JPS62185211A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明はＶＴＲ等の磁気記録再生装置に用いる磁磁気ヘ
ッドに係り、特に高飽和磁束密度を有する金属磁性体を
用いて構成した磁気ヘッドに関する。

（従来技術とその問題点） 従来、ＶＴＲ用等の磁気ヘッドとしてはフェライトヘッ
ドが用いられてきた。しかし、近年９高保磁力を有する
磁気テープの出現に伴い、フェライトよりも高い飽和磁
束密度を有する金属磁性体がヘッド材料として用いられ
るようになってきている。

一般に金属磁性体は比抵抗が低く渦電流損失が大きいた
め１通常用いられているヘッド形状でのコア厚さでは、
従来の高透磁率フェライト材料に比ベビデオ周波数帯域
での実効透磁率が低くなるという欠点がある。

最近では上記問題を解決するために、高飽和磁束密度を
有する金属磁性体と高透磁率フェライト材料とを組み合
わせた磁気ヘッドが提案されている。

この種の磁気ヘッドの例を第２図に示す。図において、
１０ＪＯ’は蒸着あるいはスパッタリング法などの薄膜
形成技術によって形成された高飽和磁束密度、高透磁率
を有する金属磁性体であり、１１．１１’はＭｎ−Ｚｎ
フェライト等の高透磁率フェライト材料である。また、
１２は磁気ヘッド作動ギャップ。

１３、１３’は所要のトラック幅を形成するために作動
ギャップ近傍部にトラック幅決め用に設けられた切り欠
き溝であり、ガラス等の非磁性材料が充填されている。

１４はコイル巻線用溝である。この磁気ヘッドは高透磁
率フェライトブロックのギャップ突き合わせ面側にトラ
ンク幅規制用の切り欠き溝を設け９作動ギヤツブ突合せ
部を含む作動ギャップ突合せ面上に薄膜形成技術により
金属磁性体を形成した構造であり９作動ギヤツブ突合せ
面に５ＩＯ２等の非磁性体を形成した一対の磁気コア半
体を突合せた後１巻線溝１４からコア半体間のギャップ
間隙へガラスを流し込むことによって接合されている。

この様な磁気ヘッドにおいては、金属磁性体の磁気特性
劣化を防止するために、できるだけ低温でガラスを加熱
接着することが望ましく、そのためＰｂＯ系の低融点ガ
ラスが用いられている。しかし、ＰｂＯ系の低融点ガラ
スは高透磁率フェライトに対しては良好な濡れ性を示す
が、金属磁性体ならびに５ｉ０２等の従来のギャップ材
料に対しては濡れ性が悪くガラスが溶けても良く流れな
いため。

磁気コア半体間の融着接合が不完全であったり。

接合強度が低くて接合部から割れる等の不都合が生じた
二 また、低融点ガラスが前記金属磁性体あるいはＳ　ｉ　
Ｏ２と反応して９作動ギャップ近傍部の機械的強度や耐
摩耗性を劣化させ、磁気ヘッドの特性を劣化させる要因
ともなっていた。

（目的） 本発明は上記のような従来の問題点を解決し。

金属磁性体を用いた磁気ヘッドにおいて安定な磁気ギャ
ップを構成し、十分な接着強度を有する信頼性の高い磁
気ヘッドな提供するものである。

（実施例） 本発明は、高透磁率フェライトと該フェライトより飽和
磁束密度の高い金属磁性体とを複合してなる一対の磁気
コア半体を有し、少なくとも一方の前記磁気コア半体の
作動ギャップ突合せ面にコイル巻線用溝が設けられ、前
記金属磁性体は前記高透磁率フェライトの少なくとも作
動ギャップ近傍部を含む作動ギャップ突合せ面表面に薄
膜形成技術により形成されてなり、該金属磁性体が相対
向するごとく前記磁気コア半体を互いに突き合わせて接
合した磁気ヘッドにおいて、前記作動ギャップ突合わせ
面に各々ガラスとの濡れ性の良い非磁性金属膜を形成し
、さらに該非磁性金属膜の上にガラス膜を形成するとと
もに、少なくとも一方の前記作動ギャップ突合わせ面に
前記コイル巻線用溝から離隔して、前記金属磁性体の一
部を切断し前記高透磁率フェライトに達する深さで補強
材充填用溝が設けられており、該補強材充填用溝には前
記ガラス膜と同系統のガラスが充填され、該ガラスなら
びに前記ガラス膜によって前記磁気コア半体を互いに融
着することを特徴とするものである。

