JPS62250505A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁性薄膜からなる磁気ヘッドに関し。

特に高保磁力テープに対して優れた記録再生特性を有し
、しかも量産性に優れた磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術］ 磁気記録の高密度化〈伴い、磁気テープとして高保磁力
を有するメタルテープ等が使用されてきている。これに
対応する磁気ヘッドとして、飽和−磁束密度の大きいコ
ア材料１例えばセンダスト合金、パーマロイ合金、ある
いは非晶質合金を用いて構成した磁気ヘッドが種々提案
されている。これらのコア材料単独では耐摩耗性に劣る
ので１通常耐摩耗性の良い基板でコア材を保持しヘッド
摩耗寿命を確保している。

前記基板としては磁性材（フェライト等）又は非磁性材
（セラミクス、ガラス等）が用いられるが、４！開昭５
６−１９５１４号（第１０図参照）や特開昭５９−１４
２７１６号（１７図参照）Ｋ記載されているように、後
者のように非磁性基板を用いた場合は前者のように磁性
基板を用いた場合に比較して。

１）コア材として磁性薄膜１２　、１１’用いているの
で、摺動雑音（主にフェライトに起因する）がない。

２）インダクタンスが低減し、コイル巻線を多（できる
。従って単位インダクタンス当りの出力が大きい。

等の長所がある。

４１１ＦＫ特開昭５９−１４２７１６号（第１７図）で
は、突起状の非磁性基板１１，１ｉ’を用いることによ
り狭トラツク対応と磁束絞り効果を発揮できる。

［発明が解決しようとする問題点〕 上記従来技術は、ヘッド性能及び製造上（組立精度）に
関し次の問題があった。すなわち。

第１６図の場合には １）巻線用窓１４より後方のリア部磁気コア１２が記録
再生性能にはさほど寄与しておらず、インダクタンスと
しての不用部分が存在する。

２）機械加工時にリア部磁気コア１２が原因となるギャ
ップ不良やコア剥離が生じやすい。特に磁気コアが多層
薄膜の場合著しい。

また第１７図の場合には １）巻線用窓より後方のリア部磁気コアが記録再生性能
にさほど寄与しておらず、不用なインダクタンスとして
残存している。

２）ギャップボンディング時に、フロント部と同時にリ
ア部のトラック合せが要求され、そのため高精度基板加
工が必要であった。

本発明の目的は上記した従来技術の欠点を解決し、記録
再生特性を向上させ、かつヘッドの機械強度を向上させ
製造時の歩留り１組立精度を改善することである。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するため１本発明は、磁性薄膜からなる
磁気コアを、必要最小限の磁路に限定して形成した。す
なわち少なくとも一方に巻線用窓を有する一対の非磁性
基板のギャップ形成面側で。

テープ摺動側より巻線用窓の終端位置までの範囲に於て
磁気コアを形成した。このようにして最終的には磁気コ
アを巻線用窓の周囲に限定して形成した。

磁気コアを非磁性基板上の所望の部分に形成するための
手段として１例えば基板面にコア厚以内の段差の凹部又
は異種非磁性材の凸部をあらかじめ設けておく、あるい
は所望形状の境界部に磁気コア切断用の切欠を設ける等
の手段を採用した。

さらに狭トラツク対応として、リア部は上記と同様であ
るが巻線用窓より摺動面側部分のみに突起状を有する非
磁性基板を用いた。

また１本発明は、磁性薄膜からなる磁気コアを必要最小
限の磁路に限定するとともに、リア部磁気コアの接合面
形状をトラック幅方向く拡大した。。

すなわち一対の基板のギャップ接合面側に、フロントよ
りリア方向に漸次浅くなるようなＷ字状の溝を加工し、
その溝の終端が巻線用窓の終４位置を越えるようにした
。これＫより、磁気コアは巻線用窓の周囲に限定して形
成し、またリア部磁気コアの接合面形状をＷ字状とした
。

〔作用〕

上記磁気コア形状によれば、磁路が巻線用窓の周囲のみ
に配設されているので、従来形状に比較しリア磁気コア
部分の不用インダクタンスを排除することができ、単位
インダクタンス当りの出力が向上する。

