JPS6214831B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6214831B2 JPS6214831B2 JP51089488A JP8948876A JPS6214831B2 JP S6214831 B2 JPS6214831 B2 JP S6214831B2 JP 51089488 A JP51089488 A JP 51089488A JP 8948876 A JP8948876 A JP 8948876A JP S6214831 B2 JPS6214831 B2 JP S6214831B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ring
- volume phase
- hologram
- phase hologram
- halogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 15
- 206010042674 Swelling Diseases 0.000 claims description 14
- 230000008961 swelling Effects 0.000 claims description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 claims description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 2
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 claims description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical group N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 claims 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 claims 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical group O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical group 0.000 claims 1
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 37
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 26
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 21
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N iodoform Chemical compound IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- -1 vinyl compound Chemical class 0.000 description 5
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical compound C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- VHHHONWQHHHLTI-UHFFFAOYSA-N hexachloroethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(Cl)(Cl)Cl VHHHONWQHHHLTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 3
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- POJPQMDDRCILHJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,2-hexabromoethane Chemical compound BrC(Br)(Br)C(Br)(Br)Br POJPQMDDRCILHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGQURDGVBSSDNF-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetraiodoethene Chemical compound IC(I)=C(I)I ZGQURDGVBSSDNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 2-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920000314 poly p-methyl styrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 230000002522 swelling effect Effects 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- WHOZNOZYMBRCBL-OUKQBFOZSA-N (2E)-2-Tetradecenal Chemical compound CCCCCCCCCCC\C=C\C=O WHOZNOZYMBRCBL-OUKQBFOZSA-N 0.000 description 1
- BASDZFQDZBHCAV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-triiodoethane Chemical compound CC(I)(I)I BASDZFQDZBHCAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 1
- IZMZREOTRMMCCB-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichloro-2-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(C=C)=C1 IZMZREOTRMMCCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMYOHQBLOZMDLP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-hydroxy-3-piperidin-1-ylpropoxy)phenyl]-3-phenylpropan-1-one Chemical compound C1CCCCN1CC(O)COC1=CC=CC=C1C(=O)CCC1=CC=CC=C1 DMYOHQBLOZMDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDLSRPPQHWPKRZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-9h-carbazole;methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C12=CC=CC=C2NC2=C1C=CC=C2C=C PDLSRPPQHWPKRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGDLZDCWMRPMGL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(C=C)C(=O)C2=C1 IGDLZDCWMRPMGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical class [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 3,3'-diaminobenzidine Chemical compound C1=C(N)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(N)=C1 HSTOKWSFWGCZMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical compound CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LULCPJWUGUVEFU-UHFFFAOYSA-N Phthiocol Natural products C1=CC=C2C(=O)C(C)=C(O)C(=O)C2=C1 LULCPJWUGUVEFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N Salicylic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001079 Thiokol (polymer) Polymers 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZSUOQDIYKMPMT-UHFFFAOYSA-N argon krypton Chemical compound [Ar].[Kr] WZSUOQDIYKMPMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOHCVVJGGSABQY-UHFFFAOYSA-N carbon tetraiodide Chemical compound IC(I)(I)I JOHCVVJGGSABQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHESUNXRPBHDQM-UHFFFAOYSA-N diphenyl benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC(C(=O)OC=2C=CC=CC=2)=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 FHESUNXRPBHDQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005546 furfural resin Polymers 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 150000007965 phenolic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229940044654 phenolsulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N sulfamide Chemical compound NS(N)(=O)=O NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S359/00—Optical: systems and elements
