JP2002230860A - 光磁気ヘッド及びそれを用いた光磁気記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 対物レンズの光学特性を阻害することなく、
磁気コイルを有効に放熱することができる光磁気ヘッド
を提供する。 【解決手段】 光磁気記録ヘッドは透明基板３の光磁気
ディスクと対向する面３ａ上に磁気コイル１５を有す
る。面３ａ上には磁気コイル１５の外側にヒートシンク
層８０を備える。面３ａと逆の面３ｂには対物レンズが
支持される。磁気コイル１５で発生した熱はヒートシン
ク層８０を介して光磁気ディスクと基板３との間の空間
に放熱される。光磁気ディスクが回転することにより発
生する気流により放熱が促進される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高ＮＡの対物レン
ズを用いて光磁気記録媒体に情報を記録するための光磁
気記録装置及びそれに用いられる光磁気ヘッドに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、マルチメディア化に対応して、大
量データを高密度で記録し、かつ高速に記録及び再生す
ることができる光記録媒体が使用されている。この光記
録媒体には、コンパクトディスクのようにディスク形成
時に情報がディスク上にピットとして予め記録された再
生専用媒体、ＣＤ−Ｒのように一度だけ記録を可能とし
た追記形媒体、及び光磁気記録方式や相変化記録方式を
用いて何度でもデータを書換えられる書換え形媒体があ
る。

【０００３】これら光記録媒体のうち、高転送レートを
要求される分野では、主に光磁気記録媒体が用いられて
いる。この光磁気記録媒体を記録及び再生するときに
は、レーザ光をレンズで回折限界にまで絞り込んで光磁
気記録媒体に照射する。このレーザ光照射により光磁気
記録媒体上に形成された光スポットのサイズは、レーザ
光の波長をλ、レンズの開口数をＮＡとすると、λ/Ｎ
Ａ程度となる。

【０００４】より高密度な、すなわちより小さいパター
ンを記録または再生するためには、より小さいレーザ光
スポットが必要となる。光スポットを小さくするために
は、上式よりレーザ光波長(λ)を小さくするかあるいは
レンズの開口数(ＮＡ)を大きくすることが考えられる。
レンズの開口数(ＮＡ)は、レンズの絞り半角をθとする
とＮＡ=sinθとあらわされ、１より小さい値となる。現
在市販されている光記録装置において使用されている対
物レンズのＮＡは大きくとも０．６程度である。このよ
うにＮＡの値が０．６程度に制限されているのは、ＮＡ
が大きくなるにつれて対物レンズの光軸がディスク面に
対して傾いたときに発生するコマ収差および非点収差が
大きくなるからである。この問題を解決するためには、
光が光磁気記録媒体の光磁気記録層に到達する前に透過
するディスクの透明基板の厚みを薄くする必要がある。
しかし、基板の厚みを薄くすると基板の剛性の低下から
ディスクの面振れが大きくなり、基板が対物レンズの光
軸に対して傾くために、前述の収差が発生することにな
る。

【０００５】そこで、光をディスクに照射する際に、デ
ィスクの基板とは反対側、いわゆる膜面側から入射する
ことが考えられている。このように膜面入射方式を採用
したとしても、高ＮＡの対物レンズを用いた場合に種々
の問題が残っている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】例えば、光磁気記録装
置において、光学系と磁気コイルを一体にした光磁気ヘ
ッドが知られている。このような光磁気ヘッドは高ＮＡ
のレンズを用いて光磁気記録層に情報を記録するのに有
効となる。しかしながら、照射された光が磁気コイルを
加熱するために、特に高周波数の変調磁界を印加して記
録する際に記録特性を悪化させることになる。特開平１
１−３１６９８６号は、コイル支持部材とコイルとの間
に熱伝導膜を備えた光ヘッドを開示している。熱伝導膜
はコイル支持部材の熱伝導度よりも少なくとも数倍以上
の熱伝導度を有するために、コイルに発生する熱を熱伝
導膜を介して対物レンズに効率良く伝播してコイルの温
度上昇を抑制することができることが開示されている。
しかしながら、対物レンズに熱を伝播させると、レンズ
の熱膨張によりレンズの光学特性を劣化させるという問
題が生じる。

【０００７】また、光磁気ヘッドは、通常、２種類のレ
ンズを組み合わせて対物レンズ系として用いており、高
ＮＡのレンズを対物レンズに用いた場合には、それらの
レンズの光軸のずれによる波面収差が発生し易くなる。
かかる波面収差は、再生信号特性を低下させるため、対
物レンズ系の２種類のレンズの光軸を互いに高精度に合
わせこむ必要がある。

【０００８】本発明は、前記従来技術の問題点を解決す
るためになされたものであり、その第１の目的は、対物
レンズの光学特性を阻害することなく、コイルを有効に
放熱することができる光磁気ヘッド及びそれを用いた光
磁気記録装置を提供することにある。

【０００９】本発明の第２の目的は、光磁気ヘッドにお
ける対物レンズ系を構成する２つのレンズの光軸を高精
度に合わせて収差の発生を有効に防止することができる
光磁気ヘッド及びそれを用いた光磁気記録装置を提供す
ることにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の態様に従
えば、情報記録媒体に情報を記録するために用いられる
光磁気記録ヘッドであって、前記情報記録媒体に光を集
光するためのレンズと；互いに平行な第１面及び第２面
を有し、第１面上に上記レンズを支持する基板と；上記
基板の第２面上に設けられた磁気コイルと；上記基板の
第２面上に設けられ、上記磁気コイルで発生した熱を放
熱するための放熱部材とを備える光磁気ヘッドが提供さ
れる。

【００１１】本発明の光磁気ヘッドでは放熱部材が第２
面上に設けられているので、磁気コイルが光照射により
加熱してもその熱をレンズが設けられている基板の第１
面側に逃がすことがない。それゆえ、レンズ、特に０．
６≦ＮＡの高ＮＡの対物レンズの熱膨張を防止してレン
ズの光学特性を良好に維持することができる。一方、第
２面上に設けられた放熱部材は、磁気コイル及びその近
傍で発生した熱を、光磁気ヘッドと情報記録媒体の間の
空間に放熱することができる。特に、情報記録媒体は光
磁気ヘッドに対して、通常１ｍ／ｓ以上の線速度で回転
移動しているために、放熱部材はこの回転移動により発
生する気流により効率良く冷却される。

【００１２】本発明において、放熱部材が、上記レンズ
の光軸方向において磁気コイルよりも情報記録媒体に近
い位置に設けられていること望ましい。特に、放熱部材
が、情報記録媒体と対向するように光磁気ヘッド上で露
出していると、情報記録媒体の回転移動により発生する
気流によって一層有効に冷却される。放熱部材が磁気コ
イルの外側に設けられていてもよい。

【００１３】本発明において、上記基板はガラス平板に
し得る。第１面及び第２面が互いに平行なガラス平板を
用いることにより、対物レンズの光射出面が平坦化され
ている場合には、ガラス基板をレンズの光軸に対して正
確に直角に配置することが容易となり、ガラス平板通過
後の光路の調整が容易となる。

【００１４】光磁気ヘッドにおいて良好な光ビームを得
るためには、レンズと支持基板を接着する際、接着層の
厚みを一定に制御する必要がある。レンズと支持基板と
の間にスペーサとなる支持パッドを設けることによっ
て、接着層厚みを一定に制御することができる。これに
より、支持基板をレンズの光軸に対して正確に直角に配
置することが容易となり、良好な光ビームが光磁気ディ
スク上で得られる。支持パッドは金属で構成することが
好ましい。金属にすることにより、コイルの端子をメッ
キする工程で同時に支持パッドを形成できるからであ
る。また、パッドを接着剤を用いて接着するとき、接着
剤はディスク基板表面（第２面）とレンズ光射出側端面
と間の部分（光透過部）に充填しても良く、この場合、
接着剤はレンズ及び基板の屈折率に近い屈折率を有する
ものを選択するのが望ましい。この部分に接着剤を充填
せずに空隙を形成する場合には、レンズ光射出側端面と
基板の第１面にはガラスと空隙との間で発生する光の界
面反射を防止するために反射防止膜を形成し得る。

【００１５】上記基板の第２面に突出部または保護パッ
ドを設けてもよい。ディスク上にゴミが付着していて
も、突出部または保護パッドにより磁気コイル及び磁気
コイルの中央に設けられた光透過部が保護され、耐久性
の高い光磁気ヘッドを提供することができる。保護パッ
ドは種々の樹脂材料から形成し得る。

【００１６】突出部の表面に酸化シリコンや窒化シリコ
ン、ジルコニア、ダイヤモンドライクカーボンなどの保
護膜を形成することによりさらに耐久性に優れた光磁気
ヘッドを提供できる。

【００１７】本発明の光磁気ヘッドにおいて、上記レン
ズより上記支持基板が基板面方向において大きな面積を
有することが望ましい。このようにすると、基板の第１
面からコイルの端子を取り出すことが可能であり、ディ
スク面と近接する基板の第２面からコイルの端子がはみ
出すことがない。また、上記コイルは光軸方向に２層以
上積層され得る。コイルを２層以上積層させるには、例
えば、同一面（層）上で螺旋状コイルを外側から内側に
向かって形成した後（第１層形成）、内周端を光軸方向
の上方（又は下方）に折り曲げて延在させ、さらに外周
方向に折り曲げて螺旋状に延在させればよい（第２層形
成）。そして、コイルの第２層の外周端を基板に予め形
成したスルーホールを通じて基板の第１面に引出すこと
ができる。

【００１８】上記基板の第２面と上記コイルとの間に、
光透過用の開口部が形成された第１軟磁性層が設けても
良い。軟磁性層はコイル中心の光透過部を除く支持基板
面のほぼ全面に形成し得る。軟磁性層を設けることによ
りコイルに発生した熱が軟磁性層を通じて拡散し易くな
る。また、軟磁性層はコイルで発生する磁界を増大させ
る役割も果たす。さらに、第１軟磁性層に加えて、コイ
ルのディスク側に、光透過用の開口部が形成された第２
軟磁性層を設け得る。

