JPH03120604A - 複合型磁気ヘッド用コアの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は、複合型磁気ヘッド用コアの製造方法に係り、
特に高保持力媒体に対して好適な複合型磁気ヘッドを与
える複合型磁気ヘッド用コアを有利に製造し得る方法に
関するものである。

（背景技術） 高密度磁気記録再生装置においては、磁気記録媒体の保
磁カニＨｃを太き（すれば有利であることが知られてい
るが、高保磁力の磁気記録媒体に情報を記録するために
は、磁気ヘッドからの漏れ磁界を強くする必要がある。

ところが、現在、磁気ヘッドを構成するコアに用いられ
ているフェライト材は、その飽和磁束密度：ＢＳが４０
００〜５０００ガウスであるため、得られる記録磁界の
強さに限度があり、磁気記録媒体の保磁力が１０００エ
ルステツドを越える場合には、記録が不充分になるとい
う欠点がある。

そこで、かかる問題を解決するために、近年では、磁気
ギャップを形成するフェライト材の対向面の少なくとも
何れか一方に、金属磁性材料で総称されるＦ　ｅ−，６
／！−３ｉ合金（センダスト）、Ｎｉ−Ｆｅ合金（パー
マロイ）等の結晶質合金、或いは非晶質合金にて形成さ
れた所定厚さの磁性層を設けて、かかる磁気ギャップ部
に存在せしめることによって、高保磁力媒体に対して有
効な特性を付与せしめた、所謂メタルインギャップ構造
を有する複合型磁気ヘッド用コアが、提案されている。

ところで、このような複合型磁気ヘッド用コアは、従来
では、例えば、次のようにして製造されている。即ち、
互いに突き合わされて接合されることにより、環状の磁
路を構成すると共に、かかる突合せ面間に磁気ギャップ
を形成する第一及び第二のフェライトブロックを用い、
それぞれの突合せ面に鏡面加工を施した後、少なくとも
一方の突合せ面に金属磁性材料からなる磁性層を形成し
、次いで、それら第一及び第二のフェライトブロックを
、ギャップ接合用のガラス膜等によって、突合せ面にお
いて接合せしめて、一体的な組合せ接合体と為し、更に
その後、このフェライトブロックの組合せ接合体を所定
の位置にて切断することにより、目的とする複合型磁気
ヘッド用コアを切り出すようにしているのである。

しかしながら、このような複合型磁気ヘッド用コアの製
造方式にあっては、コア本体を構成するフェライトと、
該フェライトの磁気ギャップ形成部位における突合せ面
に被着された磁性層を構成する金属磁性材との熱膨張係
数差が大きいために（例えば、フェライト：１１０〜１
２０Ｘ１０−’センダスト：１４０〜１５０Ｘ１０−７
）、前記第一及び第二のフェライトブロックの接合時に
おける加熱によって、それらフェライトと金属磁性層と
に対して大きな内部応力が蓄えられることとなる。そし
て、それ故、この状態で、後工程におけるコアの切出し
等の機械加工を行なうと、金属磁性層がフェライトとの
界面から剥離したり、或いは界面近くのフェライトにク
ラックが入るなどといった不具合が生じ易く、製品性能
の安定性が充分に確保し難いと共に、歩留りが悪いとい
った、大きな問題を内在していたのである。

（解決課題） ここにおいて、本発明は、上述の如き事情を背景として
為されたものであって、その解決課題とするところは、
コアの切出し等の機械加工時における金属磁性層の剥離
やフェライトへのクラックの発生を有効に防止し得て、
性能安定性及び信頼性に優れた複合型磁気ヘッド用コア
を、高い歩留りをもって製造することのできる方法を提
供することにある。