またリア部磁気コアは基板または他の非磁性材に埋込ま
れた構造としているので、製造工程の中で切断、研摩等
の加工時のコア剥離、ギャップ剥離の防止に大いに役立
つ。さらにギャップ接合面のうち基板、非磁性材の占め
る割合が増加し、それだけ接合強度を向上させる作用が
ある。

またリア部磁気コアの接合面形状が従来の工学状からＷ
字状に拡大したので、ボンディング時のトラック幅方向
のずれを許容できる。

〔実施例〕

以下本発明を実施例によって詳細に説明する。

第１図は本発明の一実施例を示す磁気ヘッドリの斜視図
である。同図に於て１１．１１’はコア保持用の非磁性
基板を示し、該非磁性基板は耐摩耗性を有することが必
要なので、非磁性フェライト６セラミツク、硬質ガラス
等の中から、磁気コア材の種類によって熱膨張係数の近
いものが選ばれる。１２゜１２′は磁気コアとなる磁性
薄膜で、センダスト、パーマロイ、あるいは非晶質合金
ＣＣＯ主成分）で構成され、それぞれほぼ磁歪零近傍の
組成を有するもので、スパッタリング、真空蒸着等の手
法で形成する。１３は作動ギャップで、スパッタリング
等で形成したＳｉＯ２，ＺｒＯ２，Ｃｒ等の膜をスペー
サとし、低融点ガラス（図示せず）で接着した。１４は
コイル巻線用窓であり、一対の非磁性基板１１　、１１
−の少なくとも一方に設けた略Ｖ字状の溝により形成さ
れる。この一方をＣコア、他方なエコアと呼ぶ。１５．
１５’は巻線用溝で１巻線コイル１６を施しである。図
では磁気ヘッドの厚みが一様な場合を示したが、摺動部
を所定トラック幅とし、後部をこれより大きくした段付
構造としても良い。これ＆１第２図〜第１３図に示す実
施例でも同様である。

次に本実施例の磁路形状を説明する。磁性薄膜１２　、
１２：の厚さは所望トラック幅に応じて決定するもので
１例えばトラック幅２０μｍの場合、膜厚２０μｍ以上
、好適値としては３０〜４０μｍである。巻線用窓１４
の形状は、必要巻数（約２０ターン）を確保するため、
深さ０．２〜ＯＪｍのＶ字状溝とし２つの斜面部の角度
は３０〜６０＠とした。Ｖ字状溝の底部にはＯ〜０．３
鱈長の平坦部を有するが１巻数が少ない場合には省略で
きる。磁性薄膜１２．１２’は上記巻線用窓１４の周囲
にのみ限定して形成し１巻線用窓１４より後方の部分は
排除し【ある。このようにして本実施例の磁路は巻線用
窓１４の周囲に、はぼ一様な幅で形成しである。このよ
うな磁路な構成するた論、非磁性基板１１．１１’のギ
ャップ形成面には前記巻線用窓１４用のＶ＠の他に、磁
性膜厚に相当する段差を設けである。なお摺動面に於る
非磁性基板１１．１１’と磁性薄膜１２．１ダの境界線
２８．２８’は作動ギャップ１３に平行な場合、コンタ
−効果が生じ好ましくない。その対策として基板面形状
の変更（非平行、凹凸形状）が有効である。

第２図は第１図の応用例を示す斜視図である。

なお巻線コイルは省略しである（第３図以下も同様）。

基本構造は第１図と同様であるが１、磁性薄膜１２．１
２’のリア部の接合距離ｔをやや大きくした場合である
。すなわち、Ｃコア側の巻線用窓１４の終端部に磁性膜
厚相当の深さで距離りの段差部１８を設けた。一方Ｉコ
ア側の磁性薄膜１２′も距離ｔだけ延長して、これらの
磁性薄膜１２．１２’の終端を揃えている。

