JPH02141910A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH02141910A JPH02141910A JP29363888A JP29363888A JPH02141910A JP H02141910 A JPH02141910 A JP H02141910A JP 29363888 A JP29363888 A JP 29363888A JP 29363888 A JP29363888 A JP 29363888A JP H02141910 A JPH02141910 A JP H02141910A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- glass
- films
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 54
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 11
- 229910021364 Al-Si alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 32
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 5
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 23
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、メタルテープ等の高保磁力磁気記録媒体と組
み合わせて使用する磁気ヘッドに関し、詳細には、磁気
コアが高透磁率フェライトコア本体と高飽和磁束密度を
有する金属磁性体膜とからなる、いわゆる、Ｍ Ｉ Ｇ
（Ｍｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ） ヘッドに関する。
み合わせて使用する磁気ヘッドに関し、詳細には、磁気
コアが高透磁率フェライトコア本体と高飽和磁束密度を
有する金属磁性体膜とからなる、いわゆる、Ｍ Ｉ Ｇ
（Ｍｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ） ヘッドに関する。
（発明の概要〕
本発明は、磁気コアが高透磁率フェライトコア本体と高
飽和磁束密度を有する金属磁性体膜とからなる磁気ヘッ
ド（いわゆるＭＩＧヘッド）において、該金属磁性体膜
の上に適切な保護膜を形成したことを特徴とする。保護
膜はＣｒ、 Ｔｉ、 Ｃｒ０ＴｉＯ□のいずれかの薄膜
もしくは該薄膜の多層膜からなる。
飽和磁束密度を有する金属磁性体膜とからなる磁気ヘッ
ド（いわゆるＭＩＧヘッド）において、該金属磁性体膜
の上に適切な保護膜を形成したことを特徴とする。保護
膜はＣｒ、 Ｔｉ、 Ｃｒ０ＴｉＯ□のいずれかの薄膜
もしくは該薄膜の多層膜からなる。
これにより、ＭＩＧヘッドにおいて磁気コア半体の接合
をＰｂＯ系の低融点ガラスを用いて行う際にも該ガラス
の劣化がなく、メタルテープに対しても優れた記録再生
特性を有する磁気ヘッドを高歩留りで容易に提供するも
のである。
をＰｂＯ系の低融点ガラスを用いて行う際にも該ガラス
の劣化がなく、メタルテープに対しても優れた記録再生
特性を有する磁気ヘッドを高歩留りで容易に提供するも
のである。
最近では、１５０００６程度の高保磁力を有するメタル
テープに代表される磁気記録媒体がオーディオテープレ
コーダーのみならずビデオテープレコーダーにおいても
用いられるようになってきた。
テープに代表される磁気記録媒体がオーディオテープレ
コーダーのみならずビデオテープレコーダーにおいても
用いられるようになってきた。
このような高保磁力磁気記録媒体に信号を記録する磁気
ヘッドのコア材には、高飽和磁束密度を有することが要
求される。しかしながら、従来広く使用されてきたフェ
ライト材ではその飽和磁束密度が５ｋＧ程度と低く、メ
タルテープを十分に磁化することが出来ない、そこで、
１０ｋＧ程度の高飽和磁束密度を有するＦｅ −Ａｊ！
−Ｓｉ系合金（センダスト合金）やＣＯ系アモルファス
合金などの金属磁性体がメタルテープ対応磁気ヘッドの
コア材料として採用され、実用化されつつある。
ヘッドのコア材には、高飽和磁束密度を有することが要
求される。しかしながら、従来広く使用されてきたフェ
ライト材ではその飽和磁束密度が５ｋＧ程度と低く、メ
タルテープを十分に磁化することが出来ない、そこで、
１０ｋＧ程度の高飽和磁束密度を有するＦｅ −Ａｊ！
−Ｓｉ系合金（センダスト合金）やＣＯ系アモルファス
合金などの金属磁性体がメタルテープ対応磁気ヘッドの
コア材料として採用され、実用化されつつある。
このようなメタルテープ対応磁気ヘッドの一例を第１ａ
図および第１ｂ図に示す。第１ａ図は磁気ヘッドの記録