（解決手段） そして、かかる課題を解決するために、本発明にあって
は、第一及び第二のフェライトブロックを突き合わせて
接合せしめる一方、それらフェライトブロックの突合せ
部に、金属磁性層を介在して、所定間隙の磁気ギャップ
を形成してなる、環状の磁路を有する組合せ体を作成し
た後、該組合せ体を所定の位置にて切断することにより
、かかる磁気ギャップの形成部位にギャップ幅規定用ト
ラック部を設けた複合型磁気ヘッド用コアを製造するに
際して、前記二つのフェライトブロックの少なくとも一
方のものの他方のフェライトブロックに対する突合せ面
における、前記磁気ギャップの形成部位において、前記
金属磁性層を与える所定の金属磁性材を、前記トラック
部の幅と同等かそれよりも大きく、且つ該磁気ギャップ
形成部位における前記組合せ体の切断幅よりも狭い幅を
もって、一体的に被着せしめた後、それら二つのフェラ
イトブロックを、それらの突合せ面において接合するよ
うにした、複合型磁気ヘッド用コアの製造方法を、その
特徴とするものである。

（実施例） 以下、本発明を更に具体的に明らかにするために、図面
に示される実施例を参照しつつ、その構成を詳細に説明
することとする。なお、本実施例においては、第１図に
示されている如く、固定磁気ディスク装置（ＲＤＤ）に
用いられる、浮上型磁気ヘッド用スライダの一種であっ
て、スライダ本体１２と、該スライダ本体１２に対して
一体的に設けられて、該スライダ本体と協働して磁気ヘ
ッドのための閉磁路を構成するＣ字形状のヨーク部１４
．１４とによって構成されてなる磁気ヘッド用コアスラ
イダ１６の製造に対して、本発明を適用した場合につい
て説明する。即ち、かかる磁気ヘッド用コアスライダ１
６にあっては、そのディスク摺動側面１１上において、
記録媒体の摺動方向に互いに平行に延びる左右の空気ベ
アリング部（面）１０ａ、１０ｂと、それら各空気ベア
リング部１０ａ、１０ｂの延長上に位置する、略中夫に
磁気ギャップが設けられた狭幅のトラック部１３と、更
に該トラック部１３の延長上に位置する、該トラック部
１３の幅よりは広いが前記ベアリング部１０の幅よりは
狭い凸部１５とが、スライダ本体１２側よりヨーク部１
４側に延びる形態をもって形成されてなる構造とされて
いる。

先ず、かかる磁気ヘッド用コアスライダ１６を製造する
に際しては、第２図に示されている如き、第一及び第二
のフェライトブロック１８．２０が準備される。かかる
第一のフェライトブロック１８は、前記ヨーク部１４を
与え、第二のフェライトブロック２０は、前記スライダ
本体１２を与えるものである。そして、これらのフェラ
イトブロック１８．２０には、従来からの高透磁率のフ
ェライト材が用いられ、またそれらフェライトブロック
１８．２０は、所定厚さの長板状のブロック形状とされ
、それらの突合せによって、磁気ヘッドのための閉磁路
、即ち環状の磁路が構成せしめられることとなるのであ
る。なお、高透磁率のフェライトブロックとしては、Ｍ
ｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の単結晶
体或いは多結晶体が用いられ、また単結晶体と多結晶体
の複合体も有利に用いられる。また、単結晶体を用いる
にあたっては、（１００）、（１１０）、（３１１）、
　（３３２）、　（６１１）、　（２１１）等の結晶面
が空気ベアリング面（ディスク摺動面）として有利に選
択される。

そして、これら第一及び第二のフェライトブロック１８
．２０には、前記磁気ギャップを構成する、それらの突
合せ面２２．２２に対して、それぞれ、研磨加工による
鏡面仕上げが施されることとなる。

また、かかる鏡面仕上げの後、第３図に示されているよ
うに、第一及び第二のフェライトブロック１８．２０に
おける少なくとも一方のものの突合せ面２２側に、ブロ
ック長手方向に延びるコイル巻線用の巻線溝２４が、少
なくとも一条形成される。なお、本実施例では、第一及
び第二のフェライトブロック１８．２０が一体的に接合
されたブロック組合せ体を２個取りするようになってい
ることから、かかる巻線溝２４が、それら両フェライト
ブロック１８．２０に対して、二条づつ設けられると共
に、それらの巻線溝２４．２４における、前記磁気ギャ
ップの対応部位には、それぞれの後部において、補強用
のガラスを埋め込むためのガラス充填溝２５が形成され
る。

