JP2001236683A - 光学ヘッド用スライダ及びその製造方法並びに光ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録媒体に照射される光のスポットに迷光に
よる影響等を生じさせることなく、記録媒体に対する信
号の記録再生を適切に行う。 【解決手段】 近接場光を利用して記録媒体に対する信
号の記録及び／又は再生を行う光学ヘッドに用いられる
光学ヘッド用スライダであって、記録媒体に対する信号
の記録及び／又は再生時に記録媒体上を浮上走行するス
ライダ部材と、スライダ部材に接合された光学レンズと
を備え、記録媒体と対向する面には、光学レンズにより
集光された光のスポットの周囲を遮光する遮光マスクが
設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、近接場光を利用し
て光ディスク等の記録媒体に対する信号の記録及び／又
は再生を行う光学ヘッドに用いられる光学ヘッド用スラ
イダ、及び、その製造方法、並びに、そのような光学ヘ
ッド用スライダを用いた光学ヘッドにより記録媒体に対
する信号の記録及び／又は再生を行う光ディスク装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、光磁気ディスクや相変化型光
ディスク等のように、信号記録面に光を照射することに
より、信号の記録再生が行われる光ディスクが普及して
いる。そして、これら光ディスクにおいては、できるだ
け多くの情報を記録可能とすべく、記録密度の高密度化
が盛んに行われている。

【０００３】また、このような光ディスクの高記録密度
化に伴って、光ディスクに対して信号の記録再生を行う
光学ピックアップに対しても、光ディスクの信号記録面
に照射される光のスポット径を小さくすることにより、
記録密度を向上させる試みが行われている。

【０００４】具体的には、ハードディスク装置等に用い
られる浮上型ヘッドスライダの技術を光学ピックアップ
に応用した、いわゆる光ハードディスク装置が提案され
ている。この光ハードディスク装置は、スライダ部材に
レンズを搭載してヘッドスライダを構成し、このヘッド
スライダが光ディスクの信号記録面上を所定の浮上量で
浮上しながら、光ディスクに対する信号の記録再生を行
うものである。

【０００５】すなわち、この光ハードディスク装置で
は、ヘッドスライダが、光ディスクの回転により生じる
空気流を受けて、光ディスクの信号記録面から微小な間
隔で浮上した状態となる。この場合、ヘッドスライダと
光ディスクの信号記録面との間隔を、１μｍ程度以下の
微小な間隔に保持することができる。そして、光ハード
ディスク装置では、ヘッドスライダが光ディスクの信号
記録面上を微小な間隔で浮上しながら、ニアフィールド
記録と呼ばれる近接場光を利用した信号の記録及び／又
は再生が行われる。

【０００６】光ハードディスク装置では、このような光
学ヘッド用スライダを用いることにより、従来の光ディ
スク装置の光学系と比べて、光ディスクの信号記録面に
照射される光のスポット径を小さくすることができる。

【０００７】詳述すると、光学ヘッド用スライダにおい
て、スライダ部材に搭載されたレンズの光軸に対する光
線の最大角をθとし、レンズの屈折率をｎとすると、レ
ンズの開口数ＮＡ(Numerical Aperture)は、ｎsinθと
なる。この場合、θは９０゜を超えることはないので、
開口数ＮＡの最大値は、屈折率ｎとなる。また、入射す
る光の波長をλとすると、レンズのスポット径は、λ／
ＮＡとなる。

【０００８】一般に、空気中の屈折率ｎは１であり、レ
ンズの開口数ＮＡは１よりも小さいので、このレンズの
スポット径は、波長λよりも大きくなる。ところが、レ
ンズと光ディスクの信号記録面との間隔が波長λより十
分小さい場合には、近接場光の効果によりレンズの屈折
率ｎの影響を受けて、レンズの開口数ＮＡは、１よりも
大きくなる。例えば、屈折率ｎが１．８のとき、開口数
ＮＡは、１．５程度となる。この場合、レンズのスポッ
ト径は、波長λよりも小さくなる。

【０００９】したがって、光ハードディスク装置では、
このような光学ヘッド用スライダを用いることにより、
光ディスクの信号記録面に照射される光のスポット径を
小さくすることができ、従来の光ディスク装置を上回る
記録密度で信号の記録再生を行うことができる。

【００１０】ここで、レンズの開口数ＮＡを実質的に高
める方法としては、例えば、顕微鏡の対物レンズと試料
との間に、屈折率の高い液体を入れる液浸法が知られて
いる。これに呼応して、上述した光学ヘッド用スライダ
において、近接場光を利用した信号の記録再生を行う際
に用いられるレンズのことを、固浸レンズ（ＳＩＬ：So
lid Immersion Lens）と呼んでいる。

【００１１】また、光学ヘッド用スライダでは、固浸レ
ンズの代わりに、カタディオプトリックレンズと呼ばれ
るレンズを用いる方法も提案されている。このカタディ
オプトリックレンズは、反射ミラーが形成された単レン
ズであり、上述した固浸レンズと同等の機能を有するこ
とから、固浸ミラー（ＳＩＭ：Solid Immersion Mirro
r）とも呼ばれている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】一般に、カタディオプ
トリックレンズは、図１８に示すように、凹面屈折面か
らなる第１面１００ａと、平面ミラーからなる第２面１
００ｂと、凹面非球面ミラーからなる第３面１００ｃと
を有しており、凹面屈折面からなる第１面１００ａから
入射した光を、平面ミラーからなる第２面１００ｂにて
反射させた後、凹面非球面ミラーからなる第３面１００
ｃにて更に反射させて集光するようになされている。ま
た、この図１８に示すカタディオプトリックレンズ１０
０は、図１９に示すように、光ディスク１０１の信号記
録面１０１ａに照射される光の波長域において、光透過
率が十分に高い材料を用いて形成されたスライダ部材１
０２に光学接着材１０３を用いて接合され、このスライ
ダ部材１０２と光学的に一体化されて光学ヘッド用ヘッ
ドスライダを構成している。なお、図１９は、図１８中
示すカタディオプトリックレンズ１００とスライダ部材
１０２との接合部分を拡大して示す要部断面図である。

【００１３】この場合、カタディオプトリックレンズ１
００により集光された光は、光学接着材１０３を介して
スライダ部材１０２に入射し、このスライダ部材１０２
の光ディスク１０１と対する面にて焦点を結ぶことにな
る。

