JPS62270962A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
-
- G—PHYSICS
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- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
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- G03G5/144—Inert intermediate layers comprising inorganic material
Landscapes
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
1権分互
本発明は電子写真感光体に関し、詳しくはその下引層の
改良に関する。
改良に関する。
災米艮亙
普通紙複写機、レーザープリンター、ディジタル複写装
置などにおいて、電子写真感光体が汎く用いられている
。有機光導電体を用いた電子写真感光体は、その帯電性
の向上、あるいは感光層の基板に対する接着性の向上な
どの目的で、導電性支持体と感光層との間に比較的抵抗
の低い樹脂で下引層を設けている。
置などにおいて、電子写真感光体が汎く用いられている
。有機光導電体を用いた電子写真感光体は、その帯電性
の向上、あるいは感光層の基板に対する接着性の向上な
どの目的で、導電性支持体と感光層との間に比較的抵抗
の低い樹脂で下引層を設けている。
下引層に用いられる樹脂としては、ポリアミド樹脂(特
開昭58−30757号公報、特開昭58−98739
号公報)、アルコール可溶性ナイロン樹脂(特開昭60
−196766号公報)、水溶性ポリビニルブチラール
樹脂(特開昭60−232553号公報)などが提案さ
れている。
開昭58−30757号公報、特開昭58−98739
号公報)、アルコール可溶性ナイロン樹脂(特開昭60
−196766号公報)、水溶性ポリビニルブチラール
樹脂(特開昭60−232553号公報)などが提案さ
れている。
しかし、これらの樹脂は低湿時に抵抗が上昇し、感光体
を繰り返し使用していると残留電位が高くなって画像品
質が低下する。
を繰り返し使用していると残留電位が高くなって画像品
質が低下する。
低湿時における特性の劣化を防止する方法としては、ポ
リアミド樹脂と導電性ポリマーから下引層を形成するこ
とが提案されているが(特開昭58−95744号)、
感光体の感度低下などの悪影響を生じる。また、下引層
に導電性顔料を添加することも提案されているが(特開
昭58−93063号公報)、感光体の帯電性が低下し
てしまう。
リアミド樹脂と導電性ポリマーから下引層を形成するこ
とが提案されているが(特開昭58−95744号)、
感光体の感度低下などの悪影響を生じる。また、下引層
に導電性顔料を添加することも提案されているが(特開
昭58−93063号公報)、感光体の帯電性が低下し
てしまう。
発明の目的
本発明は、電子写真感光体の湿度依存性を改善すること
を目的とする。
を目的とする。
茜14日1文
本発明の電子写真感光体は、導電性支持体と感光層との
間に樹脂を主成分とする下引層を設けた電子写真感光体
において、下引層中にカルボン酸塩、リン酸塩、ホウ酸
塩または硫酸塩を含有せしめたことを特徴とする。
間に樹脂を主成分とする下引層を設けた電子写真感光体
において、下引層中にカルボン酸塩、リン酸塩、ホウ酸
塩または硫酸塩を含有せしめたことを特徴とする。
以下、添付図面に沿って本発明をさらに説明する。
第1図は、本発明の電子写真感光体の構成例を示す断面
図であり、導電性支持体11上に下引層13および感光
層15が設けられている。
図であり、導電性支持体11上に下引層13および感光
層15が設けられている。
下引層13は、樹脂中にカルボン酸塩、リン酸□塩、ホ
ウ酸塩または硫酸塩を分散することにより形成されてい
る。
ウ酸塩または硫酸塩を分散することにより形成されてい
る。
カルボン酸の具体例としては、1−ナフタレンカルボン
酸、p−アミノ安息香酸等の芳香族炭化水素カルボン酸
またはその誘導体;ステアリル酸、酢酸、アセチレンジ
カルボン酸、エチレンジアミン4酢酸のようなアミン化
合物カルボン酸等の脂肪族炭化水素またはその誘導体が
挙げられる。
酸、p−アミノ安息香酸等の芳香族炭化水素カルボン酸
またはその誘導体;ステアリル酸、酢酸、アセチレンジ
カルボン酸、エチレンジアミン4酢酸のようなアミン化
合物カルボン酸等の脂肪族炭化水素またはその誘導体が
挙げられる。
リン酸の具体例としては、1−ナフチルリン酸、カルバ
ニルリン酸、リン酸等のリン酸またはその誘導体;亜リ
ン酸;ポリリン酸;メタリン酸;ピロリン酸などが例示
される。
ニルリン酸、リン酸等のリン酸またはその誘導体;亜リ
ン酸;ポリリン酸;メタリン酸;ピロリン酸などが例示
される。
ホウ酸の具体例としては、ホウ酸、メタホウ酸などが挙
げられる。
げられる。
硫酸としては、硫酸;亜硫酸、ピロ硫酸、チオ硫酸など
が挙げられる。
が挙げられる。
塩の具体例としては、リチウム、カリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる
。
