JP2001195773A

JP2001195773A - 浮上型光学ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JP2001195773A
Application number: JP2000010186A
Authority: JP
Inventors: Atsumichi Kawashima; 敦道川島
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2000-01-14
Filing date: 2000-01-14
Publication date: 2001-07-19

Abstract

(57)【要約】【課題】品質の大幅な向上を図ると共に、生産性を大
幅に向上させることを可能とする。【解決手段】スライダとミラーに対応した形状の金型
とによりミラーとなる半固体状の母材をモールド成形
し、この半固体状の母材を冷却して硬化させることによ
り、ミラーをスライダの所定の位置に精度良く、且つ容
易に形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスク状記録媒
体の信号記録面上を浮上するスライダを備え、このスラ
イダに搭載された反射面を有する略半球状のミラーによ
り反射されて集光された光を上記ディスク状記録媒体の
信号記録面に照射させる浮上型光学ヘッドの製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、光磁気ディスクや相変化型光
ディスク等のように、信号記録面に光を照射することに
より、情報信号の読み出しや書き込みが行われる光記録
媒体が普及している。そして、これら光記録媒体におい
ては、できるだけ多くの情報を記録可能とすべく、記録
密度の高密度化が盛んに行われている。

【０００３】また、このような光記録媒体の高記録密度
化に伴って、光記録媒体に対して情報信号の読み出しや
書き込みを行う光学ヘッドに対しても、光記録媒体の信
号記録面に照射される光のスポット径を小さくすること
により、記録密度を向上させる試みが行われている。

【０００４】具体的には、ハードディスク装置等におけ
る浮上型磁気ヘッドの技術を応用した、いわゆる光ハー
ドディスク装置が提案されている。この光ハードディス
ク装置は、図１５に示すように、反射面１００ａを有す
る略半球状の固浸ミラー１００をスライダ１０１に搭載
して浮上型光学ヘッド１０２を構成し、光学記録媒体１
０３の信号記録面１０３ａ上を所定の浮上量で浮上させ
ながら、このスライダ１０１に搭載された固浸ミラー１
００により反射されて集光された光を光学記録媒体１０
３の信号記録面１０３ａに照射させることにより、情報
信号の読み出しや書き込みを行うものである。

【０００５】この光ハードディスク装置では、浮上型光
学ヘッド１０２が、回転する光記録媒体１０３とスライ
ダ１０１との間に発生する空気流により浮揚力を受け、
この浮揚力により光記録媒体１０３の信号記録面１０３
ａ上から微小な間隔で浮上した状態となる。この場合、
光記録媒体１０３の信号記録面１０３ａとスライダ１０
１との間隔を、例えば１μｍ以下の微小な間隔に保持す
ることができる。

【０００６】そして、この光ハードディスク装置では、
浮上型光学ヘッド１０２が光学記録媒体１０３の信号記
録面１０３ａと極めて近接した状態となることで、近接
場光記録と呼ばれる、近接場での集光された光を利用し
た情報信号の読み出しや書き込みが行われる。

【０００７】この場合、光ハードディスク装置では、従
来の光ディスク装置の光学系と比べて、光記録媒体１０
３の信号記録面１０３ａに照射される光のスポット径を
小さくすることができる。しがたって、光ハードディス
ク装置では、このような近接場光記録を利用することに
より、従来の光ディスク装置を上回る記録密度で情報信
号の読み出しや書き込みを行うことができる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した光
ハードディスク装置において、浮上型光学ヘッド１０２
は、図１５に示すように、例えばセラミック製のスライ
ダ１０１に孔部１０１ａを形成し、この孔部１０１ａに
固浸ミラー１００に形成された凸部１００ｂを嵌合させ
ることにより、固浸ミラー１００をスライダ１０１に組
み込んだ構造とされている。また、浮上型光学ヘッドに
は、図１６に示すように、固浸ミラー２００を、例えば
ガラス製のスライダ２０１に貼り付けた構造のものもあ
る。

【０００９】従来、このような浮上型光学ヘッドを作製
する際は、スライダと固浸ミラーとを別々に成形した後
に、固浸ミラーをスライダの所定の位置に取り付けてい
た。

【００１０】しかしながら、浮上型光学ヘッドにおい
て、固浸ミラーは、複雑な形状を有しており、スライダ
に対しても同様に複雑な形状に加工する必要があった。
このため、従来の製造方法では、固浸ミラーをスライダ
に取り付ける際に、手間がかかるうえに、取付誤差によ
る特性のばらつきを避けることができなかった。さら
に、それぞれの加工精度が低い場合には、固浸ミラーを
スライダにうまく取り付けられないことがあった。

