JPH0727612B2 - 磁気ヘツドコア - Google Patents
磁気ヘツドコアInfo
- Publication number
- JPH0727612B2 JPH0727612B2 JP61293869A JP29386986A JPH0727612B2 JP H0727612 B2 JPH0727612 B2 JP H0727612B2 JP 61293869 A JP61293869 A JP 61293869A JP 29386986 A JP29386986 A JP 29386986A JP H0727612 B2 JPH0727612 B2 JP H0727612B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- metal
- magnetic head
- erosion
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、磁気ギャップを形成する一対のハーフコアの
突合せ面を金属磁性体とし、一対のハーフコアをガラス
によつて接合するとともに、一方のハーフコアに磁気ギ
ャップ深さ規制溝を形成し、この規制溝の一部に存在す
るガラスが他方のハーフコアの金属磁性体と接合するタ
イプの磁気ヘッドコアに関する。
突合せ面を金属磁性体とし、一対のハーフコアをガラス
によつて接合するとともに、一方のハーフコアに磁気ギ
ャップ深さ規制溝を形成し、この規制溝の一部に存在す
るガラスが他方のハーフコアの金属磁性体と接合するタ
イプの磁気ヘッドコアに関する。
磁気ギャップを形成する一対のハーフコアの突合せ面を
金属磁性体としたタイプの磁気ヘッドコアとして、従前
出願人自ら、第３図ａ、ｂに示すような磁気ヘッドコア
を提案した（特願昭61−214755）。この磁気ヘッドは、
磁気ギャップ12を形成する一対のハーフコア11の突合せ
面を金属磁性体14で構成し、磁気ギャップ12の幅をトラ
ック幅規制溝15に充墳したガラス16で規制している。磁
気ギャップ12の深さは、磁気ギャップ深さ規制溝18で規
制され、この溝に存在するガラス16が他方のハーフコア
11の金属磁性体14の突合せ面14aに接している。なお、
磁気ギャップ12の長さはハーフコア11の突合せ面にスパ
ッタリング等の薄膜形成手段によりSiO2が付着され、こ
のSiO2がギャップスペーサー12aとして磁気ギャップ12
の長さを規制している。
金属磁性体としたタイプの磁気ヘッドコアとして、従前
出願人自ら、第３図ａ、ｂに示すような磁気ヘッドコア
を提案した（特願昭61−214755）。この磁気ヘッドは、
磁気ギャップ12を形成する一対のハーフコア11の突合せ
面を金属磁性体14で構成し、磁気ギャップ12の幅をトラ
ック幅規制溝15に充墳したガラス16で規制している。磁
気ギャップ12の深さは、磁気ギャップ深さ規制溝18で規
制され、この溝に存在するガラス16が他方のハーフコア
11の金属磁性体14の突合せ面14aに接している。なお、
磁気ギャップ12の長さはハーフコア11の突合せ面にスパ
ッタリング等の薄膜形成手段によりSiO2が付着され、こ
のSiO2がギャップスペーサー12aとして磁気ギャップ12
の長さを規制している。
なお、20は突合せ面14a以外の金属磁性体14上に形成し
た侵食防止膜で、該侵食防止膜20は前記ガラス16による
金属磁性体14の侵食を防止している。また、該磁気ヘッ
ドの製造方法は前記出願（特願昭61−214755号）を参照
されたい。
た侵食防止膜で、該侵食防止膜20は前記ガラス16による
金属磁性体14の侵食を防止している。また、該磁気ヘッ
ドの製造方法は前記出願（特願昭61−214755号）を参照
されたい。
このような磁気ヘッドコアでは、第３図ｂに磁気ギャッ
プ12付近を拡大して模式的に示すように、金属磁性体14
の突合せ面14aには侵食防止膜20が形成されておらず、
該突合せ面14aが磁気ギャップ深さ規制溝18に存在する
ガラス16と接している。この場合、ギャップスペーサー
12aはガラス16に溶解する為、金属磁性体14の突合せ面1
4aはガラス16と直接接触し、侵食され、その結果、ガラ
ス16内に気泡21を発生させる。この気泡21は溶融してい
るガラス16内を移動し、磁気ギャップ12の両脇に位置
し、磁気特性を劣化するという問題があった。
プ12付近を拡大して模式的に示すように、金属磁性体14
の突合せ面14aには侵食防止膜20が形成されておらず、
該突合せ面14aが磁気ギャップ深さ規制溝18に存在する
ガラス16と接している。この場合、ギャップスペーサー
12aはガラス16に溶解する為、金属磁性体14の突合せ面1
4aはガラス16と直接接触し、侵食され、その結果、ガラ
ス16内に気泡21を発生させる。この気泡21は溶融してい
るガラス16内を移動し、磁気ギャップ12の両脇に位置
し、磁気特性を劣化するという問題があった。
本発明は、従来のこの種の磁気ヘッドコアの問題点であ