【００１４】しかしながら、カタディオプトリックレン
ズ１００により集光された光は、スライダ部材１０２と
光学接着材１０３との境界面で屈折する際に、媒質の異
なるこれらスライダ部材１０２と光学接着材１０３との
屈折率の違いから、僅かに反射する光が生じることにな
る。このため、スライダ部材１０２と光学接着材１０３
との境界面では、反射した光による多重屈折が生じてし
まい、いわゆる迷光と呼ばれる光の散乱が発生すること
になる。

【００１５】従来の光学ピックアップでは、このような
迷光による影響は、光ディスクの信号記録面から１ｍｍ
程度離れていたために問題とはならなかった。しかしな
がら、近接場光を利用して光ディスクに対する信号の記
録再生を行う場合には、上述した光学ヘッド用スライダ
と光ディスクの信号記録面との間隔が５０ｎｍ程度と極
めて近接した状態となるために、このような迷光による
影響は無視できないものとなる。すなわち、光学ヘッド
用スライダでは、このような迷光の影響により、光ディ
スクの信号記録面に照射される光のスポット径が見かけ
上大きなものとなってしまう。

【００１６】このため、従来の光学ヘッド用スライダで
は、光ディスクの信号記録面に照射される光のスポット
径を小さくすることができず、記録密度を大幅に向上さ
せることが非常に困難となるといった問題があった。ま
た、光ハードディスク装置では、このような光学ヘッド
スライダを用いた場合に、Ｓ／Ｎ比（Ｓ：信号，Ｎ：雑
音）の大幅な低下を招いてしまい、光ディスクに対する
信号の記録再生に大きな支障を及ぼす虞も生じてくる。

【００１７】そこで、本発明はこのような従来の事情に
鑑みて提案されたものであり、記録媒体に照射される光
のスポットに迷光による影響等を生じさせることなく、
記録媒体に対する信号の記録再生を適切に行うことを可
能とした光学ヘッド用スライダを提供することを目的と
する。また、そのような光学ヘッド用スライダを高精度
且つ簡便に作製することを可能とした光学ヘッド用スラ
イダの製造方法を提供することを目的とする。また、そ
のような光学ヘッド用スライダを用いた光学ヘッドによ
り記録媒体に対する信号の記録及び／又は再生を適切に
行うことを可能とした光ディスク装置を提供することを
目的とする。

【００１８】

【課題を解決するための手段】この目的を達成する本発
明に係る光学ヘッド用スライダは、近接場光を利用して
記録媒体に対する信号の記録及び／又は再生を行う光学
ヘッドに用いられる光学ヘッド用スライダであって、記
録媒体に対する信号の記録及び／又は再生時に記録媒体
上を浮上走行するスライダ部材と、スライダ部材に接合
された光学レンズとを備え、記録媒体と対向する面に
は、光学レンズにより集光された光のスポットの周囲を
遮光する遮光マスクが設けられていることを特徴とす
る。

【００１９】この光学ヘッド用スライダでは、記録媒体
と対向する面に光学レンズにより集光された光のスポッ
トの周囲を遮光する遮光マスクが設けられていることか
ら、記録媒体に照射される光のスポット以外の光が記録
媒体に照射されるのを遮断することができる。すなわ
ち、この光学ヘッド用スライダでは、記録媒体に対して
信号の記録及び／又は再生を行うのに有効とされる光の
みを照射することができる。

【００２０】また、この目的を達成する本発明に係る光
学ヘッド用スライダの製造方法では、近接場光を利用し
て記録媒体に対する信号の記録及び／又は再生を行う光
学ヘッドに用いられる光学ヘッド用スライダの製造方法
であって、光学レンズが接合されたスライダ部材の記録
媒体と対向する面上にレジスト材料を塗布することによ
りレジスト層を形成する工程と、フォトリソグラフィ技
術を用いて光学レンズ側から光を入射し、記録媒体と対
向する面にて出射された光のスポットによりレジスト層
を露光する工程と、露光された箇所以外のレジスト層を
現像液にて溶解して除去することにより光のスポットに
対応した形状のレジストパターンを形成する工程と、レ
ジストパターンが形成された記録媒体と対向する面上に
遮光性を有する薄膜を形成する工程と、レジストパター
ン上に堆積した薄膜とともに、当該レジストパターンを
除去する工程とを有することを特徴とする。

【００２１】この光学ヘッド用スライダの製造方法で
は、光学レンズが接合されたスライダ部材の記録媒体と
対向する面上に、レジスト層を形成した後、光学レンズ
側から光を入射し、記録媒体と対向する面にて出射され
た光のスポットにより当該レジスト層を露光することか
ら、記録媒体と対向する面上に、当該記録媒体と対向す
る面にて出射される光のスポットに対応した形状のレジ
ストパターンを形成することができる。したがって、本
手法では、このレジストパターンを用いて、記録媒体と
対向する面上に、遮光性を有する薄膜をリフトオフ形成
することにより、記録媒体に対する信号の記録及び／又
は再生時に、記録媒体と対向する面にて出射される光の
スポットの周囲を的確に遮光する遮光マスクを、高精度
且つ簡便に形成することができる。

【００２２】また、この目的を達成する本発明に係る光
ディスク装置は、近接場光を利用して記録媒体に対する
信号の記録及び／又は再生を行う光学ヘッドを備えた光
ディスク装置であって、光学ヘッドは、回転操作される
記録媒体上を走査するヘッドスライダと、このヘッドス
ライダを支持する支持アームとを備える。そして、ヘッ
ドスライダは、記録媒体に対する信号の記録及び／又は
再生時に記録媒体上を浮上走行するスライダ部材と、ス
ライダ部材に接合された光学レンズとを有し、記録媒体
と対向する面に、光学レンズにより集光された光のスポ
ットの周囲を遮光する遮光マスクが設けられていること
を特徴とする。

【００２３】この光ディスク装置では、ヘッドスライダ
の記録媒体と対向する面に、光学レンズにより集光され
た光のスポットの周囲を遮光する遮光マスクが設けられ
ていることから、記録媒体に照射される光のスポット以
外の光が記録媒体に照射されるのを遮断することができ
る。したがって、この光ディスク装置では、記録媒体に
対して信号の記録及び／又は再生を行うのに有効とされ
る光のみを照射することができ、記録媒体に対する信号
の記録及び／又は再生を適切に行うことができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【００２５】本発明を適用した光ハードディスク装置の
一例を図１に示す。この図１に示す光ハードディスク装
置１は、パーソナルコンピュータ等における記憶装置と
して使用されるハードディスク装置の技術を応用したも
のであり、筐体２の内部に設けられたスピンドルモータ
３には、光磁気ディスクや相変化型光ディスク等、光を
用いて信号の記録再生が行われる光ディスク４が取り付
けられ、クランパ５により固定されている。そして、光
ディスク４は、制御回路により駆動制御されるスピンド
ルモータ３の回転に伴い、所定の回転数で回転操作され
る。