【００１９】第１及び第２軟磁性層を設ける場合には、
第２軟磁性層の光透過用の開口部の面積をＡ、第１軟磁
性層の光透過用の開口部の面積をＢとした時にＡがＢよ
り大きいことが好ましい。ＡがＢとほぼ同じであると、
コイルの近傍での磁界が大きくなり、コイルの中心位
置、すなわち、ディスク上の光スポット中心において磁
界があまり大きくならない。これに対して、ＡをＢより
大きくすることで、コイルの中心位置まで磁界を強くす
ることが可能となる。しかし、ＡをＢより極端に大きく
すると、上記効果が薄れる。このため、１．２≦Ａ/Ｂ
≦３．２が特に好ましい。

【００２０】軟磁性層はコイルを覆うように長方形状に
することが好ましい。これはコイルのディスク面あるい
はその反対面に形成する軟磁性層の透磁率の制御を容易
にするためである。または、軟磁性層を複数に分割して
短冊状にしても同様の効果が得られる。

【００２１】本発明の第２の態様に従えば、情報記録媒
体に情報を記録するための光磁気記録装置であって、光
源と；光源からの光を上記情報記録媒体に照射して情報
を記録するための光磁気ヘッドと；上記情報記録媒体か
らの戻る光を検出する検出系と；を備え、上記光磁気ヘ
ッドが、前記情報記録媒体に光を集光するためのレンズ
と；互いに平行な第１面及び第２面を有し、第１面上に
上記レンズを支持する基板と；上記基板の第２面上に設
けられた磁気コイルと；上記基板の第２面上に設けら
れ、上記磁気コイルで発生した熱を放熱するための放熱
部材とを備える光磁気記録装置が提供される。

【００２２】本発明の光磁気記録装置は、フォーカスサ
ーボとトラッキングサーボを同時に行う２次元アクチュ
エータを備えることが望ましい。この場合、２次元アク
チュエータに磁気コイルが設けられた基板を設置するこ
とが好ましい。この構造にすることにより、ディスクの
面振れ、偏心に追従してレンズを移動させて光ビームの
集光位置を変えた場合でも、光ビームが集光している記
録膜に安定に磁界が印加できる。レンズの開口数(ＮＡ)
は０．７〜０．９５にし得る。なお、超高密度記録のた
めに、ＮＡが１以上の固体イマージョンレンズを用い得
る。

【００２３】上記光磁気ヘッドは浮上スライダ上に装着
して、浮上型ヘッドとすることができる。この場合、ス
ライダの表面に浮上用の溝を形成し得る。

【００２４】情報記録媒体としては、例えば、トラック
ピッチが０．９μm以下のランド記録もしくはグルーブ
記録が行えるように、ランドもしくはグルーブを設けた
基板上に、少なくとも反射膜、記録層、透明誘電体層
を、この順に積層した光磁気記録媒体を用い得る。な
お、本明細書において用語「光磁気記録装置」とは、記
録のみならず再生機能をも有する装置を意図している。

【００２５】本発明の第３の態様に従えば、情報記録媒
体に情報を記録するために用いられる光磁気記録ヘッド
であって、上記情報記録媒体に光を集光するための共通
の光軸を有する第１レンズ及び第２レンズと；第１レン
ズを保持する第１レンズホルダと；第２レンズを保持す
る第２レンズホルダと；第１レンズホルダと第２レンズ
ホルダ間に設けられ、第１レンズの光軸に垂直な方向に
第１レンズホルダを第２レンズホルダに対して相対移動
するための第１アクチュエータと；第１面及び第２面を
有し、第１面上に第１レンズホルダ及び第２レンズホル
ダが配置される基板と；上記基板の第２面上に設けられ
た磁気コイルと；を備える光磁気ヘッドが提供される。

【００２６】上記光磁気ヘッドでは、第１アクチュエー
タにより第１レンズホルダを第２レンズホルダに対して
相対移動して第１レンズと第２レンズの光軸を正確に合
わせ込むことができる。それゆえ、高ＮＡのレンズを第
２レンズに用いても波面収差の発生を防止することがで
きる。第１レンズと第２レンズの光軸のずれは、第１ア
クチュエータにより第１レンズホルダを第２レンズホル
ダに対して相対移動しながら、情報記録媒体からの再生
信号を検出することによって検出することができる。

【００２７】上記光磁気ヘッドがピックアップ型のヘッ
ドの場合は、さらに、上記光軸方向に第１レンズホルダ
を第２レンズホルダに対して相対移動するための第２ア
クチュエータを備えるのが好ましい。

【００２８】また、上記基板の第２面に保護パッドを設
け得る。この場合、保護パッドが少なくとも上記基板の
第２面の４つのコーナーを覆っていることが好ましい。
保護パッドは、基板の第２面の外周部の全体を覆ってい
ても良く、また、四隅だけに孤立したパッドを設けても
良い。パッドは、基板の第２面に貼り付けてもよく、あ
るいは基板にはめ込んでも良い。

【００２９】保護パッドの材料として、ポリエチレン、
ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リアクリレート、ポリメタクリレート、ABS樹脂、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリアセタール、ポリアリレ
ート、ナイロン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルア
ミド、フェノール樹脂、パーフロロポリエチレンなどの
フッ素樹脂等が挙げられる。

【００３０】本発明の第４の態様に従えば、情報記録媒
体に情報を記録するための光磁気記録装置であって、光
源と；上記光源からの光を上記情報記録媒体に照射して
情報を記録するための光磁気ヘッドと；上記情報記録媒
体から戻る光を検出する検出系と；を備え、上記光磁気
ヘッドが、上記情報記録媒体に光を集光するための第１
レンズ及び第２レンズと；第１レンズを保持する第１レ
ンズホルダと；第２レンズを保持する第２レンズホルダ
と；第１レンズホルダと第２レンズホルダ間に設けら
れ、上記光軸に垂直な方向に第１レンズホルダを第２レ
ンズホルダに対して相対移動するための第１アクチュエ
ータと；第１面及び第２面を有し、第１面上に第２レン
ズを支持する基板と；上記基板の第２面上に設けられた
磁気コイルと；を備える光磁気記録装置が提供される。
上記光磁気記録装置は、さらに、第１レンズホルダを第
２レンズホルダに対して上記光軸方向に相対移動するた
めの第２アクチュエータを備え得る。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体例を図面を参
照しながら説明する。

【００３２】実施例１ 図１に示したように、本発明に従う光磁気ヘッド１００
は、その下方に配置された光磁気ディスク５に光照射し
つつ磁界を印加することによって情報を記録するために
用いられ、２枚の組合せレンズ１，２で構成された対物
レンズ系と、レンズ１を保持するレンズホルダ７ｂ及び
レンズ２を保持するレンズホルダ７ａと、磁気コイル４
を有するコイル支持基板３とを含む。

【００３３】基板３のディスク側の面３ａには後に詳述
する磁気コイル４が埋設されている。基板３のレンズ側
の面３ｂにはレンズ支持用パッド８を介してレンズ２が
配置されている。レンズ２は、レンズ２はその光射出
部、すなわち、基板３の面３ｂと対向する面２ａは平面
であり、面２ａの反対側は凸球面となるように加工され
ている。レンズ２は、円筒状のレンズホルダ７ａ（ホル
ダ外枠）の底面に形成された開口部内に保持されてい
る。

【００３４】レンズ１は、両面が凸球面であり、外周部
に平坦部が形成された凸レンズであり、レンズの平坦部
が円筒状のレンズホルダ７ｂ（ホルダ内枠）の上端で保
持されている。レンズホルダ７ｂは、底面に開口部を有
し、この開口部はレンズ２へ入射する光を通過させる。
レンズホルダ７ｂの外径はレンズホルダ７ａの内径とほ
ぼ等しく、レンズホルダ７ｂをレンズホルダ７ａに嵌合
させることによりそれらのレンズホルダに保持されたレ
ンズ１，２の光軸が精密に位置合わせされている。これ
らのレンズ１，２から構成される対物レンズ系のＮＡは
０．８５である。

【００３５】レンズホルダ７ａと基板３との間の空間
は、レンズ２の光射出部２ａを除いて、接着剤６が充填
されている。また、レンズ２とレンズホルダ７ｂの下端
に形成された開口部との間にもまた接着剤６が充填され
ている。さらに、レンズ１の平坦部はレンズホルダ７ａ
の上端近傍に接着剤６で固定されている。

【００３６】基板３は透明ガラス製であり、面３ａと面
３ｂが高精度に平行になるように研磨加工されている。
基板３は、レンズ２の光射出部２ａを完全に覆うように
レンズ２の底面積より大きな面積を有している。この図
には示してないが、光磁気ヘッド１０には、フォーカス
サーボとトラッキングサーボを同時に行うアクチュエー
タが取り付けられる（図２２参照）。

【００３７】レンズホルダ７ａ、７ｂは、以下の理由か
らレンズ材料と同等の熱膨張率を有する材料で構成する
のが望ましい。本発明では放熱部材を基板面のディスク
側に配置させることに、磁気コイルに通電することによ
りまた光照射により磁気コイルで発生した熱をレンズに
伝播することを抑制している。それでも、レンズへの光
照射により発生した熱などでレンズ１，２及びレンズホ
ルダ７ａ，７ｂの温度が上昇する。レンズホルダ７ａ、
７ｂとレンズ１，２との熱膨張率がほぼ同じであれば、
レンズ１、２に発生する熱応力を最小にして、レンズの
光学特性を悪化を防止することができる。レンズの材質
に熱膨張率が小さいＢＫ７等の硬質ガラスを用いた場合
は、レンズホルダ７ａ，７ｂの材料として、下記の表１
に示すような、コパール、４２アロイ、４１アロイ等が
良い。一方、レンズ１，２に熱膨張率の大きい硬質ガラ
ス、例えばソーダガラス等を用いた場合は、表１に示し
たような４２６アロイ、４７６アロイ、５０アロイ等が
望ましい。表中に各材料の成分及び熱膨張率を記載し
た。

