JP4202511B2 - マイクロレンズモジュールの製造方法、その製造方法で製造したマイクロレンズモジュール、そのマイクロレンズモジュールを使用した光デバイス装置、およびその光デバイス装置のスライダー - Google Patents
マイクロレンズモジュールの製造方法、その製造方法で製造したマイクロレンズモジュール、そのマイクロレンズモジュールを使用した光デバイス装置、およびその光デバイス装置のスライダー Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、マイクロレンズモジュールの製造方法、その製造方法で製造したマイクロレンズモジュール、そのマイクロレンズモジュールを使用した光デバイス装置、およびその光デバイス装置のスライダーに関し、詳細には、光ディスクのピックアップ、光通信やCCD等の光デバイス装置に使用されるマイクロレンズモジュールの製造方法、その製造方法で製造したマイクロレンズモジュール、そのマイクロレンズモジュールを使用した光デバイス装置、およびその光デバイス装置のスライダーに関する。
【0002】
【従来の技術】
近時、マイクロレンズの利用範囲が広がるに伴い、マイクロレンズの高NA化、非球面化が望まれている。特に、光ディスクや光磁気ディスク等の情報記録装置においては、小型化・高記録密度化のため、ハードディスクと同様に、記録媒体の回転によって発生する気流を利用して記録媒体上に浮上するスライダーに対物レンズを搭載することが考えられている。かかる用途では、NAが高く収差の少ないマイクロレンズが必要になる。
【0003】
マイクロレンズの製造方法としては、例えば、フォトレジストでレンズ形状を作成し、その形状を透明基板に異方性エッチングで転写する方法がある。かかる方法によれば、フォトレジストの露光方法を工夫することで、非球面形状のマイクロレンズを作成することが可能となる。以下、従来提案されているマイクロレンズの製造方法について説明する。
【0004】
例えば、特表平8−504515号公報では、作成したいレンズを微小な複数の領域に分割し、それぞれの領域におけるレンズの厚さに応じて、フォトマスクに透過率の分布(この特許の場合はそれぞれの微小領域の開口率を変化させている)を与え、露光されたレジストの残膜厚を所望の形状になるようにする技術が開示されている。
【0005】
また、特開平8−21908号公報では、開口している領域の形状が異なる複数のマスクを、同一の場所に複数回に分けて露光することで、フォトレジストの残膜厚分布を変化させる技術が開示されている。
【0006】
また、特開平7−181303号公報では、より広範な機能を持つマイクロレンズを作製する方法が提案されており、片面にマイクロレンズが形成された2枚の基板を、マイクロレンズと反対側の平面同士で貼り合せる技術が開示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来技術のような、フォトレジストパターンを用いたマイクロレンズ作成法にあっては、マイクロレンズを高NA化するためには、マイクロレンズを厚くする必要があるため、かなり深いエッチングが必要となり、レジストがエッチング中に変質したり、エッチング所用時間を長く要する等の問題がある。
【0008】
また、レジストパターンについても余り深いものは作成が困難なため、エッチング時の基板/レジストの選択比を大きくとって、浅いレジストパターンをエッチングで深くすることが行われるが、この場合は選択比に応じてレジストパターンの誤差が拡大されてしまうため、形状精度が低下してしまうという問題がある。
【0009】
さらに、これらのマイクロレンズを使ったスライダーなどを作成する場合は、スライダーや、1/4波長板、プリズムなどと組合せる必要があるため、マイクロレンズが形成された基板を、それらと組み合わせやすい形状にしておく必要がある。
【0010】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、高NAのマイクロレンズを容易に製造することが可能なマイクロレンズモジュールの製造方法、その製造方法で製造したマイクロレンズモジュール、そのマイクロレンズモジュールを使用した光デバイス装置、およびその光デバイス装置のスライダーを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1に係るマイクロレンズモジュールの製造方法は、2つの基板を貼り合わせてマイクロレンズモジュールを製造するマイクロレンズモジュールの製造方法において、少なくとも片面に、基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1の基板を製造する第1の工程と、少なくとも片面に、マイクロレンズが形成された第2の基板を製造する第2の工程と、前記第1の基板および前記第2の基板のマイクロレンズが形成された面同士を対向させて貼り合わせる第3の工程と、を含み、前記第3の工程では、前記第1の基板および前記第2の基板のマイクロレンズ間を、前記第1の基板および前記第2の基板とは、屈折率、透過率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なる接着剤で充填するものである。
