JPS60206639A - ポリイミド−金属箔複合フイルムの製造方法 - Google Patents

ポリイミド−金属箔複合フイルムの製造方法

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JPS60206639A
JPS60206639A JP59064224A JP6422484A JPS60206639A JP S60206639 A JPS60206639 A JP S60206639A JP 59064224 A JP59064224 A JP 59064224A JP 6422484 A JP6422484 A JP 6422484A JP S60206639 A JPS60206639 A JP S60206639A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はポリイミド−金属箔複合フィルムの製造方法
に関する。
ポリイミドと金属箔とが積層されてなる複合フィルムは
電気回路板として有用である。この複合フィルムの製造
方法としては、A)ポリイミドフィルムを接着剤を介し
て金属箔と接着する方法、B)ポリイミドフィルムを金
属箔上に熱融着する方法、C)金属箔上にポリイミド前
駆体の有機極性溶媒溶液を塗布し、乾燥したのちイミド
化してポリイミド膜を形成する方法がある。
これらの製造方法のうちCの製造方法はAおよびBの方
法のように予めフィルム化を行う必要がないので工程が
簡略化できるとともに薄い複合フィルムができ、またA
の方法のように接着剤によるトラブルがないなどの利点
を有する。しかしながら、このCの方法では、乾燥時や
イミド化時に加熱したのち冷却する際に塗膜が収縮する
ため、この収縮に追随させにくい金属箔との関係で得ら
れる複合フィルムにカールが生じ回路加工に適用できな
かったり加工時の取扱い性が悪いという欠点がある。
そこで、この発明者らは、実質的にカールを生じること
のないポリイミド−金属箔複合フィルムを、予めポリイ
ミドのフィルム化を行わずに製造する方法を提供するこ
とを目的として鋭意検討した結果、この発明をなすに至
った。
すなわち、この発明は、1〜500/’iの厚みの金属
箔上に、p−フェニレンジアミンを主成分とするジアミ
ン成分と3・3′・4・4′−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物またはその誘導体を主成分とする芳香族テ
トラカルボン酸成分とを反応させて得られるポリイミド
前駆体の有機極性溶媒溶液を塗布し、上記の金属箔を固
定した状態で加熱乾燥しさらに高温で加熱処理して5〜
200μの厚みのポリイミド膜を形成することにより、
曲率半径が25cTn以上で長さ方向および幅方向共に
実質的にカールのないポリイミド−金属箔複合フィルム
を製造することを特徴とするポリイミド−金属箔複合フ
ィルムの製造方法に係るものである。
この発明の方法によれば、曲率半径が25cm以上で長
さ方向および幅方向共に実質的にカールのないポリイミ
ド−金属箔複合フィルムを得ることかできる。このよう
な複合フィルムが得られるのは、上記のジアミン成分と
上記芳香族テトラカルホン酸成分とを用いて得られるポ
リイミド膜が、銅やアルミニウムなどからなる金属箔に
ほぼ近い線膨張係数を有し、かつこの金属箔上に上記の
ポリイミド膜を形成する際に、金属箔を固定した状態で
加熱乾燥およびイミド化を含む高温加熱処理を行い、特
にこの高温加熱においてポリイミド膜に生しる応力を緩
和しているためである。
この発明の方法によって得られる複合フィルムは、上記
のように実質的にカールがないため、これを電気回路板
作製のための基板として支障な(適用でき、また回路加
工時の取扱い性にすくれるという利点を有している。し
かも得られた電気回路板は温度変化によってカールを生
じにくいという特徴をも有しており、この点で寸法安定
性のすぐれたものとなる。
なお、この明細書における曲率半径とは、図に示すよう
に、金属箔1とポリイミド膜2とからなる複合フィルム
3を長さ10cm、幅10cInの10cm角に切断し
た試験片につき、この試験片が幅方向(ないし長さ方向
)にカールしたときの曲率の程度を中心Pからの半径r
で表わしたものである。
そして、この曲率半径rは、カール状態での幅方向(な
いし長さ方向)の長さを81幅方向(ないし長さ方向)
両端を結ぶ水平線Mに中心Pから垂線Nをおろしたとき
の交点Rより上記垂線Nの延長線上にあるフィルム中央