上記した第１図及び第２図の実施例に於るヘッド性能上
の効果を第１５図を参照して説明する。第１５図は磁性
薄膜のリア部の接合距離ｔに対するヘ−Ｌａｋｌ私白鶴
ａ）赤Ｉしｔ−ｑ−一伽トｈ剰シ石Ｎす−Ｊ−／ｌ）”
＋喝喰−プ；重−性膜厚をｔとすると、４／ｌを小さく
するに従いインダクタンスＬが低減し、ｔ／ｌ　＝＝　
１付近では従来構造比−６ｄＢとなる。これは磁気コア
のリア部の減少に伴う不用インダクタンスの消失分及び
リア接合部の磁気抵抗増加にするものである。一方ヘッ
ド出力Ｅもゆるやかに低下し、　１／１　＝　１付近で
は一２ｄＢとなる。これ１家すア接合部の磁気抵抗増加
による再生効率低下が原因である。これらよりインダク
タンス当りの出力Ｅ／Ｖ’　Ｌは、ｔ／ｌ＝１〜３の範
囲で従来比＋１ｄＢ以上の向上が認められ。

特にｌｉｔ　＝　２付近ではピーク値＋２ｄＢを示す。

この傾向は磁性膜厚ｔ＝１０〜５０μｍの範囲で共通で
あった。これよりインダクタンス当りの出力Ｅ／ｙ’Ｌ
を最大とする条件は、第２図の実施例に於て、リア接合
距離ｔが磁性膜厚ｔの１〜３倍に選定することであり、
必要に応じて巻線用窓１４の終端に段差部１８を設ける
ことが有効である。なお磁性薄膜１２．１２’の終端位
置は揃うことが望ましいが、加工精度が悪い場合ずれる
ことがありうる。この場合にはこれらの重なる部分の距
離ｔがト記条件を涜−足するようＫすればその効果はほ
ぼ同様である。

次に上記した第１図及び第２図の実施例の製造上の効果
を説明する。磁性薄膜１２．１２’を非磁性基。

板１１．，１１上に被着した後、研摩加工により不要部
。

分の磁性薄膜を除去する工程がある。一般にこの研摩工
程では磁性薄膜と非磁性基板の付着力が十分でない場合
、または磁性薄膜が多層膜である場合その層間材の強度
が十分でない場合、磁性薄膜の剥離を生じやすい。本実
施例のように磁性薄膜を非磁性基板上の凹溝に埋込んだ
構造にすることにより上記剥離に対し飛躍的に強固にな
る。一方ギヤップボンディングは、従来構造では突合せ
対向面の大部分が磁性薄膜であったため、使用する接着
用ガラスの選択（材料によるぬれ性等）が困難で、その
接着強度が十分得られずチップ切断加工等の工程でギャ
ップ剥離が生じやすかった。それに対し本実施例の構造
では、リア接合部の大部分１７は非磁性裁板同志が対向
しているため、接着用ガラスとのぬれ性が良好で、熱圧
着法やガラス溶融充填法などの従来手法により、容易に
強固なギャップボンディングが実現できる。このように
本実施例の磁気ヘッドでは、ヘッド性能及び耐加工性を
向上させる効果がある。

第３図は本発明の他の実施例を示す斜視図である。この
実施例では１巻線用窓１４を両方のコアに設けてあり、
いわゆるＣコアーＣコアボンディング形としである。こ
の場合Ｃコアーエコアボンディング形に比較し次の効果
がある。１つは巻線スペースに対し巻線窓の周囲の長さ
、すなわち磁路長を最小にすることができ、従ってコア
磁気抵抗が下がる。もう１つは１巻線窓を両コアに割り
撮ることにより１巻線スペースを一定圧した場合の窓深
さを小さく、すなわち斜面角度をゆるやかＫすることが
できる。磁性薄膜の磁気特性（透磁率）は斜面の傾斜角
に依存し、ゆるいほど特性が向上しコアの磁気抵抗が下
がる。これらの結果より。