- Y10S359/90—Methods
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/126—Halogen compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/128—Radiation-activated cross-linking agent containing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
本発明は体積位相ホログラムの製造方法に関す
る。 ホログラフイーは、レーザーのように干渉性良
好な波を物体に照射し、振幅と位相とが、その物
体の形状に応じて変調され、反射又は透過したも
のを記録(=ホログラム)して、そのホログラム
に再びレーザーを照射して元の物体の光学像を再
生する技術である。斯かるホログラフイー技術に
関する研究の進展に伴ない現在では、その記録用
材料に対する要求もかなり明確なものとなり、漂
白処理銀塩、フオトレジスト、サーモプラスチツ
ク、重クロム酸ゼラチン、無機ガラス系材料、強
誘電体等、多くの材料が提案され、その特性の研
究が進んでいる。 ところで、ホログラム記録用材料の持つべき特
性としては、 (1) レーザー感度、特に可視波長域にレーザー感
度を有し、且つ、高感度であること、 (2) 高解像力を有すること、 (3) ホログラムの回折効率が高いこと、 (4) ホログラムのノイズが少ないこと、 (5) ホログラムが安定していること、 (6) 記録及び再生操作が容易であること、等かな
り厳しいものが要求されている。 既知ホログラム記録用材料であつて、これ等の
特性を全て満足するものは勿論、部分的にせよ、
実用化の域に達する性質を備えた材料は極めて少
ない。 中では、漂白処理銀塩、重クロム酸ゼラチンが
ある程度実用化の域に達したものではあるが、そ
れでも、前者に於ては、通常処理の他、漂白処理
操作が必要であり、且つ得られたホログラムの耐
光性が劣ると云う不都合がある、又、後者に於い
ては、得られたホログラムの耐湿性が悪く、保存
安定性の面で大きな欠陥が指摘されている。 而して、本発明に於ては、斯かる従来の欠点を
解決すべく記録材料の改善並びに製造技術の改良
をなして、優れた特性のホログラムを提供せんと
するものである。 即ち、本発明の目的は特定のホログラム記録担
体を使用し、特定の方法により経時安定性、特に
高い耐湿性を有し、高解像度および高回折効率の
体積位相ホログラムを提供することである。 詳しく述べれば、本発明において使用し、本発
明を第1に特徴づける特性のホログラム記録担体
とは、ラジカルによつて置換可能な反応位置を有
する芳香環またはヘテロ環を単位構造中に含む水
不溶性重合体を主体に構成されており、且つ少な
くとも一分子中に一箇所以上同一炭素にハロゲン
原子が2個以上置換された構造を有するハロゲン
含有化合物によつて輻射線に対して活性とされた
記録担体であり、本発明を第2に特徴づける特定
の方法とは、上記のホログラム記録担体を輻射線
の干渉パターンに露出する工程と、第1の溶媒で
該記録担体中のハロゲン含有化合物を除去すると
ともに記録担体の厚み全体を膨潤化処理した後、
第2の溶媒で該記録担体の厚み全体を収縮化処理
して、該記録担体の光透過率を80.5%以上とする
工程とからなるものである。このような特定の記
録担体および方法を使用することによつて本発明
の目的が達成された。 以下、具体例を挙げつつ本発明を詳細に説明す
る。 本発明に於てホログラム記録用材料の主体をな
すものはその単位構造中に、ラジカルによつて置
換可能な反応位置を有する芳香環又はヘテロ環を
含んでなる不水溶性重合体であり、その1例は、
構造中に芳香環又はヘテロ環を有するビニル化合
物の付加重合体、又は付加共重合体、或いは、そ
の混合物である。 他の例は、単量体成分の少なくとも1種が芳香
環又はヘテロ環を有する化合物であるところの縮
合重合体である。なお、この場合、芳香環又はヘ
テロ環は、ハロゲン、アルキル、アミノ、ニト
ロ、シアノ、チオシアノ、カルボキシル、アルコ
キシ、アシル、スルホニル、水素基等の置換基で
置換されているものであつても良い。更に本発明
に於て使用される重合体の具体例を挙げれば以下
のとおりである。 ポリスチレン、ポリ―P―メチルスチレン、ポ
リ―α―メチルスチレン、ポリ―P―ジビニルベ
ンゼン、ポリ―2,5―ジクロルスチレン、スチ
レン―アクリロニトリル共重合体、スチレン―ジ
ビニルベンゼン共重合体、スチレン―ブタジエン
共重合体、スチレン―無水マレイン酸共重合体、
スチレン―塩化ビニリデン共重合体、スチレン―
アクリルエステル―アクリルアミド共重合体、ス
チレン―不飽和ポリエステル共重合体、スチレン
―グリシジルメタアクリレート共重合体、ハロゲ
ン化スチレン重合体、スチレン化油、ポリスチレ
ン/スチレン―ブタジエン共重合体混合物、
ABS樹脂、ポリビニルアニソール、ポリビニル
アニリン、ポリビニルベンゾエート、ポリビニル
スチルベン、ポリビニルハイドロキノン、ポリ―
α,β―ビニルナフタリン、ポリアセナフチレ
ン、ポリビニルアンスラセン、ポリビニルフエナ
ントレン、ポリビニルピレン、ポリビニルピリジ
ン、ポリビニルピロリドン、ポリ―N―ビニルフ
タルイミド、ポリビニルインデン、ポリビニルフ
ルオレン、ポリビニルフラン、ポリビニルベンゾ
フラン、ポリビニルインドール、ポリビニルイン
ドリン、ポリビニルオキサゾール、ポリビニルベ
ンゾオキサゾール、ポリビニルチアゾール、ポリ
ビニルベンゾチアゾール、ポリビニルチオフエ
ン、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピロー
ル、ポリビニルピラゾール、ポリビニルトリアゾ
ール、ポリビニルテトラゾール、ポリビニルベン
ズイミダゾール、ポリビニルキノリン、ポリビニ
ルジベンゾフラン、ポリビニルチアジン、ポリビ
ニルピリダジン、ポリビニルピリミジン、ポリビ
ニルピラジン、ポリビニルトリアジン、ポリビニ
ルカルバゾール、ビニルカルバゾール―スチレン
共重合体、ビニルカルバゾール―塩化ビニリデン
共重合体、ビニルカルバゾール―スチレン共重合
体、ビニルカルバゾール―メチルメタアクリレー
ト、ビニルカルバゾール―ビニルアンスラセン共
重合体、ビニルカルバゾール―ビニルピリジン共
重合体、ビニルカルバゾール―アクリレート共重
合体、ビニルカルバゾール―エチルアクリレート
共重合体、ビニルカルバゾール―アクリロニトリ
ル共重合体、ビニルカルバゾール―ブチルアクリ
レート共重合体、ビニルカルバゾール―ニトロビ
ニルカルバゾール共重合体、ニトロ化ポリビニル
カルバゾール、ポリビニルアミノカルバゾール、
ビニルカルバゾール―N―メチルアミノビニルカ
ルバゾール共重合体、ハロゲン置換ポリビニルカ
ルバゾール、ビニルカルバゾール―ジブロムビニ
ルカルバゾール共重合体、ポリヨードビニルカル
バゾール、ポリベンジリデンビニルカルバゾー
ル、ポリプロペニルカルバゾール、クマロン樹
脂、クマロン―インデン樹脂、フエノール―ホル
マリン樹脂、クレゾール―ホルマリン樹脂、変性
フエノール樹脂、フエノール―フルフラール樹
脂、レゾルシン樹脂、スルホアミド樹脂、アニリ
ン樹脂、キシレン樹脂、トルエン樹脂、グリプタ
ル樹脂、変性グリプタル樹脂、テレフタル酸系樹
脂、イソフタル酸系樹脂、マレイン酸樹脂、ポリ
(1,4―シクロヘキシレンジメシチレン)テレ
フタレート、ポリジアリルフタレート、ポリアリ
ルホスホネート、ポリカーボネート、ポリアリル
―ジグリコールカーボネート、ポリ燐酸エステ
ル、ベンゾフラン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ
尿素樹脂、エポキシ樹脂、フエノキシ型樹脂、ポ
リフエニレンオキサイド、ハロゲン置換ポリフエ
ニレンオキサイド、ポリフエニレン、ポリ―P―
キシリレン(パリレンN)、置換ポリキシリレ
ン、フエノールスルホン酸樹脂、フエノールカル
ボン酸樹脂、チオコール樹脂、ポリチオコール―
スチレン樹脂、 なお、上記重合体は2種以上混合して、使用す
ることも可能である。中でも、本発明に於ては、
単位構造中にカルバゾール環を有する重合体を使
用した場合、高回折効率のホログラムが得易く好
ましい。 本発明に於てホログラム記録用材料は予めハロ
ゲン含有化合物によつて、輻射線に対して活性に
されている必要がある。 本発明に使用されるハロゲン含有化合物は、少
なくとも一分子中に一箇所以上、同一炭素にハロ
ゲン原子が2個以上置換された構造を有する化合
物であり、斯かる化合物は前述の重合体と共存し
て比較的高感度のホログラム記録用感材を構成す
る。中でも沃素含有化合物は、沃素原子の重原子
効果の為か極めて高感度の感材を構成し、且つ、
その本来の色調が黄色〜橙色の為に感材の感度が
可視波長域にも十分あり、本発明に於ては、特に
好適な化合物である。 以下、本発明に係るハロゲン含有化合物の具体
例を列挙する。ただし、これ等に限定されるもの
ではない。 CI4、CHI3、CBr4、CHBr3、CClI3、CBrI3、
CBr3Cl、CBr3I、CBr2I2、CH2I2、CHBrI2、
CHClI2、CCl2I2、C2Cl6、C2BrCl5、CH3CBr3、
CH2BrCBr3、CHBr2CBr3、CBr3CBr3、
CBr3CH2OH、CH3CI3、CH3CCl2CCl3、
CCl3CH2CCl3、CHCl2CCl2CCl3、
CCl3CHClCCl3、CCl3CCl2CCl3、CH3CBr2CH3、
CH3CHBrCBr3、CH2BrCH2CBr3、
CH3CBr2CHBr2、CH2BrCBr2CH2Br、
CBr3CH2CBr3、CBr3CHBrCBr3、
CHBr2CH2CHBr2、CHBr2CHBrCHBr2、
CHBr2CBr2CHBr2、CH3CH2CBr3、
CH3CHBrCHBr2、CH3CI2CH3、CH3CHCH2I、
CH3CI2CHI2、C2H5CHI2、CHBr2―CHOH―
CHBr2、CH3CHOHCBr3、C2H5CI3、CClB1=
CClBr、CBr2=CBr2、CH2=CI2、CClI=CClI、
CBrI=CBrI、CI2=CI2、C6H5CBr3、
C6H5CCl3、C6H5COCBr3、C6H5COCCl3、
CBr3SOCBr3、CBr3SOCHBr2、CBr3SO2CBr3、
C6H5SO2CBr3、CHBr2SO2CHBr2、
CH2BrSO2CHBr2、P―Cl―C6H4SO2CCl3、P―
NO2―C6H4SO2CBr3、2―トリクロロメチルベ
ンゾチアゾリルスルフオン―2,4,6―ジメチ
ルピリミジル―2―トリブロモメチルスルフオ
ン、2,4―ジクロロフエニルトリクロロメチル
スルフオン、2―メチル―4―クロロフエニルト
リクロロメチルスルフオン、2,5―ジメチル―
