JPS61214106A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS61214106A JPS61214106A JP5739885A JP5739885A JPS61214106A JP S61214106 A JPS61214106 A JP S61214106A JP 5739885 A JP5739885 A JP 5739885A JP 5739885 A JP5739885 A JP 5739885A JP S61214106 A JPS61214106 A JP S61214106A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- core
- magnetic
- magnetic head
- reinforcing core
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、複数のギャップ部を一体に具える磁気ヘッド
の改良に関する。
の改良に関する。
フロッピーディスク装置、多機能ＶＴＲ等の磁気記録再
生装置には、一体のへラドチップに複数個（通常は２個
）のギャップ部を具えた磁気ヘッドが装備される。
生装置には、一体のへラドチップに複数個（通常は２個
）のギャップ部を具えた磁気ヘッドが装備される。
第１図はフロッピーディスク装置に用いられる磁気ヘッ
ドを示し、記録ヘッドとなる第１のコア部（２）と消去
ヘッドとなる第２のコア部（３）とを並設したＭｎ−Ｚ
ｎフェライト製の主コア（１）を、セラミック製の補強
コア（４１（４）によって挾持して一体の磁気ヘッドが
構成されている。
ドを示し、記録ヘッドとなる第１のコア部（２）と消去
ヘッドとなる第２のコア部（３）とを並設したＭｎ−Ｚ
ｎフェライト製の主コア（１）を、セラミック製の補強
コア（４１（４）によって挾持して一体の磁気ヘッドが
構成されている。
上記第１のコア部（２）には記録用ギセップ部■、第２
のコア部（３）には消去用ギャップ部■■が形成され、
夫々トラック幅規制溝によってトラック幅が所定値に設
定されている。
のコア部（３）には消去用ギャップ部■■が形成され、
夫々トラック幅規制溝によってトラック幅が所定値に設
定されている。
第１のコア部（２）と第２のコア部（３）とは低融点ガ
ラスを資材とする非磁性体層（７）によって互いに連結
されている。
ラスを資材とする非磁性体層（７）によって互いに連結
されている。
磁気シートが摺接すべき対接面（８）は、シートとの接
触状態を適正化するべく球面状に形成されている。又、
コイル窓■には磁気コイル（５）が巻装されている。
触状態を適正化するべく球面状に形成されている。又、
コイル窓■には磁気コイル（５）が巻装されている。
上記磁気ヘッドは従来より下記の方法によって製造され
ていた。
ていた。
先ず、第２図に示す如（Ｍｎ−Ｚｎフェライトを資材と
して夫々率１のコア部及び第２のコア部となる第１ブロ
ツク囚と第２ブロツク（至）とを作製する。
して夫々率１のコア部及び第２のコア部となる第１ブロ
ツク囚と第２ブロツク（至）とを作製する。
次に第３図に示す如く、上記第１及び算２ブロック■（
至）を低融点ガラスによって接合することにより、両ブ
ロック間に非磁性体層（７）を形成する。
至）を低融点ガラスによって接合することにより、両ブ
ロック間に非磁性体層（７）を形成する。
次に上記ブロックを破線Ａに沿って切断し、コアチップ
体（１２）を形成する。更に該コアチップ体■の両側面
に鏡面研摩を施し、第１図に示す補強コア（４）となる
コア体（図示省略）を接着剤によって上記研摩面に接合
し、磁気ヘッド体を形成する。
体（１２）を形成する。更に該コアチップ体■の両側面
に鏡面研摩を施し、第１図に示す補強コア（４）となる
コア体（図示省略）を接着剤によって上記研摩面に接合
し、磁気ヘッド体を形成する。
最後に上記磁気ヘッド体のシート対接面となるべき面に
研摩仕上げを施し、第１図の磁気ヘッドを完成するので
ある。
研摩仕上げを施し、第１図の磁気ヘッドを完成するので
ある。
〔発明が解決しようとする問題点）