【0012】
また、請求項2に係るマイクロレンズモジュールの製造方法は、請求項1に記載のマイクロレンズモジュールの製造方法において、前記第1の工程および前記第2の工程では、さらに、前記第1の基板および前記第2の基板の前記貼り合わされる面に、夫々溝を形成し、前記第3の工程では、さらに、前記各溝に接着剤を充填して、前記第1の基板および前記第2の基板の表面を接触させて貼り合わせるものである。
【0013】
また、請求項3に係るマイクロレンズモジュールの製造方法は、2つの基板を貼り合わせてマイクロレンズモジュールを製造するマイクロレンズモジュールの製造方法において、少なくとも片面に、基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1の基板を製造する第1の工程と、少なくとも片面に、マイクロレンズが形成された第2の基板を製造する第2の工程と、前記第1の基板および前記第2の基板のマイクロレンズが形成された面同士を対向させて貼り合わせる第3の工程と、を含み、さらに、前記第1の基板および前記第2の基板を貼り合わせた際に各基板のマイクロレンズ間に形成される空洞部に、基板外部に接続するための溝を形成する工程を含むものである。
【0014】
また、請求項4に係るマイクロレンズモジュールは、請求項1〜3のいずれか1つに記載のマイクロレンズモジュールの製造方法で製造されたものである。
【0015】
また、請求項5に係るマイクロレンズモジュールは、2つの基板を貼り合わせたマイクロレンズモジュールであって、基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1の基板と、マイクロレンズが形成された第2の基板と、を備え、前記第1の基板および前記第2の基板は、前記第1の基板および前記第2の基板のマイクロレンズ間に、前記第1の基板および前記第2の基板とは、屈折率、透過率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なる接着剤が充填されることで貼り合わせられるものである。
【0016】
また、請求項6に係るマイクロレンズモジュールは、請求項5に記載のマイクロレンズモジュールであって、前記第1の基板および前記第2の基板は、前記貼り合わせられる面に、夫々溝が形成され、当該各溝に接着剤が充填されることで、前記第1の基板および前記第2の基板の表面が接触して貼り合わせられるものである。
【0017】
また、請求項7に係る光デバイス装置は、請求項4〜6のいずれか一つに記載されたマイクロレンズモジュールを使用したものである。
【0018】
また、請求項8に係る光デバイス装置は、請求項7に記載の光デバイス装置において、請求項4〜6のいずれか一つに記載されたマイクロレンズモジュールを光ピックアップヘッドに使用し、当該光ピックアップヘッドの記録媒体と対向する面に半球状または超半球状のソリッドイマージョンレンズを形成したものである。また、請求項9に係る光デバイス装置のスライダーは、請求項4〜6のいずれか一つに記載されたマイクロレンズモジュールを使用したものである。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照して、この発明に係るマイクロレンズの製造方法、その製造方法で製造したマイクロレンズ、そのマイクロレンズを使用した光デバイス装置および光デバイス装置のスライダーの好適な実施の形態を、[マイクロレンズの製造方法]、[光デバイス装置]の順に詳細に説明する。
【0020】
[マイクロレンズの製造方法]
マイクロレンズの製造方法について、(製造例1)、(製造例2)、(製造例3)の順に説明する。
【0021】
(製造例1)
マイクロレンズの製造方法の製造例1を図1を参照して詳細に説明する。図1は、マイクロレンズの製造工程(製造例1)を説明するための説明図である。同図(A)〜(C)、(E)はその製造工程を示す断面図、同図(D)は(C)の上面図を示す。同図において、101はフォトレジスト、102はガラス基板、103はマイクロレンズパターン、104はアライメントマークパターン、105はマイクロレンズ、106はアライメントマーク、107は接着剤を示す。