等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる
。
樹脂としては適宜のものを用いることができるが、その
上に感光層15を溶剤で塗布することを考え合わせると
、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂が望まし
い。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、
カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂;
共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコ
ール可溶性樹脂;ポリウレタン、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂等の三次元網目構造を形成する硬化型樹脂などが
挙げられる。
上に感光層15を溶剤で塗布することを考え合わせると
、一般の有機溶剤に対して耐溶剤性の高い樹脂が望まし
い。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、
カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂;
共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコ
ール可溶性樹脂;ポリウレタン、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂等の三次元網目構造を形成する硬化型樹脂などが
挙げられる。
カルボン酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩または硫酸塩は単独
であるいは2種以上併用して、下引層中に添加される。
であるいは2種以上併用して、下引層中に添加される。
この添加量は樹脂100重量部に対して0.1〜50重
量部が適当であり、好ましくは0.3〜20重量部であ
る。また、下引層には、入射光の多重反射による干渉で
生ずるモアレを防止するために、二酸化チタン、硫化亜
鉛、酸化亜鉛、鉛白等の白色顔料を添加してもよい。
量部が適当であり、好ましくは0.3〜20重量部であ
る。また、下引層には、入射光の多重反射による干渉で
生ずるモアレを防止するために、二酸化チタン、硫化亜
鉛、酸化亜鉛、鉛白等の白色顔料を添加してもよい。
下引層13の膜厚は0.2〜50μm程度が好適であり
、好ましくは1〜30μmである。
、好ましくは1〜30μmである。
本発明は電子写真感光体の下引層の改善を骨子とするも
のであり、導電性支持体や感光層は特に限定されるもの
ではないが、その代表的な構成について以下に説明する
。
のであり、導電性支持体や感光層は特に限定されるもの
ではないが、その代表的な構成について以下に説明する
。
感光層15は、電荷発生M17と電荷移動N19とが積
層されてなる。電荷発生層17は、電荷発生物質がバイ
ンダーに均一分散されて形成されている。
層されてなる。電荷発生層17は、電荷発生物質がバイ
ンダーに均一分散されて形成されている。
バインダーとしては、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ
エステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネー
トなどの縮合樹脂や、ポリビニルケトン、ポリスチレン
、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド
、ポリビニルブチラールなどのビニル重合体などが用い
られる。
エステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネー
トなどの縮合樹脂や、ポリビニルケトン、ポリスチレン
、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド
、ポリビニルブチラールなどのビニル重合体などが用い
られる。
電荷発生物質としては、例えば、シーアイピグメントブ
ルー25〔カラーインデックス(CI)21180)、
シーアイピグメントレッド41(CI 21200)、
シーアイアシッドレッド52(CI 45100)、シ
ーアイベーシックレッド3(CI 45210)、さら
に、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニン系顔料、
アズレニウム塩顔料、スクアリック系顔料、カルバゾー
ル骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号公
報に記載)、スチリルスチルベン骨格を有するアゾ顔料
(特開昭53−138229号公報に記載)、トリフェ
ニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−132
547号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格を有す
るアゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記載)、
オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−
12742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有する
アゾ顔料(特開昭54−22834号公報に記載)、ビ
ススチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−17
733号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に記
載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料(
特開昭54−17734号公報に記載)、カルバゾール
骨格を有するトリスアゾ顔料(特開昭57−19576
7号公報、同57−195768号公報に記載)等、さ
らに、シーアイピグメントブルー16(CI 7410
0)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウ
ン5(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI
73030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレッ
トB(バイオレット社製)、インダンスレンスカーレッ
トR(バイエル社製)等のペリレン系顔料等の有機顔料
、Se、Se合金、CdS、アモルファスSi等の無機
顔料を使用することができる。
ルー25〔カラーインデックス(CI)21180)、
シーアイピグメントレッド41(CI 21200)、
シーアイアシッドレッド52(CI 45100)、シ
ーアイベーシックレッド3(CI 45210)、さら
に、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニン系顔料、
アズレニウム塩顔料、スクアリック系顔料、カルバゾー
ル骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号公
報に記載)、スチリルスチルベン骨格を有するアゾ顔料
(特開昭53−138229号公報に記載)、トリフェ
ニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−132
547号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格を有す
るアゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記載)、
オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−
12742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有する
アゾ顔料(特開昭54−22834号公報に記載)、ビ
ススチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−17
733号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に記
載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料(
特開昭54−17734号公報に記載)、カルバゾール
骨格を有するトリスアゾ顔料(特開昭57−19576
7号公報、同57−195768号公報に記載)等、さ
らに、シーアイピグメントブルー16(CI 7410
0)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウ
ン5(CI 73410)、シーアイバットダイ(CI
73030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレッ
トB(バイオレット社製)、インダンスレンスカーレッ
トR(バイエル社製)等のペリレン系顔料等の有機顔料
、Se、Se合金、CdS、アモルファスSi等の無機
顔料を使用することができる。
バインダー樹脂は、電荷発生物質100重量部に対して
5〜100重量部用いるのが適当であり、好ましくは1
0〜50重量部である。
5〜100重量部用いるのが適当であり、好ましくは1
0〜50重量部である。
電荷発生M17の膜厚は、 0.05〜1μm程度が適
当であり、好ましくは0.1〜0.5μmである。
当であり、好ましくは0.1〜0.5μmである。
電荷移動層19は、電荷移動物質およびバインダーを適
当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層17上
に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要に
より可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる。
当な溶剤に溶解ないし分散し、これを電荷発生層17上
に塗布、乾燥することにより形成できる。また、必要に
より可塑剤やレベリング剤等を添加することもできる。
電荷移動物質としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール
およびその誘導体、ポリ−ツーカルバゾリルエチルグル
タメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド
縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン
誘導体9−(p−ジエチルアミノスチリル)アントラセ
ン、1,1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニル)
プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン
、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導
体等の電子供与性物質が挙げられる。
およびその誘導体、ポリ−ツーカルバゾリルエチルグル
タメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド
縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン
誘導体9−(p−ジエチルアミノスチリル)アントラセ
ン、1,1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニル)
プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン
、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導
体等の電子供与性物質が挙げられる。
バインダーとしてはポリスチレン、スチレン−アクリロ
ニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢
酸ビニル。
ニトリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢
酸ビニル。
ポリ塩化ビニリデン、ボリアリレート樹脂、フェノキシ
樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチル
セルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホ
ルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカル
バゾール、アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂
、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アル
キレッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げら
れる。
樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチル
セルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホ
ルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカル
バゾール、アクリル樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂
、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アル
キレッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げら
れる。
電荷移動層19の厚さは、5〜100μm程度が適当で
ある。
ある。
導電性支持体11としてはアルミニウム、ニッケル、ク
ロム、ニクロム、銅、酸化スズ、酸化インジウム等をプ
ラスチックフィルムに蒸着したもの、アルミニウム、ニ
ッケル、ステンレス等の板およびそれらをり、1..1
.1.、押出し、引抜き等の工法で素管化後、切削、超
仕上げ、研摩等で表面処理した管等を使用することがで
きる。
ロム、ニクロム、銅、酸化スズ、酸化インジウム等をプ
ラスチックフィルムに蒸着したもの、アルミニウム、ニ
ッケル、ステンレス等の板およびそれらをり、1..1
.1.、押出し、引抜き等の工法で素管化後、切削、超
仕上げ、研摩等で表面処理した管等を使用することがで
きる。
また、感光層15上に絶縁層を設けたり、感光層を単層
として形成することもできる。
として形成することもできる。
発明の効果
本発明によれば、下引層にカルボン酸塩、リン酸塩、ホ
ウ酸塩または硫酸塩を添加することにより、高感度で湿
度依存性および疲労の少ない電子写真感光体が実現でき
る。
ウ酸塩または硫酸塩を添加することにより、高感度で湿
度依存性および疲労の少ない電子写真感光体が実現でき
る。
実施例1
アルコール可溶性共重合ナイロン〔アミランCM−40
00(東し■製))Logを100gのメタノールに溶
解した。これに安息香酸アンモニウム0.4gを加え、
ボールミルにて5時間分散を行った。得られた塗工液を
厚さ0.2mmのアルミニラム板の表面に浸漬塗工し、
120°Cで5分間乾燥を行った。こうして得られた下
引層は、膜厚が約2μmであった。次にポリエステル樹