Ｃコアー〇コアボンディング構造は再生効率の点でＣコ
アーエコアボンディング構造より優れている。

８４図は本発明による更に他の実施例を示す斜視図であ
る。これはヘッド摺動幅に対しトラック幅が小さい場合
に好適である。その構造を第５図を参照して説明する。

第５図はギャップボンディング前の状態を示したもので
ある。非磁性基板１１．、ｊ１’のギャップ形成面にＷ
形溝１９を設けである。但しＷ形溝の終端１９′°　　
は巻線窓１４の終端１４′に一致するか、これより長く
し、かつヘッドトラック幅を決定するＷ溝型点の稜線２
０がヘッド奥行方向に同一形状になるよう処する。その
ためにＷ溝加工時には角度α、−の回転が伴う（ａ　〜
１０〜２０”、　ｆｉ　＝ｉＱ　〜２０’）。一方ｗｌ
Ｉｌｌ！頂角ｌはＡＯ〜１２０６としたが、隣接トラッ
クからのクロストーク、及び斜面上の磁性膜の磁気特性
を考慮すると６０〜９０″が最適であった。２１は非磁
性保護材で、磁性薄膜１２．１２’を保護し、かっＷ溝
を充填している。材料としては、　５ｉｆ２．　Ａｔｚ
Ｏｓ、フォルステライト等の耐摩耗性の良いセラミクス
材を。

スパッタリング又は真空蒸着で形成した。ギャップボン
ディング後所定の厚みに切断して第４図に示す磁気ヘッ
ドを得る。この場合も磁性薄膜からなる磁路を１巻線窓
１４の周囲にのみ形成したので。

前の実施例で述べたのと全く同様の効果がある。

またＣコアリア部磁性薄膜はそのヘッド厚み方向全面に
形成しであるので、ギャップボンディング時のトラック
合せずれは全く生じない。さらに本実施例では磁路が作
動ギャップ１３に向って二方向から絞り込んだ構造とし
ているので、ヘッドの記録及び再生効率を向上させる効
果がある。この実施例に関し、前述の第２図及び第３図
に示した磁路の変形を適用してリア部磁気コアの接合を
より確実にすることが可能であることはいうまでもな〜
）。

第６図は第４図の応用例を示す斜視図であって。

第４図の非磁性基板上２１の部分に、低融点ガラス材２
２を溶融充填した構造である。斯る実施例は保護材と接
着材を兼用させて製造工程を簡略化できる効果がある。

第７図は以上述べた本発明の各実施例において磁性薄膜
として多層膜を用いた場合の動作とその効果の説明に供
する図である。磁性薄膜は高周波領域で渦電流損失によ
る透磁率低下が生じ、これを防止するためＳｉＯ２膜等
の絶縁膜で多層構造にしている。例えばビデオ帯域（６
ＭＨｚ　）では１層当り５〜１０μｍが適当である。図
中点線２３で示したのが層間絶縁膜であり、厚さ０．０
１〜０．２μｍである。一般に磁気回路の効率上、眉間
絶縁膜２３は磁。

路がこれを横切る際、その厚さＫよりては磁気抵抗の増
大を招き、ヘッド特性に悪影響を及ぼす。

特に本発明のようにリア部の接合距離を短くした。

場合には影響が大きい。しかるに本発明に於ては図で示
すように層間絶縁膜２３の方向はリア接合部でほぼ磁束
の流れの方向と一致しており、磁束が層間絶縁膜２３を
横切ることがなく、従って本発明４の磁路形状は多層膜
の場合に顕著にその性能上の効果を発揮する。

第８図は本発明の他の実施例を示す斜視図である。リア
部ギャップ形成面に、他の非磁性膜２４を介在させた。

非磁性材２４は磁性薄膜１２　、１２″と同一厚さとす
れば、非磁性基板１１．１１’に対する段差形成加工が
不要になる。非磁性膜２４としては５ｉｆｔ。

ガラス、セラミクスの他に金属材も可能であり。

スパッタリング、蒸着等によりその膜厚を極めて高精度
に形成できる。従って機械加工による段差形成に比べて
リア部の接合が確実となる効果がある。

第９図はリア部全面に磁性薄膜１２．１２’を被着した
あとで１機械加工等により所定の位置に切欠き２５．２
５’を設けて磁性薄膜を分断した構造である。

この際分断された磁性薄膜２６　、２６’は巻線窓１４
側の。

磁性薄膜からなる主磁路とは完全に分離されておりヘッ
ド性能には全く影響を及ぼさない。切欠き２５．２５’
は非磁性基板１１　、１１″に到達する深さをもち。

その幅は磁性薄膜１２．１２’の厚さ程度あれば十分で
ある。この構造によれば、前述の第１図〜第８図の実施
例に於る精度を要求する段差形成が不要であり、製造工
程が容易となる効果がある。