【0022】
まず、図1(A)に示すように、ガラス基板102の片面(張り合わせ面)にフォトレジスト101を塗布する。続いて、マイクロレンズパターンやアライメントマークが形成されているフォトマスクを介して、レジスト101を露光する。露光後、現像して、図1(B)に示すような、フォトレジストパターンを形成する。
【0023】
この場合、図1(B)に示すように、フォトレジスト101のマイクロレンズレンズパターン103の先端部分は、周囲のフォトレジスト101の表面より低く形成する。また、同図に示すように、ガラス基板102を他のガラス基板と貼り合わせる際に目印とするアライメントマークパターン104(4箇所、図(D)参照)を形成する。このアライメントマークパターン104を形成することにより、ガラス基板を貼り合わせる際の光軸合せが容易になる。
【0024】
フォトレジスト101の露光方法としては、各種の手法を使用することができるが、例えば、拡散板を通した光を円形の穴(もしくは遮光部)を持ったマスク越しに露光する方法、遮光部の透過率の変化を与えたマスクを使って露光する方法、投影露光装置を用いて円形の開口または遮光部を持つマスクパターンをフォーカスがずれた状態で露光する方法や、断面が矩形の円形パターンを形成しておき、後から加熱変形させてレンズ状にする方法等を用いることができる。
【0025】
また、上記フォトマスクは、通常、EB描画装置やレーザーライター等のサブμmオーダーの位置精度を持つ装置で作成されているため、マイクロレンズと同時に形成したアライメントマークを使ってレンズの位置合わせを行っても、光軸のずれはほとんど問題にならない。
【0026】
次に、図1(B)に示すフォトレジストパターンが形成されたガラス基板102に対して異方性エッチングを行い、図1(C)に示すように、フォトレジストパターンをガラス基板102に転写する。同図に示すように、マイクロレンズ105の先端部分は、周囲のガラス基板102の表面より低く形成される。なお、図1(C)に示す例では、フォトレジスト101が全てがなくなるまで異方性エッチングを行っているが、途中まで(マイクロレンズパターンが転写されるまで)エッチングを行い、それからフォトレジストを除去することにしても良い。
【0027】
図1(D)は、図1(C)の上面図を示す。同図に示すように、略中心に位置するマイクロレンズ105の周囲4個所にアライメントマーク106が形成してある。尚、アライメントマーク104の数、形状は如何なるものでも良いが、他のガラス基板と重ね合せた際に、互い違いになって観察しやすいものにしたり、重ね合せ装置が自動で位置合せする場合には、その指定の形状などにしておけば良い。
【0028】
次に、上記と同様の工程(上記図1(A)〜(D)に示す工程)でもう1枚のマイクロレンズパターンを形成したガラス基板102を作成する。そして、微量の紫外線硬化型の接着剤107をガラス基板102のマイクロレンズ105が形成されている面(張り合わせ面)の表面部(平面部)に塗布した後、図1(E)に示すように、2つのガラス基板102の張り合わせ面を重ね、顕微鏡でアライメントマーク106を観察しながら2枚のガラス基板102の位置合せを行ない、位置が決定してから紫外線を照射して接着剤を硬化させて両ガラス基板を接合する。接着剤層は薄いほどマイクロレンズ間隔の精度を向上できるので、接着剤層は薄い方が好ましい。なお、貼り合わせる一方のガラス基板102のマイクロレンズの先端が周囲のガラス基板102の表面より低く形成されていれば、マイクロレンズを接触させずにガラス基板102を貼り合わせることが可能であるので、必ずしも、他方のガラス基板102のマイクロレンズの先端が周囲のガラス基板102の表面より低く形成する必要はない。要は、マイクロレンズを接触させずにガラス基板102を貼り合わせることができれば良い。
【0029】
なお、ここではガラス基板を接合する方法として、紫外線硬化型の接着剤を使用して接合する例を示したが、本発明はこれに限られるものではなく、アライメントされた状態を維持したまま固定できるものならどのような接着手段を用いても良い。
【0030】
また、マイクロレンズを温度上昇がある環境下で使用する場合(例えば、温度上昇がある筐体内部で使用する場合)には、マイクロレンズ105間の空洞部105A(図1(E)参照)の空気が膨張し、マイクロレンズ105の特性に影響を与える可能性がある。そこで、かかる環境下での使用が予想される場合には、上記製造工程で、空洞部105Aに外気を取り込むための溝を形成し、マイクロレンズ105の隙間(空洞部105A)に圧力がかからないようにすれば良い。
【0031】