ところが上記製造方法に於ては、第３図に示すコアチッ
プ体＠の両側面に研摩を施す際、非磁性体層（７）は低
融点ガラス製であってＭｎ−Ｚｎフェライト製のコア部
［２） （３）及び高融点ガラス製のトラック幅規制部
＠＠（第４図参照）よりも硬度がかなり低い為、非磁性
体層（７）とコア部Ｔ２） （３）との間に研摩量の差
が生じ、これによって第４図に示す如（コアチップ体（
２）の両側面α■（１■に深さｄ（略０．５〜１． ｓ
Ｐｍ ）なる段差りが生じることになる。
プ体＠の両側面に研摩を施す際、非磁性体層（７）は低
融点ガラス製であってＭｎ−Ｚｎフェライト製のコア部
［２） （３）及び高融点ガラス製のトラック幅規制部
＠＠（第４図参照）よりも硬度がかなり低い為、非磁性
体層（７）とコア部Ｔ２） （３）との間に研摩量の差
が生じ、これによって第４図に示す如（コアチップ体（
２）の両側面α■（１■に深さｄ（略０．５〜１． ｓ
Ｐｍ ）なる段差りが生じることになる。
上記段差りを有するコアチップ体の両側面に補強コア体
を接合して磁気ヘッドを作製すると、主コア（１）の非
磁性体層（７）と補強コア（４） （４）との間には他
の部分よりも厚肉の接着剤層が形成され、シート対接面
（８）の研摩仕上げ時に該厚肉部が深（摩耗して凹部が
生じる。この結果、磁気ヘッドの使用により、該凹部に
異物が堆積し、磁気シートに損傷を与える虞れがあった
。
を接合して磁気ヘッドを作製すると、主コア（１）の非
磁性体層（７）と補強コア（４） （４）との間には他
の部分よりも厚肉の接着剤層が形成され、シート対接面
（８）の研摩仕上げ時に該厚肉部が深（摩耗して凹部が
生じる。この結果、磁気ヘッドの使用により、該凹部に
異物が堆積し、磁気シートに損傷を与える虞れがあった
。
本発明は上記不具合の生じることのない磁気ヘッドの構
造を提供するものであろう 補強コア（４）が接合されるべき主コア（１）の側面に
は、前記非磁性体層（７）と略同程度或はそれ以上の硬
度を有する非磁性の薄膜（６）が高平面度に形成され、
該薄膜（６）に補強コア（４）が接合されている。
造を提供するものであろう 補強コア（４）が接合されるべき主コア（１）の側面に
は、前記非磁性体層（７）と略同程度或はそれ以上の硬
度を有する非磁性の薄膜（６）が高平面度に形成され、
該薄膜（６）に補強コア（４）が接合されている。
本発明の磁気ヘッドは、例えば第２図乃至第４図に示す
従来の製造工程によってコアチップ体（１２１を製作し
、後述する方法により該コアチップ体（１２１の側面に
第６図に示す如き高平面度の薄膜（６）を形成した後、
該薄膜（６）に対し補強コア（４）となるコア体を接着
固定して磁気ヘッド体を構成し、該ヘッド体に対し対接
面（８）を形成する研摩仕上げを施すことにより製造す
ることが出来る。
従来の製造工程によってコアチップ体（１２１を製作し
、後述する方法により該コアチップ体（１２１の側面に
第６図に示す如き高平面度の薄膜（６）を形成した後、
該薄膜（６）に対し補強コア（４）となるコア体を接着
固定して磁気ヘッド体を構成し、該ヘッド体に対し対接
面（８）を形成する研摩仕上げを施すことにより製造す
ることが出来る。
上記薄膜（６）と補強コア（４）との間に充填される接
着剤は、薄膜（６）が高平面度の表面を具えている為、
均一厚さの極めて薄い層となる、従ってヘッド体に研摩
仕上げを施す際に、接着剤の層が対接面よりも深く摩耗
することはない一又、薄膜（６）は充分な硬度即ち耐摩
耗性を有しているから、研摩仕上げの際に該薄膜が対接
面よりも深く摩耗することもない。
着剤は、薄膜（６）が高平面度の表面を具えている為、
均一厚さの極めて薄い層となる、従ってヘッド体に研摩
仕上げを施す際に、接着剤の層が対接面よりも深く摩耗
することはない一又、薄膜（６）は充分な硬度即ち耐摩
耗性を有しているから、研摩仕上げの際に該薄膜が対接
面よりも深く摩耗することもない。
従って上記方法によって製造された本発明の磁気ヘッド
の対接面（８）には、従来の磁気ヘッドに生じていた凹
部はないから、磁気シートが損傷を受ける虞れはな（、
装置の信頼性が向上する。