部までの長さをhとしたとき、h≧rのときはこのrを
実測することにより、またh(rのときは便宜的に上記
a値とh値とを実測して下記の式より算出することがで
きる。
r” = (r−h )”+(ユ )2r2= r2−
2 rh+h”+ ”a22rh=h”+ユa2 r=番り十弄イ もちろん、この発明の目的は、h<rの関係にあって、
特にhが小さいことにより、r=25cm以上、好態と
して(3)であるような実質的にカールを有しない複合
フィルムを提供することにある。
この発明の方法におけるポリイミド前駆体またはポリイ
ミドを得るために用いるジアミン成分は、p−フェニレ
ンジアミンを主成分とし、通常は、p−フェニレンジア
ミンを80モル%以上、その他のジアミンを20モル%
以下の割合で含むものがよい。p−フェニレンジアミン
の割合が少なすきると、銅やアルミニウムなどからなる
金属箔とポリイミド膜との線膨張係数の差が大きくなる
ため好ましくない。
上記のその他のジアミンとしては、4・4′−ジアミノ
ジフェニルエーテル、4・4′−ジアミノジフェニルメ
タン、4・4′−ジアミノジフェニルスルボン、3・3
′−ジアミノジフェニルスルボン、m−フェニレンジア
ミン、4・4′−ジアミノジフェニルプo/<ン、1・
5−ジアミノナフタリン、2・6−ジアミノナフタリン
、4・4′−ジアミノジフェニルスルフィド、4・4′
−ジ(m−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、3
・3′−ジ(m−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホ
ン、4・4′−ジ(m−アミノフェノキシ)ジフェニル
プロパンなどが挙げられ、これらのうちの1種または2
種以上を使用すればよい。
また、ジアミノシロキサンを数モル%程度用いてもよい
この発明におけるポリイミド前駆体を得るために用いる
芳香族テトラカルボン酸成分は、3・3′・4・4−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物ないしはその酸ハロ
ゲン化物、ジエステル、モノエステルなどの誘導体を主
成分とし、通常はこの二無水物ないしはその誘導体を7
0モル%以上、その他の芳香族テトラカルボン酸二無水
物ないしはその酸ハロゲン化物、ジエステル、モノエス
テルなどの誘導体を30モル%以下の割合で含むものが
よい。3・3・4・4−ビフェニルテトラカルホン酸二
無水物ないしはその誘導体の割合が少なすぎると銅やア
ルミニウムなどからなる金属箔とポリイミド膜との線膨
張係数の差が大きくなるかあるいは膜強度が極端に低下
するなどの不都合があるため好ましくない。
上記のその他の芳香族テトラカルボン酸二無水物ないし
はその誘導体としては、ピロメリット酸二無水物、3・
3′・4・4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、2・3・6・7−ナフタリンテトラカルボン酸二
無水物などの酸二無水物ないしはその誘導体が挙げられ
、これらのうちの1種または2種以上を使用することが
できる。なお、これらの中でもとくにピロメリット酸二
無水物ないしはその誘導体、3・3′・4・4′−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物ないしはその誘導
体が好ましく用いられる。その理由は、これらテトラカ
ルボン酸成分はこれ単独で前記特定のジアミン成分と反
応させても膜強度にすぐれるポリイミド膜を生成しにく
いが線膨張係数の低下には好ましい結果を与え、カール
防止というこの発明の目的に特に適したものであるから
である。
上記のジアミン成分と芳香族テトラカルボン酸成分を反
応させてポリイミド前駆体を得るには、これら両成分を
略等モル有機極性溶媒中で通常O〜90°Cで1〜24
時間反応させてポリアミド酸などのポリイミド前駆体と
する。上記の有機極性溶媒としては、N−メチル−2−
ピロリドン、N・N−ジメチルアセトアマイド、N−N
−ジメチルホルムアマイド、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルホスホアマイド、m−クレゾール、p−クレゾー
ル、p−クロルフェノールなどが使用できる。
また、キシレン、トルエン、ヘキサン、ナフサナどを一
部混合してもよい。
このようにして得られるポリイミド前駆体は、その対数
粘度(N−メチル−2−ピロリドン中05f;’/ 1
00 meの濃度で30°C下で測定)が通常04〜7