【００２６】また、筐体２の内部には、ハードディスク
装置で用いられる磁気ヘッド装置の代わりに、光学ヘッ
ド装置６が設けられている。この光学ヘッド装置６は、
スピンドルモータ３により回転操作される光ディスク４
に対して信号の記録再生を行うものであり、ボイスコイ
ルモータ７の駆動により回動操作されるアーム８と、こ
のアーム８と一体に形成されたヘッド支持バネ９と、こ
のヘッド支持バネ９の先端部に取り付けられたヘッドス
ライダ１０とを備えている。

【００２７】ボイスコイルモータ７は、アーム８に取り
付けられたボイスコイルと、このボイスコイルを挟持す
るように配設された一対のマグネットとにより構成さ
れ、ボイスコイルに外部から電流が供給されることによ
り、このボイスコイルに流れる電流とマグネットの磁界
とによって駆動力が生じ、アーム８及びヘッド支持バネ
９を、支軸８ａを回動中心として、図中矢印Ｘで示す方
向に回動操作する。

【００２８】この光学ヘッド装置６では、アーム８及び
ヘッド支持バネ９が、ボイスコイルモータ７の駆動によ
って回動操作されることにより、ヘッド支持バネ９の先
端部に取り付けられたヘッドスライダ１０が、スピンド
ルモータ３の駆動により回転操作される光ディスク４の
径方向に沿って移動操作されることになる。そして、ヘ
ッド支持バネ９の先端部に取り付けられたヘッドスライ
ダ１０は、光ディスク４の回転により生じる空気流を受
けて、光ディスク４の信号記録面上を５０ｎｍ程度の浮
上量で浮上しながら、光ディスク４の信号記録面を走査
することになる。

【００２９】この光学ヘッド装置６が備えるヘッドスラ
イダ１０の一例を図２及び図３に示す。なお、図２は、
このヘッドスライダ１０を光ディスク４と対向する面側
から見た平面図であり、図３は、図２中線分Ａ−Ａ’で
切断した断面図である。

【００３０】このヘッドスライダ１０は、近接場光を利
用して光ディスク４に対する信号の記録再生を行う際に
用いられる光学ヘッド用スライダであり、光ディスク４
の信号記録面４ａ上を浮上走行するスライダ部材１１を
備え、このスライダ部材１１の光ディスク４と対向する
面とは反対側の面上に、光ディスク４の信号記録面４ａ
に照射されるレーザービームＬを集光するカタディオプ
トリックレンズ１２と、このカタディオプトリックレン
ズ１２が接合されたスライダ部材を補強する補強板１３
とを備えている。

【００３１】スライダ部材１１は、例えばオハラ社製の
低軟化点ガラスＬ−ＬＡＨ５３が略平板状に形成されて
なる。このスライダ部材１１は、レーザビームＬの波長
域において光透過率が十分に高く、且つ屈折率が高い材
料により形成されていることが望ましく、このような材
料として、モールド成形用ガラス等の光学ガラスを挙げ
ることができる。具体的には、上述したオハラ社製の低
軟化点ガラスＬ−ＬＡＨ５３の他に、Ｌ−ＢＡＬ４２
(屈折率１．５８)、Ｌ−ＢＡＬ３５(屈折率１．６２)、
Ｌ−ＢＳＭ１５(屈折率１．６２)、Ｌ−ＴＩＭ２８(屈
折率１．６９)、Ｌ−ＴＩＭ２２(屈折率１．６５)、Ｌ
−ＬＡＭ６９(屈折率１．７３)、Ｌ−ＬＡＬ１２(屈折
率１．７９)、Ｌ−ＬＡＭ７１(屈折率１．７９)、Ｌ−
ＬＡＭ７０(屈折率１．７３)等を挙げることができる。
また、スライダ部材１１の材料としては、上述したモー
ルド成形用ガラス等の光学ガラスに限定されず、光学プ
ラスチック等を挙げることができる。具体的には、ＰＲ
Ｇ社製のＣＲ−３９(屈折率１．５０)、ポリカーボネー
ト(屈折率１．５９)や、ニコン社製等の含硫ウレタン樹
脂(屈折率１．６７)、ＨＯＹＡ社製のテスラリッド(屈
折率１．７１)等を挙げることができる。

【００３２】このスライダ部材１１では、光ディスク４
の信号記録面４ａと対向する面が、光ディスク４の回転
に伴って発生する空気流により浮揚力を発生させるため
の空気潤滑面とされている。すなわち、このスライダ部
材１１の光ディスク４の信号記録面４ａと対向する面に
は、光ディスク４の回転に伴って発生する空気流により
浮揚力を受け、この浮揚力により光ディスク４の信号記
録面４ａ上を所定の浮上量で浮上させるための第１の段
差部１４ａ及び第２の段差部１４ｂが設けられている。
この第１の段差部１４ａは、スライダ部材１１の空気流
入側の両端部にそれぞれ設けられている。一方、第２の
段差部１４ｂは、これら第１の段差部１４ａよりも空気
流出側の略中央部、詳述すると、カタディオプトリック
レンズ１２の光軸延長上に位置して設けられている。

【００３３】したがって、ヘッドスライダ１０は、ハー
ドディスク装置において用いられるヘッドスライダと同
様に、光ディスク４が回転操作されることによって光デ
ィスク４とスライダ部材１１との間に生じる空気流を受
けて、この空気流による浮揚力とヘッド支持バネ９によ
るバネ荷重との釣り合いによって、光ディスク４の信号
記録面４ａ上を５０ｎｍ程度の浮上量で浮上走行するこ
とになる。

【００３４】また、スライダ部材１１は、カタディオプ
トリックレンズ１２と光学的に一体化されており、カタ
ディオプトリックレンズ１２に入射したレーザービーム
Ｌが、このスライダ部材１１を介して光ディスク４の信
号記録面４ａに至るようになされている。