第１０図は非磁性基板１１．１１’の所定位置にあらか
じめ切欠き２７　、２７’を設けておき、この上に磁性
薄膜１２．１２’を形成したものである。切欠き２７　
、２７の深さを磁性薄膜１２　、１２の厚さ以上、好ま
しくは２倍以上でかつ溝側面がほぼ垂直な形状とするこ
とにより、磁性薄膜は該側面にはほとんど被着せず。

仮に被着しても磁気特性が劣るので、後部磁性薄膜２６
　、２６’は主磁路から実効的には分離されておりヘッ
ド性能には影響を与えない。この構造によれば第９図の
実施例と同様に、非磁性基板１１．１１’に対する段差
形成が不要であり製造工程が容易になる。

第７図〜第１０図で示したヘッド構造の変形は第３図〜
第６図に対しても全く同様に適用できることはいうまで
もない。

第１１図は本発明の更に他の実権例を示す磁気ヘッドの
斜視図であり、第１２図はこの磁気ヘッドをギャップ接
合面で分解した斜視図である。同図において磁気ヘッド
１−０の構成を説明すると、　１１　、１１はコア保持
用の一対の非磁性基板である。材料としては耐摩耗性の
優れた非磁性フェライト、セラミック、硬質ガラス等が
適し、磁気コア材の種類によって熱膨張係数の近いもの
が選ばれる。非磁性基析１１．１１の形状し±−ギャッ
プ捷合面佃１に逆Ｖ字状の突起部１１α、１１′αを有
し、かつその突起部はリア方向位置１１４　、１１′４
までの範囲で形成し。

それ以後は平面形状としである。１２．１２’は磁気コ
アとなる磁性薄膜で１例えばセンダスト、パーマロイ、
あるいは非晶質合金（Ｃａ主成分）から成り。

それぞれほぼ磁歪零近傍の組成を有するもので。

スパッタリング、真空蒸着等の手法で形成する。

１３は作動ギャップで、スパッタリング等で形成した８
ｉ０２．　Ｚｍ２．　Ｃｒ等の膜をスヘーサトシ、低融
点ガラス（図示せず）で接着した。２１は非磁性保護材
で、磁性薄膜１２．１２’を保護し、かつ摺動部の溝を
充填している。材料としては、　８ｉ０２．Ａｔ２０ｓ
。

フォルステライト等の耐摩耗性の良いセラミクス材を、
スパッタリング、真空蒸着で形成したが。

非磁性保護材２１として低融点ガラスを溶融充填する方
法も可能である。１４はコイル巻線用窓であり。

一対の非磁性基板１１．１１’の少なくとも一方に設け
た略Ｖ字状の溝により形成した。１５．１５’は巻線用
溝で、これらに巻線コイル１６を施しである、次に本実
施例の磁路形状を説明する。非磁性基版上の逆Ｖ字状の
突起の頂角θは４０〜１２０°としたが、隣接トラック
からのクロストーク、及び斜面上の磁性膜の磁気特性を
考慮すると６０〜９０°が最適であった。磁性薄膜１２
．１２の厚さは所望トラック幅に応じて決定するもので
０例えばトラック幅２０μｍの場合、膜厚２０μｍ以上
、好適値としては３０〜４０μｍである。巻線用窓１４
の形状は、深さ０．２〜α３゜膳のＶ字状溝とし、２つ
の斜面部の角度は３０〜６０゜とした。磁性薄膜１２．
１２’の形成位置は上記巻線用窓１４の内側及びこれと
相対向するＩコアの部分に限定し、特にリア部の接合距
離ｔは磁性膜厚ｔの１〜数倍程度とした。また接合面の
コア形状はＷ形状とした。このような磁路な構成するた
め、非磁性基板のギャップ形成面には、フロント側より
リア方向にＷ字状の溝を設け、その中央の突起部の頂点
高さを非磁性基板の表面よりも所定値だけ低くした。ま
たＷ溝の構底深さを徐々に浅クシ。