【００３８】

【表１】

【００３９】次に、磁気コイル４が設けられている基板
（以下、磁気コイル基板９０ともいう）の底面及び断面
を図２〜４を用いて説明する。図２のＡ−Ａ’線の断面
図である図３に示したように、基板３はＴ字型の断面形
状を有するガラス基板である。基板３のディスク側の面
３ａから突出した部分５０は、レンズ２から射出した光
が光磁気ディスク５に向かうための光透過部として機能
する。突出部５０（光透過部）の外側であって、基板３
のディスク側の面３ａ上には軟磁性層１３ａが形成され
ている。軟磁性層１３ａは、図２に示したように突出部
５０を取り巻くように環状に形成されている。軟磁性層
１３ａはコイルで発生する磁界を強くするとともに磁気
異方性を制御することができ、またコイル４で発生した
熱の拡散を促進する。

【００４０】コイルで発生する磁界が高周波になると、
軟磁性層には渦電流が流れてしまい、磁界が低下してし
まう恐れがある。このため、図示していないものの、軟
磁性層１３ａは２μｍ程度の軟磁性層を数ｎｍの厚みの
絶縁層を介して積層した構造になっており、この構造に
より渦電流の発生を防止することができる。この例で
は、軟磁性層はパーマロイで形成されており、絶縁層は
酸化ケイ素で形成されている。軟磁性層及び絶縁層はス
パッタリングにより形成し得る。

【００４１】軟磁性層１３ａの下方には、絶縁層として
機能するレジスト１４を介して螺旋状の磁気コイル１５
が光透過部５０を周回するように形成されている。磁気
コイル１５の外周端１５ａは基板３に形成されたスルー
ホール１１を貫通して基板の面３ｂに設けられたリード
用端子１８と連結されている。磁気コイル１５の内周端
１５ｂは下方に延在して方向転換して基板３の外周に向
かい上方に折れ曲がって基板３に形成されたスルーホー
ル１１を貫通して基板の面３ｂに設けられたリード用端
子１８と連結されている。磁気コイルの最大消費電力は
０．０５Ｗ以上である。図２のＢ−Ｂ’線の断面図であ
る図４から分るように、磁気コイル１５の外側には、レ
ジスト１４の薄膜を介してヒートシンク層８０が設けら
れている。ヒートシンク層８０は磁気コイル１５を取り
巻くように且つ基板３のほぼ全面を覆うように形成され
ている。ヒートシンク層８０は磁気コイル１５で発生し
た熱を受け取り基板３の外側、特に、ディスク５と基板
３の間の空間に逃がす働きをする。ヒートシンク層８０
を用いて、ヒートシンク層８０とディスクとの間に発生
する静電容量を測定して、ディスクとコイルの間隔を求
めることもできる。ディスクとコイルの間隔は、光磁気
ヘッドのディスク上での浮上量を制御するために用いら
れる。ヒートシンク層８０は、スルーホールを通って基
板３の上面３ｂ上に形成されたリード用端子１８と連結
されている。磁気コイル１５のさらに下方にはレジスト
１４を介して第２の軟磁性層１３ｂが形成されている。
そして、基板の下端部には軟磁性層１３ｂを覆うように
保護層１７が形成されている。基板３の面３ｂ上にはレ
ンズ２を支持するための支持パッド８が形成されてい
る。

【００４２】リード用端子１８には、磁気コイル１５に
電流を供給するための図示しない磁界印加用電源（磁界
制御部）が接続される。光磁気ヘッドの動作時には、図
示しないレーザ光源からの光がレンズ１，２で集光され
て光照射部５０を通過して光磁気ディスク５上に照射さ
れる。光照射時に、記録信号に応じた極性の電流が磁気
コイルに流され、磁気コイルから所望の極性の磁界が光
磁気ディスクに印加される。こうして磁界変調方式によ
り情報が光磁気ディスクに記録される。

【００４３】図２〜４に示した構造を有する磁気コイル
１５を備える基板３の製造プロセスを図５及び６を用い
て説明する。最初に、図５（ａ）に示したように、透明
な正方形状のガラス基板７０に、磁気コイル基板９０が
形成される複数の正方形状の領域７０ａを区画する。ガ
ラス基板７０は、屈折率が均一であり、温度変化に伴う
屈折率変化が少なく、しかも熱膨張が小さい材料が望ま
しく、石英系のガラスであるＢＫ７を用いた。各区画領
域７０ａに、断面図５（ｂ）に示したようにガラス基板
７０を貫通する４つのスルーホール１１をエキシマレー
ザを用いて形成する。この基板の厚みが高精度に均一化
されるように研磨剤で両面研磨して厚みを０．３００ｍ
ｍとした後、図５（ｃ）及び図６（ａ）に示したように
４つのスルーホールの中央部であって光透過部（５０）
になる部分にＣｒ（またはＴｉ）のマスク部８２を形成
した。このマスク部８２を含む基板の断面図を図６
（ａ）に示す。なお、図６のプロセスステップ（ａ）〜
（ｈ）は説明を簡単にするために区画領域７０ａの一つ
だけに対する処理を示している。このマスク部８２はフ
ォトマスクを用いたフォトリソグラフィーにより形成し
得る。次いで、図６（ｂ）に示すように、エッチングし
てコイル部分を２０μｍを除去した。エッチングには反
応性ガスによるイオンエッチングを用いた。その後、マ
スク部８２を、反応性ガスを変えてイオンエッチングす
ることにより除去した。

【００４４】次いで、図６（ｃ）に示すように、パーマ
ロイからなる軟磁性層１３ａを、ガラス基板３のエッチ
ング処理した面上にスパッタリングにより形成した。こ
の際、軟磁性層１３ａは、パーマロイ２μｍを酸化ケイ
素層（中間絶縁層）２ｎｍを介して４層積層した（不図
示）。パーマロイはスパッタリングにより形成した。次
に、形成された軟磁性層１３ａ上にレジスト１４を１μ
ｍ塗布し、硬化させた。

【００４５】次いで、さらにレジスト１４を塗布して、
コイルパターン及びヒートシンク層に相当するマスクパ
ターンを用いて塗布したレジスト１４を感光させ、現像
してコイル１５及びヒートシンク層８０になる部分のレ
ジストを取り除いた。そして、レジストが除去された部
分に、めっきで銅を５μｍを厚みで充填した。こうし
て、図６（ｄ）に示すようにレジスト１４中に銅のコイ
ル１５ａ（コイル上層）及びヒートシンク層８０を形成
した。コイルの内径は１２０μｍ、外径は５２０μｍ、
巻き数は２０．５ターンとした。

【００４６】さらに、図７（ｅ）に示すように、絶縁層
となるレジスト１４をコイル１５を覆うように塗布して
平滑化した。レジストの厚みは、コイル形成部上で１μ
ｍとした。次に、コイル１５の端部をスルーホール１１
を通して配線するために、図６（ｄ）に示した処理と同
様の処理でコイル延在部１５ｂ（コイル下層）を作製し
た。このコイル延在部１５ｂは、コイル１５ａの内側部
から下方に延在して後、折り曲がってコイルの外周部に
向かって延在し、折り曲がってスルーホール１１に向か
うように形成した（図７（ｆ））。

【００４７】次に、図７（ｇ）に示したように、絶縁層
となるレジスト１４を塗布して平滑化した。この時、レ
ジストの厚みはコイル形成部で１μｍであった。次い
で、第２の軟磁性層１３ｂを形成する。軟磁性層１３ｂ
は軟磁性層１３ａをガラス基板３に形成したときと同様
に、パーマロイ２μｍをそれぞれ中間絶縁層２ｎｍを介
して４層に積層した。ディスク側の軟磁性層１３ｂは、
内周がコイル１５やレンズ側の軟磁性層１３ａより大き
く、内径部（開口部）の面積が軟磁性層１３ａの内径部
の面積の２倍となるようにした。

【００４８】次に、図７（ｈ）に示したように、保護膜
１７として、窒化ケイ素１００ｎｍとダイヤモンドライ
クカーボン２０ｎｍをこの順でレジスト１４及び軟磁性
層１３ｂが露出している面に形成した。

【００４９】次に、基板のレンズ側の面に、リード用端
子１８とレンズ支持パッド８を、所定のレジストパター
ン内に３μｍの銅層及び１μｍの金層をそれぞれメッキ
で形成した後、レジスト膜をアッシング除去することで
形成した（図３参照）。レンズ支持パッド８は、図８に
示しようように環状に形成されている。最後に、基板７
０を区画領域ごとにダイサーで切断して、複数の磁気コ
イル基板９０を得た。

【００５０】こうして得られた磁気コイル基板９０に、
図１に示すように、レンズ１，２をそれぞれレンズホル
ダ７ａ及び７ｂに組み込まれた状態で取り付けた。この
際、光透過部５０に対する光路調整を行いつつレンズホ
ルダ７ａを基板３に対して位置決めし、レンズホルダ７
ａの外周側よりレンズホルダ７ａと基板３との間に接着
剤６を充填した。接着剤として、ロックタイト（Loctit
e）社製ポリウレタン系接着剤３９５１を用いた。ここ
で、レンズ接着用パッド８はレンズとコイル用ガラス基
板の空隙を一定に保つとともに、レンズ２の光射出部に
接着剤が流れ込むのを防止している。レンズの光射出部
２ａおよび基板３の面３ｂには反射防止膜を形成しても
よい。