次に、かかる巻線溝２４．２４が形成された第一及び第
二のフェライトブロック１８．２０には、その少なくと
も一方のものの他方のフェライトブロックに対する突合
せ面２２における、少なくとも前記磁気ギャップの対応
部位に対して、フェライトより飽和磁束密度の高い金属
磁性材が、スパッタリング等によって被着せしめられる
。この金属磁性材には、Ｆｅ−３ｔ　（Ｓｉ　：６．５
重量％）。

Ｆｅ＝Ａｌ−３ｉ合金（センダスト）、Ｎｉ−Ｆｅ合金
（パーマロイ）等で代表される公知の結晶質合金があり
、−吉兆晶質合金としても、例えばＦ　ｅ−Ｃｏ−３ｉ
−Ｂ系で代表される周知のメタル−メタロイド系合金や
Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ等の周知のメタル−メタル系合金等が
用いられる。なお、Ｆｅ−３ｉ、Ｆｅ−３ｉ　−Ａｆｆ
ｉ系合金を用いる場合には、耐食性向上のために、５重
量％以下のＣｒ、Ｔｉ、Ｔａ等の元素添加が適宜行なわ
れる。

また、このような磁性材の被着には、他に、真空蒸着、
イオンブレーティング、ＣＶＤ、メツキ等でも可能であ
るが、組成変動等が大きいことや、被着物質が限定され
ることから、スパッタリング法が好適に採用される。

なお、特に本実施例では、第一のフェライトブロック１
８における突合せ面２２において、巻線溝２４．２４お
よびガラス充填溝２５．２５の内面をも含む全面に対し
て、金属磁性材が被着されることとなる。

そして、第４図に示されている如く、このように金属磁
性材２６が被着せしめられた第一のフェライトブロック
１８には、第二のフェライトブロック２０に対する突合
せ面上に、所定大きさの金属磁性層を形成するため、そ
の金属磁性材２６の表面上に、所定パターンのマスク２
８が形成される。

ここにおいて、かかるマスク２８は、少なくとも前記磁
気ギャップの対応部位において、前記トラック部１３の
幅と同等かそれよりも大きく、且つ前記ヨーク部１４の
幅よりも小さい幅をもって形成されることとなる。また
、該マスク２８は、ガラス充填溝２５の内面にも付与す
ることが可能である。

また、本実施例においては、かかるマスク２８が、第一
のフェライトブロック１８におけるパックギャップ対応
部位にも、前記ヨーク部１４の幅と同等かそれよりも小
さい幅、例えばヨーク部１４の９割程度の幅をもって、
形成されている。

なお、このような所定パターンのマスク２８の形成には
、スクリーン印刷等の公知の手法が、必要精度と経済性
の点から適宜に選択され、中でも、好適にはパターン精
度と工程の簡便さから、フォトレジストを用いた露光に
よる方法が採用され、例えば、レジストを第一のフェラ
イトブロック１８における突合せ面２２に塗布した後、
上記したギャップ形成部位およびパックギャップ形成部
位を残して、他の部分のレジストは除去し、金属磁性材
２６を露出させること等によって実施されることとなる
。また、かかるマスク２８には、ポジ型或いはネガ型の
フォトレジストや、真空蒸着、スパッタリング若しくは
ＣＶＤ法等によって形成されたＣｒ等の金属やＳｉｎ若
しくは５ｉ（ｈ等の各種のマスクを使用することが可能
であり、操作性・経済性と併せて、マスクの金属磁性材
２６表面への密着性等の点から適宜に選択されることと
なる。