以上説明したように、製造例1によれば、基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1および第2のガラス基板102を形成し、第1および第2のガラス基板102のマイクロレンズ105が形成された面(張り合わせ面)同士を対向させ、接着材107により貼り合わせてマイクロレンズを製造することとしたので、各ガラス基板のマイクロレンズのエッチング量を小さくした場合でも、基板を貼り合わせた場合には、高NA化が可能となり、高NAのマイクロレンズを容易に精度良く作成することが可能になる。また、マイクロレンズが形成された面が内側となるので、表面を平坦にしておくことができ、かかる表面にリソグラフィーを行ってグレーティング等の機能を持つパターンを追加する等のレンズ以外の部分への加工が容易となり、また、他の部品との組合せが容易となる。
【0032】
(製造例2)
マイクロレンズの製造方法の製造例2を図2を参照して詳細に説明する。図2は、マイクロレンズの製造工程(製造例2)を説明するための説明図である。同図(A)はガラス基板の上面図、同図(B)はガラス基板を貼り合わせた場合の断面図を示す。図2において、図1と同等部分には同一符号を付してある。
【0033】
製造例1では、図1(E)に示すように、2枚のガラス基板102の間に接着剤107の層ができるため、2枚のマイクロレンズ105の間隔を設計する際に、この接着剤層の厚さを考慮する必要がある。そこで、製造例2では、製造例1の工程に加えて、接着剤107を充填するための溝を形成し、マイクロレンズ105の間隔の精度を高めている。
【0034】
製造例2では、製造例1で使用したフォトマスクに、さらに溝パターンが形成されたフォトマスクを使用して、製造例1と同一の工程(図1(A)〜(C))により、図2(A)に示すような、接着剤を充填するための溝201が形成されたガラス基板102を作成する。
【0035】
そして、図2(B)に示すように、2枚のガラス基板102の溝201に接着剤107を充填し、各ガラス基板102の表面を接触させて両ガラス基板を接合する。これにより、マイクロレンズ105間の間隔を接触するガラス基板102の表面を基準に設計することができ、マイクロレンズ105の間隔の誤差を少なくすることが可能となる。なお、溝201の形状は、図2に示す形状に限られるものではなく、ガラス基板を重ね合せた際に接着剤が流れ込んで、ガラス基板間隔に影響を与えないような形状であれば良く、例えば、放射状や同心円状等の如何なる形状としても良い。また、溝は、2つの基板で異なった形状としても良い。
【0036】
以上説明したように、製造例2によれば、各ガラス基板102の貼り合わされる面に接着剤107を充填するための溝201を形成し、各溝201に接着剤107を充填し、各ガラス基板102の表面を接触させて貼り合わせることとしたので、マイクロレンズの間隔を高精度に作成することが可能となる。
【0037】
(製造例3)
マイクロレンズの製造方法の製造例3を図3を参照して詳細に説明する。図3は、マイクロレンズの製造工程(製造例3)を説明するための説明図であり、断面図を示している。図3において、図1と同等部分には同一符号を付してある。
【0038】
製造例3では、接着剤として、ガラス基板102とは、使用する光の波長において、屈折率、透過率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なるものを使用して、マイクロレンズ間に充填する。
【0039】
製造例3では、まず、製造例1と同様の原理で、図3に示すような、ガラス基板102を作成する。そして、接着剤301を各ガラス基板の張り合わせ面の全面に塗布し、その際、マイクロレンズ105にも接着剤301を充填し、両ガラス基板102を貼り合わせる。
【0040】
以上説明したように、製造例3によれば、ガラス基板102とは使用する光の波長で、屈折率、透過率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なる接着剤301を使用し、マイクロレンズ105に接着剤301を充填することとしたので、接着剤301の部分もマイクロレンズの一部として使用することが可能となる。また、接着剤の塗布が容易になることに加えて、接着剤の屈折率の選択によって、さまざまな機能をもつマイクロレンズが作成可能である。たとえば、ガラス基板と光分散特性が異なる接着剤を使用した場合には、色収差の補正を行うことが可能となる。
【0041】
[光デバイス装置]