0の範囲にあるのが好ましく、より好ましくは15〜3
0の範囲にあるのがよい。この値が小さすきると得られ
るポリイミド膜の機械的強度が低くなり好ましくない。
また、この値が大きすぎると金属箔上への塗布作業性が
低くなり好ましくない。
この発明の複合フィルムの製造方法においては、ます上
記のポリイミド前駆体の有機極性溶媒溶液を通常80°
C以下の温度に加温して粘度を低下させた状態で厚みが
1〜500μ、好ましくは10〜lQQ7zm1特に好
ましくは20〜50/”の金属箔上にアプリケータなど
の適宜の手段て流延塗布する。この金属箔が12未満て
あればカールの発生を防止しにく(、また用途上の問題
もあり、逆に500μを超えると複合フィルムの柔軟性
に欠は電気回路板などの用途にふされしくないため好ま
しくない。
金属箔の種類としては銅箔またはアルミニウム箔が好ま
しく、銅箔を用いる場合は電解銅箔、圧延銅7またはこ
れらをシランカップリング剤、アルミニウム系カップリ
ング剤により表面処理したものを用いるとポリイミド膜
との接着力が大きくなり好ましい。金属箔としてはその
他前記厚みを有する銀、鉄、ニッケルとクロムとの合金
、ステンレスなどの各種材質からなるものであってもよ
い。前記ポリイミド前駆体溶液を塗布する際のこれら金
属箔の長さについては特に規定されないが、幅としては
実用上20〜200 mm程度である。
もちろん、上記範囲を逸脱しても差し支えない。
また上記幅の金属箔を用いて得られた複合フィルムを最
終工程において所定幅に裁断して使用に供してもよい仁
とはいうまでもない。
上記の有機極性溶媒としては、それぞれの重合反応時に
使用したものを同様に使用できる。なお、溶液中のポリ
イミド前駆体の濃度は通常10〜20重量%程度とする
のがよく、この濃度が低すきるとポリイミド膜の表面が
荒れやす(、また高くなりすきると粘度が高くなって塗
布作業性を損なうため、いずれも好ましくない。この溶
液の粘度は塗布作業性の面から加温塗布時の粘度で通常
1..000ポイズ以下とするのがよい。また、金属箔
とポリイミド膜との接着性を高めるために、金属箔上に
あらかじめシランカップリング剤を塗布しておいてもよ
く、あるいは上記の溶液中にシランカップリング剤を添
加混合してもよい。
上記の溶液塗布後、上記の金属箔を固定した状態で、通
常、100〜230°Cで30分〜2時間程度加熱乾燥
して溶媒を除去したのち、さらに昇温し最終的に230
〜600°Cで1分〜6時間、好ましくは形成されるポ
リイミドのカラス転移温度付近、つまり250〜350
°Cで10分〜6時間加熱処理してイミド化反応を完全
に行わせるとともに、上記の溶媒除去およびイミド化時
に塗膜に生じる応力を緩和する。
なお、イミド化および応力緩和のための加熱処理の温度
を230°C未満の温度で行うと応力緩和が不充分とな
り、得られる複合フィルムにカールが生じやすく、また
、この加熱を600℃を超える温度で行うとポリイミド
が分解するため、好ましくない。また、ポリイミドの分
解を防ぐために、350’Cを超える温度での加熱時間
は10分未満とするのが好ましい。
また上記加熱乾燥および高温での加熱処理は、ポリイミ
ド前駆体溶液が塗布された金属箔を固定した状態で行う
ものであるが、この固定方法としては、たとえばカラス
板上などにポリイミドテープなどを用いて平板状に固定
する、金属箔の長さ方向両端部をロールに巻き付は固定
するなどの金属箔の長さ、大きさに応じてその幅方向お
よび長さ方向共に実質的に固定しつる種々の方法をとる
ことができる。
このようにして加熱乾燥および高温加熱処理したのち室
温まで冷却する。前記固定は、高温加熱処理後であれば
いつ解除してもよいが、通常は室温まで冷却したのち解
除するのが望ましい。
かくして金属箔上に応力緩和がうまくなされたポリイミ
ド膜が形成される。このポリイミド膜の厚みは5〜2 
Q Q pyn、好ましくは10〜100p1特に好ま
しくは10〜50JIJnである。この厚みが5P未満
であるとフィルム特性に劣り、200戸を超えるとカー
ルを防止しにくくまた可とう性に欠は電気回路板などの
用途にふされしくないため、いずれも不適当である。
上記ポリイミド膜は50〜250°Cにおける平均線膨
張係数が通常は1.2XIO〜2.9X10 1/’C
の範囲にあるが、場合によっては上記値よりもさらに小
さい平均線膨張係数にすることも可能である。これに対
して上記と同じ温度範囲にある1〜500声厚とされた
前記金属箔の平均線膨張係数は、たとえば銅箔では1.