そして、かかる所定パターンのマスク２８が付与された
、第一のフェライトブロック１８における金属磁性材２
６には、その露出せしめられた部分に対してエツチング
処理が施され、不要部分が除去される。これによって、
第５図及び第６図に示される如く、第一のフェライトブ
ロック１８の突合せ面２２における、磁気ギャップ対応
部位には、前記トラック部１３の幅と同等かそれよりも
大きく、且つ前記ヨーク部１４の幅と同等かそれよりも
小さい幅：ｄｌを有する第一の金属磁性膜３０が、また
パックギャップの対応部位には、ヨーク部１４の幅と同
等かそれよりも小さい幅：ｄｚを有する第二の金属磁性
膜３２が、それぞれ形成されることとなるのである。な
お、かかるエツチング処理は、通常の電解エツチング或
いは化学エツチングにて行なわれることとなる。

次いで、これら第一及び第二の金属磁性膜３０．３２が
被着された第一のフェライトブロック１８には、必要に
応じて、それら第一及び第二の金属磁性膜３０．３２の
表面に対して、通常の切削、研磨操作が施されて、所定
厚さに仕上げられる。

さらに、その後、第一及び第二のフェライトブロック１
８．２０における少なくとも磁気ギャップ対応部位、即
ち第一のフェライトブロック１８における第一の金属磁
性膜３０表面および第二のフェライトブロック２０にお
ける該第−の金属磁性膜３０に対する対向面の、少なく
とも何れか一方の面上に、Ｓｉｎ、、ガラス等のギャッ
プ形成用非磁性材が、所定厚さにスパッタリング等にて
適用され、所定厚さの非磁性層が形成される。なお、本
実施例では、第７図に示されているように、かかる非磁
性層３４が、第一のフェライトブロック１日の突合せ面
２２に対して、巻線溝２４の内面を除く略全面に亘って
、そこに被着された前記第一及び第二の金属磁性膜３０
．３２を被覆するようにして形成されることとなる。け
だし、巻線溝２４の内面にも、非磁性層を付与すること
も可能である。

そして、かかる非磁性層３４の形成後、第８図に示され
ているように、第一及び第二のフェライトブロック１８
．２０を、それぞれの突合せ面側で対向、整列せしめ、
かかる状態で、ガラス充填溝２５内にガラス棒を差し込
み、加熱、加圧することにより、かかるガラス棒を溶融
させて、それら第一及び第二のフェライトブロック１８
．２０を、それらの突合せ面間において接合する。例え
ば、軟化点４５０°Ｃのガラス棒を用い、５００〜６０
０°Ｃで接合するのである。即ち、このようにして得ら
れた、第一及び第二のフェライトブロック１８．２０か
ら成る接合体３６にあっては、第一のフェライトブロッ
ク１８に被着された第一の金属磁性膜３０と第二のフェ
ライトブロック２０との対向面間に、前記非磁性層３４
が介在せしめられると共に、金属磁性膜３０の存在しな
い対向面間が、補強ガラス３８にて充填され、一体的に
固着されているのである（第１０図及び第１１図参照）
。

さらに、このような接合体３６は、第８図に示される切
断線４０に沿って切断されて二分割され、これによって
、第９図に示されているように、それぞれ、一つの巻線
孔３９を有するブロック組合せ体４２の二つが形成され
る。

そして、かくして得られたブロック組合せ体４２には、
前記ディスク摺動側面１１を構成する切断面４４に対し
て、研磨が施され、磁気ギャップ対応部位が、所定のギ
ャップデプス長に仕上げられる。そして、第１０図及び
第１１図に示されている如く、かかる研磨加工により、
各磁気ギャップ対応部位において、前記第一の金属磁性
膜３０が表面に露呈され、それによって、前記非磁性層
３４に対応した間隙を有する磁気ギャップ４１が形成さ
れることとなるのである。

次いで、かかるブロック組合せ体４２には、空気ベアリ
ング部１０やトラック部１３、凸部１５をディスク摺動
面ＩＩ上に形成するために、第１２図に示される如く、
かかるディスク摺動面を構成する切断面４４上に、所定
パターンのマスク４６が形成される。

なお、かかるマスク４６としては、前記金属磁性膜３０
．３２の形成に際して用いられるマスク２８と同様、フ
ォトレジストを用いた露光による方法など、公知の各種
の形成手法および材料が採用可能であり、操作性および
経済性の点から適宜に選択されることとなる。