【００３５】カタディオプトリックレンズ１２は、上述
したスライダ部材１１と同様の材料からなる母材１２ａ
が所定の形状にモールド成形されることにより、凹面屈
折面からなる第１面Ｓ１が形成されるとともに、この母
材１２ａの所定の面上に、例えばＡｌ、Ｐｔ膜等からな
る光反射膜１２ｂを成膜することにより、平面ミラーか
らなる第２面Ｓ２と、凹面非球面ミラーとなる第３面Ｓ
３とが形成されてなる。なお、第２面Ｓ２の平面ミラー
や第３面Ｓ３の凹面非球面ミラーとなる光反射膜１２ｂ
の表面には、例えばダイヤモンドライクカーボン（ＤＬ
Ｃ）、Ｓｉ₃Ｎ₄、Ｃｒ等からなる保護膜が成膜されてお
り、これら光反射膜１２ｂの保護が図られている。ま
た、第２面Ｓ２の略中央部、すなわち、このカタディオ
プトリックレンズ１２の光軸中心付近は、集光されたレ
ーザービームＬが透過するように、光反射膜１２ｂ及び
保護膜が除去されてなる開口部１２ｃが設けられてい
る。

【００３６】そして、このカタディオプトリックレンズ
１２は、図４に示すように、光学接着材１５によりスラ
イダ部材１１と接合され、スライダ部材１１と光学的に
一体化されている。なお、図４は、図３中に示すスライ
ダ部材１１とカタディオプトリックレンズ１２とのと接
合部分を拡大して示す要部断面図である。

【００３７】すなわち、カタディオプトリックレンズ１
２は、開口部１２ｃが設けられた第２面Ｓ２を接合面と
して、光学接着材１５を介して、スライダ部材１１の光
ディスク４に対する面とは反対側の面に接合されてい
る。そして、カタディオプトリックレンズ１２は、スラ
イダ部材１１と光学的に一体化されて、近接場光を利用
した光ディスク４に対する信号の記録再生を行うための
光学系を構成している。なお、光学接着材１５として
は、レーザービームＬの波長域において光透過率が十分
に高く、且つ屈折率が高い材料を用いることが望まし
い。

【００３８】補強板１３は、剛性を有する材料が略板状
に成形されてなり、スライダ部材１１の光ディスク４に
対向する面とは反対側の面に接合されて、このスライダ
部材１１の剛性を高めている。換言すると、スライダ部
材１１は、補強板１３が接合されることによって、その
剛性が高められ、光ディスク４上を浮上する際の撓みの
発生が抑制されるようになされている。また、この補強
板１３には、カタディオプトリックレンズ１２の外形に
対応した大きさの開口部１３ａが設けられており、この
開口部１３ａ内にカタディオプトリックレンズ１２が収
容されている。

【００３９】このヘッドスライダ１０は、ハードディス
ク装置において用いられるヘッドスライダと同様に、ヘ
ッド支持バネ９の先端部に、そのピッチ方向及びロール
方向に変位可能に取り付けられる。これにより、ヘッド
スライダ１０は、光ディスク４に対する信号の記録再生
を行う際に、光ディスク４の面振れ等に適切に追従し
て、大きな変動を生じさせることなく、光ディスク４の
信号記録面４ａ上を所定の浮上量で浮上走行することに
なる。

【００４０】そして、光ハードディスク装置１では、こ
のヘッドスライダ１０が光ディスク４の信号記録面４ａ
上を浮上走行しながら、ニアフィールド記録と呼ばれる
近接場光を利用した信号の記録再生が行われる。すなわ
ち、光ハードディスク装置１において、ヘッドスライダ
１０は、光ディスク４の信号記録面４ａ上を微小な間隔
で浮上走行しながら、スライダ部材１１と光学的に一体
化されたカタディオプトリックレンズ１２に入射したレ
ーザービームＬを集光させて、この集光されたレーザー
ビームを光ディスク４の信号記録面４ａに照射する。

【００４１】ここで、カタディオプトリックレンズ１２
に入射したレーザービームＬは、先ず、凹面屈折面から
なる第１面Ｓ１で拡大されて、平面ミラーからなる第２
面Ｓ２に入射する。次に、第２面Ｓ２に入射したレーザ
ービームＬは、この第２面Ｓ２で反射され、凹面非球面
ミラーからなる第３面Ｓ３に入射する。次に、第３面Ｓ
３に入射したレーザービームＬは、この第３面Ｓ３で反
射され、第２面Ｓ２の略中央部に設けられた開口部１６
を通して、このカタディオプトリックレンズ１２から出
射される。そして、カタディオプトリックレンズ１２か
ら出射されたレーザービームＬは、光学接着材１５を介
して、カタディオプトリックレンズ１２と光学的に一体
化されたスライダ部材１１に入射し、スライダ部材１１
の光ディスク４と対向する面にて焦点が結ばれる。すな
わち、スライダ部材１１の光ディスク４と対向する面
が、カタディオプトリックレンズ１２により集光された
レーザービームＬの焦点面となる。

【００４２】このとき、ヘッドスライダ１０では、スラ
イダ部材１１の光ディスク４と対向する面と、光ディス
ク４の信号記録面４ａとの間隔が、レーザービームＬの
波長よりも十分小さく、カタディオプトリックレンズ１
２により集光されたレーザービームＬが、スライダ部材
１１の光ディスク４と対向する面から浸し出しており、
このレーザービームＬが、光ディスク４の信号記録面４
ａに照射されることになる。

【００４３】これにより、光ハードディスク装置１で
は、従来の光ディスク装置の光学系と比べて、光ディス
ク４の信号記録面４ａに照射される光のスポット径を小
さくすることができる。

【００４４】ところで、カタディオプトリックレンズ１
２により集光されたレーザービームＬは、スライダ部材
１１と光学接着材１５との境界面で屈折する際に、媒質
の異なるこれらスライダ部材１１と光学接着材１５との
屈折率の違いから、僅かに反射する光が生じることにな
る。このため、スライダ部材１１と光学接着材１５との
境界面では、反射した光による多重屈折が生じてしま
い、いわゆる迷光と呼ばれる光の散乱が生じることにな
る。

【００４５】この場合、光ディスク４の信号記録面４ａ
に照射されるレーザービームＬのスポット径は、迷光の
影響により見かけ上大きなものとなってしまい、このレ
ーザービームＬのスポット径を小さくすることにより記
録密度を向上させることが非常に困難なものとなる。

【００４６】そこで、このヘッドスライダ１０には、図
２及び図３に示すように、光ディスク４と対向する面
に、カタディオプトリックレンズ１２により集光された
レーザービームＬのスポットの周囲を遮光する遮光マス
ク１６が設けられている。