4―クロロフエニルトリクロロメチルスルフオ
ン、2,4―ジクロロフエニルトリブロモメチル
スルフオン。 本発明に於て、ホログラム記録用感材は、上述
の重合体及び、ハロゲン含有化合物を所定の割合
で適宜、溶媒に溶解させるか、分散液とした後、
ガラス、透明性樹脂フイルム等の支持体上に塗膜
として得るか、又はそれ自身でフイルム化して得
られる。この場合、ハロゲン含有化合物は重合体
に対して1〜200重量%、特に好ましくは5〜50
重量%の範囲で使用されるのがよい。又、使用す
る重合体にフイルム形成能が乏しい場合には、可
塑剤を、更にハロゲン含有化合物が安定性に欠け
る場合には酸化防止剤を別途加えてもよい。 可塑剤としては、タ―フエニル、塩素化ジフエ
ニル、塩素化ナフタリン、塩素化パラフイン、チ
オコール樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ
樹脂、クマロン―インデン樹脂等を使用し、又、
酸化防止剤としては置換フエノール類等、種々公
知の酸化防止剤が使用できる。 このようにして作成された感材はたとえば4416
Å、4579Å、4762Å、4765Å、4880Å、5145Å、
5208Å、5308Å、などに輝線を持つレーザーに対
し感度を有しており、かつその感度も一例として
4880Åのアルゴンレーザーの輝線に対し、
10mJ/cm2のエネルギーで実用域の回折効率を与
える等優れた性質を有するものである。 上記感材を用いてホログラムを製造する方法
は、輻射線への露出工程と2種の溶媒を用いての
現像工程とからなつている。 本発明において使用する輻射線はレーザ・光線
又は水銀ランプ等の光源から放出される輻射線が
好ましい。ホログラムの形成は、可干渉性の2束
の輻射線を所定のオフセツトアングルで、感材面
に照射することによつて成される。 現像は略々膨潤、収縮の二つのステツプからな
る。即ち膨潤は上記露光法によりホログラム潜像
の形成された感材を膨潤液に浸漬して未反応のハ
ロゲン含有化合物を除去すると共に形成されたホ
ログラムパターンに応じた膨潤を記録担体の厚み
全体にわたつてひき起すものであり、収縮は感材
に対し膨潤作用を有しない第2の溶媒で上記膨潤
状態に応じて記録担体の厚み全体にわたつて収縮
させてホログラムの固定化を行うものである。本
発明における膨潤液とは芳香環又はヘテロ環を構
造中に含有する重合体及びその重合体とハロゲン
含有化合物との光反応の結果、生成される重合体
架橋物に対し、短時間で無限膨潤状態に至らしめ
ることのない溶媒であり、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、エチルベンゼン、n―プロピ
ルベンゼン、クメン、フエノール、クレゾール、
クロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ニトロベン
ゼン、ベンジルアルコール、ベンジルクロライ
ド、ベンジルブロマイド、α―メチルナフタリ
ン、α―クロルナフタリン等のベンゼン及びナフ
タリンの誘導体、が挙げられる。これらの溶媒に
は、室温付近の温度では感光層を形成する重合体
に対し溶解作用を有するもの又は全く膨潤作用を
有しないものをも含むが、現像設定温度を変える
ことにより使用可能となるものである。収縮液は
感光層に対し、膨潤又は、溶解作用を有しない、
かつ上記膨潤液と相溶性のある溶媒全てが使用可
能であり、例えば、n―ペンタン、n―ヘキサ
ン、n―ヘプタン、n―オクタン、イソオクタ
ン、シクロヘキサン等のアルカン、シクロアルカ
ン類、メチルアルコール、エチルアルコール、n
―プロピルアルコール、イソプロアルコール、n
―ブチルアルコール、tert―ブチルアルコール、
n―アミルアルコール、イソアミルアルコール等
のアルコール類、ジエチルエーテル、メチルエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類、酢酸エチル、酢酸メチル、蟻酸エチル、プロ
ピオン酸メチル等のエステル類等が使用される。 上記一連のプロセスにより体積位相ホログラム
が形成される。このようにして得られたホログラ
ムは、前記膨潤化処理と収縮化処理を記録担体の
厚み全体にわたつて行つた結果、まず無色で高い
透明性を有しており、最大90%に達する回折効率
を有し、さらに3500本/mm以上の高解像力を持
ち、かつ安定性も湿度、光には全く影響されない
為、従来のホログラム用感材から形成されるホロ
グラムに比し、画期的に優れた性能を有している
ことが明らかとなつた。 以下実施例により、本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 ポリビニルカルバゾール2.0gr、四沃化炭素
0.2gr、2,6―ジ―tert―ブチルフエノール
20mgrをモノクロルベンゼン25grに溶解し、暗所
にて、表面を磨いた厚さ1.0mmのガラス板にスビ
ナー塗工(ミカサスビナ―1H―2)し、暗所に
て風乾して、厚さ約4μのホログラム用感材を得
た、この感光体はGrating Spectrograph、RM―
23―1を用いて分光感度域を測定したところ長波
長側では5400Åに至る可視域に感度を有している
ことが明らかとなつた。この感材をアルゴンレー
ザーの5146Åの輝線を用い第1図示の如き光学系
でオフセツトアングル70゜、光強度比1:1とし
て露光した。光強度は両ビームの和で入射直前
3mW/cm2である。パターンを焼きつけた感材を
次に40℃のキシレン中に2分間浸漬することによ
り、感光性要素を除去し、かつ膨潤せしめた後、
n―ヘキサンからなる収縮液にて洗浄、収縮する
ことにより体積位相ホログラム板を得た。このホ
ログラムは波長5146Åで約3000本/mmの空間周波
数を有しその回折効率は露光エネルギ30mJ/cm2
の時、最大でその値は露光と同じ読み出し波長で
90%に達した。 さらには70℃RH100%の条件下にホログラム板
を放置し、その耐湿熱性を検討したところ1ケ月
ではそのホログラム特性に何らの変化も生じなか
つた。また500Wの水銀ランプ下、20cmの位置に
ホログラム板を置き5時間光照射することにより
耐光性の検討をしたがわずかに黄色味を帯びたの
みで、これもホログラム特性には全く変化が見ら
れなかつた。 因みに第1図に於て、101はレーザー発振
器、102はレーザー、103はビームスプリツ
ター、104は反射ミラー、105はホログラム
記録用感材106は光吸収板を示したものであ
る。 実施例 2〜6 実施例1におけるポリビニルカルバゾールの代
りに夫々、塩素化ポリビニルカルバゾール、ビニ
ルカルバゾール―スチレン共重合体、ビニルカル
バゾール―メチルメタアクリレート共重合体、ビ
ニルカルバゾール―ビニルピリジン共重合体及び
これらの重合体とポリビニルカルバゾールの混合
物を使用し、あとは全く実施例1と同じ処方をと
ることにより、同様の体積位相ホログラム板を得
た。以下に実施例1で得たホログラムの性能も含
め、これらのホログラムの性能を表として示す。 なお露光エネルギーは全て30mJ/cm2である。
る。 ホログラフイーは、レーザーのように干渉性良
好な波を物体に照射し、振幅と位相とが、その物
体の形状に応じて変調され、反射又は透過したも
のを記録(=ホログラム)して、そのホログラム
に再びレーザーを照射して元の物体の光学像を再
生する技術である。斯かるホログラフイー技術に
関する研究の進展に伴ない現在では、その記録用
材料に対する要求もかなり明確なものとなり、漂
白処理銀塩、フオトレジスト、サーモプラスチツ
ク、重クロム酸ゼラチン、無機ガラス系材料、強
誘電体等、多くの材料が提案され、その特性の研
究が進んでいる。 ところで、ホログラム記録用材料の持つべき特
性としては、 (1) レーザー感度、特に可視波長域にレーザー感
度を有し、且つ、高感度であること、 (2) 高解像力を有すること、 (3) ホログラムの回折効率が高いこと、 (4) ホログラムのノイズが少ないこと、 (5) ホログラムが安定していること、 (6) 記録及び再生操作が容易であること、等かな
り厳しいものが要求されている。 既知ホログラム記録用材料であつて、これ等の
特性を全て満足するものは勿論、部分的にせよ、
実用化の域に達する性質を備えた材料は極めて少
ない。 中では、漂白処理銀塩、重クロム酸ゼラチンが
ある程度実用化の域に達したものではあるが、そ
れでも、前者に於ては、通常処理の他、漂白処理
操作が必要であり、且つ得られたホログラムの耐
光性が劣ると云う不都合がある、又、後者に於い
ては、得られたホログラムの耐湿性が悪く、保存
安定性の面で大きな欠陥が指摘されている。 而して、本発明に於ては、斯かる従来の欠点を
解決すべく記録材料の改善並びに製造技術の改良
をなして、優れた特性のホログラムを提供せんと
するものである。 即ち、本発明の目的は特定のホログラム記録担
体を使用し、特定の方法により経時安定性、特に
高い耐湿性を有し、高解像度および高回折効率の
体積位相ホログラムを提供することである。 詳しく述べれば、本発明において使用し、本発
明を第1に特徴づける特性のホログラム記録担体
とは、ラジカルによつて置換可能な反応位置を有
する芳香環またはヘテロ環を単位構造中に含む水
不溶性重合体を主体に構成されており、且つ少な
くとも一分子中に一箇所以上同一炭素にハロゲン
原子が2個以上置換された構造を有するハロゲン
含有化合物によつて輻射線に対して活性とされた
記録担体であり、本発明を第2に特徴づける特定
の方法とは、上記のホログラム記録担体を輻射線
の干渉パターンに露出する工程と、第1の溶媒で
該記録担体中のハロゲン含有化合物を除去すると
ともに記録担体の厚み全体を膨潤化処理した後、
第2の溶媒で該記録担体の厚み全体を収縮化処理
して、該記録担体の光透過率を80.5%以上とする
工程とからなるものである。このような特定の記
録担体および方法を使用することによつて本発明
の目的が達成された。 以下、具体例を挙げつつ本発明を詳細に説明す
る。 本発明に於てホログラム記録用材料の主体をな
すものはその単位構造中に、ラジカルによつて置
換可能な反応位置を有する芳香環又はヘテロ環を
含んでなる不水溶性重合体であり、その1例は、
構造中に芳香環又はヘテロ環を有するビニル化合
物の付加重合体、又は付加共重合体、或いは、そ
の混合物である。 他の例は、単量体成分の少なくとも1種が芳香
環又はヘテロ環を有する化合物であるところの縮
合重合体である。なお、この場合、芳香環又はヘ
テロ環は、ハロゲン、アルキル、アミノ、ニト
ロ、シアノ、チオシアノ、カルボキシル、アルコ
キシ、アシル、スルホニル、水素基等の置換基で
置換されているものであつても良い。更に本発明
に於て使用される重合体の具体例を挙げれば以下
のとおりである。 ポリスチレン、ポリ―P―メチルスチレン、ポ
リ―α―メチルスチレン、ポリ―P―ジビニルベ
ンゼン、ポリ―2,5―ジクロルスチレン、スチ
レン―アクリロニトリル共重合体、スチレン―ジ
ビニルベンゼン共重合体、スチレン―ブタジエン
共重合体、スチレン―無水マレイン酸共重合体、
スチレン―塩化ビニリデン共重合体、スチレン―
アクリルエステル―アクリルアミド共重合体、ス