脂〔バイロン200(東洋紡績■製)〕5gをテトラヒ
ドロフラン150gに溶解し、これに下記構造式のビス
アゾ顔料10gを加えボールミルにて、24時間分散を
行った。これを容器に取り出し固型分が1wt%になる
ようにさらにテトラヒドロフランを添加した。
00(東し■製))Logを100gのメタノールに溶
解した。これに安息香酸アンモニウム0.4gを加え、
ボールミルにて5時間分散を行った。得られた塗工液を
厚さ0.2mmのアルミニラム板の表面に浸漬塗工し、
120°Cで5分間乾燥を行った。こうして得られた下
引層は、膜厚が約2μmであった。次にポリエステル樹
脂〔バイロン200(東洋紡績■製)〕5gをテトラヒ
ドロフラン150gに溶解し、これに下記構造式のビス
アゾ顔料10gを加えボールミルにて、24時間分散を
行った。これを容器に取り出し固型分が1wt%になる
ようにさらにテトラヒドロフランを添加した。
こうして得られた電荷発生層用塗工液を前記下引層上に
浸漬塗工し、120℃で5分間乾燥を行った。このよう
にして得られた電荷発生層の膜厚は0.3μmであった
。
浸漬塗工し、120℃で5分間乾燥を行った。このよう
にして得られた電荷発生層の膜厚は0.3μmであった
。
さらに、ポリカーボネート樹脂〔パンライトに−130
0(帝人n製))12gを90gのテトラヒドロフラン
に溶解し、これに下記構造式 の電荷移動物質8gとシリコンオイルKF−50〔信越
化学工業@製〕、2mgとを加え溶解した。
0(帝人n製))12gを90gのテトラヒドロフラン
に溶解し、これに下記構造式 の電荷移動物質8gとシリコンオイルKF−50〔信越
化学工業@製〕、2mgとを加え溶解した。
こうして得られた電荷移動層塗工液を前記電荷発生層上
に浸漬塗工し120℃で15分間乾燥を行った。こうし
て得られた電荷移動層の膜厚は18μmであった。
に浸漬塗工し120℃で15分間乾燥を行った。こうし
て得られた電荷移動層の膜厚は18μmであった。
比較例1
実施例1の下引層より安息香酸アンモニウムを除いた以
外は実施例1とまったく同様に試料を作成した。
外は実施例1とまったく同様に試料を作成した。
実施例2
ミルクカゼイン10gと水100 gと濃アンモニア水
0.5m Qとを加え攪拌しながら70℃に加熱し、カ
ゼイ2を溶解した。これにホウ酸ナトリウム0.5gを
加え溶解した。得られた下引層用塗工液を厚さ0.2m
mのアルミニウム板の表面に浸漬工法で塗布し、110
℃で5分間乾燥を行った。
0.5m Qとを加え攪拌しながら70℃に加熱し、カ
ゼイ2を溶解した。これにホウ酸ナトリウム0.5gを
加え溶解した。得られた下引層用塗工液を厚さ0.2m
mのアルミニウム板の表面に浸漬工法で塗布し、110
℃で5分間乾燥を行った。
こうして得られた下引層は厚さが1.5μmであった。
次に、ブチラール樹脂〔エスレックBL−S(積木化学
■1))5gをシクロヘキサノン150gのトリスマゾ
顔料10gを加えて3時間分散を行なった。これを容器
に取り出し、固型分が1.5wt%になるように攪拌し
ながらシクロヘキサノンで希釈した。こうして得られた
電荷発生層塗工液を前記下引層上に浸漬塗工し、120
℃で5分間乾燥して膜厚0.2μmの電荷発生層を形成
した。
■1))5gをシクロヘキサノン150gのトリスマゾ
顔料10gを加えて3時間分散を行なった。これを容器
に取り出し、固型分が1.5wt%になるように攪拌し
ながらシクロヘキサノンで希釈した。こうして得られた
電荷発生層塗工液を前記下引層上に浸漬塗工し、120
℃で5分間乾燥して膜厚0.2μmの電荷発生層を形成
した。
さらに、実施例1と同じ電荷移動層を電荷発生層上に設
けて1本発明の電子写真感光体とした。
けて1本発明の電子写真感光体とした。
比較例2
実施例2の下引層よりホウ酸ナトリウムを除いた以外は
実施例2とまったく同様に試料を作成した。
実施例2とまったく同様に試料を作成した。
実施例3
アクリルポリオール〔サーモラックU−230A(綜研
化学■製))50gにメチルエチルケトン150gと、
硫酸カリウム0.3gと、酸化チタン粉末〔タイベーク
R780(石原産業■製)325gとを加え。
化学■製))50gにメチルエチルケトン150gと、
硫酸カリウム0.3gと、酸化チタン粉末〔タイベーク
R780(石原産業■製)325gとを加え。
ボールミルで12時間分散した。次に、イソシアネート
としてコロネートHL(日本ポリウレタン■製〕30を
加え30分間分散した。こうして得られた下引層用塗工
液を厚さ0.2mmのアルミニウム板の表面に浸漬塗工
法で塗布し、100℃で60分間乾燥、硬化した。こう
して得られた下引層は厚さが3μmであった。
としてコロネートHL(日本ポリウレタン■製〕30を
加え30分間分散した。こうして得られた下引層用塗工
液を厚さ0.2mmのアルミニウム板の表面に浸漬塗工
法で塗布し、100℃で60分間乾燥、硬化した。こう
して得られた下引層は厚さが3μmであった。
次に、実施例1と同様に電荷発生層を設けた。
さらに、ポリカーボネート樹脂〔パンライトに−130
0(帝人曲製))12gを90gのテトラヒドロフラン
に溶解し、これを下記構造式 の電荷移動物質8gとシリコンオイルKF−50〔信越
化学工業■製) 2 mgとを加え、溶解した。