る、磁気ギャップ深さ規制溝に存在するガラスによる金
属磁性体の突合せ面への侵食を防止し、気泡の防止によ
る磁気特性の向上、を図ることを目的としている。
る、磁気ギャップ深さ規制溝に存在するガラスによる金
属磁性体の突合せ面への侵食を防止し、気泡の防止によ
る磁気特性の向上、を図ることを目的としている。
本発明は、従前の磁気ヘッドコアの問題点が、磁気ギャ
ップを形成する金属磁性体の突合せ面が、磁気ギャップ
深さ規制溝に存在するガラスな直接接触してしまうため
に生じるとの認識の下に完成されたものである。
ップを形成する金属磁性体の突合せ面が、磁気ギャップ
深さ規制溝に存在するガラスな直接接触してしまうため
に生じるとの認識の下に完成されたものである。
すなわち、本発明による磁気ヘッドは、磁気ギャップを
形成する金属磁性体の突合せ面にギャップスペーサーの
代用、あるいは、その一部として侵食防止膜を形成し、
磁気ギャップ深さ規制溝に存在するガラスによる金属磁
性体突合せ面の侵食を防止するようにしたことを特徴と
する。
形成する金属磁性体の突合せ面にギャップスペーサーの
代用、あるいは、その一部として侵食防止膜を形成し、
磁気ギャップ深さ規制溝に存在するガラスによる金属磁
性体突合せ面の侵食を防止するようにしたことを特徴と
する。
以下に、本発明による磁気ヘッドコアの一実施例を第１
図ａ、ｂに基いて説明する。なお、第３図ａ、ｂにおい
て共通する部材には、同一符号を付して説明を省略す
る。
図ａ、ｂに基いて説明する。なお、第３図ａ、ｂにおい
て共通する部材には、同一符号を付して説明を省略す
る。
本発明では、ハーフコア11の金属磁性体14の突合せ面14
aに活性化金属の単層膜または活性化金属と、金属酸化
物の積層膜からなる侵食防止膜17を形成している。また
侵食防止膜17を活性化金属・金属酸化物の複合体から構
成してもよい。この場合、活性化金属としては、Cr、T
i、Zr、Hf等が好ましく、金属酸化物としてはSiO2、Ta2
O5など好ましい。活性化金属・金属酸化物の複合体とし
ていえば、例えばCrとSiO2の複合体焼結ターゲットをパ
ッタリングして形成する。この場合、侵食防止膜17の厚
さは、ほぼ磁気ギャップ12の長さに相当することになる
が、侵食防止膜17としては数100Åでよく、一般に磁気
ギャップ12としては数1000Åが必要とされるところか
ら、侵食防止膜17の厚さは、磁気ギャップ12として必要
な任意の厚さに設定することが可能である。
aに活性化金属の単層膜または活性化金属と、金属酸化
物の積層膜からなる侵食防止膜17を形成している。また
侵食防止膜17を活性化金属・金属酸化物の複合体から構
成してもよい。この場合、活性化金属としては、Cr、T
i、Zr、Hf等が好ましく、金属酸化物としてはSiO2、Ta2
O5など好ましい。活性化金属・金属酸化物の複合体とし
ていえば、例えばCrとSiO2の複合体焼結ターゲットをパ
ッタリングして形成する。この場合、侵食防止膜17の厚
さは、ほぼ磁気ギャップ12の長さに相当することになる
が、侵食防止膜17としては数100Åでよく、一般に磁気
ギャップ12としては数1000Åが必要とされるところか
ら、侵食防止膜17の厚さは、磁気ギャップ12として必要
な任意の厚さに設定することが可能である。
次に、本発明による磁気ヘッドコアの製造方法を、製造
工程順に説明する。
工程順に説明する。
第１工程で、ハーフコアブロック11の突合せ面11aに、
くさび状の薄膜付着溝13が形成される（第２図ａ）。
くさび状の薄膜付着溝13が形成される（第２図ａ）。
第２工程で、この薄膜付着溝13に、Fe−Al−Si系合金等
よりなる金属磁性体14がスパッタリング等により付着形
成される。（第２図ｂ）。
よりなる金属磁性体14がスパッタリング等により付着形
成される。（第２図ｂ）。
第３工程で、金属磁性体14がラップ研磨され、薄膜付着
溝13内の金属磁性膜14だけが残される（第２図ｃ）。
溝13内の金属磁性膜14だけが残される（第２図ｃ）。
第４工程で、金属磁性体14の付着された薄膜付着溝13に
隣接し、この薄膜付着溝13の一部を切り欠くように、ト
ラック幅規制溝15が加工形成される（第２図ｄ）。
隣接し、この薄膜付着溝13の一部を切り欠くように、ト
ラック幅規制溝15が加工形成される（第２図ｄ）。
次の第５の工程で、侵食防止膜20が、金属磁性体14とト
ラック幅規制溝15にスパッタリング等の薄膜付着手段に
より形成される（第２図ｅ）。このような侵食防止膜20
は、次の工程であるガラス16の溶融充填時に、ハーフコ
アブロック11の材料であるフェライト等や金属磁性体14
の材料であるFe−Al−Si系合金等が、ガラス16により侵
食されるのを防ぐものである。
ラック幅規制溝15にスパッタリング等の薄膜付着手段に
より形成される（第２図ｅ）。このような侵食防止膜20
は、次の工程であるガラス16の溶融充填時に、ハーフコ