チレン―不飽和ポリエステル共重合体、スチレン
―グリシジルメタアクリレート共重合体、ハロゲ
ン化スチレン重合体、スチレン化油、ポリスチレ
ン/スチレン―ブタジエン共重合体混合物、
ABS樹脂、ポリビニルアニソール、ポリビニル
アニリン、ポリビニルベンゾエート、ポリビニル
スチルベン、ポリビニルハイドロキノン、ポリ―
α,β―ビニルナフタリン、ポリアセナフチレ
ン、ポリビニルアンスラセン、ポリビニルフエナ
ントレン、ポリビニルピレン、ポリビニルピリジ
ン、ポリビニルピロリドン、ポリ―N―ビニルフ
タルイミド、ポリビニルインデン、ポリビニルフ
ルオレン、ポリビニルフラン、ポリビニルベンゾ
フラン、ポリビニルインドール、ポリビニルイン
ドリン、ポリビニルオキサゾール、ポリビニルベ
ンゾオキサゾール、ポリビニルチアゾール、ポリ
ビニルベンゾチアゾール、ポリビニルチオフエ
ン、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピロー
ル、ポリビニルピラゾール、ポリビニルトリアゾ
ール、ポリビニルテトラゾール、ポリビニルベン
ズイミダゾール、ポリビニルキノリン、ポリビニ
ルジベンゾフラン、ポリビニルチアジン、ポリビ
ニルピリダジン、ポリビニルピリミジン、ポリビ
ニルピラジン、ポリビニルトリアジン、ポリビニ
ルカルバゾール、ビニルカルバゾール―スチレン
共重合体、ビニルカルバゾール―塩化ビニリデン
共重合体、ビニルカルバゾール―スチレン共重合
体、ビニルカルバゾール―メチルメタアクリレー
ト、ビニルカルバゾール―ビニルアンスラセン共
重合体、ビニルカルバゾール―ビニルピリジン共
重合体、ビニルカルバゾール―アクリレート共重
合体、ビニルカルバゾール―エチルアクリレート
共重合体、ビニルカルバゾール―アクリロニトリ
ル共重合体、ビニルカルバゾール―ブチルアクリ
レート共重合体、ビニルカルバゾール―ニトロビ
ニルカルバゾール共重合体、ニトロ化ポリビニル
カルバゾール、ポリビニルアミノカルバゾール、
ビニルカルバゾール―N―メチルアミノビニルカ
ルバゾール共重合体、ハロゲン置換ポリビニルカ
ルバゾール、ビニルカルバゾール―ジブロムビニ
ルカルバゾール共重合体、ポリヨードビニルカル
バゾール、ポリベンジリデンビニルカルバゾー
ル、ポリプロペニルカルバゾール、クマロン樹
脂、クマロン―インデン樹脂、フエノール―ホル
マリン樹脂、クレゾール―ホルマリン樹脂、変性
フエノール樹脂、フエノール―フルフラール樹
脂、レゾルシン樹脂、スルホアミド樹脂、アニリ
ン樹脂、キシレン樹脂、トルエン樹脂、グリプタ
ル樹脂、変性グリプタル樹脂、テレフタル酸系樹
脂、イソフタル酸系樹脂、マレイン酸樹脂、ポリ
(1,4―シクロヘキシレンジメシチレン)テレ
フタレート、ポリジアリルフタレート、ポリアリ
ルホスホネート、ポリカーボネート、ポリアリル
―ジグリコールカーボネート、ポリ燐酸エステ
ル、ベンゾフラン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ
尿素樹脂、エポキシ樹脂、フエノキシ型樹脂、ポ
リフエニレンオキサイド、ハロゲン置換ポリフエ
ニレンオキサイド、ポリフエニレン、ポリ―P―
キシリレン(パリレンN)、置換ポリキシリレ
ン、フエノールスルホン酸樹脂、フエノールカル
ボン酸樹脂、チオコール樹脂、ポリチオコール―
スチレン樹脂、 なお、上記重合体は2種以上混合して、使用す
ることも可能である。中でも、本発明に於ては、
単位構造中にカルバゾール環を有する重合体を使
用した場合、高回折効率のホログラムが得易く好
ましい。 本発明に於てホログラム記録用材料は予めハロ
ゲン含有化合物によつて、輻射線に対して活性に
されている必要がある。 本発明に使用されるハロゲン含有化合物は、少
なくとも一分子中に一箇所以上、同一炭素にハロ
ゲン原子が2個以上置換された構造を有する化合
物であり、斯かる化合物は前述の重合体と共存し
て比較的高感度のホログラム記録用感材を構成す
る。中でも沃素含有化合物は、沃素原子の重原子
効果の為か極めて高感度の感材を構成し、且つ、
その本来の色調が黄色〜橙色の為に感材の感度が
可視波長域にも十分あり、本発明に於ては、特に
好適な化合物である。 以下、本発明に係るハロゲン含有化合物の具体
例を列挙する。ただし、これ等に限定されるもの
ではない。 CI4、CHI3、CBr4、CHBr3、CClI3、CBrI3、
CBr3Cl、CBr3I、CBr2I2、CH2I2、CHBrI2、
CHClI2、CCl2I2、C2Cl6、C2BrCl5、CH3CBr3、
CH2BrCBr3、CHBr2CBr3、CBr3CBr3、
CBr3CH2OH、CH3CI3、CH3CCl2CCl3、
CCl3CH2CCl3、CHCl2CCl2CCl3、
CCl3CHClCCl3、CCl3CCl2CCl3、CH3CBr2CH3、
CH3CHBrCBr3、CH2BrCH2CBr3、
CH3CBr2CHBr2、CH2BrCBr2CH2Br、
CBr3CH2CBr3、CBr3CHBrCBr3、
CHBr2CH2CHBr2、CHBr2CHBrCHBr2、
CHBr2CBr2CHBr2、CH3CH2CBr3、
CH3CHBrCHBr2、CH3CI2CH3、CH3CHCH2I、
CH3CI2CHI2、C2H5CHI2、CHBr2―CHOH―
CHBr2、CH3CHOHCBr3、C2H5CI3、CClB1=
CClBr、CBr2=CBr2、CH2=CI2、CClI=CClI、
CBrI=CBrI、CI2=CI2、C6H5CBr3、
C6H5CCl3、C6H5COCBr3、C6H5COCCl3、
CBr3SOCBr3、CBr3SOCHBr2、CBr3SO2CBr3、
C6H5SO2CBr3、CHBr2SO2CHBr2、
CH2BrSO2CHBr2、P―Cl―C6H4SO2CCl3、P―
NO2―C6H4SO2CBr3、2―トリクロロメチルベ
ンゾチアゾリルスルフオン―2,4,6―ジメチ
ルピリミジル―2―トリブロモメチルスルフオ
ン、2,4―ジクロロフエニルトリクロロメチル
スルフオン、2―メチル―4―クロロフエニルト
リクロロメチルスルフオン、2,5―ジメチル―
4―クロロフエニルトリクロロメチルスルフオ
ン、2,4―ジクロロフエニルトリブロモメチル
スルフオン。 本発明に於て、ホログラム記録用感材は、上述
の重合体及び、ハロゲン含有化合物を所定の割合
で適宜、溶媒に溶解させるか、分散液とした後、
ガラス、透明性樹脂フイルム等の支持体上に塗膜
として得るか、又はそれ自身でフイルム化して得
られる。この場合、ハロゲン含有化合物は重合体
に対して1〜200重量%、特に好ましくは5〜50
重量%の範囲で使用されるのがよい。又、使用す
る重合体にフイルム形成能が乏しい場合には、可
塑剤を、更にハロゲン含有化合物が安定性に欠け
る場合には酸化防止剤を別途加えてもよい。 可塑剤としては、タ―フエニル、塩素化ジフエ
ニル、塩素化ナフタリン、塩素化パラフイン、チ
オコール樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ
樹脂、クマロン―インデン樹脂等を使用し、又、
酸化防止剤としては置換フエノール類等、種々公
知の酸化防止剤が使用できる。 このようにして作成された感材はたとえば4416
Å、4579Å、4762Å、4765Å、4880Å、5145Å、
5208Å、5308Å、などに輝線を持つレーザーに対
し感度を有しており、かつその感度も一例として
4880Åのアルゴンレーザーの輝線に対し、
10mJ/cm2のエネルギーで実用域の回折効率を与
える等優れた性質を有するものである。 上記感材を用いてホログラムを製造する方法
は、輻射線への露出工程と2種の溶媒を用いての
現像工程とからなつている。 本発明において使用する輻射線はレーザ・光線
又は水銀ランプ等の光源から放出される輻射線が
好ましい。ホログラムの形成は、可干渉性の2束
の輻射線を所定のオフセツトアングルで、感材面
に照射することによつて成される。 現像は略々膨潤、収縮の二つのステツプからな
る。即ち膨潤は上記露光法によりホログラム潜像
の形成された感材を膨潤液に浸漬して未反応のハ
ロゲン含有化合物を除去すると共に形成されたホ
ログラムパターンに応じた膨潤を記録担体の厚み
全体にわたつてひき起すものであり、収縮は感材
に対し膨潤作用を有しない第2の溶媒で上記膨潤
状態に応じて記録担体の厚み全体にわたつて収縮
させてホログラムの固定化を行うものである。本
発明における膨潤液とは芳香環又はヘテロ環を構
造中に含有する重合体及びその重合体とハロゲン
含有化合物との光反応の結果、生成される重合体
架橋物に対し、短時間で無限膨潤状態に至らしめ
ることのない溶媒であり、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、エチルベンゼン、n―プロピ
ルベンゼン、クメン、フエノール、クレゾール、
クロルベンゼン、ジクロルベンゼン、ニトロベン
ゼン、ベンジルアルコール、ベンジルクロライ
ド、ベンジルブロマイド、α―メチルナフタリ
ン、α―クロルナフタリン等のベンゼン及びナフ
タリンの誘導体、が挙げられる。これらの溶媒に
は、室温付近の温度では感光層を形成する重合体
に対し溶解作用を有するもの又は全く膨潤作用を
有しないものをも含むが、現像設定温度を変える
ことにより使用可能となるものである。収縮液は
感光層に対し、膨潤又は、溶解作用を有しない、
かつ上記膨潤液と相溶性のある溶媒全てが使用可
能であり、例えば、n―ペンタン、n―ヘキサ
ン、n―ヘプタン、n―オクタン、イソオクタ
ン、シクロヘキサン等のアルカン、シクロアルカ
ン類、メチルアルコール、エチルアルコール、n
―プロピルアルコール、イソプロアルコール、n
―ブチルアルコール、tert―ブチルアルコール、
n―アミルアルコール、イソアミルアルコール等
のアルコール類、ジエチルエーテル、メチルエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類、酢酸エチル、酢酸メチル、蟻酸エチル、プロ
ピオン酸メチル等のエステル類等が使用される。 上記一連のプロセスにより体積位相ホログラム
が形成される。このようにして得られたホログラ
ムは、前記膨潤化処理と収縮化処理を記録担体の
厚み全体にわたつて行つた結果、まず無色で高い
透明性を有しており、最大90%に達する回折効率
を有し、さらに3500本/mm以上の高解像力を持
ち、かつ安定性も湿度、光には全く影響されない
為、従来のホログラム用感材から形成されるホロ
グラムに比し、画期的に優れた性能を有している
ことが明らかとなつた。 以下実施例により、本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 ポリビニルカルバゾール2.0gr、四沃化炭素
0.2gr、2,6―ジ―tert―ブチルフエノール
20mgrをモノクロルベンゼン25grに溶解し、暗所
にて、表面を磨いた厚さ1.0mmのガラス板にスビ
ナー塗工(ミカサスビナ―1H―2)し、暗所に
て風乾して、厚さ約4μのホログラム用感材を得
た、この感光体はGrating Spectrograph、RM―
23―1を用いて分光感度域を測定したところ長波