媒体摺動面の拡大図であり、第１ｂ図は該磁気ヘッドの
側面図である。磁気ヘッド１は基本的に高透磁率フェラ
イト材よりなる磁気コア半休１０ 、１１を合わせたも
のであり、そのフェライト材には、通常、Ｍｎ−Ｚｎ単
結晶フェライトが用いられる。フェライトコア半体１０
．１１の突合わせ面に高飽和磁束密度を有する金属磁性
体膜１２ 、１３が蒸着あるいはスパッタリング等の薄
膜形成技術によって形成されている。磁気ヘッドには、
ＳｉＯ２等の非磁性膜により規定されている作動ギャッ
プ（磁気ギャップ）１４があり、コア半休接合用のガラ
ス接着材１５ 、１６が充填されている。
図および第１ｂ図に示す。第１ａ図は磁気ヘッドの記録
媒体摺動面の拡大図であり、第１ｂ図は該磁気ヘッドの
側面図である。磁気ヘッド１は基本的に高透磁率フェラ
イト材よりなる磁気コア半休１０ 、１１を合わせたも
のであり、そのフェライト材には、通常、Ｍｎ−Ｚｎ単
結晶フェライトが用いられる。フェライトコア半体１０
．１１の突合わせ面に高飽和磁束密度を有する金属磁性
体膜１２ 、１３が蒸着あるいはスパッタリング等の薄
膜形成技術によって形成されている。磁気ヘッドには、
ＳｉＯ２等の非磁性膜により規定されている作動ギャッ
プ（磁気ギャップ）１４があり、コア半休接合用のガラ
ス接着材１５ 、１６が充填されている。
即ち、金属磁性体膜１２ 、１３のあるフェライトコア
半体１０ 、１１が作動ギャップ１４を介して互いに突
き合わされ、ガラス接着材１５ 、１６によって接合さ
れ、−磁化されている。
半体１０ 、１１が作動ギャップ１４を介して互いに突
き合わされ、ガラス接着材１５ 、１６によって接合さ
れ、−磁化されている。
このような磁気ヘッド１は、一般に、ＭＩＧヘッド（Ｍ
ｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ Ｈｅａｄ）と称されており、
最近研究、実用化が進められている。ＭＩＧヘッドは高
飽和磁束密度金属磁性体と高透磁率フェライトとを互い
の長所を生かして組合わせことにより、メタルテープに
対しても優れた記録再生特性を有するとともに、フェラ
イトヘッドと同等の耐摩耗性を有する磁気ヘッドを提供
するものである。
ｅｔａｌ ｉｎ Ｇａｐ Ｈｅａｄ）と称されており、
最近研究、実用化が進められている。ＭＩＧヘッドは高
飽和磁束密度金属磁性体と高透磁率フェライトとを互い
の長所を生かして組合わせことにより、メタルテープに
対しても優れた記録再生特性を有するとともに、フェラ
イトヘッドと同等の耐摩耗性を有する磁気ヘッドを提供
するものである。
金属磁性体膜に、Ｆｅ −ＡＪ−Ｓｉ系合金（センダス
ト合金）を用いたＭＩＧヘッドにおいては、センダスト
合金の軟磁気特性改善のための熱処理を兼ねて、ガラス
によるフェライトコア半体の接合を５５０〜６００℃程
度の温度にて行う。このため、接着ガラスにはＰｂＯ系
の低融点ガラスが用いられる。
ト合金）を用いたＭＩＧヘッドにおいては、センダスト
合金の軟磁気特性改善のための熱処理を兼ねて、ガラス
によるフェライトコア半体の接合を５５０〜６００℃程
度の温度にて行う。このため、接着ガラスにはＰｂＯ系
の低融点ガラスが用いられる。
しかしながらセンダスト合金膜を用いたＭＩＧヘッドで
ガラス溶着する際には、加熱によってセンダスト合金中
のＡｌが金属磁性体膜表面に偏析し、やがてガラス中へ
の拡散が始まる。Ａｌは０８との反応性が高く、周囲に
存在する酸化物を還元し易い。このため、ＡＩが接着ガ
ラス中に拡散すると、ガラス成分であるＰｂＯ，Ｂｉｚ
Ｏｘ等が還元され、ＰｂやＢｉの金属微小粒の析出が生
じる。これは外観を損ねるだけでなく、ガラス自身の強
度が劣化するため加工中の割れやクラックが多発し歩留
りを著しく低下させる。
ガラス溶着する際には、加熱によってセンダスト合金中
のＡｌが金属磁性体膜表面に偏析し、やがてガラス中へ
の拡散が始まる。Ａｌは０８との反応性が高く、周囲に
存在する酸化物を還元し易い。このため、ＡＩが接着ガ
ラス中に拡散すると、ガラス成分であるＰｂＯ，Ｂｉｚ
Ｏｘ等が還元され、ＰｂやＢｉの金属微小粒の析出が生
じる。これは外観を損ねるだけでなく、ガラス自身の強
度が劣化するため加工中の割れやクラックが多発し歩留
りを著しく低下させる。
本発明は、かかる従来技術の上述した問題点を解決し、
高飽和磁束密度の金属磁性体膜を用いたいわゆるＭＩＧ
ヘッドにおいても接着ガラスの劣化がなく、メタルテー
プに対しても優れた記録再生特性を有する磁気ヘッドを
高歩留りで容易に提供することを目的とする。
高飽和磁束密度の金属磁性体膜を用いたいわゆるＭＩＧ
ヘッドにおいても接着ガラスの劣化がなく、メタルテー
プに対しても優れた記録再生特性を有する磁気ヘッドを
高歩留りで容易に提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段および作用］本発明者等は
検討の結果、金属磁性体膜の上に所定の厚みでＣｒ、Ｔ
