JP4788661B2 - 光ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Description
前記近接場光発生部に光を導く光導波路と、を有して前記記録媒体の上を浮上して相対移動するスライダと、
前記光導波路に光源からの光を導く光学素子と、
を備えた光ヘッドの製造方法であって、
前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に指標を形成する指標形成工程と、
前記スライダと前記光学素子との相対位置を調整して、前記光学素子に形成された前記指標の位置と前記近接場光発生部の位置とを一致させる位置調整工程と、
前記相対位置が調整された前記スライダと前記光学素子とを接着する接着工程と、
を有することを特徴とする光ヘッドの製造方法。
前記光学素子の光が出射する面にフォトクロミック物質または色素を有する所定の層を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記所定の層のみを感光させ透過率を変化させることにより前記指標を形成することを特徴とする前記1に記載の光ヘッドの製造方法。
前記光学素子の光が出射する面に光硬化性樹脂層を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記光硬化性樹脂層のみを硬化させ屈折率を変化させることにより前記指標を形成することを特徴とする前記1に記載の光ヘッドの製造方法。
前記光学素子の光が出射する面に感光性樹脂層を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記感光性樹脂層のみを露光した後、現像することにより、前記感光性樹脂層の露光された部分のみ除去または残留させることにより前記指標を形成することを特徴とする前記1に記載の光ヘッドの製造方法。
前記光学素子の光が出射する面に開口形成用薄膜を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記開口形成用薄膜のみを開口させることにより前記指標を形成することを特徴とする前記1に記載の光ヘッドの製造方法。
前記光学素子の光が出射する面に光硬化性樹脂接着層を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記光硬化性樹脂接着層のみを感応させることにより前記指標を形成し、
前記接着工程は、
前記相対位置が調整された前記スライダと前記光学素子とを、前記光硬化性樹脂接着層の未硬化部分を用いて接着することを特徴とする前記1に記載の光ヘッドの製造方法。
前記指標形成工程は、
前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記光硬化性樹脂接着層のみを感光させ透過率を変化させることにより前記指標を形成することを特徴とする前記6に記載の光ヘッドの製造方法。
前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記光硬化性樹脂接着層のみを硬化させ屈折率を変化させることにより前記指標を形成することを特徴とする前記6に記載の光ヘッドの製造方法。
前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の面の該光が出射する部分に凹凸形状の前記指標を形成することを特徴とする前記1に記載の光ヘッドの製造方法。
〔実施形態1〕
図1に、本発明の実施形態に係る光アシスト式磁気記録ヘッド(以下、光ヘッドと称する。)を搭載した光記録装置(例えば、ハードディスク装置)の概略構成を示す。
n(r)=N0+NR2×r2 (1)
但し、
n(r):中心からの距離rの位置の屈折率
N0:中心部の屈折率
NR2:GRINレンズの集光能力を表す定数
GRINレンズは、半径方向に屈折率分布を持っていることから光軸を合わせることが容易であるという特徴を持っている。このため、光ファイバー11とGRINレンズ12とGRINレンズ13との光軸を容易に合わせることができる。また、光ファイバー11が石英からなる場合、GRINレンズ12とGRINレンズ13を成す材料も光ファイバー11と同様であることから、これらを溶融処理により接合して一体化することができる。この接合により、取り扱いが容易となると同時に、光ファイバー11、GRINレンズ12、GRINレンズ13それぞれが接する面での光損失が抑えられ光ファイバーにより導光された光を効率良くGRINレンズ13より出射することができる。
2.GRINレンズ12、13の焦点距離誤差(長さ寸法誤差、例えば±10μm程度)、外径に対する中心位置ずれ(軸ずれ、例えば、シングルモードファイバと同等(製作精度や製作装置が同等として)±1μm程度)、光軸に対する端面カット角度(例えば、シングルモードファイバと同等(製作精度や製作装置が同等として)±0.5度程度)
3.光学素子14の光ファイバー11を埋設する為のV溝14bの位置ずれ。樹脂成形の場合、狙いに対して±10μm程度の位置ずれや、±1°程度の角度ずれが発生する。
〔実施形態2〕