の対接面（８）には、従来の磁気ヘッドに生じていた凹
部はないから、磁気シートが損傷を受ける虞れはな（、
装置の信頼性が向上する。
第１図は本発明の磁気ヘッドをフロッピーディスク装置
の書込み及び消去ヘッドに実施した一例を示し、主コア
（１）の両側面には５ｉ０２の薄膜（６） （６１を介
して補強コア（４） （４）が接着固定されている。
の書込み及び消去ヘッドに実施した一例を示し、主コア
（１）の両側面には５ｉ０２の薄膜（６） （６１を介
して補強コア（４） （４）が接着固定されている。
第２図乃至第８図は上記磁気ヘッドの製造工程を示し、
第２図乃至第４図に示す工程は前述した従来のコアチッ
プ体製造工程と同一である。
第２図乃至第４図に示す工程は前述した従来のコアチッ
プ体製造工程と同一である。
第２図に於て、第１ブロツク（２）はトラック幅規制溝
に及びコイル溝（財）が開設された一方のブロック半休
（２１Ｊと、トラック幅規制溝のが開設された他方のブ
ロック半休（支）とを５ｉ０２のギャップスペ−サを介
して接合し、上記トラック幅規制溝（２３）にガラスを
充填して一体化したものである。又、第２ブロツク（３
５）は第１ブロツク（５）と同様、トラ・ツク幅規制溝
（３３１及びコイル溝（至）を具える一対のブロック半
休（３１）■を、５ｉＯｚのギャップスペーサを介して
接合一体化したものである。
に及びコイル溝（財）が開設された一方のブロック半休
（２１Ｊと、トラック幅規制溝のが開設された他方のブ
ロック半休（支）とを５ｉ０２のギャップスペ−サを介
して接合し、上記トラック幅規制溝（２３）にガラスを
充填して一体化したものである。又、第２ブロツク（３
５）は第１ブロツク（５）と同様、トラ・ツク幅規制溝
（３３１及びコイル溝（至）を具える一対のブロック半
休（３１）■を、５ｉＯｚのギャップスペーサを介して
接合一体化したものである。
第４図に示す如（コアチップ体の両側面α０皿に研摩を
施した後、第５図に示す如く該研摩面にＳｉＯ２の薄膜
（６）をスパッタリングによって略２−前後の厚さに形
成する。この際、薄膜（６）の表面は図示の如（非磁性
体層（７）の部分に段差Ｄ′が生じる。
施した後、第５図に示す如く該研摩面にＳｉＯ２の薄膜
（６）をスパッタリングによって略２−前後の厚さに形
成する。この際、薄膜（６）の表面は図示の如（非磁性
体層（７）の部分に段差Ｄ′が生じる。
更に、上記薄膜（６１（６）の表面にラップ盤による仕
上げ研摩を施し、第６図に示す如（高平面度の接合面（
１３） （１″！Ｉを得る。
上げ研摩を施し、第６図に示す如（高平面度の接合面（
１３） （１″！Ｉを得る。
次に第７図に示す如（、薄膜（６）が形成されたコアチ
ップ体圓のギャップ部側端部を後記する所定の位置にて
切断する。切断には粒径が４〜８Ｐ或は４〜６μｍのレ
ジノイドダイヤモンドブレード（９）が使用される。
ップ体圓のギャップ部側端部を後記する所定の位置にて
切断する。切断には粒径が４〜８Ｐ或は４〜６μｍのレ
ジノイドダイヤモンドブレード（９）が使用される。
上記切断工程に於て、コアチップ体Ｏｚの両側面には５
ｉＯｚの薄膜が形成されているから、該薄膜の保護によ
り、切断時にコアチップ体（２）に欠けや割れ等の損傷
が生じることは殆んどなく、まれに生じた損傷は軽微で
あって次の仕上げ研摩によって完全に除去される。
ｉＯｚの薄膜が形成されているから、該薄膜の保護によ
り、切断時にコアチップ体（２）に欠けや割れ等の損傷
が生じることは殆んどなく、まれに生じた損傷は軽微で
あって次の仕上げ研摩によって完全に除去される。
最後に、第１図の補強コア（４）となるコア体（図示省
略）を、上記コアチップ体（２）の両接合面（１３）（
１３）に接着剤によって接合固定して磁気ヘッド体を構
成し、該磁気ヘッド体のギャップ部側端面に仕上げ研摩
を施してシート対接面（８）を形成する。この結果、第
１図に示す磁気ヘッドが得られるのである。
略）を、上記コアチップ体（２）の両接合面（１３）（
１３）に接着剤によって接合固定して磁気ヘッド体を構
成し、該磁気ヘッド体のギャップ部側端面に仕上げ研摩
を施してシート対接面（８）を形成する。この結果、第