【００５１】実施例２ 本発明の光磁気ヘッドの実施例２を図面を用いて説明す
る。この実施例では、レンズ支持パッド８’を、図９に
示すような４つの分離した環状部とした以外は、実施例
１と同様にして、磁気コイル基板を形成した。図１０に
示すように、光磁気ヘッド１０２には、基板３上にレン
ズ１，２がレンズホルダ７ａ、７ｂを介して組み付けら
れている。この例でも、レンズ２はレンズ支持パッド
８’を介することによってレンズ２と基板３との間隔を
制御しつつ基板３上に載置されている。レンズ支持パッ
ド８’は４つの分離した環状部であるので、レンズホル
ダ７ａの底部と基板面３ｂとの間に接着剤６を充填する
と、接着剤６はレンズ２の光射出部２ａの下方の空間に
も流れ込む。ここで、レンズ２、基板３、接着剤６の屈
折率はほぼ同一のものを使用しているので、それらの間
を光が伝播するときの光の屈折が防止されている。好ま
しくはレンズ２、基板３及び接着剤６の屈折率の差は１
０％以下とよい。本例ではレンズ及び基板は石英（ＢＫ
７：ｎ＝１．５１２）で形成されており、接着剤は熱硬
化性接着剤である二液性エポキシ−ＥＭＩ社製光学用接
着剤ＯＰＴＯＣＡＳＴ３６０１（ｎ＝１．５３）を用い
た。

【００５２】［光磁気ディスクの製造］本発明の光磁気
ヘッドで情報を記録再生するために以下のようにして図
１３に示した断面構造を有する光磁気ディスクを作製し
た。トラックピッチ０．６μｍのランド記録再生用基板
２１を、予め溝とピットを形成したスタンパを備えた射
出成形金型にポリカーボネート樹脂を充填することによ
り成形した。基板サイズは、直径１３０ｍｍ、厚さ１．
８ｍｍ、センターホール径１５ｍｍとした。ランドの幅
は０．４μｍ、溝深さは６０ｎｍとした。この基板にイ
ンライン式ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用いて、反
射層２２としてＡｕ層を５０ｎｍの厚みで、記録再生層
２３としてＴｂＦｅＣｏ合金層を２０ｎｍの厚みで、透
明誘電体層２４として窒化シリコン層を６０ｎｍの厚み
でそれぞれ形成した。次いで、窒化シリコン層の上に紫
外線硬化樹脂層２５を５μｍの厚みでスピンコートで形
成し、最後に潤滑剤層として、両末端に水酸基を有する
パーフルオロポリエーテル潤滑剤を平均膜厚１ｎｍでス
ピンコートして形成した。各層の成膜条件は以下の通り
である。窒化シリコン層は、シリコンターゲットをＡｒ
−Ｎ_２混合ガス (混合比２：１)を用いて、流量１３０
ｓｃｃｍ(真空度２．０Ｐａ)、投入パワー２ｋＷでスパ
ッタして成膜した。Ａｕ層はＡｕターゲットを、Ａｒガ
スを用いて流量８０ｓｃｃｍ(真空度１．２Ｐａ)、投入
パワー２ｋＷでスパッタして成膜した。ＴｂＦｅＣｏ合
金層は、Ｔｂ_２３Ｆｅ_６７Ｃｏ_１０(原子％)合金ターゲ
ットを、Ａｒガスを用いて流量１００ｓｃｃｍ(真空度
１．５Ｐａ)、投入パワー５００Ｗの条件でスパッタし
て成膜した。

【００５３】この光磁気ディスクを、実施例１および実
施例２で作製した光磁気ヘッドを備えたドライブに組み
込み、所定のテスト信号を記録してエラーレートを測定
した。トラッキングは、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ方式を用い
た。ディスク回転数は毎分３６００回転とした。

【００５４】まず、図１に示したように基板３中に設け
た磁気コイル１５からの磁界を測定するため、光変調記
録方式で使用される大型のコイルを、磁気コイル１５に
対して、ディスクを挟んで磁気コイル１５と対向する位
置に設置し、この大型コイルから発生する磁界をガウス
メータで測定した。これは、磁気コイル１５が超小型で
あるために、発生する磁界を直接測定するのが困難であ
り、大型コイルで発生する磁界をバイアス磁界として印
加するためである。次にディスクをドライブに取り付け
て回転させ、フォーカスサーボ及びトラッキングサーボ
かけながらレーザパワーを調節してディスクにテスト信
号を記録した。この時、大型コイルで印加したバイアス
磁界と、磁気コイル１５で発生する磁界とがバランスし
て光磁気信号が０となるバイアス磁界を求めて、本発明
のコイルで発生する磁界を求めた。コイル１５に流れる
電流を調整して、光磁気ヘッドの磁気コイルから発生す
る磁界を１５０（Ｏｅ）に調整した。ディスクとコイル
保護膜１７との間隔は１０μｍとした。

【００５５】このドライブを用いて、最適記録パワーで
エラーレートを測定したところ、マーク長３５０ｎｍの
マークで１×１０^−４以下であり、再生チャンネルが十
分に動作するレベルであることが分かった。なお、デー
タ変調方式は１−７(ＰＲクラス１)を用いた。このマー
ク長でゾーンＣＡＶ方式を用いれば、ディスク片面で約
１５Ｇｂｉｔの記憶容量を達成できることが分かる。

【００５６】ここで、レンズ側に形成した軟磁性層１３
ａとディスク側に形成した軟磁性層１３ｂの開口部の面
積比が、磁気コイル１５から発生する磁界に対してどの
ように影響するかを調べるために、ディスク側に形成し
た軟磁性層１３ｂの開口部の面積を種々の値に変更し
て、発生した磁界の大きさを測定した。結果を図１４に
示す。図中、横軸はディスク側に形成した軟磁性層１３
ｂの開口部の面積Ａと、レンズ側に形成した軟磁性層１
３ａの開口部の面積Ｂとの比Ａ/Ｂを示す。縦軸は、異
なる上記面積比のディスクについて同一電流で磁界を測
定して、最大測定磁界（最適面積比）で各ディスクの発
生磁界を規格化した値を示す。１．２≦Ａ/Ｂ≦３．１
の範囲で、最大測定磁界（最適面積比）の９０％以上の
磁界が発生していることがわかる。それゆえ、Ａ/Ｂは
１．２から３．２程度にするのが好ましい。

【００５７】実施例１及び２で作製した光磁気ヘッド
は、図１２に示すようなエアスライダ３１に搭載して浮
上型ヘッドとしてもちいることができる。この場合、フ
ォーカスサーボ系を用いずに、ディスクとレンズを安定
に近接させることが可能となる。エアスライダは図示し
ないアームを介してロータリアクチュエータに接続され
る。光磁気ヘッドにレーザ光を送る光学系はアームの先
端に取り付けることができる。光磁気記録信号およびト
ラッキングに必要な信号は、例えば、アームの根元に取
り付けた検出部で検出することができる。検出系は、知
られた光磁気記録装置と同様のものを使用することがで
きる。

【００５８】実施例３ この実施例では、図３に示した磁気コイル基板９０に突
起部５０を残さなかった以外は、実施例１と同様にして
磁気コイル基板を作製した。磁気コイル基板は、２９０
は、図１１に示すようにコイル１５の中央に位置する光
透過部５５にはガラス材料が存在していない。このよう
な構造は、基板３を最初にエッチングすることなく、す
なわち、図６のプロセスステップ（ａ）及び（ｂ）を省
略すれば得られる。このように、突起部５０を空間にす
ると、コイル作製プロセスが簡略化され、またコイル形
成面に極めて平滑な面が得られることで生産性が向上す
る。こうして得られた磁気コイル基板２９０は、実施例
１と同様にして対物レンズ系を組み込んで光磁気ヘッド
を構成することができる。

【００５９】実施例４ この例では、図１５及び１６に示したようにコイル支持
基板３のディスク側の面３ａの外周部に枠状の突起部７
０を形成した以外は、実施例１と同様にして磁気コイル
基板３９０を製造した。この突起部７０は、光透過部の
突起部５０より高くなるように形成した。この突起部７
０は、例えば以下のようにして形成し得る。図６（ａ）
及び（ｂ）で示したプロセスステップにおいて基板３の
突起部７０に相当する外側部にもマスクを設け、反応性
エッチングを行う。次いで、得られた突起部７０のみに
マスクを形成して、突起部５０のマスクのみを除去し、
さらに反応性イオンエッチングすればよい。突起部７０
は突起部５０より１〜２μｍ程度突出しているのが好ま
しい。こうして得られた突起部７０は、磁気コイル１５
を保護するととも、光透過部の近傍に塵、埃などの付着
を防止する。

【００６０】さらに、図１５に示したように、突起部７
０上に保護膜９を形成し得る。保護膜９の材料として
は、酸化シリコン、窒化シリコン、ジルコニア、ダイヤ
モンドライクカーボンなどを用いることができる。保護
膜の厚さは、０．１〜０．２μｍが好適である。

【００６１】こうして得られた磁気コイル基板３９０に
実施例１と同様にして対物レンズ系を組み込んで図１６
に示したような光磁気ヘッドを構成した。実施例１で作
製したのと同じ光磁気ディスクを、この実施例で作製し
た光磁気ヘッドを備えたドライブに組み込み、所定のテ
スト信号を記録してエラーレートを測定した。トラッキ
ングは、Ｐｕｓｈ−Ｐｕｌｌ方式を用いた。ディスク回
転数は毎分３６００回転とした。コイル１５に流れる電
流を調整して、ヘッドのコイルから発生される磁界を１
５０（Ｏｅ）にした。ディスクとコイル保護膜１４との
間隔は１０μｍとした。このドライブを用いて、最適記
録パワーでエラーレートを測定したところ、マーク長３
５０ｎｍのマークで１×１０^−４以下であり、再生チャ
ンネルが十分に動作するレベルであることが分かった。
なおデータ変調方式は１−７(ＰＲクラス１)を用いた。
このマーク長で、ゾーンＣＡＶを用いれば、ディスク片
面で約１５Ｇｂｉｔの記憶容量を達成できることが分か
る。