【００１１】具体的に、このような浮上型光学ヘッドに
おいて、近接場光記録を実現するためには、スライダに
取り付けられる固浸ミラーの取付精度を、例えば１００
ｎｍ以下の誤差にしなければならない。また、浮上型光
学ヘッドの光記録媒体に対する追従性を向上させるため
には、スライダの大きさを、例えば５ｍｍ以下とし、で
きるだけ小さくすることが望ましいが、小さくなるとそ
れだけ精度良く取り付けることが困難となる。

【００１２】そこで、本発明はこのような従来の事情に
鑑みて提案されたものであり、品質の大幅な向上を図る
と共に、生産性を大幅に向上させることを可能とした浮
上型光学ヘッドの製造方法を提供することを目的とす
る。

【００１３】

【課題を解決するための手段】この目的を達成する本発
明に係る浮上型光学ヘッドの製造方法は、ディスク状記
録媒体の信号記録面上を浮上するスライダを備え、この
スライダに搭載された反射面を有する略半球状のミラー
により反射されて集光された光を上記ディスク状記録媒
体の信号記録面に照射させる浮上型光学ヘッドの製造方
法であって、スライダとミラーに対応した形状の金型と
によりミラーとなる半固体状の母材をモールド成形する
工程と、ミラーとなる半固体状の母材を冷却して硬化さ
せる工程と、金型をスライダから離型する工程とを有す
ることを特徴とする。

【００１４】以上のように、本発明に係る浮上型光学ヘ
ッドの製造方法では、スライダとミラーに対応した形状
の金型とによりミラーとなる半固体状の母材をモールド
成形し、この半固体状の母材を冷却して硬化させること
により、ミラーをスライダの所定の位置に精度良く、且
つ容易に形成することができる。

【００１５】なお、母材として、光学ガラスを用いるこ
とが好ましい。また、母材として、光学プラスチックを
用いることが好ましい。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【００１７】本発明を適用した浮上型光学ヘッドは、再
生専用光ディスク、光磁気ディスク、相変化光ディスク
等のディスク状記録媒体に対して、近接場光記録と呼ば
れる、近接場での集光された光を照射させることによ
り、情報信号の読み出しや書き込みを行う、いわゆる光
ハードディスク装置に適用されるものである。光ハード
ディスク装置では、このような浮上型光学ヘッドを適用
することにより、従来の光ディスク装置の光学系と比べ
て、ディスク状記録媒体の信号記録面に照射される光の
スポット径を小さくすることができる。

【００１８】先ず、本発明の実施の形態として図１に示
す浮上型光学ヘッド１について説明する。

【００１９】この浮上型光学ヘッド１は、光磁気ディス
ク２の信号記録面２ａ上をスライダ３が浮上しながら、
このスライダ３に搭載された固浸ミラー４により集光さ
れたレーザービームを光磁気ディスク２の信号記録面２
ａに照射させる浮上型光学ヘッドである。

【００２０】詳述すると、この浮上型光学ヘッド１にお
いて、スライダ３は、例えばアルチック（Ａｌ₂Ｏ₃−Ｔ
ｉＣ）等の硬質の非磁性部材が略矩形状に形成されてな
る。また、スライダ３には、光磁気ディスク２の信号記
録面２ａと対向する面に、回転する光磁気ディスク２と
の間に発生する空気流により浮揚力を発生させるための
段差部５が設けられている。この段差部５は、スライダ
３の空気流入側の両端部にそれぞれ設けられた第１の段
差部５ａと、これら第１の段差部５ａよりも空気流出側
の略中央部に設けられた第２の段差部５ｂとから構成さ
れている。また、スライダ３には、第２の段差部５ｂを
貫通する孔部６が設けられている。

【００２１】固浸ミラー４は、光磁気ディスク２に照射
されるレーザービームを透過させるのに十分な光透過率
を有し、且つ屈折率が高い材料からなる光学ガラス或い
は光学プラスチックが略半球状に形成されてなる。ま
た、この固浸ミラー４は、その非球面の略中央部に、略
半球状に窪んでなる凹部７を有している。また、固浸ミ
ラー４は、その円形平面の略中央部に、スライダ３の孔
部６に埋め込まれた凸部８を有している。すなわち、こ
の固浸ミラー４は、スライダ３の光磁気ディスク２の信
号記録面２ａと対向する面とは反対側の面において、凸
部８がスライダ２の孔部６に埋め込まれることにより、
スライダ３に保持されている。また、固浸ミラー４の表
面には、上述した凹部７及び凸部８を除いた部分に、例
えばアルミニウム等の反射膜が成膜されることにより、
反射面９が形成されている。