0(帝人曲製))12gを90gのテトラヒドロフラン
に溶解し、これを下記構造式 の電荷移動物質8gとシリコンオイルKF−50〔信越
化学工業■製) 2 mgとを加え、溶解した。
こうして得られた電荷移動層用塗工液を前記電荷発生層
上に浸漬塗工し、120℃で15分間乾燥を行った。こ
うして得られた電荷移動層の膜厚は20μmであった。
上に浸漬塗工し、120℃で15分間乾燥を行った。こ
うして得られた電荷移動層の膜厚は20μmであった。
比較例3
実施例3の下引層から硫酸カリウムを除いた以外は実施
例3とまったく同様に試料を作製した。
例3とまったく同様に試料を作製した。
実施例4
アルコール可溶性ナイロン〔ダイアミドX−1874(
ダイセル化学■製)110 g ’r 100 gのメ
タノールに溶解した。これにリン酸リチウム0.5gと
酸化チタン〔タイベークW−10(石原産業■製))1
0gとを加え、ボールミルにて、12時間分散した。こ
うして得られた下引層用塗工液を厚さ0.2mmのアル
ミニウム板の表面に浸漬塗工法で塗布し、120℃で5
分間乾燥を行った。こうして得られた下引層の膜厚は約
3μmであった。
ダイセル化学■製)110 g ’r 100 gのメ
タノールに溶解した。これにリン酸リチウム0.5gと
酸化チタン〔タイベークW−10(石原産業■製))1
0gとを加え、ボールミルにて、12時間分散した。こ
うして得られた下引層用塗工液を厚さ0.2mmのアル
ミニウム板の表面に浸漬塗工法で塗布し、120℃で5
分間乾燥を行った。こうして得られた下引層の膜厚は約
3μmであった。
次に、実施例2と同様に電荷発生層を設けた。
さらに、ポリカーボネート樹脂〔パンライトK −13
00(帝人■製))12gを90gのテトラヒドロフラ
ンに溶解し、これに下記構造式 の電荷移動物質7gを溶解した。こうして得られた電荷
移動用塗工液を前記電荷発生層上に浸漬塗工し、120
℃で15分間乾燥を行った。こうして得られた電荷移動
層の膜厚は20μmであった。
00(帝人■製))12gを90gのテトラヒドロフラ
ンに溶解し、これに下記構造式 の電荷移動物質7gを溶解した。こうして得られた電荷
移動用塗工液を前記電荷発生層上に浸漬塗工し、120
℃で15分間乾燥を行った。こうして得られた電荷移動
層の膜厚は20μmであった。
比較例4
実施例4の下引層よりリン酸リチウムを除いた以外は、
実施例4とまったく同様に試料を作成した。
実施例4とまったく同様に試料を作成した。
以上のようにして得られた試料について、エレクトロス
タティックペーパーアナライザーS P−428(■川
口電気製作所〕を用いて、帯電−暗減衰−露光プロセス
を適用した。印加電圧−6KVで10秒間帯電させ、1
0秒間暗減衰させたのち、露光強度5 luxで15秒
間露光し、以下の定義で電位保持率、感度および残留電
位を評価した。
タティックペーパーアナライザーS P−428(■川
口電気製作所〕を用いて、帯電−暗減衰−露光プロセス
を適用した。印加電圧−6KVで10秒間帯電させ、1
0秒間暗減衰させたのち、露光強度5 luxで15秒
間露光し、以下の定義で電位保持率、感度および残留電
位を評価した。
感度:露光後に電位が171Oに低下する必要な露光量
残留電位;露光15秒後の電位
また、上記条件の帯電と露光とを同時に連続30分間行
って感光体を疲労させたのち、さらに上記と同様にして
感光体特性を評価した。
って感光体を疲労させたのち、さらに上記と同様にして
感光体特性を評価した。
さらに、この測定を常湿(20℃−65%RH)および
低湿(20℃−15%RH)の環境条件下に行い、環境
依存性を調べた。
低湿(20℃−15%RH)の環境条件下に行い、環境
依存性を調べた。
以上の結果を表−1に示した。
(以下余白)
第1図は、本発明の電子写真感光体の構成例を示す断面
図である。 11・・導電性支持体 13・・・下 引 層15
・・・感 光 層 手続補正書 ( 昭和61年7月9日 昭和61年特許願第115762号 2、発明の名称 電子写真感光体 3、補正をする者 代表者 浜 1) 広 4、代理人 東京都千代田区神田小川町1−11 平岡ビル 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ;、補正の内容 (1) 明細書第3項18行〜第4項1行に「アセチ
レンジカルボン酸・・・・・・挙げられる。」とあるの
を次の通りに補正する。 rアセチレンジカルボン酸等の脂肪族炭化水素カルボン
酸またはその誘導体1その他エチレンジアミン4酢酸等
のアミン化合物カルボン酸等などが挙げられる。」 (2) 同第13頁下から8行に「トリスマゾ顔料」
とあるのを、rトリスアゾ顔料Jに補正する。 (3) 同第14頁14行に「30を加え」とあるの
を、(r30gを加え」に補正する。 以上
図である。 11・・導電性支持体 13・・・下 引 層15
・・・感 光 層 手続補正書 ( 昭和61年7月9日 昭和61年特許願第115762号 2、発明の名称 電子写真感光体 3、補正をする者 代表者 浜 1) 広 4、代理人 東京都千代田区神田小川町1−11 平岡ビル 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ;、補正の内容 (1) 明細書第3項18行〜第4項1行に「アセチ