長側では5400Åに至る可視域に感度を有している
ことが明らかとなつた。この感材をアルゴンレー
ザーの5146Åの輝線を用い第1図示の如き光学系
でオフセツトアングル70゜、光強度比1:1とし
て露光した。光強度は両ビームの和で入射直前
3mW/cm2である。パターンを焼きつけた感材を
次に40℃のキシレン中に2分間浸漬することによ
り、感光性要素を除去し、かつ膨潤せしめた後、
n―ヘキサンからなる収縮液にて洗浄、収縮する
ことにより体積位相ホログラム板を得た。このホ
ログラムは波長5146Åで約3000本/mmの空間周波
数を有しその回折効率は露光エネルギ30mJ/cm2
の時、最大でその値は露光と同じ読み出し波長で
90%に達した。 さらには70℃RH100%の条件下にホログラム板
を放置し、その耐湿熱性を検討したところ1ケ月
ではそのホログラム特性に何らの変化も生じなか
つた。また500Wの水銀ランプ下、20cmの位置に
ホログラム板を置き5時間光照射することにより
耐光性の検討をしたがわずかに黄色味を帯びたの
みで、これもホログラム特性には全く変化が見ら
れなかつた。 因みに第1図に於て、101はレーザー発振
器、102はレーザー、103はビームスプリツ
ター、104は反射ミラー、105はホログラム
記録用感材106は光吸収板を示したものであ
る。 実施例 2〜6 実施例1におけるポリビニルカルバゾールの代
りに夫々、塩素化ポリビニルカルバゾール、ビニ
ルカルバゾール―スチレン共重合体、ビニルカル
バゾール―メチルメタアクリレート共重合体、ビ
ニルカルバゾール―ビニルピリジン共重合体及び
これらの重合体とポリビニルカルバゾールの混合
物を使用し、あとは全く実施例1と同じ処方をと
ることにより、同様の体積位相ホログラム板を得
た。以下に実施例1で得たホログラムの性能も含
め、これらのホログラムの性能を表として示す。 なお露光エネルギーは全て30mJ/cm2である。
【表】
【表】
実施例 7
ポリスチレン2.0gr、ヨードホルム0.3grをトル
エン25grに溶解した感光性組成分を実施例1と同
様に処理することにより厚さ4.5μのホログラム
用感材を得た。この感材の分光感度域は実施例1
と同様にして測定したところ、上限4800Åであつ
た。この感材をアルゴンレーザーの4579Åの輝線
を用い実施例1と同様に露光した。次に30℃でm
―クレゾール―酢酸メチルの1:1混合液中に2
分間浸漬し、ヨードホルムを除くと共に膨潤せし
めた後、イソプロピルアルコールで洗浄収縮処理
して体積位相ホログラムが形成される。このホロ
グラムの空間周波数は約3600本/mmであり回折効
率は75%、透過率89%であつた(露光エネルギー
100mJ/cm2)。なおこのホログラムの安定性も実
施例1と同様にして検討してみた処、若干、耐熱
性は劣るものの、他はほゞ同様の性能を示した。 実施例 8〜14 実施例7に於けるポリスチレンの代りに各々ポ
リ―P―クロルスチレン、ポリ―P―メチルスチ
レン、スチレン―塩化ビニリデン共重合体、スチ
レン―ジビニルベンゼン共重合体、ABS樹脂及
びこれらの重合体とポリスチレンの混合物を使用
し、あとは全く実施例7と同じ処方により体積位
相ホログラム板を得た。以下に実施例7で得たホ
ログラムの性能も含め、これらホログラムの性能
を下表に示す。
エン25grに溶解した感光性組成分を実施例1と同
様に処理することにより厚さ4.5μのホログラム
用感材を得た。この感材の分光感度域は実施例1
と同様にして測定したところ、上限4800Åであつ
た。この感材をアルゴンレーザーの4579Åの輝線
を用い実施例1と同様に露光した。次に30℃でm
―クレゾール―酢酸メチルの1:1混合液中に2
分間浸漬し、ヨードホルムを除くと共に膨潤せし
めた後、イソプロピルアルコールで洗浄収縮処理
して体積位相ホログラムが形成される。このホロ
グラムの空間周波数は約3600本/mmであり回折効
率は75%、透過率89%であつた(露光エネルギー
100mJ/cm2)。なおこのホログラムの安定性も実
施例1と同様にして検討してみた処、若干、耐熱
性は劣るものの、他はほゞ同様の性能を示した。 実施例 8〜14 実施例7に於けるポリスチレンの代りに各々ポ
リ―P―クロルスチレン、ポリ―P―メチルスチ
レン、スチレン―塩化ビニリデン共重合体、スチ
レン―ジビニルベンゼン共重合体、ABS樹脂及
びこれらの重合体とポリスチレンの混合物を使用
し、あとは全く実施例7と同じ処方により体積位
相ホログラム板を得た。以下に実施例7で得たホ
ログラムの性能も含め、これらホログラムの性能
を下表に示す。
【表】
【表】
実施例 15
合成したポリアセナフチレン(MW約28万)
2.0gr、四臭化炭素0.5grを25grのジオキサンに溶
解した感光性組成物を実施例1と同様に処理する
ことにより厚さ6.1μのホログラム用感材を得
た。この感材をアルゴンレーザーの3511Åの輝線
で常法通り露光し(露光エネルギー120mJ/cm2)
次に0℃のトルエン中に2分間浸漬して四臭化炭
素を除くと共に膨潤させた後、シクロヘキサンに
て洗浄収縮して体積位相ホログラムを得た。この
ホログラムの回折効率(測定波長4879Å)は69.0
%、透過率は88.5%であつた。 実施例 16 ポリ―α,β―ビニルナフタリン(MW約16
万)2.0gr、1,1,1―トリヨードエタン0.2gr
を25grのベンゼンに溶解した感光性組成物を実施
例1と同様に処理することにより厚さ5.2μのホ
ログラム用感材を得た。この感材をヘリウム―カ
ドミウムレーザーの4416Åの輝線で常法通り露光
し(露光エネルギー150mJ/cm2)、次に20℃のク
メン中に2分間浸漬して、トリヨードエタンを除
くと共に膨潤させた後、メタノールにて洗浄、収
縮し、体積位相ホログラムを得た。このホログラ
ムの回折効率(測定波長4879Å)は49.3%、透過
率は89%であつた。 実施例 17 ポリビニルインデン(MW約22万)2.0gr、ヘ
キサブロモエタン0.4grを25grのテトラヒドロフ
ランに溶解した感光性組成物を実施例1と同様に
処理することにより、厚さ4.3μのホログラム用
感材を得た。この感材をアルゴン―クリプトンレ
ーザーの3564Åの輝線で常法通り露光し(露光エ
ネルギー100mJ/cm2)、次に5℃のクロルベンゼ
ン中に2分間浸漬してヘキサブロモエタンを除く
と共に膨潤せしめた後、ジイソプロピルエーテル
にて洗浄、収縮し、体積位相ホログラムを得た。
このホログラムの回折効率は55.2%、透過率は88
%であつた。 実施例 18 ポリビニルピロリドン(MW36万)1.0grポリ
ビニルイミダゾール(MW21万)1.0grヨードホ
ルム0.3grを25grのジオキサンに溶解した感光性
組成物を暗所にて、ポリエステルフイルム上にワ
イヤーラウンドバーを用いて塗工し、そのまま自
然乾燥して厚さ3.0μのホログラム用感光フイル
ムを得た。このフイルムをアルゴンレーザーの
4879Åの輝線を用い、第1図示の如き光学系で露
光した(露光エネルギー200mJ/cm2)。次にフイ
ルムを40℃のベンゼン中に2分間浸漬して、ヨー
ドホルムを除くと共に膨潤せしめ、更にイソオク
タンにて洗浄、収縮し、体積位相ホログラムを得
た。このホログラムは回折効率(測定波長4879
Å)72.0%、透過率89%であり、その耐久性は、
耐湿性が若干落ちるのみで、耐光性、耐熱性共に
良好であつた。 実施例 19 ポリビニルジベンゾフラン(MW、18万)
2.0gr、ヘキサブロモジメチルスルホン0.2gr、を
25grのテトラヒドロフランに溶解した感光性組成
物を実施例18と同様に処理して厚さ3.5μのホロ
グラム用感光フイルムを得た。このフイルムを常
法に従い、アルゴンレーザーの3638Åの輝線で露
光し(露光エネルギー150mJ/cm2)、次に50℃の
ニトロベンゼン中に、3分間浸漬してヘキサブロ
モジメチルスルホンを除くと共に膨潤せしめた
後、n―ヘプタンにて洗浄、収縮し、体積位相ホ
ログラムを得た。このホログラムの回折効率は
57.8%、透過率は86%であつた。 実施例 20 ポリビニルピリジン(MW38万)1.0gr、ポリ
ビニルベンゾオキサゾール(MW26万)1.0gr、
四沃化エチレン0.2gr、4,4′―ブチリデンビス
(3―メチル―6―tert―ブチルフエノール)
0.1grを25grのジオキサンに溶解した感光性組成
物を実施例18と同様に処理して厚さ2.8μのホロ
グラム用感光フイルムを得た。このフイルムを常
法通りアルゴンレーザーの4879Åの輝線で露光し
(露光エネルギー10mJ/cm2)、次に、35℃のn―
プロピルベンゼン中に2分間浸漬して四沃化エチ
レンを除くと共に膨潤せしめた後、n―ヘキサン
にて洗浄,収縮し、体積位相ホログラムを得た。
このホログラムの回折効率は41.7%透過率は86%
であつた。 実施例 21〜34 実施例20のポリビニルピリジン及びポリビニル
ベンゾオキサゾールの代りに各種のヘテロ環を含
む重合体を用い、他は全く実施例20と同じ処方に
より体積位相ホログラム板を得た。以下にこれら
のホログラムの性能をまとめて下表に示す。
2.0gr、四臭化炭素0.5grを25grのジオキサンに溶
解した感光性組成物を実施例1と同様に処理する
ことにより厚さ6.1μのホログラム用感材を得
た。この感材をアルゴンレーザーの3511Åの輝線
で常法通り露光し(露光エネルギー120mJ/cm2)
次に0℃のトルエン中に2分間浸漬して四臭化炭
素を除くと共に膨潤させた後、シクロヘキサンに
て洗浄収縮して体積位相ホログラムを得た。この
ホログラムの回折効率(測定波長4879Å)は69.0
%、透過率は88.5%であつた。 実施例 16 ポリ―α,β―ビニルナフタリン(MW約16
万)2.0gr、1,1,1―トリヨードエタン0.2gr
を25grのベンゼンに溶解した感光性組成物を実施
例1と同様に処理することにより厚さ5.2μのホ
ログラム用感材を得た。この感材をヘリウム―カ
ドミウムレーザーの4416Åの輝線で常法通り露光
し(露光エネルギー150mJ/cm2)、次に20℃のク
メン中に2分間浸漬して、トリヨードエタンを除
くと共に膨潤させた後、メタノールにて洗浄、収
縮し、体積位相ホログラムを得た。このホログラ
ムの回折効率(測定波長4879Å)は49.3%、透過
率は89%であつた。 実施例 17 ポリビニルインデン(MW約22万)2.0gr、ヘ
キサブロモエタン0.4grを25grのテトラヒドロフ
ランに溶解した感光性組成物を実施例1と同様に
処理することにより、厚さ4.3μのホログラム用
感材を得た。この感材をアルゴン―クリプトンレ
ーザーの3564Åの輝線で常法通り露光し(露光エ
ネルギー100mJ/cm2)、次に5℃のクロルベンゼ
ン中に2分間浸漬してヘキサブロモエタンを除く
と共に膨潤せしめた後、ジイソプロピルエーテル
にて洗浄、収縮し、体積位相ホログラムを得た。
このホログラムの回折効率は55.2%、透過率は88
%であつた。 実施例 18 ポリビニルピロリドン(MW36万)1.0grポリ
ビニルイミダゾール(MW21万)1.0grヨードホ
ルム0.3grを25grのジオキサンに溶解した感光性
組成物を暗所にて、ポリエステルフイルム上にワ
