘉成方法を提供することにある。
「発明の構成」
この発明によれば有機物色素の蒸着膜にレーザ光を照射
し、その照射した部分を蒸発して二次元光学用パターン
を形成する。
し、その照射した部分を蒸発して二次元光学用パターン
を形成する。
以下、この発明について詳細な説明を加える。
第１図は、この発明による二次元光学用パターンの形成
方法を光ディスクにおける光学案内溝の形成に応用した
場合を示す。支持基板１１上に光学パターン形成用薄膜
１２が形成されている。支持基板１１はガラス板、アク
リル板等通常は透明な基板が用いられるが、特に強度２
面精度が必要な時にはＡｔ板、Ｓｉウェハを用いること
もできる。
方法を光ディスクにおける光学案内溝の形成に応用した
場合を示す。支持基板１１上に光学パターン形成用薄膜
１２が形成されている。支持基板１１はガラス板、アク
リル板等通常は透明な基板が用いられるが、特に強度２
面精度が必要な時にはＡｔ板、Ｓｉウェハを用いること
もできる。
この発明では光学パターン形成用薄膜１２として有機物
色素の蒸着膜を用い、その蒸着膜、にレーザ光を照射し
て光学的変化を生じさせて案内溝を形成する。第１図に
光学パターン形成用薄膜１２に形成された光学案内溝１
３を示す。光学パターン形成用薄膜１２に対し、レーザ
光源１４からのレーザ光を”集光用レンズ１５により集
光して照射する。
色素の蒸着膜を用い、その蒸着膜、にレーザ光を照射し
て光学的変化を生じさせて案内溝を形成する。第１図に
光学パターン形成用薄膜１２に形成された光学案内溝１
３を示す。光学パターン形成用薄膜１２に対し、レーザ
光源１４からのレーザ光を”集光用レンズ１５により集
光して照射する。
光学パターン形成用薄膜１２に対し溝１３を形成した後
に、光記録用薄膜、例又はＴｅ 、 Ｂｉ 、 Ｔｅ分
散Ｃ８２プラズマ重合膜で覆われて光記録媒体とされる
。その光記録媒体に対する光記録用光源″としては通常
は電気的変調が容易な半導体レーザが用いられ、その波
長領域は８００ ｎｍ以上が多い。この光記録用光源の
光を光記録層側から直接照射して光記録を行う場合は、
光学パターン形成用薄膜１２はその光記録用の半導体レ
ーザ光を吸収する光吸収特性をあ才り考慮する必要はな
いが、できれば不必要な熱発生を避けるためにその光記
録用光の吸収は無い事が望ましい◇透明な基板１１を通
し、更にパターン形成用薄膜１２を通過して光記録用薄
膜へ光記録用□光を照射して光記録を行う光記録媒体が
最も一般的であるが、この場合はパターン形成用薄膜１
２は光記録用半導体レーザ光に対して完全に透明である
ことが必要である゛。
に、光記録用薄膜、例又はＴｅ 、 Ｂｉ 、 Ｔｅ分
散Ｃ８２プラズマ重合膜で覆われて光記録媒体とされる
。その光記録媒体に対する光記録用光源″としては通常
は電気的変調が容易な半導体レーザが用いられ、その波
長領域は８００ ｎｍ以上が多い。この光記録用光源の
光を光記録層側から直接照射して光記録を行う場合は、
光学パターン形成用薄膜１２はその光記録用の半導体レ
ーザ光を吸収する光吸収特性をあ才り考慮する必要はな
いが、できれば不必要な熱発生を避けるためにその光記
録用光の吸収は無い事が望ましい◇透明な基板１１を通
し、更にパターン形成用薄膜１２を通過して光記録用薄
膜へ光記録用□光を照射して光記録を行う光記録媒体が
最も一般的であるが、この場合はパターン形成用薄膜１
２は光記録用半導体レーザ光に対して完全に透明である
ことが必要である゛。
この発明において用いられるパターン形成用薄膜１２め
有機色素は可視部のみに光吸収を持ち、かつ半導体レー
ザ光に対して透明なフルオレセイン。
有機色素は可視部のみに光吸収を持ち、かつ半導体レー
ザ光に対して透明なフルオレセイン。
アウリン、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、銅フタロシ
アニンが−用いられる。例えば、フルオレセイン、アラ
リンは真空蒸着によって均質な黄色のガラス状薄膜を形
成し、Ａｒレーザの波長のみを吸収する。従ってパター
ン形成用のレーザ光源１４にＡｒレーザを用いると、こ
の薄膜１２のＡｒレーザが照射された部分は蒸発昇華し
て光学溝１３が形成される。
アニンが−用いられる。例えば、フルオレセイン、アラ
リンは真空蒸着によって均質な黄色のガラス状薄膜を形
成し、Ａｒレーザの波長のみを吸収する。従ってパター
ン形成用のレーザ光源１４にＡｒレーザを用いると、こ
の薄膜１２のＡｒレーザが照射された部分は蒸発昇華し
て光学溝１３が形成される。
しかも、薄膜１２の残存部は半導体レーザ光を吸収しな
い。銅フタロシアニン、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ
を薄膜１２として用いる場合は同様にして光源１４とし
てＨｅ −Ｎｅレーザを用いれば良い。
い。銅フタロシアニン、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ
を薄膜１２として用いる場合は同様にして光源１４とし
てＨｅ −Ｎｅレーザを用いれば良い。
この発明は光学案内溝１３を媒体の個々に直接描画する
ため、従来の技術に比べ光学案内溝を得るたあの工程数
は大幅に減少する。このために、光学連作製時に生じる
欠陥の発生は非常に少なくなる利点を持つ。生産性につ
いても、Ａｒレーザ、Ｈｅ−’Ｎｅレーザは高出力の装
置が現存し、フルオレセイン、アラリン、銅フタロシア
ニン類の対応するレーザ感度は十分に高いため、レーザ
光を複数に分割し、同時に複数の光学案内溝を形成する
ように走査すれば生産性を高めることができる。例えば
第２図に示すように高出力レーザ２１よりのレーザ光を
ビームスプリッタアレイ２２により平行した複数の溝形
成用ビーム２３に分割し、この溝形成用ビーム２３を光
ディスクの光学パターン形成用薄膜２４にその半径方向
に配列して照射し、その光ディスクを回転して同時走査
する。例えば光デイスク上に５万本の光学案内溝（トラ
ック形成部分幅１゜ｚ、トラックピッチ２μｍ）を１１
００Ｏｒｐで形成すると、単一のビームで案内溝を形成
する場合は約５０分／面が必要であるが、１０本のビー
ムで同時走査すると５分／面で光学案内溝の作製が可能
となる。
ため、従来の技術に比べ光学案内溝を得るたあの工程数
は大幅に減少する。このために、光学連作製時に生じる
欠陥の発生は非常に少なくなる利点を持つ。生産性につ
いても、Ａｒレーザ、Ｈｅ−’Ｎｅレーザは高出力の装
置が現存し、フルオレセイン、アラリン、銅フタロシア
ニン類の対応するレーザ感度は十分に高いため、レーザ
光を複数に分割し、同時に複数の光学案内溝を形成する
ように走査すれば生産性を高めることができる。例えば
第２図に示すように高出力レーザ２１よりのレーザ光を
ビームスプリッタアレイ２２により平行した複数の溝形
成用ビーム２３に分割し、この溝形成用ビーム２３を光
ディスクの光学パターン形成用薄膜２４にその半径方向
に配列して照射し、その光ディスクを回転して同時走査
する。例えば光デイスク上に５万本の光学案内溝（トラ
ック形成部分幅１゜ｚ、トラックピッチ２μｍ）を１１
００Ｏｒｐで形成すると、単一のビームで案内溝を形成
する場合は約５０分／面が必要であるが、１０本のビー
ムで同時走査すると５分／面で光学案内溝の作製が可能
となる。
この・発明は先に述べたように光ディスクの光学案内溝
の形成のみならず光学フィルタの光学パターンの形成に
も適用できる。すなわち後の実施例４はフレネル光学系
のレンズパターンの形成例を示し、実施例５にフーリエ
変換系のフィルタ作製の例を示し、ホログラムと同様に
コヒーレント光学記録再生系に用いることができる。
の形成のみならず光学フィルタの光学パターンの形成に
も適用できる。すなわち後の実施例４はフレネル光学系
のレンズパターンの形成例を示し、実施例５にフーリエ
変換系のフィルタ作製の例を示し、ホログラムと同様に
コヒーレント光学記録再生系に用いることができる。
〔実施例１〕
厚さ１．５ｍｍ、直径３０５ ｍｍのアクリル円板上に
フルオレセインを、Ｔａボート上から１Ｏ−５Ｔｏｒｒ
以下の圧力で真空蒸着した。その膜厚を水晶振動子モニ
タで測定制御して厚さ７００大のパターン形成薄膜を得
た。次に、Ａｒレーザ（波長４８８ ｎｍ）を直径１．
０μｍに集光したスポットでそのパターン形成薄膜に照
射し、円板を回転させながら光学案内溝を作製した。そ
の後記録層としてＴｅを１３０大蒸着し、基板側からフ
ォーカス、トラッキングサーボ機構付の光学ヘッド（半
導体レーザ波長８３０ｎｍ）でスキャンすると、フォー
カシング、トラッキング信号共に良好な形状が得られた
。ついで半導体レーザ光のパワーを上げて記録するとＴ
ｅ膜１こ光学案内溝にそりでピット記録が行なえ、パワ
ーを下げて再生するとピットの再生信号が検出てきた。
フルオレセインを、Ｔａボート上から１Ｏ−５Ｔｏｒｒ
以下の圧力で真空蒸着した。その膜厚を水晶振動子モニ
タで測定制御して厚さ７００大のパターン形成薄膜を得
た。次に、Ａｒレーザ（波長４８８ ｎｍ）を直径１．
０μｍに集光したスポットでそのパターン形成薄膜に照
射し、円板を回転させながら光学案内溝を作製した。そ
の後記録層としてＴｅを１３０大蒸着し、基板側からフ
ォーカス、トラッキングサーボ機構付の光学ヘッド（半
導体レーザ波長８３０ｎｍ）でスキャンすると、フォー
カシング、トラッキング信号共に良好な形状が得られた
。ついで半導体レーザ光のパワーを上げて記録するとＴ