巻線用窓１４の後端位置１４４から、距離ｔの位置にＷ
溝の終端１１６がくるようにした。Ｗ溝形状は。

相対する両コアについてもほぼ同形状、同位置とし、ギ
ャップ接合時には対向するＷ字状コアの先端が一致する
ようにした。

斯る実施例においても、前記実施例と同様にインダクタ
ンス当りの出力Ｅ／ｖ’Ｔは、４／４＝１〜３の範囲で
従来比１〜２ｄＢの向上が認められる。このよ５に記録
再生特性は、リア部磁気コアの接合距離を短くとること
に上り改善できた。

また第１２図に示すように、リア部磁気コアの接。

合面部の先端形状をＷ形とすることＫより接合面の幅Ｗ
はトラック幅ｔｗの数倍大きくなり、ボンディング時の
接合面のずれを大幅に許容でき１組立精度を向上できる
。これよりＷ＠加工を精度の面で容易にし、６またヘッ
ド性能も安定させることができた。

第１３図は第１１図に示す本発明の磁気ヘッドの製造工
程を示す工程図である。同図において、その製造工程を
順を追って説明する。

（α）一対の非磁性基板１１．１１’の少なくとも一方
に巻線用窓１４を切削する。

（ｂ）フロント側からリア側にかけて、その深さが−徐
々に浅くなるＷ溝１９を切削する。この時Ｗ溝中央突起
部の稜線１９ａは基板表面より所定量ΔＺ（０〜５０μ
ｍ）だけ低（かつ一定高さとなるようｋせねばならない
。そのため基板をα、±βだけ回転させて加工する。例
えばＷ＠突起部の頂角θ＝＋ｓｏ″の時４＝１５°、β
＝８．９°とすればよい。またｗ＠の終端１９Ｊは巻線
用窓の終端１４ｂより距離ｔだけ長い位置に形成する。

ｔは磁性膜厚の１〜３倍が好適である。

（Ｃ）磁性薄膜１２．１２’を被着形成する。膜厚はト
ラック幅に応じて決定し１例えばトラック幅２０μｍｋ
対しては膜厚４０μｍ前後が適する。この後、非磁性保
護材（図示せず）を被着形成する。

（ｄ）ギャップ接合面側をラップ加工し、　Ｗ１１！突
起部上の磁性薄膜を所定トラック幅ｔｗとする。この結
果１巻線用窓１４とＷ溝１９の斜面部に被着した磁性薄
膜だけが残存し、基板表面上の磁性薄膜はすべて除去さ
れる。

（ｇ）スパッタリング等で被着した５ｉ０２等の非磁妊
　ス　ベ　−　→←　Ａ−イト　１　　イ隼！！ｄ＋　
　よ　−イ　−−ツ　−嘔　−Ｉ　１ノ　−ゴ　、　、
・　に　１−作動ギャップ１３を形成する。

■所定のチップ形状忙切断し、摺動面の内研。

巻線を施して磁気ヘッド１０を完成させる。

以上の工程の中で前記（ｂ）のＷ溝加工は一対の非磁性
基板１１．１１’に対し全く同一形状の加工を行ってお
り、従って前記（−）のボンディング工程ではフロント
部のトラック合せを行うだけで、リア部のコア接合は自
動的に確保されることになる。

第１４図は本発明の磁気ヘッド１０をベース板３ｏに取
付けた場合の構造を示したものである。磁気ヘッド１０
は前述した第１図〜第１２図の実施例の中から選択する
。３０はしんちゅう等の金属板からなるベース板で磁気
ヘッド１０を保持し、孔３３を通してビスで回転シリン
ダ等に取付ける。５１　、５１’は端子板で、孔３４を
通し【巻線コイル１６を接続する。磁気ヘッド１０とベ
ース板３ｏは通常有機接着剤で貼付けるが、その貼付面
５２には磁気ヘッド１０のリア部非磁性基板１１の部分
が利用され、主磁路を構成する磁性薄膜１２は貼付面３
２には存在しない。第９図。