【００４７】詳述すると、この遮光マスク１６は、図４
に示すように、カタディオプトリックレンズ１２の光軸
延長上に位置して設けられた第２の段差部１４ｂの光デ
ィスク４と対向する面上に、例えばクロムからなる遮光
性を有する金属薄膜１６ａが成膜されるとともに、この
第２の段差部１４ｂの光ディスク４と対向する面にて出
射されるレーザービームＬのスポットの周囲を遮光する
ように、このレーザービームＬに対応した形状の開口部
１６ｂが金属薄膜１６ａの一部を除去することにより形
成されてなる。

【００４８】遮光マスク１６は、遮光性を有する材料に
より形成されていることが望ましく、金属薄膜１６ａと
して、上述したクロムの他に、金、アルミニウム等を挙
げることができる。また、遮光マスク１６の材料として
は、このような金属に限らず、シリコン等の半導体材料
を挙げることができ、可視光を吸収する材料であれば使
用可能である。

【００４９】なお、遮光マスク１６の金属薄膜１６ａの
表面には、例えば、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬ
Ｃ）、Ｓｉ₃Ｎ₄、Ｃｒ等からなる保護膜が成膜されてお
り、この遮光マスク１６を構成する金属薄膜１６ａの保
護が図られている。

【００５０】以上のように、このヘッドスライダ１０で
は、光ディスク４と対向する面に、カタディオプトリッ
クレンズ１２により集光されたレーザービームＬのスポ
ットの周囲を遮光する遮光マスク１６が設けられている
ことから、光ディスク４の信号記録面４ａに照射される
レーザービームＬのスポット以外の光、すなわち迷光が
光ディスク４の信号記録面４ａに照射されるのを遮断す
ることができる。

【００５１】これにより、ヘッドスライダ１０では、光
ディスク４の信号記録面４ａに対して、光ディスク４に
対する信号の記録再生を行うのに有効とされる光のみを
照射することができ、光ディスク４の信号記録面４ａに
照射される光のスポット径を小さくすることができる。

【００５２】したがって、この光ハードディスク装置１
では、記録密度の大幅な向上を図ることができるととも
に、光ディスク４に対する信号の記録再生を適切に行う
ことができる。また、この光ハードディスク装置１で
は、Ｓ／Ｎ比の大幅な向上を図ることができ、結果とし
て、読取精度の向上、読取速度の増大、記録再生時に使
用されるレーザービームの低出力化等を図ることがで
き、装置の小型化、長寿命化、低コスト化等を実現する
ことができる。

【００５３】次に、上述したヘッドスライダ１０を製造
する方法について、その製造工程の一例を例示しながら
説明する。

【００５４】このヘッドスライダ１０を製造する際は、
先ず、図５に示すように、例えばオハラ社製の低軟化点
ガラスＬ−ＬＡＨ５３からなる約２４．５ｍｍ角の略正
方形状のスライダ基板３０を用意し、このスライダ基板
３０の一主面上に、例えば東京応化工業社製のネガ型シ
ートレジストＢＦ−６０３からなるシートレジスト３１
を貼り付ける。このスライダ基板３０は、上述したスラ
イダ部材１１となるものであり、最終的にスライダ基板
３０を切り出すことで個々のヘッドスライダ１０が一括
して作製されることになる。

【００５５】次に、図６に示すように、シートレジスト
３１が貼り付けられたスライダ基板３０上に、所定の領
域に開口部３２を有するフォトマスク３３を被せ、アラ
イナーにより紫外光を照射することにより、シートレジ
スト３１を露光する。このフォトマスク３３は、上述し
たヘッドスライダ１１の第１の段差部１４ａ及び第２の
段差部１４ｂに対応した形状の開口部３２ａ，３２ｂが
複数形成されてなるものである。したがって、シートレ
ジスト３１に対しては、これら開口部３２を通して紫外
光が照射された部分のみが露光されることになる。な
お、ここでは、紫外光の波長を約３６５ｎｍとし、露光
量を約２５０ｍＪ／ｃｍ²とした。

【００５６】次に、図７に示すように、露光した箇所以
外のシートレジスト３１を、例えば約０．３％の炭酸ナ
トリウム水溶液にて溶解して除去する。これにより、ス
ライダ基板３０上に、上述したスライダ部材１１の第１
の段差部１４ａ及び第２の段差部１４ｂに対応した形状
のレジストパターン３１ａ，３１ｂが所定の間隔で複数
形成されることとなる。

【００５７】次に、図８に示すように、このスライダ基
板３０上に形成されたレジストパターン３１ａ，３１ｂ
をマスクとして、イオンミリング装置によりイオンビー
ムを照射してスライダ基板３０をエッチングした後に、
例えば約２．３８％の水酸化テトラメチルアンモニウム
水溶液にてレジストパターン３１ａ，３１ｂを溶解して
除去する。これにより、スライダ基板３０上に、個々の
スライダ部材１１に対応した第１の段差部１４ａ及び第
２の段差部１４ｂが複数形成されることとなる。

【００５８】次に、図９に示すように、スライダ基板３
０の第１の段差部１４ａ及び第２の段差部１４ｂが複数
形成された面とは反対側の主面上に、補強基板３４を貼
り付ける。この補強基板３４は、上述したスライダ部材
１１の剛性を高めるための補強板１３となるものであ
り、個々のスライダ部材１１に対応した位置に、上述し
たカタディオプトリックレンズ１２の外形に対応した大
きさの開口部１３ａが複数形成されてなる。

【００５９】次に、図１０に示すように、補強基板３４
の個々の開口部１３ａ内において、カタディオプトリッ
クレンズ１２を上述した光学接着材１５（図１０におい
て図示せず。）を用いてスライダ基板３０に貼り付け
る。これにより、個々のカタディオプトリックレンズ１
２とスライダ基板３０とが、光学接着材１５を介して接
合され、光学的に一体化されることとなる。

【００６０】次に、図１１に示すように、スライダ基板
３０の第１の段差部１４ａ及び第２の段差部１４ｂが複
数形成された面上に、例えば東京応化工業社製のネガ型
フォトレジストＯＭＲ−８３をスピンコータにより塗布
し、例えば厚さ約１μｍとなるレジスト層３５を形成す
る。そして、フォトリソグラフィ技術により、このスラ
イダ基板３０に貼り付けられたカタディオプトリックレ
ンズ１２を通して、例えば約５ｍＷの青色レーザー光を
６０秒照射する。これにより、レジスト層３５は、これ
らカタディオプトリックレンズ１２を通して青色レーザ
ー光が照射された部分のみが露光されることとなる。す
なわち、このレジスト層３５は、ヘッドスライダ部材１
１の光ディスク４と対向する面にて出射されたレーザー
ビームＬのスポットに対応した部分のみが露光されるこ
ととなる。