【００６２】実施例４で作製した光磁気ヘッドをピック
アップ（固定型）として用いた光磁気ディスク記録再生
装置および実施例４で作製した光磁気ヘッドを浮上型ヘ
ッドとして用いた光磁気ディスク記録再生装置をそれぞ
れ用い、実施例１で作製した光磁気ディスクを５．２５
インチサイズのＩＳＯディスクカートリッジに入れ、デ
ィスクの保管および記録再生試験のサイクルを繰り返し
て耐久性を調べた。この実験は通常の事務所環境（温度
約２５℃）で行った。比較のため、突起部７０の表面に
酸化シリコン、窒化シリコン、ジルコニア及びダイヤモ
ンドライクカーボンを保護膜としてつけたもの、保護膜
のないものおよび比較のため突起部７０（パッド）が形
成されていないものを実験した。

【００６３】この結果を表２に示す。耐久性は数箇所の
最内周から最外周まで１０本のトラックを記録再生して
一つトラックのセクターでもエラーレートが３０％以上
悪化したサイクル数を示す。

【００６４】ピックアップ方式のヘッドでは、ディスク
が記録再生装置に入ると、ディスクを５秒間回転した
後、一旦回転を停止し、次にディスクの内周でフォーカ
スサーボを動作させる。その後、再度ディスクを回転さ
せた後、ヘッドを内周から外周まで移動させて数箇所の
特定トラックを記録再生するように制御した。フォーカ
スサーボ動作時にディスクの回転をいったん止め、内周
領域をフォーカス動作を開始するのは、ディスクの面振
れによってフォーカスサーボが引き込めないのを防止す
るためであり、また、内周領域の面振れが最も小さいの
でフォーカスサーボ動作後ディスクを回転したときにフ
ォーカスサーボが外れることを防止するためでもある。

【００６５】浮上型ヘッドの評価は、ディスクを回転さ
せた後、ランプロード方式でディスク上の外周位置にヘ
ッドをロードし、外周から内周まで移動させて数箇所の
特定トラックを記録再生し、次に外周位置にヘッドを移
動させアンロードするように制御させることで行った。

【００６６】

【表２】

【００６７】表２に示すように突起部７０（パッド）を
形成することによりドライブの耐久性が向上している。
また、突起部７０の表面に酸化シリコン、窒化シリコ
ン、ジルコニア、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬ
Ｃ）を保護膜として形成することにより耐久性が一層向
上することが分かる。特に、突起部７０の表面に酸化シ
リコンを形成し、その上にダイヤモンドライクカーボン
（ＤＬＣ）を形成すると耐久性が著しく増加する。これ
は、摩耗が低下し、摩擦係数が低下するためと考えられ
る。

【００６８】実施例５ 実施例５は、実施例４の変形例であり、図１７〜２０を
用いて説明する。本実施例では、実施例４で作製した磁
気コイル基板において突起部７０の代わりに図１７に示
したように保護パッド９１を設けることにより光磁気ヘ
ッドを作製した。このような磁気コイル基板は、以下の
ようにして作製することができる。図６（ａ）及び
（ｂ）で示したプロセスステップにおいて基板３の突起
部５０のみならず、突起部７０に相当する外周部にもマ
スクを設けて反応性エッチングを行う。これにより、突
起部７０を突起部５０と同一の高さに形成することがで
きる。そして、突起部７０上に保護パッド９１を接着さ
せればよい。保護パッドは、後述する樹脂により形成す
ることができる。保護パッドは、一例として、図１８に
示すように、基板の矩形の外周部（縁部）全体に設ける
額縁型パッド９１を用いた。また、別の例として、図２
０に示すように４隅のみに設けるバンプ型パッド２９１
を用いた。保護パッド９１、２９１は、予め作製した金
型を用いて、ポリアセタールまたはポリアリレート樹脂
を所定形状に成形して作製した。このパッドをエポキシ
系の接着剤で基板の外周部に張り付けて形成した。

【００６９】図１８に示したように基板３に張り付ける
代わりに、図１９に示したように基板３の外周部に嵌め
込むようにパッド９１を成形してもよい。パッドの高さ
は、磁気コイルとディスク表面の間隔の略１／５〜１／
２とすることが望ましい。１／５未満では、コイルの保
護能力が不十分であり、１／２より大きいと磁界コイル
チップの取り付け時の傾き精度を維持するのが困難にな
り、量産性が低下する。

【００７０】上記のようなパッドが形成された光磁気ヘ
ッド（ピックアップ）を用いた光磁気ディスク記録再生
装置を用い、光磁気ディスクを５．２５インチサイズの
ＩＳＯディスクカートリッジに入れ、ディスクの保管お
よび記録再生試験のサイクルを繰り返して耐久性を調べ
た。この実験は通常の事務所環境で行い、パッドはポリ
アセタール製のパッドとポリアリレート製のパッドを用
い、パッドの形状として額縁型及びバンプ型について実
験した。比較のためパッドが形成してないものも実験し
た。この結果を下記の表３に示す。耐久性は数箇所の最
内周から最外周まで１０本のトラックを記録再生して一
つトラックのセクターでもエラーレートが３０％以上悪
化したサイクル数を示す。

【００７１】

【表３】

【００７２】表３から分かるように樹脂でコイル保護用
パッドを形成することによりドライブの耐久性が向上し
ていることが分かる。保護パッドの材料としては、ポリ
エチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボ
ネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ABS
樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリアセタール、
ポリアリレート、ナイロン、ポリエーテルイミド、ポリ
エーテルアミド、フェノール樹脂、パーフロロポリエチ
レンなどのフッ素樹脂等が使用可能である。

【００７３】実施例６ 図２１に実施例１の変形例を示す。図２１に示した磁気
コイル基板は、ヒートシンク層８００の膜厚が実施例１
の場合よりも厚く、ヒートシンク層８００の下端がディ
スク側に一層近い以外は、実施例１と同様にして作製さ
れている。ヒートシンク層８００がディスク側に一層接
近しているために、磁気コイル１５から発生してヒート
シンク層に伝播した熱はディスクと基板３との空間に逃
げ易くなる。それゆえ、ヒートシンク層の放熱効果が向
上される。さらに、ヒートシンク層を下方に延在して保
護膜１７に接触させてもよく、保護膜１７を部分的に設
けずにヒートシンク層をディスク側に露出させても良
い。こうすることでヒートシンク層の放熱効果を一層向
上させることができる。

【００７４】実施例７ この実施例では、図２６に示したように、磁気コイル６
００を楕円形状に形成した以外は、実施例１と同様にし
て磁気コイル基板を形成し、それを用いて光磁気ヘッド
を作製した。楕円形状の磁気コイルは図６の（ｄ）のコ
イルを形成するステップにおいてフォトマスクとして楕
円形の螺旋パターンを用いてフォトレジストを感光する
ことによって容易に形成することができる。

【００７５】磁気コイル６００を楕円形状に形成したの
は以下の理由による。すなわち、光磁気ヘッドを用いて
光磁気ディスクに情報を記録または再生する際にディス
クのトラッキングを行う必要がある。このトラッキング
は、レーザ光源や検出器が設置された固定光学系（図２
５参照）に設けられたガルバノミラーとヘッドをアーム
を介して支持するロータリアクチュエータが動作するこ
とで行われる。ガルバノミラーで反射された光はヘッド
に搭載されたレンズ等の移動光学系に送られる。ここ
で、トラッキングにおける高速な動作はガルバノミラー
の移動により行われるが、ガルバノミラーの移動により
光ビームはディスクの進行方向に直交する方向（ディス
ク半径方向）に振れることになる。この際、磁気コイル
を、ディスク半径方向が長軸となる楕円形に成形してお
けば、トラッキングの際に光ビームがディスク半径方向
に振れても磁気コイルに遮られることなくディスクに照
射されることができる。

【００７６】実施例８ この実施例では、図２７に示したように、磁気コイルが
設けられる基板７００を長方形状に形成した以外は、実
施例１と同様にして磁気コイル基板を形成し、それを用
いて光磁気ヘッドを作製した。ガラス基板７００を長方
形状にすることにより、磁気コイル一つ当たりが設置さ
れる基板面積を小さくして、製造コストを低下すること
ができる。この実施例では、基板７００は４．４ｍｍ×
１．５ｍｍとした。ガラス基板７００の両側にはアルミ
ニウム製の保護基板８００を設置した。

【００７７】［他の記録媒体への応用］上記実施例で作
製した光磁気ヘッドは、光磁気ヘッドのみならず、相変
化記録媒体、特に膜面入射タイプの相変化記録媒体や色
素を用いた記録媒体（例えば、ＣＤ−Ｒ）を記録または
再生するために用いることもできる。相変化記録媒体や
色素を用いた記録媒体は、記録及び再生のために磁界を
印加する必要はないので、磁気コイルを動作させずに光
照射の目的で使用することができる。この場合、実施例
４で形成した基板上の突起部及び実施例５で形成したパ
ッドは、相変化記録媒体、特に膜面入射タイプの相変化
記録媒体や色素を用いた記録媒体（例えば、ＣＤ−Ｒ）
を記録または再生する場合においても有効であること
が、実施例４で行った耐久性試験に用いた光磁気ディス
クの代わりに相変化記録媒体および色素記録媒体を用い
た同様の耐久性試験により明らかとなった。