【００２２】また、この浮上型光学ヘッド１には、磁界
変調用の薄膜コイル１０が、スライダの光磁気ディスク
２の信号記録面２ａに対向する面に、固浸ミラー４の凸
部８の外周に位置して設けられている。この薄膜コイル
１０は、できるだけ固浸ミラー４に近接していることが
好ましい。このため、この浮上型光学ヘッド１では、ス
ライダ３に形成される孔部６の形状を下方に向かってそ
の径が小さくなるようなすり鉢状としている。これによ
り、この薄膜コイル１０を固浸レンズ４により近接して
配置することを可能としている。

【００２３】また、この浮上型光学ヘッド１には、スラ
イダ３を補強するための補強部材１１が、固浸レンズ４
が配設された周囲を囲むように、ヘッドスライダ３に取
り付けられている。

【００２４】以上のように構成される浮上型光学ヘッド
１は、回転する光磁気ディスク２とスライダ３との間に
発生する空気流により浮揚力を受け、この浮揚力により
光磁気ディスク２の信号記録面２ａから微小な間隔で浮
上した状態となる。そして、浮上型光学ヘッド１は、こ
の光磁気ディスク２の信号記録面２ａ上を所定の浮上量
で浮上しながら、スライダ３に搭載された固浸ミラー４
により半導体レーザから出射されたレーザビームを集光
して、この集光されたレーザービームを光磁気ディスク
２の信号記録面２ａに照射させる。

【００２５】ここで、半導体レーザから出射されたレー
ザービームは、固浸ミラー４の凹部７に入射する。この
凹部７から入射したレーザービームは、屈折して発散し
ながら、固浸ミラー４の円形平面に設けられた第１の反
射面９ａより反射される。この第１の反射面９ａにより
反射されたレーザービームは、固浸ミラー４の非球面に
設けられた第２の反射面９ｂにより反射される。そし
て、この第２の反射面９ｂにより反射されたレーザービ
ームは、集束しながら凸部８の端面８ａに集光される。

【００２６】このとき、浮上型光学ヘッド１では、固浸
ミラー４と光磁気ディスク２の信号記録面２ａとの間隔
が、レーザービームの波長よりも十分小さく、固浸ミラ
ー４の凸部８の端面８ａに集光されたレーザービーム
が、この端面８ａから浸し出しており、この集光された
レーザービームが光磁気ディスク２の信号記録面２ａに
照射されることとなる。

【００２７】このような浮上型光学ヘッド１を用いた場
合には、近接場光記録により、光磁気ディスク２に照射
されるレーザービームのスポット径を小さくすることが
でき、記録密度を向上させた情報信号の読み出しや書き
込みを行うことができる。

【００２８】なお、この浮上型光学ヘッド１は、記録時
においては、薄膜コイル１０が所定の強度の磁界を発生
して、この磁界を光磁気ディスク２の信号記録面２ａの
レーザビームが照射された箇所に印加する。

【００２９】次に、上述した浮上型光学ヘッド１の作製
方法について説明する。

【００３０】この浮上型光学ヘッド１を作製する際は、
先ず、所定の間隔で上述したスライダ３が複数形成され
てなる基板を作製し、この基板を個々のスライダ３とし
て切り出すことにより、上述した浮上型光学ヘッド１を
構成するスライダ３を作製する。

【００３１】具体的には、先ず、図２に示すように、例
えばアルチック（Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣ）等の硬質の非磁性
部材からなる基板２０を用意し、この基板２０の一主面
上に、ネガ型のシートレジスト２１を貼り付ける。この
基板２０は、最終的に浮上型光学ヘッド１のスライダ３
となるものであり、その材料には、無機材料の酸化物、
窒化物、炭化物等を用いることができ、例えば、立方晶
系酸化ジルコニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、二酸化
ケイ素、炭化ホウ素等を用いることができる。また、基
板表面に硬質保護膜を形成した場合には、金属、プラス
チック等の比較的軟らかい材料も用いることができる。