本発明の磁気ヘッドは９作動ギヤツブ突合せ面となる前
記金属磁性体の上に低融点ガラスとの濡れ性が良好な非
磁性金属膜を形成し、さらにその上に低融点ガラス膜を
形成したので、前記コイル巻線用溝からギャップ間隔へ
低融点ガラスを良好に流し込むことができ、また、低融
点ガラスが前記金属磁性体あるいはギヤノブ材料と反応
することもない。さらに、前記補強材充填用溝は前記金
属磁性体の一部を切断し前記フエライに達するように設
けられているので、一対の磁気コア半体を突き合わせた
際に該補強材充填用溝の表面は大部分前記フェライトで
構成されることになり、低融点ガラスの高透磁率フェラ
イトに対する濡れ性が非常に良好であることから、磁気
コア半体同志を完全に融着接合し、十分な接合強度を得
るもので・□ある。

以下１本発明による磁気ヘッドの実施例を図面を参照し
て説明する。

第１図は本発明の磁気ヘッドの実施例を示す要部斜視図
である。図において、　２０．２０’は高透磁率フェラ
イトブロック、　２１．２１’は高飽和磁束密度を有す
る金属磁性体、　２２．２２’は非磁性金属、２３．２
３’は低融点ガラス、２４は作動磁気ギャップ、２５．
２５’はトラック幅決め用溝、２６はコイル巻線用溝、
２７は補強材充填用溝。

２８、２８’および２９は充填ガラスである。

高透磁率フェライト２０．２０’としては〜Ｉｎ−Ｚｎ
フェライトを用いた。また、金属磁性体２１．２１’は
高飽和磁束密度、高透磁率を有するものが望ましく。

結晶質磁性合金（Ｆｅ二Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ−３ｉ合
金。

Ｆｅ−Ｎｉ合金等）あるいは非晶質磁性合金（Ｆｅ−Ｃ
ｏ−３ｉ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系等）のいずれでも
良い。非磁性金属２２．２２’は接合、充填に使用する
ガラス材と濡れ性の良いものであれば何でも良く。

例えばＴｉ、Ｃｒ等が用いられる。低融点ガラス２３゜
２３′は例えはＰｂＯ系のものが用いられるが、前記金
属磁性体に非晶質磁性合金を用いる場合には、その結晶
化温度以下の温度で加熱融着可能である低融点ガラスを
用いる必要がある。充填ガラス２８．２８’および２９
には前記低融点ガラスと同系統のガラスを用いる。

前記金属磁性体２１，２１′、非磁性金属２２．２２’
、低融点ガラス２３．２３’はそれぞれ、蒸着あるいは
スパッタリング法等の薄膜形成技術によって、前記高透
磁率フェライトブロック２０．２０’の各々の作動ギャ
ップ突合せ面表面に順番に形成される。また、補強材充
填用溝２７は一対の磁気コア半体の作動ギャンプ突合せ
面に、前記金属磁性体の一部を切断し高透磁率フェライ
トに達する深さで形成されるが。

一方の磁気コア半体のみに設けても良く９両方に設けて
も良い。

次に、第３図により上記一対の磁気コア半体の接合方法
を説明する。

一対の磁気コア半体ブロック３０．３０’を金属磁性体
２１．２１’が相対向するごとく互いに突き合わせる。

次に、コイル巻線用溝２６および補強材充填用溝２７に
溶着用ガラス棒３１．３１’をそれぞれ挿入し、これを
溶融して一対の磁気コア半体３０，３σを接合する。

この接合において、ガラス棒３１による溶融ガラスは磁
気コア半体３０．３０’間のギャップ間隙と、コイル巻
線用溝２６の一部に充填され、また、ガラス棒３１′は
補強材充填用溝２７に充填されて、一対の磁気コア半体
３０．３０’が融着、一体化される。この時。