そして、このように所定パターンのマスク４６が付与さ
れたブロック組合せ体４２には、その露出せしめられた
部分に対して所定深さのエツチング処理が施され、これ
によって、第１３図及び第１４図に示されている如く、
マスクパターン（４６）に対応する凹凸パターンが形成
され、ここに、所定幅の空気ベアリング部１０、狭幅の
トラック部１３および該トラック部１３よりは幅広で、
空気ベアリング部１０よりは幅の狭い凸部１５が、それ
ぞれ、所定高さにおいて形成されるのである。

なお、かかるエツチング処理は、通常の電解エツチング
或いは化学エツチングにて行なわれることとなる。

また、そこにおいて、かかるエツチング処理にて、トラ
ック部１３の幅を所定寸法に仕上げることにより、該ト
ラック部１３における磁気ギャップの幅を規制するよう
にすることも可能であるが、特に好適には、上述の如き
エツチング処理に先立って、或いはエツチング処理の後
、第１５図に示されているように、各トラック部１３の
形成部位に対して、レーザ照射乃至はレーザ誘起エツチ
ング（反応液若しくは反応ガス中でのレーザ照射）によ
り、それぞれ、二条のトラック幅規制用溝４７．４７を
所定間隔をもって平行に形成することにより、磁気ギャ
ップの幅を規制することが望ましい。なお、かかるレー
ザ誘起エツチングの手法は、本願出願人が先に出願した
、特願昭６３−５３６７８号、特願昭６３−４７５４０
号および特願昭６３−２３９２４４号等に詳述されてお
り、ここでは省略することとする。

次いで、上述の如きエツチング処理が施されたブロック
組合せ体４２には、スライダの長さを決めるべく、その
幅方向の両端部を切断する加工が施され、例えば第１３
図に示される如く、かかるブロック組合せ体４２が切断
線４８．５０にて切断された後、第１６図に示されるよ
うに、空気ベアリング部１０の長手方向のリーディング
部に、それ−ぞれ、所定の傾斜角度と長さとを有するテ
ーバ部（リーディングランプ）５２が形成され、更にそ
の後、第１７図に示される如く、各トラック部１３およ
び凸部１５周りのフェライトブロックが、それらの周り
に微少領域を残して切除せしめられることとなり、それ
によって略Ｃ字形状を有する前記ヨーク部１４が形成せ
しめられる。

さらに、このようなヨーク部１４が形成されたブロック
組合せ体４２より、第１７図に示される如く、二つの空
気ベアリング部１Ｏ１ｌＯが対となるように、切断線５
４．５４に沿って、ブロック幅方向に平行に組合せ体４
２を所定の位置にて切断することにより、前記第１図に
示されている如き、本発明の目的とする磁気ヘッド用コ
アスライダ１６の少なくとも１個が、切り出されること
となるのである。

ところで、そこにおいて、上述の如き構造とされたブロ
ック組合せ体４２にあっては、トラック部１３における
磁気ギャップ４１の一方の対向面を構成する第一の金属
磁性膜３０が、ヨーク部１４よりも小さな幅をもって形
成されていることから、前述の如きヨーク部１４の形成
に際しての切断時にも、かかる第一の金属磁性膜３０が
切断、研磨されることがないのであり、それ故、そのよ
うな切断加工に際しての、該第−の金属磁性膜３０のフ
ェライトブロックからの剥離や、或いはフェライトブロ
ックにおけるクラックの発生が、極めて有効に回避され
得るのである。

そして、それ故、かかる製造手法に従えば、性能安定性
及び信軌性に優れた複合型磁気ヘッド用コアを、高い歩
留りをもって、有利に製造することができるのである。

また、前述の如き、本実施例においては、第一のフェラ
イトブロック１８におけるバックギャップ対応部位に被
着された第二の金属磁性膜３２にあっても、ヨーク部１
４よりも小さな幅をもって形成されていることから、そ
の切断が回避され得るのであり、それ故、かかるバック
ギャップ形成部位においても、金属磁性膜３２の剥離等
による不良が有利に防止され得るのである。