アブロック11の材料であるフェライト等や金属磁性体14
の材料であるFe−Al−Si系合金等が、ガラス16により侵
食されるのを防ぐものである。
第５工程で侵食防止膜20の形成が終了した後、第６工程
では、この侵食防止膜20上にガラス16が溶融充填され
る。これで、ガラス16は、侵食防止膜20を介して、金属
磁性体14と侵食防止体20の空間に充填される（第２図
ｆ）。
では、この侵食防止膜20上にガラス16が溶融充填され
る。これで、ガラス16は、侵食防止膜20を介して、金属
磁性体14と侵食防止体20の空間に充填される（第２図
ｆ）。
そして、第７工程で、ガラス16は、金属磁性膜14接合面
14bが所定量露出するまで砥石によりラップ研磨され、
磁気ギャップ12のギャップ幅が決定される（第２図
ｇ）。
14bが所定量露出するまで砥石によりラップ研磨され、
磁気ギャップ12のギャップ幅が決定される（第２図
ｇ）。
第８工程で、接合面14bの研磨の終了した一方のハーフ
コアブロック11に、再び、侵食防止膜17をスパッタリン
グ等の薄膜付着手段により形成される（第２図ｈ）。な
お、侵食防止膜17の厚さを磁気ギャップ12の長さより薄
くした場合は、その上にSiO2を付着してギャップ長とす
ればよい。
コアブロック11に、再び、侵食防止膜17をスパッタリン
グ等の薄膜付着手段により形成される（第２図ｈ）。な
お、侵食防止膜17の厚さを磁気ギャップ12の長さより薄
くした場合は、その上にSiO2を付着してギャップ長とす
ればよい。
最後の第９工程で他方のハーフコアブロック11にトラッ
ク幅規制溝15と直交するように磁気ギャップ深さ規制溝
18を設け、両ブロック11の磁気ギャップ12となるべき突
合せ面14aを位置決めして突き合わされ、両ハーフコア
ブロック11が接合されて、接合コアブロックとなる（第
２図ｉ）。この接合コアブロックを切断面Ａ−Ｂに沿っ
て所定幅Ｓで切断すると、第１図ａで示すような磁気ヘ
ッドコアが得られる。
ク幅規制溝15と直交するように磁気ギャップ深さ規制溝
18を設け、両ブロック11の磁気ギャップ12となるべき突
合せ面14aを位置決めして突き合わされ、両ハーフコア
ブロック11が接合されて、接合コアブロックとなる（第
２図ｉ）。この接合コアブロックを切断面Ａ−Ｂに沿っ
て所定幅Ｓで切断すると、第１図ａで示すような磁気ヘ
ッドコアが得られる。
以上説明したように、本発明の磁気ヘッドコアは、金属
磁性体突合せ面に、侵食防止膜を形成することにより突
合せ面の金属磁性体とガラスの接触を避けたものであ
る。よってガラスによる金属磁性体への侵食をこの侵食
防止膜により防ぐことができ、この種磁気ヘッドの磁気
特性は向上する。
磁性体突合せ面に、侵食防止膜を形成することにより突
合せ面の金属磁性体とガラスの接触を避けたものであ
る。よってガラスによる金属磁性体への侵食をこの侵食
防止膜により防ぐことができ、この種磁気ヘッドの磁気
特性は向上する。
第１図ａは本発明による磁気ヘッドコアの斜視図、第１
図ｂは第１図ａのギャップ付近の拡大平面図、第２図ａ
ないしｉは本発明による磁気ヘッドコアの製造方法の工
程を順次示すもので、ａないしｈは斜視図、ｉは正面
図、第３図ａは従来の磁気ヘッドコアの斜視図、第３図
ｂは第３図ａのギャップ付近の拡大平面図である。 11……ハーフコア 12……磁気ギャップ 12a……ギャップスペーサー（SiO2） 13……薄膜付着溝 14……金属磁性体 14a……金属磁性体突合せ面 15……トラック幅規制溝 16……ガラス 17……侵食防止膜（ギャップスペーサー） 18……磁気ギャップ深さ規制溝 20……侵食防止膜
図ｂは第１図ａのギャップ付近の拡大平面図、第２図ａ
ないしｉは本発明による磁気ヘッドコアの製造方法の工
程を順次示すもので、ａないしｈは斜視図、ｉは正面
図、第３図ａは従来の磁気ヘッドコアの斜視図、第３図
ｂは第３図ａのギャップ付近の拡大平面図である。 11……ハーフコア 12……磁気ギャップ 12a……ギャップスペーサー（SiO2） 13……薄膜付着溝 14……金属磁性体 14a……金属磁性体突合せ面 15……トラック幅規制溝 16……ガラス 17……侵食防止膜（ギャップスペーサー） 18……磁気ギャップ深さ規制溝 20……侵食防止膜
Claims (4)
- 【請求項１】磁気ギャップを形成する一対のハーフコア
の突合せ面の少くとも一方の突合せ面を金属磁性体とす
るとともに上記磁気ギャップの幅をトラック幅規制溝に
充墳したガラスによって規制し、上記磁気ギャップの深
さを他方のハーフコアに形成した磁気ギャップ深さ規制
溝で規制し、且つ上記金属磁性体の突合せ面と上記磁気
ギャップ深さ規制溝に存在するガラスが接触するような
磁気ヘッドにおいて、少くとも上記金属磁性体の突合せ
面に侵食防止膜を形成させたことを特徴とする磁気ヘッ
ドコア。 - 【請求項２】特許請求の範囲第１項において、上記侵食
防止膜が活性化金属の単層からなっている磁気ヘッドコ