【００３２】次に、図３に示すように、シートレジスト
２１が貼り付けられた基板２０上に、所定の領域に開口
部２２を有するフォトマスク２３を被せ、紫外光を照射
することにより、シートレジスト２１を露光する。この
フォトマスク２３は、スライダ３の第１の段差部５ａ及
び第２の段差部５ｂに対応した形状の開口部２２ａ，２
２ｂが複数形成されてなるものである。したがって、シ
ートレジスト２１に対しては、これら開口部２２を通し
て紫外光が照射された部分のみが露光されることにな
る。

【００３３】次に、図４に示すように、露光した箇所以
外のシートレジスト２１を炭酸ナトリウム水溶液にて溶
解して除去する。これにより、基板２０上に、スライダ
３の第１の段差部５ａ及び第２の段差部５ｂに対応した
形状のレジストパターン２１ａ，２１ｂを所定の間隔で
複数形成する。

【００３４】次に、図５に示すように、この基板２０上
に形成されたレジストパターン２１ａ，２１ｂをマスク
として、アルゴンのイオンビームを照射して基板２０を
エッチングした後に、水酸化テトラメチルアンモニウム
水溶液にてレジストパターン２１ａ，２１ｂを溶解して
除去する。これにより、基板２０上に、個々のスライダ
３に対応した位置に、それぞれ第１の段差部５ａ及び第
２の段差部５ｂからなる段差部５を形成する。

【００３５】次に、図６に示すように、上述したフォト
リソグラフィ技術を用いて、基板２０の段差部５が複数
形成された面とは反対側の主面上に、個々のスライダ３
に対応した位置に、第２の段差部５ｂを貫通する孔部６
を形成する。なお、孔部６を形成するため、基板２０を
エッチングする際は、パウダービームエッチングが好適
である。また、本例では、孔部６の形状を下方に向かっ
てその径が小さくなるようなすり鉢状とする。これによ
り、薄膜コイル１０を固浸レンズ４により近接して配置
することが可能となる。そして、この孔部６を中心とし
て、例えば白金、アルミニウム等からなる略円形状の反
射膜を成膜することにより、固浸ミラー４の第１の反射
面９ａを形成する。

【００３６】以上のように、所定の間隔でスライダ３が
複数形成された基板２０を、ディスクカッタで個々のス
ライダ３として切り出すことにより、図７及び図８に示
すようなスライダ３を作製する。なお、図７は、作製さ
れたスライダ３を光磁気ディスク２の信号記録面２ａと
対向する面から見た平面図であり、図８は、図７中線分
Ａ−Ａ’で切断した断面図である。

【００３７】次に、作製されたスライダ３の第１の反射
面９ａが形成された位置に、固浸ミラー４を形成する。
すなわち、本手法は、従来のようなスライダ３と固浸ミ
ラー４とを別々に成形した後、固浸ミラー４をスライダ
３の所定の位置に組み付けるといった手法ではなく、固
浸ミラー４をスライダ３上に直接形成する。

【００３８】具体的には、先ず、図９に示すように、固
浸ミラー４に対応した内形形状２４ａを有する金型２４
と、固浸ミラー４となる半固体状の母材２５とを用意す
る。ここで、固浸ミラー４となる半固体状の母材２５
は、予め金型２４の内形形状２４ａに合わせて、略半球
状としておくことが望ましい。

【００３９】次に、図１０に示すように、スライダ３の
第１の反射面９ａが形成された位置において、このスラ
イダ３と金型２４とにより、半固体状の母材２５を固浸
ミラー４に対応した形状にモールド成形する。そして、
この固浸ミラー４に対応した形状とされた母材２５をキ
ャスティングで冷却することにより硬化させる。

【００４０】ここで、母材２５としては、光磁気ディス
ク２に照射されるレーザービームを透過させるのに十分
な光透過率を有し、且つ屈折率が高い材料からなる光学
ガラスを用いることが好ましい。例えば、このような光
学ガラスとして、ランタンクラウンガラス等のモールド
成型用ガラスや軟化点ガラス等を挙げることができる。
具体的には、オハラ社製のＬ−ＬＡＨ５３、Ｌ−ＢＡＬ
４２(屈折率１．５８)、L-BAL35(屈折率１．６２)、Ｌ−
ＢＳＭ１５(屈折率１．６２)、Ｌ−ＴＩＭ９(屈折率
１．６９)、Ｌ−ＴＩＭ３(屈折率１．６５)、Ｌ−ＬＡ
Ｍ６９(屈折率１．７３)、Ｌ−ＬＡＬ１２(屈折率１．
７９)、Ｌ−ＬＡＭ７１(屈折率１．７９)、Ｌ−ＬＡＭ
７０(屈折率１．７３)等を挙げることができる。