レンジカルボン酸・・・・・・挙げられる。」とあるの
を次の通りに補正する。 rアセチレンジカルボン酸等の脂肪族炭化水素カルボン
酸またはその誘導体1その他エチレンジアミン4酢酸等
のアミン化合物カルボン酸等などが挙げられる。」 (2) 同第13頁下から8行に「トリスマゾ顔料」
とあるのを、rトリスアゾ顔料Jに補正する。 (3) 同第14頁14行に「30を加え」とあるの
を、(r30gを加え」に補正する。 以上
Claims (1)
- 1、導電性支持体と感光層との間に樹脂を主成分とする
下引層を設けた電子写真感光体において、前記下引層中
にカルボン酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩または硫酸塩を含
有せしめたことを特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61115762A JPH0772806B2 (ja) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | 電子写真感光体 |
US07/049,298 US4830943A (en) | 1986-05-15 | 1987-05-13 | Bisazo compounds and electrophotographic photoconductors comprising the bisazo compounds |
DE19873716975 DE3716975A1 (de) | 1986-05-20 | 1987-05-20 | Elektrophotographischer photoleiter |
US07/193,538 US4871635A (en) | 1986-05-20 | 1988-05-13 | Electrophotographic photoconductor layered element comprising salt material undercoat layer on conductive support |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61115762A JPH0772806B2 (ja) | 1986-05-20 | 1986-05-20 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62270962A true JPS62270962A (ja) | 1987-11-25 |
JPH0772806B2 JPH0772806B2 (ja) | 1995-08-02 |
Family
ID=14670413
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61115762A Expired - Fee Related JPH0772806B2 (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-20 | 電子写真感光体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4871635A (ja) |
JP (1) | JPH0772806B2 (ja) |
DE (1) | DE3716975A1 (ja) |
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US5130216A (en) * | 1988-09-22 | 1992-07-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive member for electrophotography |
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KR100677605B1 (ko) * | 2005-07-28 | 2007-02-02 | 삼성전자주식회사 | 반복사용에 의한 화상 열화를 억제할 수 있는 전자사진감광체 및 이를 채용한 전자사진 화상형성장치 |
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1986
- 1986-05-20 JP JP61115762A patent/JPH0772806B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-05-20 DE DE19873716975 patent/DE3716975A1/de active Granted
-
1988
- 1988-05-13 US US07/193,538 patent/US4871635A/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3716975C2 (ja) | 1989-11-30 |
JPH0772806B2 (ja) | 1995-08-02 |
DE3716975A1 (de) | 1987-11-26 |
US4871635A (en) | 1989-10-03 |
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