【００７８】最初に、相変化記録媒体を以下に示す方法
で作製した。トラックピッチ０．６μｍのランド記録再
生用の基板を、予め溝とピットを形成したスタンパを装
着した射出成形金型中にポリカーボネート樹脂を充填し
て成形した。基板サイズは、直径１２０ｍｍ、厚さ１．
１ｍｍ、センターホール径１５ｍｍとした。ランドの幅
は０．４μｍ、溝深さは６０ｎｍとした。その上にイン
ライン式マグネトロンスパッタ装置を用いて、反射層と
してＡｇＲｕＡｕ層を１００ｎｍの厚みで、中間層とし
てＺｎＳ−ＳｉＯ_２層を２０ｎｍの厚みで、記録層とし
てＧｅＳｎＳｂＴｅ合金層を２０ｎｍの厚みで、透明誘
電体層としてＺｎＳ−ＳｉＯ_２層を１２０ｎｍの厚みで
それぞれ形成した。

【００７９】ＺｎＳ−ＳｉＯ_２層の上に紫外線硬化樹脂
層を５μｍスピンコートで形成し、最後に潤滑剤層とし
て、両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル
潤滑剤を平均膜厚１ｎｍでスピンコートして形成した。
各層の成膜条件は以下の通りである。ＺｎＳ−ＳｉＯ_２
層は、（ＺｎＳ）_８０（ＳｉＯ_２）_２０（モル％）ター
ゲットをＡｒガスを用いて、流量１３０ｓｃｃｍ（真空
度２．０Ｐａ）、投入パワー１ｋＷでスパッタして成膜
した。ＡｇＲｕＡｕ層はＡｇ_９８Ｒｕ_１Ａｕ_１（ａｔ
％）ターゲットを、Ａｒガスを用いて、流量８０ｓｃｃ
ｍ（真空度１．２Ｐａ）、投入パワー２ｋＷでスパッタ
して成膜した。ＧｅＳｎＳｂＴｅ合金層はＧｅ_１５Ｓｎ
_１５Ｓｂ_１５Ｔｅ_５５（ａｔ％）合金ターゲットを、Ａ
ｒガスを用いて、流量１００ｓｃｃｍ（真空度１．５Ｐ
ａ）、投入パワー２００Ｗの条件でスパッタして成膜し
た。

【００８０】相変化媒体をディスクカートリッジに入
れ、実施例４と同様にしてディスクの保管および記録再
生試験のサイクルを繰り返して耐久性を調べた結果、表
２とほぼ同様の結果が得られた。また、基板上に、アゾ
系色素を用いた色素層及びＡｇ _９８Ｒｕ_１Ａｕ_１（ａｔ
％）反射層を用いた色素記録媒体の場合も表２とほぼ同
様の結果が得られた。

【００８１】以上のことから、光磁気媒体に限らず、膜
面入射型の相変化記録媒体や色素記録媒体においても、
突起部７０の形成によりドライブの耐久性が向上し、パ
ッド部の表面に酸化シリコンや窒化シリコン、ジルコニ
ア、ダイヤモンドライクカーボンを保護膜として形成す
ることにより、耐久性がさらに向上することが分かっ
た。突起部７０の表面に酸化シリコン形成、その上にダ
イヤモンドライクカーボン形成すると、特に耐久性が増
加するのは光磁気の場合と同様であった。

【００８２】なお、上記の実験には実施例で作製した光
磁気ヘッドを用いたが、相変化媒体の場合は記録に際し
て外部磁界が不要なため、磁気コイルがないものを用い
ることもできる。すなわち、図６に示した磁気コイル基
板を形成するプロセスにおいて磁気コイル１５を形成す
るステップ（ｄ）及び（ｆ）を省略するだけでよい。こ
のようなプロセスで図１５において磁気コイル１５が存
在しない磁気コイル基板を容易に作製することができ
る。この基板を用いて図１、１２、１７に示しようにヘ
ッドを構成することができ、このようなヘッドは相変化
媒体または色素記録媒体を記録及び／または再生するた
めの専用ヘッドとして動作し得る。

【００８３】すなわち、本発明においては、情報記録媒
体に情報を記録するために用いられる光ヘッドであっ
て、前記情報記録媒体に光を集光するためのレンズと；
互いに平行な第１面及び第２面を有し、第１面上に上記
レンズを支持する基板と；上記基板の第２面上に設けら
れた突出部または保護パッドと；を備える光ヘッドを提
供することもできる。保護パッドは前述のような樹脂材
料から構成し得る。

【００８４】なお、種々の実験及び検討の結果、光磁気
記録媒体および相変化媒体においては、ランドグルーブ
記録形式にした場合は、ランドとグルーブの記録特性が
そろい易いことから、入射するレーザの偏向方向を溝に
対して垂直にした方が望ましく、かつ溝の深さは隣接ト
ラックとのクロストークの観点からλ／（７ｎ）〜λ／
（５ｎ）が望ましいことが分かった。また、オングルー
ブ記録（光入射からみて凸の部分に記録）の場合は、記
録パワーマージンが広いこと、トラッキング信号が十分
得られることから、入射するレーザの偏光方向は、溝に
対して平行が望ましい。溝深さは、λ／（８ｎ）より深
いと信号強度が低下してしまい、λ／（１６ｎ）より浅
いと十分なトラッキング信号が得られないため、λ／
（８ｎ）〜λ／（１６ｎ）が望ましい。ここで、λは再
生のためのレーザの波長、ｎは保護膜すなわち紫外線硬
化樹脂の屈折率である。

【００８５】実施例９ 本実施例における、ピックアップ部１０００の構造を、
図２２を用いて説明する。図２２に示すように、本ピッ
クアップ部１０００はピックアップ本体部１０１とそれ
を取り囲むピックアップ支持部１０３から構成した。

【００８６】ピックアップ本体部１０１は、主に、後述
する外部光学系からの光を集光するための第１レンズ１
１０、第１レンズ１１０で集光された光のスポット径を
さらに微小化するための第２レンズ１１２、第１レンズ
１１０を固定するためのレンズホルダ１１４、第２レン
ズ１１２を固定するためのレンズホルダ１１６、第１レ
ンズ１１０及び第２レンズ１１２の光軸を調整するため
の圧電アクチュエータ１１８、光磁気ディスクに光磁気
記録するために用いる磁気コイル１２０及びその磁気コ
イル１２０を光磁気ディスク側に支持するためのコイル
支持基板１２２から構成した。

【００８７】図２２に示すように、コイル支持基板１２
２上に第２レンズ１１２が配置されており、第１レンズ
１１０が第２レンズ１１２の直上に位置するように配置
されている。第１レンズ１１０は外周部分に平坦面を有
し、かつ両面が凸球面を形成する凸レンズであり、第２
レンズ１１２は、外周部にホルダ固定用の平坦面を有
し、かつ上面が凸球面に、下面が平坦面になるように形
成されたレンズである。第１レンズ１１０では外部光学
系からの光を第２レンズ１１２に集光し、その集光され
た光を、さらに光磁気ディスク上に所用のスポット径と
なるように第２レンズ１１２で集光する。レンズホルダ
１１４は、底面を有する円筒形であり、レンズホルダ１
１４の上部枠上で第１レンズ１１０を固定する。また、
レンズホルダ１１４の底面中央部には第２レンズ１１２
への光入射用の開口部が設けてある。レンズホルダ１１
６は、底面を有する円筒形であるが、底面中央部に第２
レンズ１１２を固定するための第２レンズ１１２と同じ
直径の開口部が設けてある。

【００８８】第１レンズ１１０を固定したレンズホルダ
１１４は、レンズホルダ１１６の内側に隙間１００μｍ
程度となるように配置される。レンズホルダ１１４の底
面の外周部には、圧電アクチュエータ１１８が埋設され
ている。圧電アクチュエータ１１８は、円周方向にそれ
ぞれ１２０°の間隔で３個設置されている（図２３）。
圧電アクチュエータ１１８は、それぞれレンズホルダ１
１６の底面内壁上に接地されて、レンズホルダ１１４を
レンズホルダ１１６上に水平に移動可能に支持してい
る。レンズホルダ１１４をレンズホルダ１１６に対して
水平方向に変位させ、第１レンズ１１０の光軸を第２レ
ンズ１１２の光軸ＡＸに合わせることにより、第１レン
ズ１１０と第２レンズ１１２における光軸のズレを補正
することができる。これにより、上記２つのレンズの光
軸のズレにより発生する波面収差を最小化することが可
能となる。尚、本実施例では、圧電アクチュエータ１１
８として、ピエゾアクチュエータを用いた。圧電アクチ
ュエータ１１８用の配線は、レンズホルダ１１６の側
壁、又は底面に加工した穴部にヨリ対線を通し、それを
各圧電アクチュエータ１１８に半田付けにより固定する
ことで行った。

【００８９】ピックアップ支持部１０３は、ピックアッ
プ支持部本体１５０、フォーカシング用アクチュエータ
１５２、及びピックアップ本体部１０１をピックアップ
支持部１０３に移動可能に支持するための弾性部材１５
８から構成される。フォーカシング用アクチュエータ１
５２は、ピックアップ支持部本体１５０の上方であって
ピックアップ本体部１０１との間に設けられている。本
実施例では、フォーカシング用アクチュエータ１５２
は、ピックアップ本体部１０１のレンズホルダ１１６の
外周壁上方に取り付けられたアクチュエータコイル１５
４、及びアクチュエータ用永久磁石１５６を備える。ピ
ックアップ本体部１０１は、板バネ等の弾性部材１５８
を介してピックアップ支持部本体１５０に支持されてい
るので、フォーカシング用アクチュエータ１５２による
鉛直方向の変位が可能である。これにより、ピックアッ
プ本体部１０１は、ピックアップ部１０００内で鉛直方
向における変位の微調整が可能となる。したがって、光
磁気ディスクに対するフォーカスの微調整も可能とな
る。