上記製造例1〜製造例3の製造方法で作成したマイクロレンズをインプリメントした光デバイス装置について、図4〜図7を参照して説明する。以下では、光デバイス装置の一例として光ディスク装置を例示して説明する。図4は本発明のマイクロレンズの製造方法で製造したマイクロレンズを適用した光ディスク装置の概略構成を示す図である。
【0042】
図4に示す光ディスク装置は、マイクロレンズを含む光ピックアップヘッド408と、アーム409と、並びにレーザー光源及びフォトダイオード等が一体に形成された光学ユニット410とを備えている。なお同図で、407は光ディスクを示す。
【0043】
上記構成の光ディスク装置では、光学ユニット410から射出されたレーザー光は、マイクロレンズを含むピックアップヘッド408に入射し、光ピックアップヘッド408を介して、光ディスク407に対して信号の書込み・読み出しを行う。つぎに、光ピックアップヘッド408のスライダーを、(構成例1)、(構成例2)の順に説明する。
【0044】
(構成例1)
図5および図6は、光ピックアップヘッド408のスライダーの構成例1を説明するための図である。図5は図4の光ピックアップヘッド408の拡大断面図を示す。図6は図5の光ピックアップヘッド408のスライダーを下側から見た図を示す。図5および図6において、412はスライダーを示す。図5および図6に示す光ピックアップヘッドのマイクロレンズは、上記製造例2の製法で製造されたものである。
【0045】
図5に示すように、基板405と基板406を張り合わせ後は、基板405の平坦な上面にプリズム404を接着する。このように本発明のマイクロレンズは表面を平坦にしておけるので、他の素子との組み合わせが容易である。
【0046】
上記スライダー412は、図6に示すように、マイクロレンズ105が形成された基板406の下側の面(張り合わせ面と反対側の面)には、浮上量を制御するための溝403、リーディングエッジ402、トレーリングエッジ401が形成されている。これらの溝は、下側の基板406に、上側の基板405と貼り合わせる前に、マイクロレンズを製造するのと同様のフォトリソグラフィー法を用いて形成する。
【0047】
なお、図5に示した例では、1つのスライダーに1組のマイクロレンズを形成しているが、これを複数にすることで複数のトラックを同時に読み書きできるようにしたり、また、1つ1つのレンズのNAを変えてさまざまな記録媒体に対応できるようにすることも可能である。
【0048】
また、マイクロレンズを光ピックアップヘッドとして使用する場合に、マイクロレンズにはレーザー光が長時間照射されるため、温度上昇が予想される。かかる温度上昇があると、マイクロレンズ間の空気が膨張し、レンズの特性に影響を与える可能性がある。かかる場合は、貼り合わされる面に外気を取り込むための溝を形成し、マイクロレンズの隙間に圧力がかからないようにしておけば良い。
【0049】
以上説明したように、本発明の製造方法で製造したマイクロレンズを光ピックアップヘッドの対物レンズに用いた場合には、小型・軽量化・高NA化が実現可能であり、また、レンズの曲面を基板内部に作り込んであるので、基板表面に対して他の部品を組み合わせたり、加工したりすることが容易になる。
【0050】
(構成例2)
図7は、光ピックアップヘッド408のスライダー412の構成例2を説明するための図である。図7はスライダー412にソリッドイマージョンレンズ(SIL)を形成した構成を示す。図7において、図5と同等部分は同一符号を付してある。
【0051】
図7において、411はソリッドイマージョンレンズを示す。記録媒体407上に形成されるレーザースポットを更に小さくするために、同図に示すように、スライダー412の記録媒体407に対向する面(下側の基板406の下面)に、半球状または超半球状のソリッドイマージョンレンズ(SIL)411を形成する。
【0052】
かかるソリッドイマージョンレンズ411は、マイクロレンズを製造する工程で、マイクロレンズにより集光される位置に半球状のマイクロ凹レンズを作成し、作成したマイクロ凹レンズに基板406より屈折率の高い樹脂や無機材料で埋め込んで形成する。ソリッドイマージョンレンズ411を形成した場合には、基板405,406の屈折率をn1、埋め込んだ材料の屈折率をn2とするとNAを(n2/n1)倍にすることができる。例えば、石英ガラス基板(n1=1.45)にSiN(n2=2)を埋め込んだ場合には、NAがソリッドイマージョンレンズ(SIL)がない場合に比して1.38倍になる。
【0053】
以上説明したように、構成例2によれば、スライダーにイマージョンレンズを形成することとしたので、より小さな光スポットが形成可能となり、光ディスクへの記録密度を向上させることができる。
【0054】