ｅ膜１こ光学案内溝にそりでピット記録が行なえ、パワ
ーを下げて再生するとピットの再生信号が検出てきた。
〔実施例２〕
実施例１と同様の基板にＣｕ−フタロシアニンを８００
大蒸着し、波長６３４．５ｎｍのＨｅ−Ｎｅ光で光学案
内溝を形成した。記録層としてＴｅ分分散プラズマ重合
金１２０大蒸着して光記録媒体とした。実施例１と同様
にしてトラッキング信号、ピット記録、その再生信号を
チェックした所間様に良好な結果が得られた。
大蒸着し、波長６３４．５ｎｍのＨｅ−Ｎｅ光で光学案
内溝を形成した。記録層としてＴｅ分分散プラズマ重合
金１２０大蒸着して光記録媒体とした。実施例１と同様
にしてトラッキング信号、ピット記録、その再生信号を
チェックした所間様に良好な結果が得られた。
〔実施例３〕
実施例１と同様に下表の有機物色素を真空蒸着して該当
するレーザで光学案内溝を作製した。
するレーザで光学案内溝を作製した。
各々の光学案内溝はいづれも半導体レーザ光を吸収する
ことなく透過し、記録媒体としてＴｅを蒸着した時、良
好なトラッキング特性が得られた。
ことなく透過し、記録媒体としてＴｅを蒸着した時、良
好なトラッキング特性が得られた。
〔実施例４°〕
厚さ１．５ｍ＋ｎ、直径３０ｍの光学研磨ガラス円板上
に、フルオレセインをＴａボート上から１Ｏ−５Ｔｏｙ
ｒ以下の圧力で真空蒸着して、１０００λの厚さに蒸着
した。
に、フルオレセインをＴａボート上から１Ｏ−５Ｔｏｙ
ｒ以下の圧力で真空蒸着して、１０００λの厚さに蒸着
した。
次にその蒸着膜付基板を回転させながら、波長４８８
ｎｍのＡｒレーザを直径１．０ ｐｍに集光して、４１
μｍピッチでトラックを移動させて同心円状のフレネル
レンズ用溝（光学バタン）を形成した。作製したフレネ
ルレンズはフルオレセイン色素の特性吸収（４８８ｎｍ
前後）の帯域外の波長に対してフレネルレンズとして働
くことが確認できた。
ｎｍのＡｒレーザを直径１．０ ｐｍに集光して、４１
μｍピッチでトラックを移動させて同心円状のフレネル
レンズ用溝（光学バタン）を形成した。作製したフレネ
ルレンズはフルオレセイン色素の特性吸収（４８８ｎｍ
前後）の帯域外の波長に対してフレネルレンズとして働
くことが確認できた。
〔実施例５〕
厚さ１．０ｍｍ、−辺が４０１１＋１１の方形研磨ガラ
ス板上にＣｕフタロシアニンを１５００λ蒸着した薄膜
基板を作製した。次に波長６３３ ｎｍの高パワーＨｅ
−Ｎｅレーザで針穴状のシャー関数フィルタ用二次元光
学パターンを作製する。次にスペイシャルフィルタを通
したコヒーレントフーリエ変換系光学系中に作製した二
次元光学パターンを挿入して物体の再生像を得ると、多
数の物体像が得られるフーリエ変換用光学パターンフィ
ルタとして利用できることが確認できた。
ス板上にＣｕフタロシアニンを１５００λ蒸着した薄膜
基板を作製した。次に波長６３３ ｎｍの高パワーＨｅ
−Ｎｅレーザで針穴状のシャー関数フィルタ用二次元光
学パターンを作製する。次にスペイシャルフィルタを通
したコヒーレントフーリエ変換系光学系中に作製した二
次元光学パターンを挿入して物体の再生像を得ると、多
数の物体像が得られるフーリエ変換用光学パターンフィ
ルタとして利用できることが確認できた。
「発明の効果」
以上説明したように、この発明による二次元光学用パタ
ーンの形成方法は例えば光学案内溝に適用して、従来の
光学案内溝形成方法に較べ大幅に往製の工程数を減少で
きる。従って、工程中での欠隔発生も少なく、高精度、
高品質の光学案内溝が形成できる。
ーンの形成方法は例えば光学案内溝に適用して、従来の
光学案内溝形成方法に較べ大幅に往製の工程数を減少で
きる。従って、工程中での欠隔発生も少なく、高精度、
高品質の光学案内溝が形成できる。
更に、直接描画システムのため、案内溝形状の変更、パ
ターン寸法の変更は同一の案内溝作成用薄膜上のレーザ
走査パターンを変更するだけでよい利点がある。以上の
理由のため、この発明による二次・元光学用パターンの
作製方法は、高品質の少量多品種生産に適し、かつ案内
溝の形成のみならず、フレネルレンズのパターン、光学
フィルタのパターンの形成も高精度のものを簡単に行う
ことができる。
ターン寸法の変更は同一の案内溝作成用薄膜上のレーザ
走査パターンを変更するだけでよい利点がある。以上の
理由のため、この発明による二次・元光学用パターンの
作製方法は、高品質の少量多品種生産に適し、かつ案内
溝の形成のみならず、フレネルレンズのパターン、光学
フィルタのパターンの形成も高精度のものを簡単に行う
ことができる。
第１図はこの発明の方法を光学案内溝の形成に適用した
構成例を示す図、第２図は第１図における光学案内溝の
形成を同時に複数本を行うようにした構成例を示す図で
ある。 １１：基板、１２：光学パターン形成用薄膜、１３：二