ａＥ１０図の磁伍ヘヅト０シ用ｔ）ナー協会ＩＦは壮糾
面罵りＩ／は磁性薄膜１２のうち不要な部分が存在する
が、主磁路を構成する磁性薄膜は存在しないので同様で
ある。この構造によれば、磁気ヘッド１０の中で。

主磁路及び巻線に要する部分とベース板３０への貼付に
要する部分とをそれぞれ好適な形状で提供することがで
き、かつ磁気ヘッド１０のチップ面利用効率が良い。さ
らに磁性薄膜１２とベース板３０は接触していないので
完全に電気絶縁がとれ、万一巻線コイル１６の一部が絶
縁被覆不良で磁性薄膜１２に接触しても、信号電流がベ
ース板３０を通し外部に漏洩することはないので信頼性
が高い。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明によれば、磁気ヘッドの磁路な
構成する磁性薄膜を巻線用窓部にのみ限定して形成した
ので、不用インダクタンスが排除でき記録再生特性を向
上できる。また耐加工性強度を向上させ製造が容易で歩
留りの高い磁気ヘッドを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気ヘッドの一実施例を−示す＄
＋視図、第２図〜第４図は不発−の他の実施例を示す斜
視図、第５図は第４図に於る実施例の分解説明図、第６
図は本発明による磁気ヘッドの更に他の実施例を示す斜
視図、第７図は本発明の主要磁気回路を示す概略図、第
８図〜第１０図は本発明による磁気ヘッドの更に他の実
施例を示す斜視図、第１１図は本発明による磁気ヘッド
の更に他の実施例を示す斜視図、第１２図は第１１図の
磁気ヘッドのギャップ接合面分解図、第１３図は第１１
図による磁気ヘッドの製造工程を示す図、第１４図は本
発明の磁気ヘッドをベース板に取付けた状態を示す平面
図、第１５図は本発明の磁気ヘッドの動作を説明する特
性図、第１６図、第１７図は従来の磁気ヘッドを示す斜
視図である。 す・・・磁気ヘッド、１１　、１１’・・・非磁性基板
、１２．１２’・・・磁性薄膜、１３・・・作動ギャッ
プ、１４・・・巻線用窓。 １６・・・巻線コイル、１９・・・Ｗ＠、２１・・・非
磁性保護材。 ２２・・・充填ガラス、２４・・・非磁性膜、２５　、
２５’、　２７　、２７’馬　］　口 躬２０　　　　　尾３０ 筋４゜　　　　躬５詔 躬６閉　　　　も。。 躬９の　　　　　　も１０の 躬　１１　口 ５１２図 （（）　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｌｉ）η
−４）勧６！ア 躬＋４１ｉ 躬　１５１￥：ｌ り了播合距＊＜、５否７厚（１） 躬１６肥 躬ｌｑ口

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも一方に巻線用窓を有する一対の非磁性基
   板と、該基板上の対向する面上に設けられた磁性薄膜と
   、該磁性薄膜どうしを非磁性スペーサを介して突合せて
   作動ギャップを構成し、該巻線用窓に巻線コイルを施し
   てなる磁気ヘッドに於て、巻線用窓より後方の突合せ面
   の中の磁性薄膜を巻線用窓の終端部分近傍だけに制限し
   て設けたことを特徴とする磁気ヘッド。 ２、前記磁性薄膜の後部突合せ面に於る接合距離を磁性
   薄膜の厚さの１倍〜３倍の範囲としたことを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。 ３、前記非磁性基板として、それらが対向する面で巻線
   用窓より摺動面側の部分に略Ｖ字状の突起を設け、突起
   の頂上及び斜面に磁性薄膜を形成し、頂上部の磁性薄膜
   どうしを突合せて作動ギャップを構成したことを特徴と
   する特許請求の範囲第１項または第２項記載の磁気ヘッ
   ド。 ４、特許請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載の
   磁気ヘッドを、巻線用窓の後方の非磁性基板の突合せ部
   分に於てベース板に貼付けたことを特徴とする磁気ヘッ
   ド。 ５、前記巻線用窓より後方の接合面の磁性薄膜を巻線用
   窓の終端部分近傍に制限して設け、かつその接合面形状
   をＷ字状としたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の磁気ヘッド。