１図に示す磁気ヘッドが得られるのである。
第７図に示す切断工程及び最後の仕上げ研摩工程に於け
る加工量を第８図にて説明する。
る加工量を第８図にて説明する。
コアチップ体■のギャップ部側端面は、ギャップ部のデ
プスエンドまでの距離Ｃが略２００Ｐに形成されている
ーダイヤモンドブレードによる切断は、該端面からの距
離ａが１５０μｍの破線Ｂに沿って施される。更に研摩
仕上げによって破線Ｃの位置まで加工が施され、所定の
ギャップデプスｇ（例えば３８μｍ）が形成されるので
ある。
プスエンドまでの距離Ｃが略２００Ｐに形成されている
ーダイヤモンドブレードによる切断は、該端面からの距
離ａが１５０μｍの破線Ｂに沿って施される。更に研摩
仕上げによって破線Ｃの位置まで加工が施され、所定の
ギャップデプスｇ（例えば３８μｍ）が形成されるので
ある。
第５図及び第６図に示す如（薄膜（６）の表面に研摩を
施す際、コアチップ体α２のギャップ部側端面には第８
図に鎖線に示す様な欠け（１１）が生じることがあるが
、該欠けの深さｅは通常１００μｍ以下である為、前述
の如く切断量＆を１５０μｍとすることによって大部分
の欠けは除去される。
施す際、コアチップ体α２のギャップ部側端面には第８
図に鎖線に示す様な欠け（１１）が生じることがあるが
、該欠けの深さｅは通常１００μｍ以下である為、前述
の如く切断量＆を１５０μｍとすることによって大部分
の欠けは除去される。
又、切断時のギャップデプスｂは略５０７４ｍである為
、研摩仕上げによってギャップデプスを公差（３８±７
μｍ）内に収束せしめる。ことは容易である。従来は、
コアチップ体■に上記切断を施すことなく補強コア体を
接合し、所定のギヤ・・Ｉプデプスが得られるまで研摩
を施す方法が採られていた。従って研摩量が多く、然も
補強コア体の接合後はギャップデプス端が該コア体によ
って被われて研摩量の管理が困難となる。これが原因で
ギャップデプスを公差内に収めることが困難であった。
、研摩仕上げによってギャップデプスを公差（３８±７
μｍ）内に収束せしめる。ことは容易である。従来は、
コアチップ体■に上記切断を施すことなく補強コア体を
接合し、所定のギヤ・・Ｉプデプスが得られるまで研摩
を施す方法が採られていた。従って研摩量が多く、然も
補強コア体の接合後はギャップデプス端が該コア体によ
って被われて研摩量の管理が困難となる。これが原因で
ギャップデプスを公差内に収めることが困難であった。
これに対し、本実施例ではダイヤモンドブレードによる
切断によって、研摩開始時のギャップデプスｂを例えば
５０±５μｍに収めることにより、その後の研摩量は僅
かとなるから、該研摩量を正確に制御することは容易で
ある。この結果、磁気ヘッドの品質を飛躍的に向上させ
ることが出来るのである。
切断によって、研摩開始時のギャップデプスｂを例えば
５０±５μｍに収めることにより、その後の研摩量は僅
かとなるから、該研摩量を正確に制御することは容易で
ある。この結果、磁気ヘッドの品質を飛躍的に向上させ
ることが出来るのである。
上記実施例では薄膜（６）として５ｉＯｚのスパッタＩ
７７’グ膜を用いているが、他の資材例えば他の金属酸
化物或は高融点ガラスを用いて形成しても可いのは勿論
である。
７７’グ膜を用いているが、他の資材例えば他の金属酸
化物或は高融点ガラスを用いて形成しても可いのは勿論
である。
第１図は本発明に係る磁気ヘッドの斜面図、第２図及び
第３図は夫々主コアとなるブロック半休の接合前後の斜
面図、第４図乃至第６図は薄膜の形成工程を示すコアチ
ップ体の平面図、第７図は切断工程を表わすコアチップ
体の斜面図、第８図は切断量を説明するコアチップ体の
正面図である。
第３図は夫々主コアとなるブロック半休の接合前後の斜
面図、第４図乃至第６図は薄膜の形成工程を示すコアチ
ップ体の平面図、第７図は切断工程を表わすコアチップ
体の斜面図、第８図は切断量を説明するコアチップ体の
正面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ［１］ギャップ部を夫々具える複数のコア部（２）（３
）を一列に配設し互いに非磁性体層（７）を介して連結