5X10〜1.7 X 10 1/Cの範囲にあり、ま
たアルミニウム箔では2.4X10’〜2.6 X 1
0 1/’Cの範囲にある。
このように、この発明においては上記ポリイミド膜およ
び金属箔の厚みやポリイミド膜のポリマー組成を前記特
定範囲内で適宜設定することにより、上記一定温度範囲
におけるポリイミド膜と金属箔との平均線膨張係数の差
を0.3 x 10 ’ 17C以内に抑えれるという
特徴を有している。
なお、この明細書においていう線膨張係数とは、温度T
において長さlの材料が温度カ月°C変化したとき長さ
が△lだけ変化したとすると、△l/1で示されるもの
であり、また平均線膨張係数とは一定温度範囲における
上記線膨張係数の平均値として示されるものである。そ
して、この線膨張係数の測定は、複合フィルムを長さ1
5 cm 、幅3mmに切断した試験片につき、長さ方
向の一端を上方にして固定しチャック間距離10cmで
下端に15y/ tnaの荷重を加えた状態で窒素ガス
雰囲気中10°C/分の昇温速度で温度変化を与え、こ
のときの上記△l/lをめるようにしたものである。
上記のようにして得られたポリイミド−金属箔複合フィ
ルムは、幅方向および長さ方向共に曲率半径が25cm
以上、好ましくは50cm以上、さらに好適には(資)
であるような実質的にカールがなく、しかも耐熱性、耐
薬品性、耐久性、可とう性にすぐれるとともにポリイミ
ド膜と金属箔との接着力にもすぐれているため、プリン
ト配線基板、フレキシブルプリント配線基板、多層配線
基板、振動板などの用途に好適である。また、上記複合
フィルムは、これに通常50〜270°Cの熱が加わる
加工処理に供しても、その冷却後に実質的なカールがお
こらないという利点を有しており、この点で上記各種用
途へ適用する際の取り扱い性2寸法安定性にすぐれると
いう特徴をも備えている。
以下にこの発明の実施例を記載する。なお、以下におけ
る曲率半径および平均線膨張係数は各実施例および比較
例にて作製した複合フィルムを前記各試験片の大きさに
切断し、これを用いて前記方法にて測定ないし算出した
ものである。なおまた、上記曲率半径は10cm角の長
さ方向および幅方向(縦横)両方についての測定値で、
両値は実質的に同しであることを意味する。
実施例1 500m(!のフラスコにp−フェニレンジアミン10
.89 (0,1モル)およびN−メチル−2−ピロリ
ドン(以下、NMPという)210pを入れて混合しジ
アミンを溶解させた。この系を撹拌しなから3・3′・
4・4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物294
y(01モル)を徐々に加えた。
この間、反応系の温度が30’C以上にならないように
氷水で冷却した。その後2時間撹拌して161重量%濃
度のポリアミド酸のNMP溶液を得た。
このポリアミド酸の対数粘度(NMP中0.!M’/1
00 meO:)濃度で30°C下で測定)は232で
あった。また、このNMP溶液の粘度は1,820ポイ
ズ(30°C)であった。
このポリアミド酸のNMP溶液を予め加温して粘度を1
,000ポイズ以下に下げ、これを縦30cm×横20
cmのガラス板上にその周縁四方をポリイミドフィルム
で固定した上記ガラス板と同じ大きさの351m厚の銅
箔上にアプリケータにより流延し、150°Cで30分
、200’Cで60分加熱し、さらに270°Cで2時
間加熱した。その後室温まで冷却し、銅箔の固定を解除
した。得られたポリイミド−銅箔複合フィルムにおける
ポリイミド膜の厚みは24/−1で、この複合フィルム
の曲率半径は82cmであり実質的にカールのないもの
であった。
また、この複合フィルムにおけるポリイミド膜と銅箔と
の90°はく離強度は常態で1.48KFI/ 10 
mmであり、260°Cのハンダ浴に30秒間浸漬後の
90°はく離強度は1.40Kg/ 10mmテあった
。また、この複合フィルムにパターンエツチングを施し
たところ、カールは生じなかった。
この複合フィルムにおけるポリイミド膜の線膨張係数を
熱機械的分析(以下、TMAという)で測定したところ
50〜250”Cの平均線膨張係数が1.62 X I
 0 1/’Cであり、同し温度範囲における銅箔の平
均線膨張係数(1,60X10 1/’C)とほぼ等し