ア。 - 【請求項３】特許請求の範囲第１項において、上記侵食
防止膜が活性化金属と金属酸化物の積層膜からなってい
る磁気ヘッドコア。 - 【請求項４】特許請求の範囲第１項において、上記侵食
防止膜が活性化金属・金属酸化物の複合体からなってい
る磁気ヘッドコア。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61293869A JPH0727612B2 (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 磁気ヘツドコア |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61293869A JPH0727612B2 (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 磁気ヘツドコア |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63146203A JPS63146203A (ja) | 1988-06-18 |
| JPH0727612B2 true JPH0727612B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=17800204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61293869A Expired - Lifetime JPH0727612B2 (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 磁気ヘツドコア |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0727612B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2723294B2 (ja) * | 1989-05-17 | 1998-03-09 | キヤノン電子株式会社 | 磁気ヘッド |
| JPH02141910A (ja) * | 1988-11-22 | 1990-05-31 | Tdk Corp | 磁気ヘッド |
| JP2656615B2 (ja) * | 1989-05-25 | 1997-09-24 | アルプス電気株式会社 | 磁気ヘッド |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6074107A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-04-26 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS60125906A (ja) * | 1983-12-10 | 1985-07-05 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS60205808A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-17 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS61237211A (ja) * | 1985-04-13 | 1986-10-22 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
-
1986
- 1986-12-09 JP JP61293869A patent/JPH0727612B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6074107A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-04-26 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS60125906A (ja) * | 1983-12-10 | 1985-07-05 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS60205808A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-17 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS61237211A (ja) * | 1985-04-13 | 1986-10-22 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63146203A (ja) | 1988-06-18 |
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