以上、本発明の具体的構成について、実施例を参照しつ
つ、詳述してきたが、本発明は、かかる実施例および上
述の具体的説明によって、何等限定して解釈されるもの
ではない。

例えば、バックギャップ形成部位への金属磁性膜３２の
配設は、必ずしも必要なものではなく、第１８図に示さ
れているように、バックギャップ形成部位において、第
一及び第二のフェライトブロック１８．２０を、非磁性
層３４等の接合層を介して、直接に接合するようにして
も良い。

また、第１９図に示されている如く、第二の金属磁性膜
３２を、パックギャップ形成部位における第一のフェラ
イトブロック１８の突合せ面上において、部分的に被着
せしめて、該突合せ面と第二のフェライトブロック２０
との間に、補強ガラス３８が充填された領域を形成する
ことにより、かかる第一及び第二のフェライトブロック
１８．２０の接合強度の向上を図ることも可能である。

さらに、本発明においては、前記実施例の製造工程にの
み限定されるものではなく、例えば、フェライトブロッ
ク１８．２０にお（する磁気ギャップ対応面上に、金属
磁性材２６を被着し、それにエツチング処理を施すこと
により、所定パターンの金属磁性膜３０を形成した後に
、かかるフェライトブロック１８．２０に対して巻線溝
２４を形成することも可能であり、或いはまた、フェラ
イトブロック１８．２０における磁気ギャップ形成面上
に金属磁性材２６を被着せしめた後、続いて、該金属磁
性材２６の上に、非磁性層３４を被着せしめ、その後、
かかる非磁性層３４の表面上にマスク２８を付与して、
エツチング操作を施すことにより、金属磁性膜３０およ
び非磁性層３４を、一体的な所定形状を有する積層構造
をもって形成すること等も可能である。なお、金属磁性
材２６及び非磁性層３４に対するエツチング手法として
は、例えば、イオンミリングによる連続エツチングや、
或いは非磁性層と金属磁性層とでエッチンダ液を換えて
行なう化学エツチング等が採用され得る。

また、前記実施例では、二つの磁気ギャップ４１を備え
た磁気ヘッド用コアスライダ１６の製造に際して、本発
明を適用したものの一例を示したが、一つ或いは三つ以
上の磁気ギャップを有する磁気ヘッド用コアスライダ１
６の製造に対して本発明を適用することも勿論可能であ
り、更に、本発明手法は、単に例示のＲＤＤ用ヘッドに
止まらず、ＦＤＤ用ヘッド、ＶＴＲ用ヘッド、更にはＤ
ＡＴ用ヘッド等の、各種複合型磁気ヘッドのためのコア
の製造に際して、何れも適用可能であることは、言うま
でもないところである。

その他、−々列挙はしないが、本発明は、当業者の知識
に基づいて、種々なる変更、修正、改良等を加えた態様
において実施され得るものであり、また、そのような実
施態様が、本発明の趣旨を逸脱しない限り、何れも、本
発明の範囲内に含まれるものであることは、言うまでも
ないところである。

（発明の効果） 上述の説明から明らかなように、本発明手法に従えば、
第一及び第二のフェライトブロックからなる組合せ体に
おいて、その磁気ギヤ・ノブの形成部位に配される金属
磁性層が、該磁気ギャップ形成部位における切出し幅よ
りも小さな幅をもって形成されており、かかる組合せ体
から目的とする複合型磁気ヘッド用コアを得るに際して
も、該金属磁性層に対する切断加工が回避され得るとこ
ろから、そのような切断加工に際しての、金属磁性層の
剥離やフェライトブロックにおけるクラ・ンクの発生が
、極めて有効に回避され得るのである。