【００４１】例えば、ガラスＬ−ＬＡＨ５３を用いた場
合には、約６５０℃で軟化させることができ、スライダ
と金型とによりモールド成形した後、キャスティングで
冷却して硬化させる。

【００４２】なお、このような光学ガラスを用いる場合
には、十分な耐熱性を有するセラミック製のスライダを
用いることが好ましい。これにより、軟化させた光学ガ
ラスをスライダと金型とにより直接モールド成形するこ
とが可能となる。

【００４３】また、このような光学ガラスを用いる場合
には、固浸ミラー４の第１の反射面９ａを形成する反射
膜として、白金を用いることが好ましい。これは、例え
ばアルミニウムを用いた場合、融点が約６００℃と低
く、光学ガラスとの反応性が大きいからである。

【００４４】また、母材２５としては、光磁気ディスク
３１に照射されるレーザービームを透過させるのに十分
な光透過率を有し、且つ屈折率が高い材料からなる光学
プラスチックを用いることが好ましい。例えば、このよ
うな光学プラスチックとして、熱可塑性樹脂等を挙げる
ことができる。具体的には、ＰＲＧ社製のＣＲ−３９
(屈折率１．５０)、ポリカーボネート(屈折率１．５９)
や、ニコン社製等の含硫ウレタン樹脂(屈折率１．６
７)、ＨＯＹＡ社製のテスラリッド(屈折率１．７１)等
を挙げることができる。

【００４５】例えば、屈折率１．５９のポリカーボネー
トを用いた場合には、約２００℃で軟化させることがで
き、スライダと金型とによりモールド成形した後、キャ
スティングで冷却して硬化させる。

【００４６】このような光学プラスチックを用いた場合
には、光学ガラスよりも低温で軟化させることが可能な
ことから、より短時間での成形が可能となる。また、固
浸ミラー４の第１の反射面９ａを形成する際に、白金よ
りも安価なアルミニウムを反射膜として使用することも
可能となる。

【００４７】次に、図１１に示すように、スライダ３か
ら金型２４を離型する。

【００４８】次に、図１２に示すように、スライダ３の
段差部５が形成された面を研磨することにより、孔部６
からはみ出した母材２５を除去する。そして、フォトリ
ソグラフィ技術を用いて、スライダ３の固浸ミラー４が
形成される側の主面上に、レジスト２６を塗布し、固浸
ミラー４の凹部７に対応した形状の開口部２７ａを有す
るフォトマスク２７を被せ、紫外光を照射することによ
り、このレジスト２６を露光する。

【００４９】次に、図１３に示すように、露光した箇所
以外のレジスト２６を炭酸ナトリウム水溶液にて溶解し
て除去することにより、固浸ミラー４の凹部７となる部
分に、レジストパターン２６ａを形成する。

【００５０】次に、図１４に示すように、スライダ３の
固浸ミラー４が成形される面上に、例えばアルミニウ
ム、白金等からなる反射膜を成膜した後、レジストパタ
ーン２６ａを水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に
て溶解して除去することにより、固浸ミラー４の第２の
反射面９ｂを形成する。これにより、スライダ３の孔部
６に埋め込まれた凸部８を有すると共に、反射面９を有
する略半球状の固浸ミラー４が形成される。

【００５１】そして、スライダ３の光磁気ディスク２の
信号記録面２ａに対向する面に、固浸ミラー４の凸部８
の外周に位置するように、磁気変調用の薄膜コイル１０
を形成する。また、スライダ３を補強するための補強部
材１１を取り付ける。以上のようにして、図１に示すよ
うな浮上型光学ヘッド１が作製される。

【００５２】以上のように作製された浮上型光学ヘッド
１では、スライダ３と固浸ミラー３に対応した形状の金
型２４とにより、固浸ミラー３となる半固体状の母材２
５をモールド成形し、この半固体状の母材２５を冷却し
て硬化させることにより、固浸ミラー４が形成されてい
る。

【００５３】この場合、固浸ミラー４の凸部８をスライ
ダ３の孔部８に略一致させて形成することができ、この
固浸ミラー４をスライダ３の所定の位置に精度良く形成
することができる。換言すると、この浮上型光学ヘッド
１では、固浸ミラー４の凸部８がスライダ３の孔部６に
埋め込まれており、この凸部８の形状を孔部６と略一致
した形状にすることができる。なお、この場合、スライ
ダ３の孔部６の加工精度を必ずしも高くする必要はな
い。