図9は、実施形態2による光ヘッド3の構成を示す断面図である。実施形態2による光ヘッド3の要部構成は、図9に示す様に、実施形態1の場合と略同様であるので、その説明は省略し、構成の異なる指標形成層51について説明する。
〔実施形態3〕
図11は、実施形態3による光ヘッド3の構成を示す断面図である。実施形態3による光ヘッド3の要部構成は、図11に示す様に、実施形態1の場合と略同様であるので、その説明は省略し、形態の異なる指標14mについて説明する。
1 筐体
2 ディスク
3 光ヘッド
4 サスペンション
5 支軸
6 アクチュエータ
11 光ファイバー(線状導光体)
12、13 屈折率分布型レンズ(GRINレンズ)
14 光学素子
14a 偏向面
14b V溝
14m 指標
15 スライダ
16 光アシスト部(光導波路)
16a コア
16b サブコア
16c クラッド
16f プラズモンプローブ
17 磁気記録部
18 磁気再生部
31、51 指標形成層
31a、31b、31c、51a 指標
41 接着層
f0 仮想光源
f1 面1
f2 面2
f3 面3
f4 面4
Claims (9)
- 記録媒体への情報記録に用いる近接場光を発生する近接場光発生部と、
前記近接場光発生部に光を導く光導波路と、を有して前記記録媒体の上を浮上して相対移動するスライダと、
前記光導波路に光源からの光を導く光学素子と、
を備えた光ヘッドの製造方法であって、
前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に指標を形成する指標形成工程と、
前記スライダと前記光学素子との相対位置を調整して、前記光学素子に形成された前記指標の位置と前記近接場光発生部の位置とを一致させる位置調整工程と、
前記相対位置が調整された前記スライダと前記光学素子とを接着する接着工程と、
を有することを特徴とする光ヘッドの製造方法。 - 前記指標形成工程は、
前記光学素子の光が出射する面にフォトクロミック物質または色素を有する所定の層を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記所定の層のみを感光させ透過率を変化させることにより前記指標を形成することを特徴とする請求項1に記載の光ヘッドの製造方法。 - 前記指標形成工程は、
前記光学素子の光が出射する面に光硬化性樹脂層を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記光硬化性樹脂層のみを硬化させ屈折率を変化させることにより前記指標を形成することを特徴とする請求項1に記載の光ヘッドの製造方法。 - 前記指標形成工程は、
前記光学素子の光が出射する面に感光性樹脂層を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記感光性樹脂層のみを露光した後、現像することにより、前記感光性樹脂層の露光された部分のみ除去または残留させることにより前記指標を形成することを特徴とする請求項1に記載の光ヘッドの製造方法。 - 前記指標形成工程は、
前記光学素子の光が出射する面に開口形成用薄膜を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記開口形成用薄膜のみを開口させることにより前記指標を形成することを特徴とする請求項1に記載の光ヘッドの製造方法。 - 前記指標形成工程は、
前記光学素子の光が出射する面に光硬化性樹脂接着層を成膜し、前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記光硬化性樹脂接着層のみを感応させることにより前記指標を形成し、
前記接着工程は、
前記相対位置が調整された前記スライダと前記光学素子とを、前記光硬化性樹脂接着層の未硬化部分を用いて接着することを特徴とする請求項1に記載の光ヘッドの製造方法。 - 前記光硬化性樹脂接着層は、フォトクロミック物質または色素を有し、
前記指標形成工程は、
前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記光硬化性樹脂接着層のみを感光させ透過率を変化させることにより前記指標を形成することを特徴とする請求項6に記載の光ヘッドの製造方法。 - 前記指標形成工程は、
前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の該光が出射する部分に位置する前記光硬化性樹脂接着層のみを硬化させ屈折率を変化させることにより前記指標を形成することを特徴とする請求項6に記載の光ヘッドの製造方法。 - 前記指標形成工程は、
前記光学素子に入射された前記光源からの光により、前記光学素子の面の該光が出射する部分に凹凸形状の前記指標を形成することを特徴とする請求項1に記載の光ヘッドの製造方法。
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JP2007137606A JP4788661B2 (ja) | 2007-05-24 | 2007-05-24 | 光ヘッドの製造方法 |
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