イヤーラウンドバーを用いて塗工し、そのまま自
然乾燥して厚さ3.0μのホログラム用感光フイル
ムを得た。このフイルムをアルゴンレーザーの
4879Åの輝線を用い、第1図示の如き光学系で露
光した(露光エネルギー200mJ/cm2)。次にフイ
ルムを40℃のベンゼン中に2分間浸漬して、ヨー
ドホルムを除くと共に膨潤せしめ、更にイソオク
タンにて洗浄、収縮し、体積位相ホログラムを得
た。このホログラムは回折効率(測定波長4879
Å)72.0%、透過率89%であり、その耐久性は、
耐湿性が若干落ちるのみで、耐光性、耐熱性共に
良好であつた。 実施例 19 ポリビニルジベンゾフラン(MW、18万)
2.0gr、ヘキサブロモジメチルスルホン0.2gr、を
25grのテトラヒドロフランに溶解した感光性組成
物を実施例18と同様に処理して厚さ3.5μのホロ
グラム用感光フイルムを得た。このフイルムを常
法に従い、アルゴンレーザーの3638Åの輝線で露
光し(露光エネルギー150mJ/cm2)、次に50℃の
ニトロベンゼン中に、3分間浸漬してヘキサブロ
モジメチルスルホンを除くと共に膨潤せしめた
後、n―ヘプタンにて洗浄、収縮し、体積位相ホ
ログラムを得た。このホログラムの回折効率は
57.8%、透過率は86%であつた。 実施例 20 ポリビニルピリジン(MW38万)1.0gr、ポリ
ビニルベンゾオキサゾール(MW26万)1.0gr、
四沃化エチレン0.2gr、4,4′―ブチリデンビス
(3―メチル―6―tert―ブチルフエノール)
0.1grを25grのジオキサンに溶解した感光性組成
物を実施例18と同様に処理して厚さ2.8μのホロ
グラム用感光フイルムを得た。このフイルムを常
法通りアルゴンレーザーの4879Åの輝線で露光し
(露光エネルギー10mJ/cm2)、次に、35℃のn―
プロピルベンゼン中に2分間浸漬して四沃化エチ
レンを除くと共に膨潤せしめた後、n―ヘキサン
にて洗浄,収縮し、体積位相ホログラムを得た。
このホログラムの回折効率は41.7%透過率は86%
であつた。 実施例 21〜34 実施例20のポリビニルピリジン及びポリビニル
ベンゾオキサゾールの代りに各種のヘテロ環を含
む重合体を用い、他は全く実施例20と同じ処方に
より体積位相ホログラム板を得た。以下にこれら
のホログラムの性能をまとめて下表に示す。
【表】
実施例 35
ポリ―P―キシリレン2.0gr、ヨードホルム
0.2gr、2,5―ジ―tert―ブチルハイドロキノ
ン10mgをα―クロルナフタリン32grに加熱溶解
し、暗所にて表面性の良いテフロン板上にワイヤ
ーラウンドバーを用いて塗工し、暗所にて、約2
時間減圧加熱乾燥した後、テフロン板から剥離
し、厚さ約20μのホログラム用フイルムを得た。
このフイルムをアルゴンレーザーの4579Åの輝線
を用い、第1図示の如き光学系で露光した(露光
エネルギー200mJ/cm2)。次にフイルムを50℃の
メチルナフタリン中に2分間浸漬して、ヨードホ
ルムを除くと共に膨潤せしめ、更にn―ヘキサン
にて洗浄、収縮し、体積位相ホログラムを得た。
このホログラムは回折効率(測定波長4579Å)
70.9%、透過率87.0%であり、その耐久性は極め
て良好であり、実施例1のホログラムの性能をう
わまわるものであつた。特にその耐溶剤性は他に
類をみない程優れていた。 実施例 36 テルペン―フエノール樹脂2.0gr、ヘキサクロ
ロエタン0.6grを25grのクロルベンゼンに溶解し
た感光性組成物を実施例1と同様に処理すること
により、厚さ4.5μのホログラム用感材を得た。
この感材をアルゴンレーザーの3511Åの輝線を用
い常法通り露光し(露光エネルギー300mJ/
cm2)、次に25℃のエチルベンゼン中に2分間浸漬
してヘキサクロルエタンを除くと共に膨潤せしめ
た後、エーテルにて洗浄、収縮して体積位相ホロ
グラムを得た。このホログラムの回折効率は測定
波長4879Åで48.2%、透過率は85.0%であつた。 実施例 37 3,3′―ジアミノベンジジンとイソフタル酸ジ
フエニルの熔融重縮合により合成したポリベンズ
イミダゾール2.0gr、ヨードホルム0.3grを25grの
ジメチルホルムアミドに溶解した感光性組成物を
実施例1と同様に処理することにより、厚さ4.9
μのホログラム用感材を得た。この感材をアルゴ
ンレーザーの4579Åの輝線を用いて常法通り露光
し(露光エネルギー80mJ/cm2)次に50℃のベン
ジルアルコール中に2分間浸漬してヨードホルム
を除くと共に膨潤せしめた後、n―ヘキサンにて
洗浄、収縮して体積位相ホログラムを得た。この
ホログラムの回折効率は測定波長4879Åで43.3
%、透過率は85.2%であつた。 実施例 38〜42 実施例37に於けるポリベンズイミダゾールの代
りに各種の重合体を用い、膨潤液を変えるのみで
他は全く実施例37と同様に処理することにより、
体積位相ホログラム板を得た。下表に、これらの
ホログラムの性能をまとめて示す。
0.2gr、2,5―ジ―tert―ブチルハイドロキノ
ン10mgをα―クロルナフタリン32grに加熱溶解
し、暗所にて表面性の良いテフロン板上にワイヤ
ーラウンドバーを用いて塗工し、暗所にて、約2
時間減圧加熱乾燥した後、テフロン板から剥離
し、厚さ約20μのホログラム用フイルムを得た。
このフイルムをアルゴンレーザーの4579Åの輝線
を用い、第1図示の如き光学系で露光した(露光
エネルギー200mJ/cm2)。次にフイルムを50℃の
メチルナフタリン中に2分間浸漬して、ヨードホ
ルムを除くと共に膨潤せしめ、更にn―ヘキサン
にて洗浄、収縮し、体積位相ホログラムを得た。
このホログラムは回折効率(測定波長4579Å)
70.9%、透過率87.0%であり、その耐久性は極め
て良好であり、実施例1のホログラムの性能をう
わまわるものであつた。特にその耐溶剤性は他に
類をみない程優れていた。 実施例 36 テルペン―フエノール樹脂2.0gr、ヘキサクロ
ロエタン0.6grを25grのクロルベンゼンに溶解し
た感光性組成物を実施例1と同様に処理すること
により、厚さ4.5μのホログラム用感材を得た。
この感材をアルゴンレーザーの3511Åの輝線を用
い常法通り露光し(露光エネルギー300mJ/
cm2)、次に25℃のエチルベンゼン中に2分間浸漬
してヘキサクロルエタンを除くと共に膨潤せしめ
た後、エーテルにて洗浄、収縮して体積位相ホロ
グラムを得た。このホログラムの回折効率は測定
波長4879Åで48.2%、透過率は85.0%であつた。 実施例 37 3,3′―ジアミノベンジジンとイソフタル酸ジ
フエニルの熔融重縮合により合成したポリベンズ
イミダゾール2.0gr、ヨードホルム0.3grを25grの
ジメチルホルムアミドに溶解した感光性組成物を
実施例1と同様に処理することにより、厚さ4.9
μのホログラム用感材を得た。この感材をアルゴ
ンレーザーの4579Åの輝線を用いて常法通り露光
し(露光エネルギー80mJ/cm2)次に50℃のベン
ジルアルコール中に2分間浸漬してヨードホルム
を除くと共に膨潤せしめた後、n―ヘキサンにて
洗浄、収縮して体積位相ホログラムを得た。この
ホログラムの回折効率は測定波長4879Åで43.3
%、透過率は85.2%であつた。 実施例 38〜42 実施例37に於けるポリベンズイミダゾールの代
りに各種の重合体を用い、膨潤液を変えるのみで
他は全く実施例37と同様に処理することにより、
体積位相ホログラム板を得た。下表に、これらの
ホログラムの性能をまとめて示す。
第1図は本発明に於て、ホログラム作成の為、
使用される光学系装置の一例を略式に示す説明図
である。 105……ホログラム記録用感材。
使用される光学系装置の一例を略式に示す説明図
である。 105……ホログラム記録用感材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ラジカルによつて置換可能な反応位置を有す
る芳香環、又はヘテロ環を単位構造中に含む水不
溶性重合体を主体に構成されており、且つ、少な
くとも一分子中に一箇所以上同一炭素にハロゲン
原子が2個以上置換された構造を有するハロゲン
含有化合物によつて輻射線に対して活性とされた
記録担体を輻射線の干渉パターンに露出する工程
と、第1の溶媒で該記録担体中のハロゲン含有化
合物を除去するとともに記録担体の厚み全体を膨
潤化処理した後、第2の溶媒で該記録担体の厚み
全体を収縮化処理して、該記録担体の光透過率を
80.5%以上とする工程とを有することを特徴とす
る体積位相ホログラムの製造方法。 2 芳香環がベンゼン環である特許請求の範囲第
1項記載の体積位相ホログラムの製造方法。 3 ヘテロ環がフラン環、チオフエン環、ピロー
ル環、ピロリドン環、オキサゾール環、チアゾー
ル環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン
環、ピリミジン環、トリアゾール環、オキサジン
環、トリアジン環、ピラジン環、テトラゾール
環、チアジン環、ピリダジン環の群から選択され
る何れかである特許請求の範囲第1項記載の体積
位相ホログラムの製造方法。 4 芳香環がカルバゾール環である特許請求の範
囲第1項記載の体積位相ホログラムの製造方法。 5 ハロゲン含有化合物が炭素数2個以上の炭化
水素の沃素置換化合物である特許請求の範囲第1
項記載の体積位相ホログラムのホログラムの製造
方法。 6 ハロゲン含有化合物が沃素含有化合物である
特許請求の範囲第1項記載の体積位相ホログラム
の製造方法。 7 輻射線がレーザーである特許請求の範囲第1
項記載の体積位相ホログラムの製造方法。 8 輻射線が可視波長域に輝線を有するレーザー
である特許請求の範囲第1項記載の体積位相ホロ
グラムの製造方法。 9 記録担体が第1の溶媒および第2の溶媒に殆
ど溶出されない特許請求の範囲第1項記載の体積
位相ホログラムの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8948876A JPS5315153A (en) | 1976-07-27 | 1976-07-27 | Hologram |
DE2733703A DE2733703C2 (de) | 1976-07-27 | 1977-07-26 | Verwendung eines Gemischs als Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung eines Hologramms |
US05/819,584 US4172724A (en) | 1976-07-27 | 1977-07-27 | Hologram and method of production thereof |
US06/043,245 US4287277A (en) | 1976-07-27 | 1979-05-29 | Hologram recording material |