なお、上記した実施の形態では、上記製造例2の方法で作成したマイクロレンズをインプリメントした光ディスク装置を例に挙げて説明したが、製造例1や製造例2の方法で作成したマイクロレンズをインプリメントすることにしても良い。
【0055】
また、上記した実施の形態では、光デバイス装置の一例として光ディスク装置を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限られるものではなく、マイクロレンズをインプリメントするあらゆる光デバイス装置に適用可能であり、例えば、光磁気ディスク装置や光通信装置等にも適用可能である。
【0056】
本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲で適宜変形可能である。
【0057】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1に係るマイクロレンズモジュールの製造方法によれば、少なくとも片面に、基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1の基板、および、少なくとも片面にマイクロレンズが形成された第2の基板を製造し、当該第1の基板および第2の基板のマイクロレンズが形成された面同士を対向させて貼り合わせることとしたので、薄くNAの小さいマイクロレンズを組み合わせて、高NAのマイクロレンズを容易に作成することが可能となる。
【0058】
また、請求項1に係るマイクロレンズモジュールの製造方法によれば、第1の基板および第2の基板のマイクロレンズ間を、当該第1の基板および第2の基板とは、屈折率、透過率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なる接着剤で充填することとしたので、接着剤の塗布が容易になり、また、色収差の補正等の種々の機能を有するマイクロレンズを作成することが可能となる。
【0059】
また、請求項2に係るマイクロレンズモジュールの製造方法によれば、第1の基板および第2の基板の貼り合わされる面に夫々溝を形成し、形成した各溝に接着剤を充填して、第1の基板および第2の基板の表面を接触させて貼り合わせるとしたので、請求項1に記載の発明の効果に加えて、マイクロレンズの間隔の精度を高くすることが可能となる。
【0060】
また、請求項3に係るマイクロレンズモジュールの製造方法によれば、少なくとも片面に、基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1の基板、および、少なくとも片面にマイクロレンズが形成された第2の基板を製造し、当該第1の基板および第2の基板のマイクロレンズが形成された面同士を対向させて貼り合わせ、さらに、第1の基板および第2の基板を貼り合わせた際にマイクロレンズ間に形成される空洞部に、基板外部に接続するための溝を形成することとしたので、薄くNAの小さいマイクロレンズを組み合わせて、高NAのマイクロレンズを容易に作成することが可能となり、温度上昇がある環境下でマイクロレンズを使用した場合にもマイクロレンズ間の空気の膨張を防止でき、レンズの特性に悪影響を与えるのを防止可能となる。
【0061】
また、請求項4に係るマイクロレンズモジュールによれば、請求項1〜3のいずれか1つに記載のマイクロレンズモジュールの製造方法で製造することとしたので、高NA化が必要な光ピックアップ等の用途にマイクロレンズを利用することが可能になる。
【0062】
また、請求項7に係る光デバイス装置によれば、請求項4〜6のいずれか一つに記載されたマイクロレンズモジュールを使用しているので、ピックアップヘッドを小型・軽量化することが可能となる。
【0063】
また、請求項8に係る光デバイス装置によれば、請求項7に記載の光デバイス装置において、光ピックアップヘッドの記録媒体と対向する面に半球または超半球状のソリッドイマージョンレンズを形成することとしたので、より小さな光スポットが形成可能となり、記録媒体への記録密度を向上させることが可能となる。
【0064】
また、請求項9に係る光デバイス装置のスライダーによれば、請求項4〜6のいずれか一つに記載されたマイクロレンズモジュールを使用することとしたので、スライダーをより小型・軽量化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】マイクロレンズの製造工程(製造例1)を説明するための説明図である。
【図2】マイクロレンズの製造工程(製造例2)を説明するための説明図である。
【図3】マイクロレンズの製造工程(製造例3)を説明するための説明図である。
【図4】本発明のマイクロレンズを用いた光ディスク装置の概略構成を示す図である。