【００６１】次に、図１２に示すように、露光した箇所
以外のレジスト層３５を、例えば０．３％の炭酸ナトリ
ウム水溶液により溶解して除去する。これにより、スラ
イダ基板３０の個々の第２の段差部１４ｂに対応した位
置に、この第２の段差部１４ｂの光ディスク４と対向す
る面にて出射されるレーザービームＬのスポットに対応
した形状のレジストパターン３５ａが形成されることと
なる。そして、このレジストパターン３５ａが形成され
たスライダ基板３０を洗浄して乾燥させた後、例えば約
１２０℃で約３０分間加熱することにより、このレジス
トパターン３５ａを硬化させる。

【００６２】次に、図１３に示すように、このレジスト
パターン３５ａが形成されたスライダ基板３０の個々の
第２の段差部１４ｂ上に、例えば厚さ約１００ｎｍのＣ
ｒからなる金属薄膜１６ａをスパッタリングにより成膜
する。

【００６３】次に、図１４に示すように、例えば約２．
３８％の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液にて、
レジストパターン３５ａ上に堆積した金属薄膜１６ａと
ともに、このレジストパターン３５ａを溶解して除去す
る。これにより、光ディスク４に対する信号の記録再生
時に、上述した第２の段差部１４ｂの光ディスク４と対
向する面にて出射されるレーザービームＬのスポットの
周囲を遮光するように、このレーザービームＬに対応し
た形状の開口部１６ｂが形成された金属薄膜１６ａから
なる遮光マスク１６が形成されることとなる。

【００６４】そして、このヘッドスライダ１０が複数形
成されているスライダ基板３０を、ディスクカッタで個
々のヘッドスライダ１０として切り出すことにより、図
２及び図３に示すようなヘッドスライダ１０が複数作製
される。

【００６５】以上のように、本手法では、スライダ基板
３０のカタディオプトリックレンズ１２が接合された面
とは反対側の面上に、レジスト層３５を形成した後、こ
のレジスト層３５をカタディオプトリックレンズ１２を
通して照射された青色レーザー光により露光することか
ら、スライダ基板３０の個々の第２の段差部１４ｂに対
応した位置に、この第２の段差部１４ｂの光ディスク４
と対向する面にて出射される青色レーザー光のスポット
に対応した形状のレジストパターン３５ａを精度良く形
成することができる。

【００６６】そして、このレジストパターン３５ａを用
いて、スライダ基板３０の個々の第２の段差部１４ｂに
対応した位置に、遮光性を有する金属薄膜１６ａをリフ
トオフ形成することにより、光ディスク４に対する信号
の記録再生時に、スライダ部材１１の光ディスク４と対
向する面にて出射されるレーザービームＬのスポットの
周囲を的確に遮光する遮光マスク１６を、高精度且つ簡
便に形成することができる。

【００６７】ここで、本手法により作製されたヘッドス
ライダ１０の遮光マスク１６を通して照射されるレーザ
ービームのスポットの画像を図１５に示す。また、この
ような遮光マスク１６が設けられていないヘッドスライ
ダを用いた場合のレーザービームのスポットの画像を図
１６に示す。

【００６８】図１５及び図１６から明らかなように、遮
光マスク１６を通して照射されるレーザービームのスポ
ットは、遮光マスク１６が設けられていないレーザービ
ームのスポットと比べて、光ディスク４の信号記録面に
照射されるレーザービームＬのスポット以外の光、すな
わち迷光が適切に遮断されており、レーザービームのス
ポットが小さくなっているのがわかる。

【００６９】したがって、本手法により作製されたヘッ
ドスライダ１０では、光ディスク４の信号記録面４ａに
対して、光ディスク４に対する信号の記録再生を行うの
に有効とされるレーザービームＬのみを照射することが
でき、光ディスク４の信号記録面４ａに照射されるレー
ザービームのスポット径を小さくすることができる。

【００７０】そして、光ハードディスク装置１では、こ
のようなヘッドスライダ１０を用いることにより、記録
密度の大幅な向上を図ることができるとともに、光ディ
スク４に対する信号の記録再生を適切に行うことができ
る。

【００７１】ここで、上述したヘッドスライダ１０を製
造する際に、遮光マスク１６を形成する工程において、
別の手法により遮光マスク１６を形成した場合について
説明する。

【００７２】ここでは、遮光マスク１６を形成するに際
し、先ず、スライダ基板３０の第１の段差部１４ａ及び
第２の段差部１４ｂが複数形成された面上に、例えば東
京応化工業社製のネガ型フォトレジストＯＭＲ−８３を
スピンコータにより塗布し、例えば厚さ約１μｍとなる
レジスト層３５を形成する。

【００７３】次に、このレジスト層３５が形成されたス
ライダ基板３０上に、光ディスク４に対する信号の記録
再生時に、スライダ部材１１の光ディスク４と対向する
面にて出射されるレーザービームＬのスポットに対応し
た、例えば直径約０．１μｍの略円形状の開口部を有す
るガラスマスクを被せる。そして、レジスト層に対し
て、このガラスマスクの開口部を通してパターニングさ
れた部分のみを露光する。

【００７４】次に、露光した箇所以外のレジスト層３５
を、例えば約０．３％の炭酸ナトリウム水溶液により溶
解して除去する。これにより、スライダ基板３０上に、
光ディスク４に対する信号の記録再生時に、スライダ部
材１１の光ディスク４と対向する面にて出射されるレー
ザービームＬのスポットに対応した形状のレジストパタ
ーン３５ａが形成される。そして、このレジストパター
ン３５ａが形成されたスライダ基板３０を洗浄して乾燥
させた後、例えば約１２０℃で約３０分間加熱すること
により、このレジストパターンを硬化させる。

【００７５】次に、このレジストパターン３５ａが形成
されたスライダ基板３０の第２の段差部１４ｂ上に、例
えば厚さ約１００ｎｍとなるＣｒからなる金属薄膜１６
ａをスパッタリングにより成膜する。