かった。
実施例2〜5 実施例1で得られたポリアミド酸のNMP溶液を、実施
例1と同じ大きさのガラス板上に実施例1と同様にして
固定した上記ガラス板と同じ大きさの35/”l厚の銅
箔上に、実施例1と同様の手法にて流延し、150°C
で30分、2oo″Cで60分加熱したのち、さらに次
の第1表に示す条件で加熱し、その後冷却してポリイミ
ド膜の厚みが24μであるポリイミド−銅箔複合フィル
ムを得た。
得られた複合フィルムの曲率半径は次の第1表に示すと
おりてあった。なお、参考のため実施例1で得られた複
合フィルムについても同様に第1表に示した。
第 1 表 比較例1 p−フェニレンジアミン10.11(0,1モル)のか
わりに4・4−ジアミノジフェニルエーテル20.0P
(0,1モル)を用いた以外は実施例1と同様にして1
9.OiJ量%濃度のポリアミド酸のNMP溶液を得た
。このポリアミド酸の対数粘度(NMP中0.5 Fi
’/ 100meの濃度で30°C下で測卸は2.12
であり、このNMP溶液の粘度は2,040ポイズ(3
0°C)であった。
このポリアミド酸のNMP溶液を、実施例1と同じ大き
さのガラス板上に実施例1と同様にして固定した上記ガ
ラス板と同じ大きさの35pn厚の銅箔上に、実施例1
と同じ手法にて流延し、さらに実施例1と同様の条件で
加熱したのち室温まで冷却し、銅箔の固定を解除した。
得られたポリイミド−銅箔複合フィルムにおけるポリイ
ミド嘆の厚みは28μで、この複合フィルムの曲率半径
は0、8 cmでありカールが大きかった。
この複合フィルムにおけるポリイミド膜のTMAにより
測定した50〜250°Cにおける平均線膨張係数は3
.4X10 1/’Cであり、同じ温度範囲における銅
箔の平均線膨張係数に比べて大きかった。このため、ポ
リイミド膜形成時に応力緩和を行っても室温まで冷却す
るとカールを生じたと考えられる。
比較例2 比較例1で得られたポリアミド酸のNMP溶液を、実施
例1と同じ大きさのガラス板上に実施例1と同様にして
固定した上記ガラス板と同じ大きさの3511’n厚の
銅箔上に、実施例1と同し手法にて流延し、150°C
で30分、200℃で60分加熱し、さらに300℃で
1時間加熱した。その後室温まで冷却し、銅箔の固定を
解除した。得られたポリイミド−銅箔複合フィルムにお
けるポリイミド膜の厚みは24/’Nで、この複合フィ
ルムの曲率半径は1.1 cmでありカールが大きかっ
た。
実施例6〜9 500meのフラスコに第2表に示す溶媒とジアミン成
分とを入れてジアミン成分を溶解させた。
なお、溶媒の使用量は、ジアミン成分および芳香族テト
ラカルボン酸成分のモノマー仕込み濃度が15重量%と
なるようにした。
次に、上記の系を撹拌しながら第2表に示す芳香族テト
ラカルボン酸成分を徐々に加えた。この間、反応系の温
度が30°C以上にならないように氷水で冷却した。こ
の後所定時間撹拌して第2表に示す対数粘度(NMP中
0.5 y/ 100me(D濃度で30℃下で測定)
のポリアミド酸の溶液を得た。
このポリアミド酸の溶液を、実施例1と同じ大きさのガ
ラス板上に実施例1と同様にして固定した第2表に示す
厚みを有する上記ガラス板と同じ大きさの銅箔上に実施
例1と同様の手法にて流延し、150°Cで30分、2
00°Cて60分、さらに300°Cで2時間加熱した
。その後、室温まで冷却し、銅箔の固定を解除した。得
られたポリイミド−銅箔複合フィルムにおけるポリイミ
ド膜の厚みと複合フィルムの曲率半径は第2表に示すと
おりであった。また、この複合フィルムにおけるポリイ
ミド膜のTMAにより測定した50〜250°Cにおけ
る平均線膨張係数と銅箔の平均線膨張係数の差を第2表
に示した。
比較例3〜7 第2表に示す溶媒、ジアミン成分および芳香族テトラカ
ルボン酸成分を用いて上記の実施例6〜9と同様にして
第2表に示す対数粘度(NMP中0.59/ 100m
eの濃度で30°C下で測定)のポリアミド酸の溶液を
得た。
このポリアミド酸の溶液を用いて上記の実施例6〜9と
同様にしてポリイミド−銅箔複合フィルムを得た。この
複合フィルムの曲率半径、銅箔およびポリイミド膜の膜
厚並びにTMAにより測定した50〜250°Cにおけ
るポリイミド膜の平均線膨張係数と銅箔の平均線膨張係