【図5】図4の光ピックアップヘッドの拡大断面図である(構成例1)。
【図6】図5に示す光ピックアップヘッドのスライダーを下側から見た図である(構成例1)。
【図7】図5のスライダーにSILを形成した構成を示す図である(構成例2)。
【符号の説明】
101 フォトレジスト
102 ガラス基板
103 マイクロレンズパターン
104 アライメントマークパターン
105 マイクロレンズ
105A 空洞部
106 アライメントマーク
107 接着剤
201 溝
301 接着剤
401 スライダーのトレーリングエッジ
402 スライダーのリーディングエッジ
403 スライダー下の気流を制御するための溝
404 プリズム
405 基板(上側)
406 基板(下側)
407 光ディスク
408 光ピックアップヘッド
409 アーム
410 光学ユニット
411 ソリッドイマージョンレンズ
412 スライダー
Claims (9)
- 2つの基板を貼り合わせてマイクロレンズモジュールを製造するマイクロレンズモジュールの製造方法において、
少なくとも片面に、基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1の基板を製造する第1の工程と、
少なくとも片面に、マイクロレンズが形成された第2の基板を製造する第2の工程と、
前記第1の基板および前記第2の基板のマイクロレンズが形成された面同士を対向させて貼り合わせる第3の工程と、を含み、
前記第3の工程では、前記第1の基板および前記第2の基板のマイクロレンズ間を、前記第1の基板および前記第2の基板とは、屈折率、透過率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なる接着剤で充填することを特徴とするマイクロレンズモジュールの製造方法。 - 請求項1に記載のマイクロレンズモジュールの製造方法において、
前記第1の工程および前記第2の工程では、さらに、前記第1の基板および前記第2の基板の前記貼り合わされる面に、夫々溝を形成し、
前記第3の工程では、さらに、前記各溝に接着剤を充填して、前記第1の基板および前記第2の基板の表面を接触させて貼り合わせることを特徴とするマイクロレンズモジュールの製造方法。 - 2つの基板を貼り合わせてマイクロレンズモジュールを製造するマイクロレンズモジュールの製造方法において、
少なくとも片面に、基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1の基板を製造する第1の工程と、
少なくとも片面に、マイクロレンズが形成された第2の基板を製造する第2の工程と、
前記第1の基板および前記第2の基板のマイクロレンズが形成された面同士を対向させて貼り合わせる第3の工程と、を含み、
さらに、前記第1の基板および前記第2の基板を貼り合わせた際に各基板のマイクロレンズ間に形成される空洞部に、基板外部に接続するための溝を形成する工程を含むことを特徴とするマイクロレンズモジュールの製造方法。 - 請求項1〜3のいずれか1つに記載のマイクロレンズモジュールの製造方法で製造されたことを特徴とするマイクロレンズモジュール。
- 2つの基板を貼り合わせたマイクロレンズモジュールであって、
基板表面より深い位置にマイクロレンズが形成された第1の基板と、
マイクロレンズが形成された第2の基板と、を備え、
前記第1の基板および前記第2の基板は、前記第1の基板および前記第2の基板のマイクロレンズ間に、前記第1の基板および前記第2の基板とは、屈折率、透過率、および波長依存性のうち少なくとも1つが異なる接着剤が充填されることで貼り合わせられることを特徴とするマイクロレンズモジュール。 - 請求項5に記載のマイクロレンズモジュールであって、
前記第1の基板および前記第2の基板は、前記貼り合わせられる面に、夫々溝が形成され、当該各溝に接着剤が充填されることで、前記第1の基板および前記第2の基板の表面が接触して貼り合わせられることを特徴とするマイクロレンズモジュール。 - 請求項4〜6のいずれか一つに記載されたマイクロレンズモジュールを使用したことを特徴とする光デバイス装置。
- 請求項7に記載の光デバイス装置において、
請求項4〜6のいずれか一つに記載されたマイクロレンズモジュールを光ピックアップヘッドに使用し、
当該光ピックアップヘッドの記録媒体と対向する面に半球状または超半球状のソリッドイマージョンレンズを形成したことを特徴とする光デバイス装置。 - 請求項4〜6のいずれか一つに記載されたマイクロレンズモジュールを使用したことを特徴とする光デバイス装置のスライダー。
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