US06/043,243 US4258111A (en) | 1976-07-27 | 1979-05-29 | Hologram and method of production thereof with photo-crosslinkable polymers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8948876A JPS5315153A (en) | 1976-07-27 | 1976-07-27 | Hologram |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9962785A Division JPS60258579A (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | ホログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5315153A JPS5315153A (en) | 1978-02-10 |
JPS6214831B2 true JPS6214831B2 (ja) | 1987-04-03 |
Family
ID=13972121
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8948876A Granted JPS5315153A (en) | 1976-07-27 | 1976-07-27 | Hologram |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US4172724A (ja) |
JP (1) | JPS5315153A (ja) |
DE (1) | DE2733703C2 (ja) |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5315154A (en) * | 1976-07-27 | 1978-02-10 | Canon Inc | Hologram |
JPS5315153A (en) * | 1976-07-27 | 1978-02-10 | Canon Inc | Hologram |
JPS54101343A (en) * | 1978-01-26 | 1979-08-09 | Canon Inc | Hologram production method |
NL7906932A (nl) * | 1979-09-18 | 1981-03-20 | Philips Nv | Negatief resist-materiaal, drager met resist-materiaal en werkwijze voor het volgens een patroon aanbrengen van een laag. |
JPS58122532A (ja) * | 1982-01-18 | 1983-07-21 | Fujitsu Ltd | ホログラム記録材料 |
US4515886A (en) * | 1983-02-16 | 1985-05-07 | Toyo Soda Manufacturing Co., Ltd. | Photosensitive compositions |
US4518666A (en) * | 1983-06-30 | 1985-05-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Enlargement of photopolymer images in photopolymer mask |
US4656106A (en) * | 1984-10-26 | 1987-04-07 | Ciba-Geigy Ag | Method of preparing a multicolored holographic image |
CA1315591C (en) * | 1986-02-20 | 1993-04-06 | Takeshi Ishitsuka | Visible ray-recording hologram material |
JPH06105677B2 (ja) * | 1986-10-16 | 1994-12-21 | 松下電器産業株式会社 | パタ−ン形成方法 |
US4988152A (en) * | 1987-01-06 | 1991-01-29 | Hughes Aircraft Company | Holographic rearview mirror and method of producing same |
US4908285A (en) * | 1987-05-18 | 1990-03-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Hologram member |
JPS63284587A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-21 | Canon Inc | 接着または粘着型ホログラム |
JP2648593B2 (ja) * | 1987-05-21 | 1997-09-03 | キヤノン株式会社 | 転写型ホログラムの製造方法 |
JP2648594B2 (ja) * | 1987-05-21 | 1997-09-03 | キヤノン株式会社 | 転写型ホログラムの製造方法 |
JPS63287878A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-24 | Canon Inc | 接着または粘着型ホログラム |
JPS63287880A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-24 | Canon Inc | 接着または粘着型ホログラム |
JPS63284586A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-21 | Canon Inc | 転写型ホログラム |
US4871411A (en) * | 1987-05-21 | 1989-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of preparing volume type hologram film |
JPS63287983A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-25 | Canon Inc | 体積位相型ホログラムの製造方法 |
JPS6440883A (en) * | 1987-08-07 | 1989-02-13 | Canon Kk | Hologram having protective layer |
US5026618A (en) * | 1988-02-16 | 1991-06-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Photosensitive material and volume type phase hologram member formed therefrom |
JPH01234881A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Fujitsu Ltd | 位相型ホログラムの現像方法 |
US5240795A (en) * | 1988-07-04 | 1993-08-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Volume phase type hologram film and photosensitive resin composition employed therefor |
DE68928830T2 (de) * | 1988-07-06 | 1999-05-12 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Volumenhologramm und Verfahren zur Herstellung desselben |
JP2551632B2 (ja) * | 1988-07-11 | 1996-11-06 | 株式会社日立製作所 | パターン形成方法および半導体装置製造方法 |
US5231440A (en) * | 1988-10-06 | 1993-07-27 | Fujitsu Limited | Method of and apparatus for forming volume type phase hologram |
CA1324015C (en) * | 1988-10-06 | 1993-11-09 | Yasuo Yamagishi | Method of and apparatus for forming volume type phase hologram |
US4996120A (en) * | 1988-12-29 | 1991-02-26 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Holographic photopolymer compositions and elements containing a ring-opening monomer |
DE4024748C1 (en) * | 1990-08-03 | 1992-03-12 | Carlo Dr. 8031 Eichenau De Schmelzer | Hologram die prodn. for interference pattern - by exposing holographic recording material to laser beam, developing enzyme treating forming plastic impression and electroplating |
US5198911A (en) * | 1990-12-27 | 1993-03-30 | American Optical Corporation | Holographic optical notch reflectors |
DE69316792T2 (de) * | 1992-06-17 | 1998-05-28 | Nitto Denko Corp | Verfahren zur Herstellung von Polymerisation oder vernetzter Rate-distribuierte Produkte und Verfahren zur Herstellung einer Linse, Linsenanordnung oder Lichtwellenleiter durch dieses Verfahren |
US7132200B1 (en) * | 1992-11-27 | 2006-11-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram recording sheet, holographic optical element using said sheet, and its production process |
JP3085497B2 (ja) * | 1993-05-25 | 2000-09-11 | キヤノン株式会社 | ピラン誘導体、光増感剤、感光性樹脂組成物及びこの組成物を用いたホログラム記録媒体 |