【００９０】以下に、本実施例に用いたピックアップ部
１０００の光軸補正方法を、図２４を用いて説明する。
本光軸ズレの補正は、光磁気ディスク４００を用いて、
フォーカシング用アクチュエータ１５２及び圧電アクチ
ュエータ１１８を調整することで行われる。光磁気ディ
スク４００は、その上面にレンズのＮＡ及び使用するレ
ーザの波長で決まるレーザスポットサイズ程度の径か
ら、そのおよそ１０倍程度（線方向）の径を有する長円
ピットまでトラッキングをかけられるように形成されて
いる。この光磁気ディスク４００を所定の回転数で回転
させ、フォーカシング用アクチュエータ１５２を用いて
ピックアップ部本体１０１を鉛直方向（図中、矢印Ｚ
Ｄ）に変位させながら、ピックアップ部１０００により
レーザ光ＬＳを光磁気ディスク４００に集光させる。ピ
ットからの反射された光は第２レンズ１１２、第１レン
ズ１１０を透過し、後述する外部光学系の光磁気信号検
出器において再生される。このとき、ピックアップ部本
体１０１の変位した位置と再生信号強度からベストフォ
ーカス位置を求める。

【００９１】次いで、様々な大きさのピットから得られ
た再生信号の中でも、特にサイズの小さいピット（最小
ピット）からの出力が大きく、かつ分解能（＝最小ピッ
トからの再生信号／最大ピットからの再生信号）も大き
くなるよう、圧電アクチュエータ１１８に駆動電圧をか
けてレンズホルダ１１４をレンズホルダ１１６に対して
水平方向（図中、矢印ＺＤ）を変位させる。最小ピット
からの信号及び分解能の両方がほぼ最大となったところ
が第１レンズ１１０の光軸が第２レンズ１１２の光軸Ａ
Ｘにほぼ一致していると考えられる。ここで、光磁気デ
ィスク４００を取り外し、第１レンズ１１０と第２レン
ズ１１２の相対位置を固定するために、圧電アクチュエ
ータ１１８に駆動電圧を供給しているヨリ対線を外し、
ヨリ対線を通す穴部１３４からエポキシ接着剤を注入す
ることでレンズホルダ１１４と１１６を固定する。尚、
上記のような調整を光磁気ディスク４００がドライブ内
にローディングされたときに行うことも可能である。こ
の場合、光軸ズレを補正するためのピット領域を予めデ
ィスク上に形成しておき、この領域における再生信号を
利用して、光軸調整を行うこととなる。

【００９２】本発明におけるピックアップ部１０００を
組み込んだ、光磁気記録装置の光学系全体の具体例を図
２５に示す。本発明の実施の形態は、図２５に示すよう
に、ピックアップ部１０００を含む可動光学系２００、
固定光学系３００、光磁気ディスク４００、及び磁界制
御部５００から構成されている。図２５中、固定光学系
３００については通常の光磁気ディスクを記録または再
生するためのドライブと同様の光学系を使用することが
できる。すなわち、半導体レーザのようなレーザ光源３
０２から射出されたレーザ光は、レンズ３０４、プリズ
ム３０６、３０８、ビームスプリッタ３１０を通過し、
ミラー２０２、２０４で反射された後、ピックアップ部
１０００の第１レンズ１１０に入射し、さらに第２レン
ズ１１２で集光されて、光磁気ディスク４００の記録層
で焦点を結ぶ。このとき、ピックアップ部１０００内の
磁気コイル１２０には磁界制御部５００から記録信号に
応じた電流が供給されることにより、磁気コイル１２０
から記録用磁界が発生する。こうして記録層には、磁界
変調方式により記録信号に応じた記録マークが形成され
る。ここで、記録方式としては磁界変調方式に限らず、
光変調方式、または光パルス磁界変調方式でも記録可能
である。

【００９３】再生時に、光磁気ディスク４００からの反
射光は、ミラー２０４、２０２で反射された後、ビーム
スプリッタ３１０で反射されてビームスプリッタ３１２
で２つのビームスプリッタ３１４、３２６に向かう光に
分割される。ビームスプリッタ３１４に入射した反射光
はさらにそこで分割されてフォーカシング検出用検出器
３２０とトラッキング信号検出用検出器３１６にそれぞ
れ入射する。また、１／２波長板３２２及びレンズ３２
４を通過してビームスプリッタ３２６に入射した反射光
は、互いに直交する偏光成分の光を検出する光検出器３
２８、３３０に入射し、カー回転角に応じた再生信号を
検出する。

【００９４】以上、本発明の光磁気ヘッド及び光磁気記
録装置を実施例により具体的に説明してきたが、本発明
はそれらの実施例に限定されるものではなく、当業者が
本発明の特許請求の範囲から想到し得る種々の変形例及
び改良例を含み得る。例えば、光磁気ヘッドに搭載され
た対物レンズ系には種々のレンズを用いることができ、
近接場記録を可能にする固体イマージョンレンズをディ
スク側のレンズとして用いても良い。また、磁気コイル
及び基板の形状、寸法及び材料は種々のものを採用して
よい。実施例２では、レンズ２の光射出面２ａと基板の
上面３ｂとの間に接着剤を充填したが、レンズ２と接着
剤の界面での屈折あるいは接着剤と基板３の界面での屈
折をより一層防止するために、レンズ２の光射出面２ａ
と基板の上面３ｂとの間に屈折率マッチング用のオイル
を充填してもよい。このオイルの屈折率はレンズ及び基
板を構成する材料の屈折率とほぼ同一のものを用い得
る。

【００９５】上記実施例１〜８ではエキシマレーザでス
ルーホール１１を形成したが、エキシマレーザに代えて
マスクを用いたサンドブラストでスルーホール１１を形
成しても良い。また、コスト及び量産性の観点からスル
ーホール１１を形成せずに、配線をコイルの端まで形成
してコイル作成後に基板の側面に配線パターンを形成し
てもよい。

【００９６】

【発明の効果】本発明の第１の態様に従う光磁気ヘッド
によれば、磁気コイル基板上の磁気コイルが設けられた
面、すなわち、光磁気ディスクと対向する側に放熱部材
が設けられているので、磁気コイルで発生した熱を有効
に光磁気ディスクと磁気コイルとの間の空間に放熱する
ことができる。特に、光磁気ディスクの回転移動により
発生する気流を利用して磁気コイルを有効に冷却するこ
とができる。特に、高周波信号が記録されるときでも磁
気コイルの磁気特性を阻害することはなく、また良好な
トラッキングが行われる。それゆえ、本発明の光磁気ヘ
ッド及びそれを搭載した光磁気記録装置は高密度記録に
極めて有用である。また、本発明の光磁気ヘッド及びそ
れを搭載した光磁気記録装置は、製造プロセスが簡単で
あり、低コストで製造することができる。

【００９７】本発明の第３の態様に従う光磁気ヘッドで
は、第１レンズホルダを第２レンズホルダに対してレン
ズの光軸と直交する方向に相対移動するアクチュエータ
を備えるので、第１レンズと第２レンズの光軸を正確に
合わせ込むことができる。このため、高ＮＡのレンズを
第２レンズに用いても波面収差の発生を防止することが
できる。それゆえ、本発明の光磁気ヘッド及びそれを搭
載した光磁気記録装置は高密度記録に極めて有用とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、実施例１で作製した光磁気ヘッドの構
造を示す概略説明図である。

【図２】図２は、図１の光磁気ヘッドの磁気コイル基板
の概略的な透視背面図である。

【図３】図３は、図２のＡ−Ａ’面で切断した磁気コイ
ル基板の概略断面図である。

【図４】図４は、図２のＢ−Ｂ’面で切断した磁気コイ
ル基板の概略断面図である。

【図５】図５は、実施例１の光磁気ヘッドを製造するた
めに用いたガラス基板の加工プロセスを示す図であり、
（ａ）はスルーホールを形成した基板の平面図であり、
（ｂ）は（ａ）の断面図であり、（ｃ）はマスク部を設
けた平面図である。

【図６】図６は、実施例１の光磁気ヘッドの磁気コイル
基板を製造するためのプロセスステップ（ａ）〜（ｄ）
を示す図である。

【図７】図７は、実施例１の光磁気ヘッドの磁気コイル
基板を製造するためのプロセスステップ（ｅ）〜（ｈ）
を示す図である。

【図８】図８は、実施例１で作製した光磁気ヘッドにお
けるリード用端子とレンズ支持パッドの基板上での配置
を示す概念図である。

【図９】図９は、実施例２で作製した光磁気ヘッドにお
けるリード用端子とレンズ支持パッドの基板上での配置
を示す概念図である。

【図１０】図１０は、実施例２で作製した光磁気ヘッド
の概略構造を示す図である。

【図１１】図１１は、実施例３で作製した光磁気ヘッド
の磁気コイル基板の概略断面図である。

【図１２】図１２は、エアスライダーに搭載された状態
の実施例２の光磁気ヘッドを示す図である。

【図１３】図１３は、実施例１で作製した光磁気ディス
クの概略断面図である。

【図１４】図１４は、レンズ側に形成した軟磁性層とデ
ィスク側に形成した軟磁性層の開口部の面積比Ａ/Ｂに
対する磁気コイル１５から発生する磁界の変化を示すグ
ラフである。