した主コア（１）と、該主コア（１）の一側面或は両側
面にコア部配列方向の略全長に亘って接合固定された補
強コア（４）とからなる磁気ヘッドに於て、補強コア（
４）が接合されるべき主コア（１）の側面には、前記非
磁性体層（７）と略同程度或はそれ以上の硬度を有する
非磁性の薄膜（６）が高平面度に形成され、該薄膜（６
）に補強コア（４）が接合されていることを特徴とする
磁気ヘッド。 ［２］薄膜（６）はＳｉＯ＿２等の金属酸化物である特
許請求の範囲第１項に記載の磁気ヘッド。 ［３］薄膜（６）は高融点ガラスである特許請求の範囲
第１項に記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5739885A JPS61214106A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5739885A JPS61214106A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61214106A true JPS61214106A (ja) | 1986-09-24 |
Family
ID=13054526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5739885A Pending JPS61214106A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61214106A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63200211U (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-23 | ||
| EP0439943A2 (en) * | 1990-02-01 | 1991-08-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Recording head core yoke with full length core support |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5744219A (en) * | 1980-08-27 | 1982-03-12 | Sony Corp | Magnetic head |
| JPS57179925A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-05 | Toshiba Corp | Magnetic head |
-
1985
- 1985-03-19 JP JP5739885A patent/JPS61214106A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5744219A (en) * | 1980-08-27 | 1982-03-12 | Sony Corp | Magnetic head |
| JPS57179925A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-05 | Toshiba Corp | Magnetic head |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63200211U (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-23 | ||
| EP0439943A2 (en) * | 1990-02-01 | 1991-08-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Recording head core yoke with full length core support |
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