トランク幅決め用溝にもガラスを充填すると良い。

この様にして得られる磁気ヘッド３２は９作動ギヤツブ
突合せ面表面に形成されるＴｉ、Ｃｒ等の非磁性金属膜
に対する低融点ガラスの濡れはフェライトと同程度に良
好であり、コイル巻線用溝の一部からギャップ間隙へと
低融点ガラスを良好に流し込むことができる。さらに、
補強材充填用溝の表面の大部分はフェライトで構成され
ているので、完全で十分な強度を持つ融着が可能となる
。

また、ガラス材と金属磁性体膜ならびに非磁性金属膜と
の反応もほとんどなく、安定したヘッド特性を有する信
頼性の高い磁気ヘッドが得られる。

（効果） 以上述べたように１本発明によれば、一部の磁気コア半
体の金属磁性体で構成された作動ギャップ突合わせ面表
面にガラスと濡れ性の良い非磁性金属膜と低融点ガラス
膜を形成し、さらに表面の大部分がフェライトからなる
ように補強材充填用溝を設けて前記低融点ガラス膜と同
系統のガラスを充填することにより、良好に低融点ガラ
スを流して強固な接合を有し、安定した磁気ギャップを
構成し、信頼性の高い磁気ヘッドを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気ヘッドの一例を示す斜視図、
第２図は従来の磁気ヘッドの一例を示す斜視図、第３図
は本発明による磁気ヘッドの磁気コア半体の接合方法説
明図である。 ２０．２σ：高透磁率フェライト、　　２１．２１’　
：金属磁性体膜、２２．２２’：非磁性金属膜、　　２
３．２３’　：低融点ガラス膜、２４：磁気ギャップ、
　２５．２５’　：　　トラック幅決め用溝、２６：コ
イル巻線用溝、２７：補強材充填用溝、２８〆２９：充
填ガラス、　３０．３０’　：磁気コア半体、　３１．
３１’　ニガラス棒、３２：磁気ヘッド。 第１図

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）高透磁率フェライトと該フェライトより飽和磁束
   密度の高い金属磁性体とを複合してなる一対の磁気コア
   半体を有し、少なくとも一方の前記磁気コア半体の作動
   ギャップ突合せ面にコイル巻線用溝が設けられ、前記金
   属磁性体は前記高透磁率フェライトの少なくとも作動ギ
   ャップ近傍部を含む作動ギャップ突合わせ面表面に薄膜
   形成技術により形成されてなり、該金属磁性体が相対向
   するごとく前記磁気コア半体を互いに突き合わせて接合
   した磁気ヘッドにおいて、前記作動ギャップ突合せ面に
   各々ガラスとの濡れ性の良い非磁性金属膜を形成し、さ
   らに該非磁性金属膜の上にガラス膜を形成するとともに
   、少なくとも一方の前記作動ギャップ突合せ面に前記コ
   イル巻線用溝から離隔して、前記金属磁性体の一部を切
   断し前記高透磁率フェライトに達する深さで補強材充填
   用溝が設けられており、該補強材充填用溝には前記ガラ
   ス膜と同系統のガラスが充填され、該ガラスならびに前
   記ガラス膜によって前記磁気コア半体を互いに融着した
   ことを特徴とする磁気ヘッド。
2. （２）前記金属磁性体がＦｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ａｌ−
   Ｓｉ合金もしくはＦｅ−Ｎｉ合金であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。
3. （３）前記金属磁性体が非晶質合金であることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。
4. （４）前記ガラスおよびガラス膜がＰｂＯ系の低融点ガ
   ラスであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の磁気ヘッド。
5. （５）前記非磁性金属膜がＴｉもしくはＣｒからなるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド
   。