US20080166528A1 (en) * | 2004-02-05 | 2008-07-10 | Securency Pty Limited | Method and Apparatus for Manufacturing an Optical Component |
US7776169B2 (en) * | 2005-06-01 | 2010-08-17 | Automotive Systems Laboratory, Inc. | Water-based synthesis of poly(tetrazoles) and articles formed therefrom |
US8163443B2 (en) * | 2006-03-09 | 2012-04-24 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition for volume phase hologram recording and optical information recording medium using the same |
TW201432380A (zh) * | 2013-02-06 | 2014-08-16 | Univ Nat Taiwan | 形成光阻結構之方法 |
CN109426070A (zh) * | 2017-08-25 | 2019-03-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光刻胶组合物、金属图案以及阵列基板的制备方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49122324A (ja) * | 1973-03-22 | 1974-11-22 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3579343A (en) * | 1967-04-25 | 1971-05-18 | Konishiroku Photo Ind | Photoresist-forming compositions |
US3567444A (en) * | 1967-10-20 | 1971-03-02 | Bell Telephone Labor Inc | Holographic recording method |
US3660091A (en) * | 1970-04-13 | 1972-05-02 | Bell Telephone Labor Inc | Passivation of dichromated gelatin holograms to high relative humidity ambients |
GB1359472A (en) * | 1970-09-01 | 1974-07-10 | Agfa Gevaert | Photographic recording and reproduction of information |
JPS4923885B1 (ja) * | 1970-12-19 | 1974-06-19 | ||
JPS4920979B1 (ja) * | 1970-12-29 | 1974-05-29 | ||
US3703371A (en) * | 1971-09-30 | 1972-11-21 | Eastman Kodak Co | Photoconductive elements containing polymeric binders |
BE794343A (fr) * | 1972-01-21 | 1973-07-19 | Westinghouse Electric Corp | Methode de protection d'une partie d'un substrat soumis a l'action d'1n faisceau electronique |
US3988152A (en) * | 1973-06-11 | 1976-10-26 | American Can Company | Epoxy resin photoresist with iodoform and bismuth triphenyl |
US4061799A (en) * | 1973-11-05 | 1977-12-06 | Texas Instruments Incorporated | Method of patterning styrene diene block copolymer electron beam resists |
US3925077A (en) * | 1974-03-01 | 1975-12-09 | Horizons Inc | Photoresist for holography and laser recording with bleachout dyes |
US4052280A (en) * | 1975-11-06 | 1977-10-04 | Scm Corporation | Uv curing of polymerizable binders |
US4049459A (en) * | 1976-02-26 | 1977-09-20 | Rca Corporation | Organic volume phase holographic recording medium |
US4055423A (en) * | 1976-04-15 | 1977-10-25 | Rca Corporation | Organic medium for thin-phase holography |
JPS5315153A (en) * | 1976-07-27 | 1978-02-10 | Canon Inc | Hologram |
JPS5315152A (en) * | 1976-07-27 | 1978-02-10 | Canon Inc | Hologram |
US4201441A (en) * | 1978-01-26 | 1980-05-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Hologram and method of production thereof |
-
1976
- 1976-07-27 JP JP8948876A patent/JPS5315153A/ja active Granted
-
1977
- 1977-07-26 DE DE2733703A patent/DE2733703C2/de not_active Expired
- 1977-07-27 US US05/819,584 patent/US4172724A/en not_active Expired - Lifetime
-
1979
- 1979-05-29 US US06/043,243 patent/US4258111A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-05-29 US US06/043,245 patent/US4287277A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS49122324A (ja) * | 1973-03-22 | 1974-11-22 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4258111A (en) | 1981-03-24 |
US4287277A (en) | 1981-09-01 |
DE2733703A1 (de) | 1978-02-02 |
DE2733703C2 (de) | 1986-03-27 |
US4172724A (en) | 1979-10-30 |
JPS5315153A (en) | 1978-02-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6214831B2 (ja) | ||
US4201441A (en) | Hologram and method of production thereof | |
JPS60258579A (ja) | ホログラム | |
JPH0414083A (ja) | ホログラム記録材料とホログラム製造方法 | |
JP2651725B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光体及びそれを使用する体積位相型ホログラムの製造方法 | |
US5026618A (en) | Photosensitive material and volume type phase hologram member formed therefrom | |
US5231520A (en) | Volume phase type hologram and method of manufacture thereof | |
JPH05210343A (ja) | ホログラム形成材料とホログラムの製造方法 | |
JPH05210344A (ja) | ホログラム形成材料とホログラムの製造方法 | |
JPH02153386A (ja) | 体積位相ホログラムの製造方法 | |
JP3184319B2 (ja) | 光架橋性樹脂組成物、ホログラム記録用感光性媒体及びホログラム記録方法 | |
JPS63289577A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
JP2859885B2 (ja) | ホログラム記録方法 | |
JPH02136858A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPS63279288A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
JPS63254485A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
JPS63291082A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
JPS63276084A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
JPS5854373A (ja) | ホログラム記録用感光材料及びホログラム製造方法 | |
JP2795663B2 (ja) | 感光体及びこれを用いて形成した体積位相型ホログラム部材 | |
JPS63266478A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
JPS63276083A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
JPS63291081A (ja) | ホログラムの製造方法 | |
JPS63305379A (ja) | ホログラフの製造方法 | |
JP2655541B2 (ja) | 体積位相型ホログラムフイルム |