【図１５】図１５は実施例４で作製した、突出部７０が
形成された磁気コイル基板の概略断面図である。

【図１６】図１６は、図１５に示した磁気コイル基板を
組み込んだ光磁気ヘッドの構造を示す概略図である。

【図１７】図１７は、実施例５において作製した、パッ
ドを備えた磁気コイル基板を有する光磁気ヘッドの概略
構造を示す図である。

【図１８】図１８は、実施例５において作製した光磁気
ヘッドの基板に設けられたパッド９１の形状を示す図で
ある。

【図１９】図１９は、実施例５において作製した光磁気
ヘッドの基板に設けられたパッドの図１７とは別の取り
付け形態（嵌め込み型）を示す図である。

【図２０】図２０は、実施例５において作製した光磁気
ヘッドの基板に設けられたバンプ型パッド２９１を示す
図である。

【図２１】図２１は、実施例６で作製した磁気コイル基
板の概略断面図である。

【図２２】図２２は、実施例９における光磁気ヘッド
（ピックアップ部）の概略構造を示す図である。

【図２３】図２３は、図２２の光磁気ヘッドを光軸ＡＸ
と直交する面で切断した断面図であり、圧電アクチュエ
ータの配置を説明する図である。

【図２４】図２４は、実施例９におけるピックアップの
光軸補正の調整を概念的に説明する図である。

【図２５】図２５は、実施例９のピックアップを用いた
光磁気記録装置の光学系の概略図である。

【図２６】図２６は、実施例７で作製した楕円形状の磁
気コイルパターンを有する磁気コイル基板の概略的な透
視背面図である。

【図２７】図２７は、実施例８で作製した長方形状基板
を有する磁気コイル基板の概略的な透視背面図である。

【符号の説明】

１，２ レンズ ３ 磁気コイル基板 ４，１５ 磁気コイル ５、４００ 光磁気ディスク ６ 接着剤 ７ａ、７ｂ レンズホルダ ８ レンズ支持パッド １１ スルーホール １３ａ、１３ｂ 軟磁性層 １４ レジスト １７ 保護膜 ２１ ディスク基板 ２２ 反射層 ２３ 記録層 ２４ 透明誘電体層 ３１ 浮上スライダ ３２ ミラー ８０ ヒートシンク層 １０００ ピックアップ部 １０１ ピックアップ本体部 １０２ ピックアップ支持部 １１０ 第１レンズ １１２ 第２レンズ １１４、１１６ レンズホルダ １１８ 圧電アクチュエータ １２０ 磁気コイル １２２ コイル支持基板 １３０ 接着剤 １３２ レンズ接着用パッド １３４ 圧電素子の電子供給線の為の穴部 １５０ ピックアップ支持部本体 １５２ フォーカシング用アクチュエータ １５４ アクチュエータコイル １５６ アクチュエータ用永久磁石 １５８ 弾性部材 ２００ 可動光学系 ３００ 固定光学系 ３０２ レーザ光源 ３０４ コリメーターレンズ ３０６、３０８ プリズム ３１０、３１２、３１４、３２６ ビームスプリッタ ３１６ トラッキング信号検出器 ３１８、３２４ レンズ ３２０ フォーカス信号検出器 ３２２ １／２波長板 ３２８、３３０ 光磁気信号検出器 ５００ 磁界制御部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 粟野 博之 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 田村 礼仁 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 麿 毅 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 杉山 寿紀 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 Ｆターム(参考） 5D075 AA03 CD17 CF03 CF10 5D119 AA09 AA22 BA01 BB05 JA43 JB02 MA09

Claims (34)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 情報記録媒体に情報を記録するために用
   いられる光磁気ヘッドであって、前記情報記録媒体に光
   を集光するためのレンズと；互いに平行な第１面及び第
   ２面を有し、第１面上に上記レンズを支持する基板と；
   上記基板の第２面上に設けられた磁気コイルと；上記基
   板の第２面上に設けられ、上記磁気コイルで発生した熱
   を放熱するための放熱部材とを備える光磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 放熱部材が、上記レンズの光軸方向にお
   いて磁気コイルよりも情報記録媒体に近い位置に設けら
   れている請求項１に記載の光磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 放熱部材が磁気コイルの外側に設けられ
   ている請求項１に記載の光磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 上記基板が、ガラス平板である請求項１
   に記載の光磁気ヘッド。
5. 【請求項５】 さらに、上記基板の第１面上にレンズを
   支持する支持パッドが設けられている請求項１に記載の
   光磁気ヘッド。
6. 【請求項６】 上記基板の第２面上に、磁気コイルを保
   護するための突出部が形成されている請求項１に記載の
   光磁気ヘッド。
7. 【請求項７】 上記突出部の表面に保護膜が形成されて
   いる請求項６に記載の光磁気ヘッド。
8. 【請求項８】 上記基板の第２面上に、保護パッドが設
   けられている請求項１に記載の光磁気ヘッド。
9. 【請求項９】 上記保護パッドが樹脂製である請求項８
   に記載の光磁気ヘッド。
10. 【請求項１０】 上記レンズより上記支持基板が基板面
    方向に大きい請求項１に記載の光磁気ヘッド。
11. 【請求項１１】上記コイルが２層以上積層されている請
    求項１に記載の光磁気ヘッド。
12. 【請求項１２】 上記基板の第２面と上記コイルとの間
    に、光透過用の開口部が形成された第１軟磁性層が設け
    られている請求項１に記載の光磁気ヘッド。
13. 【請求項１３】 さらにコイルの情報記録媒体側に、光
    透過用の開口部が形成された第２軟磁性層が設けられて
    いる請求項１２に記載の光磁気ヘッド。
14. 【請求項１４】 第２軟磁性層の光透過用の開口部の面
    積が第１軟磁性層の光透過用の開口部の面積よりも大き
    い請求項１３に記載の光磁気ヘッド。
15. 【請求項１５】 情報記録媒体に情報を記録するための
    光磁気記録装置であって、 光源と；光源からの光を上記情報記録媒体に照射して情
    報を記録するための光磁気ヘッドと；上記情報記録媒体
    から戻る光を検出する検出系と；を備え、 上記光磁気ヘッドが、 上記情報記録媒体に光を集光するためのレンズと；互い
    に平行な第１面及び第２面を有し、第１面上に上記レン
    ズを支持する基板と；上記基板の第２面上に設けられた
    磁気コイルと；上記基板の第２面上に設けられ、上記磁
    気コイルで発生した熱を放熱するための放熱部材とを備
    える光磁気記録装置。
16. 【請求項１６】 放熱部材が、上記レンズの光軸方向に
    おいて磁気コイルよりも情報記録媒体に近い位置に設け
    られている請求項１５記載の光磁気記録装置。
17. 【請求項１７】 放熱部材が磁気コイルの外側に設けら
    れている請求項１５に記載の光磁気記録装置。
18. 【請求項１８】 さらに、上記基板の第１面上にレンズ
    を支持する支持パッドが設けられている請求項１５に記
    載の光磁気記録装置。
19. 【請求項１９】 上記基板の第２面上に突出部が形成さ
    れている請求項１５に記載の光磁気記録装置。
20. 【請求項２０】 上記基板の第２面に、保護パッドが設
    けられている請求項１５に記載の光磁気記録装置。
21. 【請求項２１】 情報記録媒体が、光磁気ヘッドに対し
    て１．０ｍ／ｓ以上の速度で回転移動している請求項１
    ５に記載の光磁気記録装置。
22. 【請求項２２】 上記レンズのＮＡが０．６以上である
    請求項１５に記載の光磁気記録装置。
23. 【請求項２３】 情報記録媒体に情報を記録するために
    用いられる光磁気記録ヘッドであって、 上記情報記録媒体に光を集光するための第１レンズ及び
    第２レンズと；第１レンズを保持する第１レンズホルダ
    と；第２レンズを保持する第２レンズホルダと；第１レ
    ンズホルダと第２レンズホルダ間に設けられ、第１レン
    ズの光軸に垂直な方向に第１レンズホルダを第２レンズ
    ホルダに対して相対移動するための第１アクチュエータ
    と；第１面及び第２面を有し、第１面上に第１レンズホ
    ルダ及び第２レンズホルダが配置されている基板と；上
    記基板の第２面上に設けられた磁気コイルと；を備える
    光磁気ヘッド。
24. 【請求項２４】 さらに、上記基板の第２面上に設けら
    れ、上記磁気コイルで発生した熱を放熱するための放熱
    部材を備える請求項２３に記載の光磁気ヘッド。
25. 【請求項２５】 さらに、上記光軸方向に第１レンズホ
    ルダを第２レンズホルダに対して相対移動するための第
    ２アクチュエータを備える請求項２４に記載の光磁気ヘ
    ッド。
26. 【請求項２６】 上記基板の第２面に、保護パッドが設
    けられている請求項２４に記載の光磁気ヘッド。
27. 【請求項２７】 上記保護パッドが少なくとも上記基板
    の第２面の４つのコーナーを覆っている請求項２６記載
    の光磁気ヘッド。
28. 【請求項２８】 上記保護パッドが樹脂製である請求項
    ２６記載の光磁気ヘッド。
29. 【請求項２９】 情報記録媒体に情報を記録するための
    光磁気記録装置であって、 光源と；上記光源からの光を上記情報記録媒体に照射し
    て情報を記録するための光磁気ヘッドと；上記情報記録
    媒体からの戻る光を検出する検出系と；を備え、 上記光磁気ヘッドが、 上記情報記録媒体に光を集光するための第１レンズ及び
    第２レンズと；第１レンズを保持する第１レンズホルダ
    と；第２レンズを保持する第２レンズホルダと；第１レ
    ンズホルダと第２レンズホルダ間に設けられ、第１レン
    ズの光軸に垂直な方向に第１レンズホルダを第２レンズ
    ホルダに対して相対移動するための第１アクチュエータ
    と；第１面及び第２面を有し、第１面上に第１レンズホ
    ルダ及び第２レンズホルダを支持する基板と；上記基板
    の第２面上に設けられた磁気コイルと；を備える光磁気
    記録装置。
30. 【請求項３０】 さらに、上記基板の第２面上に設けら
    れ、上記磁気コイルで発生した熱を放熱するための放熱
    部材を備える請求項２９に記載の光磁気記録装置。
31. 【請求項３１】 さらに、上記光軸方向に第１レンズホ
    ルダを第２レンズホルダに対して相対移動するための第
    ２アクチュエータを備える請求項２９に記載の光磁気記
    録装置。
32. 【請求項３２】 上記基板の第２面に、保護パッドが設
    けられている請求項２９に記載の光磁気記録装置。
33. 【請求項３３】 上記保護パッドが少なくとも上記基板
    の第２面の４つのコーナーを覆っている請求項３２に記
    載の光磁気記録装置。
34. 【請求項３４】 上記保護パッドが樹脂製である請求項
    ３２に記載の光磁気記録装置。