【００５４】それに対して、従来のように、スライダ３
と固浸ミラー４とを別々に成形した後に、固浸ミラー４
をスライダ３に取り付けた場合には、手間がかかるうえ
に、取付誤差による特性のばらつきを避けることができ
なかった。さらに、これらスライダ３と固浸ミラー４の
加工精度が低い場合には、固浸ミラー４をスライダ３に
うまく取り付けられないことがあった。

【００５５】特に、薄膜コイル１０を固浸ミラー４によ
り近接して配置するために、スライダ３に形成される孔
部６の形状を下方に向かってその径が小さくなるような
すり鉢状とした場合には、固浸ミラー４に設けられた凸
部８をこの孔部６に略一致した形状に加工することは困
難である。

【００５６】以上のことから、本発明によれば、スライ
ダ３と固浸ミラー４との複雑な組立工程を経ることな
く、品質の向上した浮上型光学ヘッド１を容易に作製す
ることができ、且つ生産性を大幅に向上させることがで
きる。特に、固浸ミラー４の円形平面の直径が、例えば
１ｍｍ以下と微小に形成される場合に有効であり、より
小型化された浮上型光学ヘッド１を容易に作製すること
ができる。

【００５７】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、スライダとミラーに対応した形状の金型とにより
ミラーとなる半固体状の母材をモールド成形し、この半
固体状の母材を冷却して硬化させることにより、ミラー
をスライダの所定の位置に精度良く、且つ容易に形成す
ることができる。したがって、本発明によれば、品質の
向上した浮上型光学ヘッドを容易に作製することがで
き、且つ生産性を大幅に向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態として示す浮上型光学ヘッ
ドの構成を示す図である。

【図２】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、基板上にシートレジストを貼り付ける状態を示す図
である。

【図３】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、シートレジストが貼り付けられた基板上に、フォト
マスクを被せる状態を示す図である。

【図４】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、基板上にレジストパターンを形成した状態を示す図
である。

【図５】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、基板上に個々のスライダに対応した段差部を複数形
成した状態を示す図である。

【図６】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、基板上に孔部及び第１の反射面を形成した状態を示
す図である。

【図７】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、作製されたスライダを光磁気ディスクの信号記録面
と対向する面から見た平面図である。

【図８】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、図７中線分Ａ−Ａ’で切断した断面図である。

【図９】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、半固体状の母材をスライダと金型とによりモールド
成形する前の状態を示す図である。

【図１０】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、半固体状の母材をスライダと金型とによりモールド
成形した状態を示す図である。

【図１１】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、スライダから金型を離型した状態を示す図である。

【図１２】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、スライダ上に塗布されたレジストを露光した状態を
示す図である。

【図１３】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、固浸ミラーの凹部となる部分にレジストパターンを
形成した状態を示す図である。

【図１４】同浮上型光学ヘッドの製造工程を示す図であ
り、スライダ上に固浸ミラーを形成した状態を示す図で
ある。

【図１５】従来の浮上型光学ヘッドの一構成例を示す図
である。

【図１６】同浮上型光学ヘッドの他の構成例を示す図で
ある。

【符号の説明】

１浮上型光学ヘッド、２光磁気ディスク、２ａ信
号記録面、３スライダ、４固浸ミラー、５段差
部、６孔部、７凹部、８凸部、９反射面、１０
薄膜コイル、１１補強部材、２０基板、２４金
型、２５母材

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ディスク状記録媒体の信号記録面上を浮
上するスライダを備え、このスライダに搭載された反射
面を有する略半球状のミラーにより反射されて集光され
た光を上記ディスク状記録媒体の信号記録面に照射させ
る浮上型光学ヘッドの製造方法であって、上記スライダと上記ミラーに対応した形状の金型とによ
り、上記ミラーとなる半固体状の母材をモールド成形す
る工程と、上記ミラーとなる半固体状の母材を冷却して硬化させる
工程と、上記金型を上記スライダから離型する工程とを有するこ
とを特徴とする浮上型光学ヘッドの製造方法。
【請求項２】上記母材として、光学ガラスを用いるこ
とを特徴とする請求項１記載の浮上型光学ヘッドの製造
方法。
【請求項３】上記母材として、光学プラスチックを用
いることを特徴とする請求項１記載の浮上型光学ヘッド
の製造方法。