そして、それ故、かかる本発明手法によれば、複合型磁
気ヘッド用コアを、優れた性能安定性と高い歩留りをも
って、工業上、有利に製造することができるのであり、
また製品の信頼性も極めて有効に向上され得ることとな
るのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明手法が有利に適用される固定磁気ディ
スク装置用の磁気ヘッド用コアスライダの一例を示す斜
視図である。また、第２図乃至第１７図は、それぞれ、
かかる第１図に示されているコアスライダを本発明手法
にて製造するに際しての各工程の説明図であって、第２
図は、組み合わされる第一及び第二のフェライトブロッ
クを示す斜視図であり、第３図は、それら第一及び第二
のフェライトブロックに対してコイル巻線用の溝加工が
施された状態を示す斜視図であり、第４図は、かかる第
一のフェライトブロックに被着された金属磁性材に対し
てマスクを付与した状態を示す斜視図であり、第５図は
、かかるマスクが施された第一のフェライトブロックに
対してエツチングを施すことにより金属磁性膜が形成さ
れた状態を示す斜視図であり、第６図は、かかる第一の
フェライトブロックにおける金属磁性膜の形成部位を拡
大して示す要部正面図であり、第７図は、かかる第一の
フェライトブロックに対して非磁性層が被着された状態
を示す要部拡大断面図であり、第８図は、第一及び第二
のフェライトブロックが一体化された接合体を示す斜視
図であり、第９図は、かかる接合体を切断することによ
って得られたブロック組合せ体を示す斜視図であり、第
１０図は、かかるブロック組合せ体の要部横断面図であ
り、第１１図は、第１０図におけるＸＩ−ＸＩ断面に相
当する要部断面図であり、第１２図は、かかるブロック
組合せ体に対してマスクを付与した状態を示す部分平面
図であり、第１３図及び第１４図は、かかるブロック組
合せ体に対してエツチング処理が施された状態を示す部
分平面図及び部分正面図であり、第１５図は、かかるブ
ロック組合せ体に対してレーザ誘起エツチングが施され
た状態を示す要部平面図であり、第１６図は、かかるブ
ロック組合せ体に対して切断操作およびテーパ加工の施
された状態を示す部分平面図であり、第１７図は、ヨー
ク部の切り出し状態及びコアスライダの切り出しのため
の切断部位を示すブロック組合せ体の部分平面図である
。更に、第１８図及び第１９図は、それぞれ、本発明手
法に従って磁気ヘッド用コアを製造するに際しての、別
の実施例における一工程を示す、前記第１０図に対応す
るブロック組合せ体の要部横断面図である。 １２ ４ ６ ８ ０ ２ ６ ０ ２ ４ ８ ４０゜ １ ６ ：スライダ本体　１３ニドラック部 ：ヨーク部 ：磁気ヘッド用コアスライダ ：第一のフェライトブロック ：第二のフェライトブロック ：突合せ面　　　２４：巻線溝 ：金属磁性材　　２８：マスク ：第一の金属磁性膜 ：第二の金属磁性膜 ：非磁性層　　　３６：接合体 ：補強ガラス ４８．５０．５４：切断線

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 第一及び第二のフェライトブロックを突き合わせて接合
   せしめる一方、それらフェライトブロックの突合せ部に
   、金属磁性層を介在して、所定間隙の磁気ギャップを形
   成してなる、環状の磁路を有する組合せ体を作成した後
   、該組合せ体を所定の位置にて切断することにより、か
   かる磁気ギャップの形成部位にギャップ幅規定用トラッ
   ク部を設けた複合型磁気ヘッド用コアを製造するに際し
   て、 前記二つのフェライトブロックの少なくとも一方のもの
   の他方のフェライトブロックに対する突合せ面における
   、前記磁気ギャップの形成部位において、前記金属磁性
   層を与える所定の金属磁性材を、前記トラック部の幅と
   同等かそれよりも大きく、且つ該磁気ギャップ形成部位
   における前記組合せ体の切断幅よりも狭い幅をもって、
   一体的に被着せしめた後、それら二つのフェライトブロ
   ックを、それらの突合せ面において接合することを特徴
   とする複合型磁気ヘッド用コアの製造方法。