【００７６】次に、例えば約２．３８％の水酸化テトラ
メチルアンモニウム水溶液にて、レジストパターン３５
ａ上に堆積した金属薄膜１６ａとともに、このレジスト
パターン３５ａを溶解して除去する。これにより、光デ
ィスク４に対する信号の記録再生時に、上述した第２の
段差部の光ディスク４と対向する面にて出射されるレー
ザービームＬのスポットの周囲を遮光するように、この
レーザービームＬに対応した形状の開口部１６ｂが形成
された金属薄膜１６ａからなる遮光マスク１６が形成さ
れることとなる。

【００７７】以上のように別の手法により作製された遮
光マスク１６を通して照射されるレーザービームのスポ
ットの画像を図１７に示す。

【００７８】図１７に示すように、別の手法により作製
された遮光マスク１６を通して照射されるレーザービー
ムのスポットは、図１５に示す本手法により作製された
遮光マスク１６を通して照射されるレーザービームのス
ポットと比べて、光ディスク４の信号記録面に照射され
るレーザービームＬのスポット以外の光、すなわち迷光
が適切に遮断されておらず、このレーザービームのスポ
ット径が僅かに大きくなっているのがわかる。

【００７９】これは、遮光マスク１６を作製する際に、
スライダ部材１１の光ディスク４と対向する面にて出射
されるレーザービームＬのスポット位置と、ガラスマス
クに設けられた開口部の位置とが僅かにずれてしまうこ
とに起因する。

【００８０】このような作製誤差による位置ずれを解消
する方法としては、レーザービームＬのスポット位置と
ガラスマスクに設けられた開口部の位置との位置ずれを
見越して、ガラスマスクに設けられた開口部を大きくし
て、作製される遮光マスク１６の開口部１６ｂを大きく
することが考えられる。しかしながら、遮光マスク１６
の開口部１６が大きくすると、作製誤差による位置ずれ
を解消できたとしても、迷光を遮断する効果は却って小
さくなってしまう。

【００８１】逆に、ガラスマスクに設けられた開口部を
小さくして、作製される遮光マスク１６の開口部１６ｂ
を小さくすると、迷光の遮断効果が大きくなるものの、
最悪の場合、スライダ部材１１の光ディスク４と対向す
る面にて出射されるレーザービームＬのスポットが遮断
されてしまい、光ディスク４に対する適切な信号の記録
再生を行うことができなくなってしまう。

【００８２】したがって、上述した本手法のように、ス
ライダ基板３０のカタディオプトリックレンズ１２が接
合された面とは反対側の面上に、レジスト層３５を形成
した後、このレジスト層３５をカタディオプトリックレ
ンズ１２を通して照射された青色レーザー光により露光
することは、光ディスク４に対する信号の記録再生時
に、スライダ部材１１の光ディスク４と対向する面にて
出射されるレーザービームＬのスポットの周囲を的確に
遮光する遮光マスクを、高精度且つ簡便に作製する上で
大変有効である。

【００８３】なお、上述したヘッドスライダ１０は、ス
ライダ部材１１とカタディオプトリックレンズ１２とが
光学接着材１５を介して接合させることにより、光学的
に一体化された構成とされるが、このような構成に必ず
しも限定されるものではない。例えば、スライダ部材１
１とカタディオプトリックレンズ１２とをモールド成形
等により、一体に成形したものであってもよい。

【００８４】また、上述したヘッドスライダ１０におい
ては、例えばアルチック（Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ）等の硬質
の非磁性部材からなるスライダ部材を用いてもよい。こ
の場合、スライダ部材には、厚み方向に貫通する孔部が
穿設され、この孔部内に光学レンズが埋め込まれるよう
に接合される。また、このようなスライダ部材の材料と
して、上述したアルチックの他に、無機材料の酸化物、
窒化物、炭化物等を挙げることができる。具体的には、
立方晶系酸化ジルコニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、
二酸化ケイ素、炭化ホウ素等を挙げることができる。ま
た、基板表面に硬質保護膜を形成した場合には、金属、
プラスチック等の比較的軟らかい材料も使用可能とな
る。

【００８５】なお、上述した光ディスク装置１におい
て、光ディスク４として光磁気ディスクを用いる場合に
は、記録時にこの光磁気ディスクに磁界を印加させるた
めの磁界発生手段が設けられる。この磁界発生手段は、
ヘッドスライダ１０とは別体に設けられていてもよい
が、光ディスク装置１の小型化や構成の簡素化を図るた
めには、ヘッドスライダ１０と一体に設けられることが
望ましい。この場合、磁界発生手段は、例えば、スライ
ダ部材１１の光ディスク４と対向する面４ａ側に、レー
ザービームＬの焦点位置の周りを巻回するように埋設さ
れた薄膜コイル等より構成される。

【００８６】なお、以上は、光ディスク４に照射するレ
ーザービームＬを集光するための光学レンズとしてカタ
ディオプトリックレンズ１２を用いたヘッドスライダ１
０を例に挙げて説明したが、本発明は、以上の例に限定
されるものではなく、例えばソリッドイマージョンレン
ズ等、他のレンズを光学レンズとして用いる場合にも適
用可能である。

【００８７】以上は、近接場光を利用して光ディスク４
に対する信号の記録再生を行うヘッドスライダ１０を例
に挙げて説明したが、本発明は、近接場光を利用しない
場合にも広く適用可能であることは勿論である。

【００８８】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る光学ヘッド用スライダでは、記録媒体と対向する面に
光学レンズにより集光された光のスポットの周囲を遮光
するマスクが設けられていることから、記録媒体に照射
される光のスポット以外の光が記録媒体に照射されるの
を遮断することができ、記録媒体に対して信号の記録及
び／又は再生を行うのに有効とされる光のみを照射する
ことができる。

【００８９】したがって、この光学ヘッド用スライダで
は、記録媒体に照射される光のスポット径を小さくする
ことができ、記録密度の大幅な向上を図ることができ
る。

【００９０】また、本発明に係る光学ヘッド用スライダ
の製造方法では、光学レンズが接合されたスライダ部材
の記録媒体と対向する面上に、レジスト層を形成した
後、光学レンズ側から光を入射し、記録媒体と対向する
面にて出射された光のスポットにより当該レジスト層を
露光することから、記録媒体と対向する面上に、当該記
録媒体と対向する面にて出射される光のスポットに対応
した形状のレジストパターンを形成することができる。
したがって、本手法では、このレジストパターンを用い
て、記録媒体と対向する面上に、遮光性を有する薄膜を
リフトオフ形成することにより、記録媒体に対する信号
の記録及び／又は再生時に、記録媒体と対向する面にて
出射される光のスポットの周囲を的確に遮光する遮光マ
スクを、高精度且つ簡便に形成することができる。