ｉ等の薄膜である保護膜を形成し、それからフェライト
コア半体の接合を行うようにすれば、ＰｂＯ系の低融点
ガラスを用いた場合にもガラスの還元防止に有効であり
、金属粒の析出もなくなることを見出した。
検討の結果、金属磁性体膜の上に所定の厚みでＣｒ、Ｔ
ｉ等の薄膜である保護膜を形成し、それからフェライト
コア半体の接合を行うようにすれば、ＰｂＯ系の低融点
ガラスを用いた場合にもガラスの還元防止に有効であり
、金属粒の析出もなくなることを見出した。
本発明の磁気ヘッドは、磁気コアが高透磁率フェライト
コア本体と高飽和磁束密度を有する金属磁性体膜とから
なる磁気ヘッド（いわゆるＭＩＧヘッド）において、前
記高透磁率フェライトコア本体上に該金属磁性体膜を形
成したのち、更にその上にＣｒ、 Ｔｉ、 Ｃｒｙ、
ＴｆＯ，のいずれかの薄膜もしくは該薄膜である保護膜
を所定の厚みで形成したことを特徴とする。
コア本体と高飽和磁束密度を有する金属磁性体膜とから
なる磁気ヘッド（いわゆるＭＩＧヘッド）において、前
記高透磁率フェライトコア本体上に該金属磁性体膜を形
成したのち、更にその上にＣｒ、 Ｔｉ、 Ｃｒｙ、
ＴｆＯ，のいずれかの薄膜もしくは該薄膜である保護膜
を所定の厚みで形成したことを特徴とする。
金属磁性体膜とコア接合用の接着ガラスとの間に保護膜
を介在させることにより、金属磁性体膜とガラスとの反
応によるガラスの劣化が防止され、ＰｂやＢｉ等の金属
微小粒の析出を減少させることが出来る。特に、保護膜
の厚みを２０ｎｍ（好ましくは５０ｎｍ）以上にすれば
金属微小粒の析出はほとんどなくなり、外観上も実用上
も全く問題のないことがわかった。
を介在させることにより、金属磁性体膜とガラスとの反
応によるガラスの劣化が防止され、ＰｂやＢｉ等の金属
微小粒の析出を減少させることが出来る。特に、保護膜
の厚みを２０ｎｍ（好ましくは５０ｎｍ）以上にすれば
金属微小粒の析出はほとんどなくなり、外観上も実用上
も全く問題のないことがわかった。
以下、本発明に係る磁気ヘッドの一実施例について説明
する。
する。
第２ａ図および第２ｂ図に本発明の磁気ヘッドの一実施
例を示す。第２ａ図は磁気ヘッドの記録媒体摺動面の拡
大図であり、第２ｂ図は磁気ヘッドの側面図である。こ
れらの図において、２０ 、２１は高透磁率フェライト
コア半休であり、Ｍｎ −Ｚｎ単結晶フェライトコアが
用いられている。金属磁性体膜２２ 、２３はＦｅ −
ＡＪ−３ｔ系合金（センダスト合金）であって、フェラ
イトコア半休２０ 、２１の表面上にスパッタリング法
によって３−の厚みで形成される。金属磁性体膜２２
、２３の上には保護膜２４ 、２５が形成されている。
例を示す。第２ａ図は磁気ヘッドの記録媒体摺動面の拡
大図であり、第２ｂ図は磁気ヘッドの側面図である。こ
れらの図において、２０ 、２１は高透磁率フェライト
コア半休であり、Ｍｎ −Ｚｎ単結晶フェライトコアが
用いられている。金属磁性体膜２２ 、２３はＦｅ −
ＡＪ−３ｔ系合金（センダスト合金）であって、フェラ
イトコア半休２０ 、２１の表面上にスパッタリング法
によって３−の厚みで形成される。金属磁性体膜２２
、２３の上には保護膜２４ 、２５が形成されている。
ここでは、まずＴｉ膜を５０〜１１００ｎ形成し、更に
その上にＣｒ膜を５０ｎｍ形成する。Ｔｉ膜の厚みは磁
気ヘッドの所望のギャップ長により決定される。２６は
Ｓｉ、Ｏの非磁性膜でもある作動ギャップである。２７
、２８はコア半休２０ 、２１接合用のガラス接着材
であり、ＰｂＯ系の低融点ガラスが用いられる。
その上にＣｒ膜を５０ｎｍ形成する。Ｔｉ膜の厚みは磁
気ヘッドの所望のギャップ長により決定される。２６は
Ｓｉ、Ｏの非磁性膜でもある作動ギャップである。２７
、２８はコア半休２０ 、２１接合用のガラス接着材
であり、ＰｂＯ系の低融点ガラスが用いられる。
フェライトコア半体接合のために５５０〜６００°Ｃ程
度の熱処理を行うと、金属磁性体膜２２ 、２３の表面
にＡｌが偏析するが、中間膜の保護膜２４ 、２５の介
在によってＡｌのガラス中への拡散が防止されるため、
接着ガラスの還元、劣化がなく量産適性が高い。
度の熱処理を行うと、金属磁性体膜２２ 、２３の表面
にＡｌが偏析するが、中間膜の保護膜２４ 、２５の介
在によってＡｌのガラス中への拡散が防止されるため、
接着ガラスの還元、劣化がなく量産適性が高い。
以上、詳細に説明したように、磁気コアが高透磁率フェ
ライトコア本体と高飽和磁束密度を有する金属磁性体膜
とからなる磁気ヘッド（いわゆるＭＩＧヘッド）におい
て、金属磁性体膜の上にＣｒ、Ｔｉ等からなる保護膜を
形成したのち、ガラス接着で一対の磁気コア半休を接合
して一体化するようにしたもので、金属磁性体膜とガラ
スとの間に保護膜が介在することによりｐｂｏ系の低融
点ガラスであってもガラスの還元、劣化が防止され、Ｐ
ｂやＢｉ等の金属微小粒の析出がなくなる。
ライトコア本体と高飽和磁束密度を有する金属磁性体膜