次元光学パターンとしての光学案内溝、１４：パターン
形成用光源、１５：集光レンズ、２１：高出力レーザ、
２２：ビームスプリッタアレイ、２３：光学案内溝記録
ビーム、２４：光学パターン形成用薄膜。
構成例を示す図、第２図は第１図における光学案内溝の
形成を同時に複数本を行うようにした構成例を示す図で
ある。 １１：基板、１２：光学パターン形成用薄膜、１３：二
次元光学パターンとしての光学案内溝、１４：パターン
形成用光源、１５：集光レンズ、２１：高出力レーザ、
２２：ビームスプリッタアレイ、２３：光学案内溝記録
ビーム、２４：光学パターン形成用薄膜。
Claims (1)
- （１）有機物色素の蒸着膜にレーザ光を照射し、その照
射した部分を蒸発して二次元光学用パターンを形成する
二次元光学用パターンの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59151813A JPS6129592A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 二次元光学用パタ−ンの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59151813A JPS6129592A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 二次元光学用パタ−ンの形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6129592A true JPS6129592A (ja) | 1986-02-10 |
Family
ID=15526866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59151813A Pending JPS6129592A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 二次元光学用パタ−ンの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6129592A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62274063A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-11-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光照射有機薄膜作成法 |
| JPS6353254A (ja) * | 1986-08-21 | 1988-03-07 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | 乾式付着方法 |
| EP0382684A2 (en) * | 1989-02-09 | 1990-08-16 | Intercast Europe S.P.A. | Optical element for use in eyeglasses, visors, masks and screens to reduce the image perception time and improve the contour definition thereof |
-
1984
- 1984-07-20 JP JP59151813A patent/JPS6129592A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62274063A (ja) * | 1986-05-23 | 1987-11-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光照射有機薄膜作成法 |
| JPS6353254A (ja) * | 1986-08-21 | 1988-03-07 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | 乾式付着方法 |
| EP0382684A2 (en) * | 1989-02-09 | 1990-08-16 | Intercast Europe S.P.A. | Optical element for use in eyeglasses, visors, masks and screens to reduce the image perception time and improve the contour definition thereof |
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