【００９１】また、本発明に係る光ディスク装置では、
ヘッドスライダの記録媒体と対向する面に、光学レンズ
により集光された光のスポットの周囲を遮光する遮光マ
スクが設けられていることから、記録媒体に照射される
光のスポット以外の光が記録媒体に照射されるのを遮断
することができ、記録媒体に対して信号の記録及び／又
は再生を行うのに有効とされる光のみを照射することが
できる。

【００９２】したがって、この光ディスク装置では、記
録媒体に照射される光のスポット径を小さくすることが
でき、記録密度の大幅な向上を図るとともに、記録媒体
に対する信号の記録及び／又は再生を適切に行うことが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した光ハードディスク装置の一例
を示す概略斜視図である。

【図２】同光ハードディスク装置を構成するヘッドスラ
イダの一例を示す図であり、このヘッドスライダを光デ
ィスクと対向する面側から見た平面図である。

【図３】図２中線分Ａ−Ａ’で切断した断面図である。

【図４】図３中に示すスライダ部材とカタディオプトリ
ックレンズとのと接合部分を拡大して示す要部断面図で
ある。

【図５】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、ス
ライダ基板上にシートレジストを貼り付ける状態を示す
平面図である。

【図６】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、シ
ートレジストが貼り付けられたスライダ基板上に、フォ
トマスクを被せる状態を示す平面図である。

【図７】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、ス
ライダ基板上にレジストパターンを形成した状態を示す
平面図である。

【図８】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、ス
ライダ基板上に個々のスライダに対応した段差部を複数
形成した状態を示す平面図である。

【図９】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、ス
ライダ基板上に補強基板を貼り付ける状態を示す平面図
である。

【図１０】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、
補強基板が貼り付けられたスライダ基板にカタディオプ
トリックレンズを貼り付けた状態を示す斜視図である。

【図１１】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、
スライダ基板にレジスト層を形成した状態を示す平面図
である。

【図１２】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、
スライダ基板の第２の段差部上にレジストパターンが形
成された状態を示す要部断面図である。

【図１３】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、
レジストパターンが形成されたスライダ基板の第２の段
差部上に金属薄膜を成膜した状態を示す要部断面図であ
る。

【図１４】ヘッドスライダの製造工程を示す図であり、
スライダ基板の第２の段差部上に遮光マスクが形成され
た状態を示す要部断面図である。

【図１５】本手法により作製されたヘッドスライダの遮
光マスクを通して照射されるレーザービームのスポット
の画像を示す図である。

【図１６】遮光マスク１６が設けられていないヘッドス
ライダを用いた場合のレーザービームのスポットの画像
を示す図である。

【図１７】別の手法により作製された遮光マスクを通し
て照射されるレーザービームのスポットの画像を示す図
である。

【図１８】従来の光学ヘッド用スライダの一例を示す断
面図である。

【図１９】図１８中に示すカタディオプトリックレンズ
とスライダ部材との接合部分を拡大して示す要部断面図
である。

【符号の説明】

１ 光ハードディスク装置、４ 光ディスク、４ａ 信
号記録面、１０ ヘッドスライダ、１１ スライダ部
材、１２ カタディオプトリックレンズ、１４ａ第１の
段差部、１４ｂ 第２の段差部、１５ 光学接着材、１
６ 遮光マスク、１６ａ 金属薄膜、１６ｂ 開口部、
３０ スライダ基板、３５ レジスト層、３５ａ レジ
ストパターン

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 近接場光を利用して記録媒体に対する信
   号の記録及び／又は再生を行う光学ヘッドに用いられる
   光学ヘッド用スライダにおいて、 記録媒体に対する信号の記録及び／又は再生時に、上記
   記録媒体上を浮上走行するスライダ部材と、 上記スライダ部材に接合された光学レンズとを備え、 上記記録媒体と対向する面には、上記光学レンズにより
   集光された光のスポットの周囲を遮光する遮光マスクが
   設けられていることを特徴とする光学ヘッド用スライ
   ダ。
2. 【請求項２】 上記光学レンズは、カタディオプトリッ
   クレンズであることを特徴とする請求項１記載の光学ヘ
   ッド用スライダ。
3. 【請求項３】 上記スライダ部材は、光透過性を有する
   部材からなることを特徴とする請求項１記載の光学ヘッ
   ド用スライダ。
4. 【請求項４】 上記スライダ部材と上記光学レンズとが
   一体に成形されてなることを特徴とする請求項３記載の
   光学ヘッド用スライダ。
5. 【請求項５】 上記記録媒体と対向する面には、上記光
   学レンズの光軸延長上に位置して、空気潤滑面を構成す
   る段差部が設けられていることを特徴とする請求項１記
   載の光学ヘッド用スライダ。
6. 【請求項６】 近接場光を利用して記録媒体に対する信
   号の記録及び／又は再生を行う光学ヘッドに用いられる
   光学ヘッド用スライダの製造方法であって、 光学レンズが接合されたスライダ部材の上記記録媒体と
   対向する面上に、レジスト材料を塗布することによりレ
   ジスト層を形成する工程と、 フォトリソグラフィ技術を用いて、上記光学レンズ側か
   ら光を入射し、上記記録媒体と対向する面にて出射され
   た光のスポットにより上記レジスト層を露光する工程
   と、 上記露光された箇所以外のレジスト層を現像液にて溶解
   して除去することにより、上記光のスポットに対応した
   形状のレジストパターンを形成する工程と、 上記レジストパターンが形成された上記記録媒体と対向
   する面上に、遮光性を有する薄膜を形成する工程と、 上記レジストパターン上に堆積した薄膜とともに、当該
   レジストパターンを除去する工程とを有することを特徴
   とする光学ヘッド用スライダの製造方法。
7. 【請求項７】 近接場光を利用して記録媒体に対する信
   号の記録及び／又は再生を行う光学ヘッドを備えた光デ
   ィスク装置において、 上記光学ヘッドは、回転操作される上記記録媒体上を走
   査するヘッドスライダと、このヘッドスライダを支持す
   る支持アームとを備え、 上記ヘッドスライダは、記録媒体に対する信号の記録及
   び／又は再生時に、上記記録媒体上を浮上走行するスラ
   イダ部材と、上記スライダ部材に接合された光学レンズ
   とを有し、上記記録媒体と対向する面に、上記光学レン
   ズにより集光された光のスポットの周囲を遮光する遮光
   マスクが設けられていることを特徴とする光ディスク装
   置。