とからなる磁気ヘッド（いわゆるＭＩＧヘッド）におい
て、金属磁性体膜の上にＣｒ、Ｔｉ等からなる保護膜を
形成したのち、ガラス接着で一対の磁気コア半休を接合
して一体化するようにしたもので、金属磁性体膜とガラ
スとの間に保護膜が介在することによりｐｂｏ系の低融
点ガラスであってもガラスの還元、劣化が防止され、Ｐ
ｂやＢｉ等の金属微小粒の析出がなくなる。
したがって、高保磁力を有するメタルテープに対しても
十分な記録再生特性を有する磁気ヘッドを高歩留りで容
易に提供することが可能である。
十分な記録再生特性を有する磁気ヘッドを高歩留りで容
易に提供することが可能である。
第１ａ図は従来の磁気ヘッドの記録媒体摺動面の拡大図
であり、第１ｂ図は第１ａ図の磁気ヘッドの側面図であ
り、第２ａ図は本発明に係る磁気ヘッドの記録媒体摺動
面の拡大図であり、および第２ｂ図は第２ａ図の磁気ヘ
ッドの側面図である。 ２０ 、２１・・・フェライトコア半体、２２ 、２３
・・・金属磁性体膜、 ２４ 、２５・・・保護膜、
２６・・・作動ギャップ、 ２７ 、２８・・・ガラス接着材。
であり、第１ｂ図は第１ａ図の磁気ヘッドの側面図であ
り、第２ａ図は本発明に係る磁気ヘッドの記録媒体摺動
面の拡大図であり、および第２ｂ図は第２ａ図の磁気ヘ
ッドの側面図である。 ２０ 、２１・・・フェライトコア半体、２２ 、２３
・・・金属磁性体膜、 ２４ 、２５・・・保護膜、
２６・・・作動ギャップ、 ２７ 、２８・・・ガラス接着材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、磁気ヘッドの磁気コアが高透磁率フェライトコア本
体とこのフェライトよりも高飽和磁束密度を有する金属
磁性体膜とからなり、該磁気コアの作動ギャップ近傍部
に前記金属磁性体膜を配置した磁気ヘッドにおいて、該
金属磁性体膜の上にＣｒ、Ｔｉ、ＣｒＯ、ＴｉＯ＿２の
いずれかの薄膜もしくは該薄膜の多層膜である保護膜を
形成したことを特徴とする磁気ヘッド。 ２、前記保護膜の厚みを２０ｎｍ以上とすることを特徴
とする特許請求の範囲第１項に記載の磁気ヘッド。 ３、前記金属磁性体膜がＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金からな
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項
に記載の磁気ヘッド。 ４、前記金属磁性体膜の上にＴｉ膜を形成し、その上に
Ｃｒ膜を形成したことを特徴とする特許請求の範囲第１
項〜第３項のいずれかに記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29363888A JPH02141910A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29363888A JPH02141910A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02141910A true JPH02141910A (ja) | 1990-05-31 |
Family
ID=17797303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29363888A Pending JPH02141910A (ja) | 1988-11-22 | 1988-11-22 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02141910A (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61172203A (ja) * | 1985-01-26 | 1986-08-02 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS62107405A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-18 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘツドコア |
| JPS62185211A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-13 | Hitachi Denshi Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS63146203A (ja) * | 1986-12-09 | 1988-06-18 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘツドコア |
| JPS63298805A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘッドコア |
| JPH01185810A (ja) * | 1988-01-21 | 1989-07-25 | Brother Ind Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-11-22 JP JP29363888A patent/JPH02141910A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61172203A (ja) * | 1985-01-26 | 1986-08-02 | Sony Corp | 磁気ヘツド |
| JPS62107405A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-18 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘツドコア |
| JPS62185211A (ja) * | 1986-02-12 | 1987-08-13 | Hitachi Denshi Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS63146203A (ja) * | 1986-12-09 | 1988-06-18 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘツドコア |
| JPS63298805A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Seiko Epson Corp | 磁気ヘッドコア |
| JPH01185810A (ja) * | 1988-01-21 | 1989-07-25 | Brother Ind Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0772927B2 (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH02141910A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS6089806A (ja) | 磁気消去ヘツド | |
| JP2643425B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP3147434B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS63124208A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH02141911A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0721513A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS63311611A (ja) | 複合型磁気ヘッド | |
| JPH0413207A (ja) | 複合型磁気ヘッド | |
| JPH02254607A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0231311A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS62219213A (ja) | 複合磁気ヘツド | |
| JPH0668414A (ja) | Ｍｉｇ型磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH01303613A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH01269209A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH031309A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0481803B2 (ja) | ||
| JPS63173215A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6120209A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH02278506A (ja) | 複合型磁気ヘッド | |
| JPS6116005A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS6356602B2 (ja) | ||
| JPS6314312A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH03152706A (ja) | 複合型磁気ヘッド |