数の差を第2表に示した。
なお、第2表においてp−PDAはp−フェニレンジア
ミン、m−PDAはn】−フェニレンジアミン、DAD
Eは4・4−ジアミノジフェニルエーテル、DA、DM
は4・4−ジアミノジフェニルメタン、5−BPDAは
3・3・4・4−ヒフェニルテトラカルポン酸二無水物
−、PDAはピロメリット酸二無水物、BTDAは3・
3′・4・4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、DMFはN−N−ジメチルホルムアマイドを示す
実施例10 シアミン成分としてp−フェニレンジアミン9゜73y
(0,09モル)および4・4′−ジアミ/ジフェニル
エーテル2.0 y(0,01モル)ヲ用いり以外は実
施例1と同様にしてポリアミド酸のNMP溶液を得た。
このポリアミド酸の対数粘度(NMP中0.5 fi’
/ 100meの濃度で30°C下で測定)は21であ
った。
このポリアミド酸のNMP溶液を、実施例1と同じ大き
さのカラス板上に実施例1と同様にして固定した上記ガ
ラス板と同じ大きさの5声厚のアルミニウム箔上に実施
例1と同様の手法にて流延し、150°Cで30分、1
80℃で60分加熱しタッチ、さらに290°Cで2時
間加熱した。その後、室温まで冷却し、アルミニウム箔
の固定を解除した。得られたポリイミド−アルミニウム
箔複合フィルムにおけるポリイミド膜の厚みは26/”
で、この複合フィルムの曲率半径は76cTnであった
また、この複合フィルムにおけるポリイミド膜のTMA
により測定した50〜250°Cにおける平均線膨張係
数は2.3X10 しCで、同じ温度範囲におけるアル
ミニウム箔の平均線膨張係数(25X 10 ’1/’
C)とほぼ等しかった。
以上の実施例および比較例から明らかなように、この発
明のポリイミド−金属箔複合フィルムの製造方法による
と、実質的にカールを生じることのない複合フィルムが
得られることがわかる。
【図面の簡単な説明】
図はホリイミドー金属箔複合フィルムについての曲率半
径を説明するための説明図である。 特許出願人 日東電気工業株式会社(外1名)]三−3
dt ↑市 −正 書 昭和59年 5月231コ 特願昭59−64224号 2、発明の名称 ボリイミ]−余属箔複合フィルムの製造方法3、補正を
する者 中1’l 、!: tハ閏1〒 特許出1?fi人It
 f] 大阪R丁茨木市下穂積1丁目1番2号名 IT
 (396)e東電気工業株式会社代表壱 土 方 三
 部 (外1名) 4、代理人 郵博用胃 530 7、補正の内容 八、明細書: (1) 第11jL’j第12行目; 1−200証−1とあるをr 200 cm 、、1と
61市いたしまず。 (2)第150第9行目; 1−15 cm Jとあるを「25市m−1と訂正いた
しまず。 (3)第15頁第11行目; 1’lOcmJとあるをrtommJと訂正いたしまず

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1〜500μの厚みの金属箔上に、p−フェニレ
    ンジアミンを主成分とするジアミン成分と3・3′・4
    ・4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物またはそ
    の誘導体を主成分とする芳香族テトラカルボン酸成分と
    を反応させて得られるポリイミド前駆体の有機極性溶媒
    溶液を塗布し、上記の金属箔を固定した状態で加熱乾燥
    しさらに高温で加熱処理して5〜200μの厚みのポリ
    イミド膜を形成することにより、曲率半径が2 ’5 
    cm以上で実質的にカールのないポリイミド−金属箔複
    合フィルムを製造することを特徴とするポリイミド−金
    属箔複合フィルムの製造方法。
  2. (2)ポリイミド前駆体の対数粘度(N−メチル−2−
    ピロリドン中0.5 ?/ 100meの濃度で30°
    C下で測定)が04〜70である特許請求の範囲第tl
    )項記載のポリイミド−金属箔複合フィルムの製造方法
  3. (3)加熱乾燥後の高温加熱処理を最終的に230〜6
    00℃で行う特許請求の範囲第m項または第(2)項記
    載のポリイミド−金属箔複合フィルムの製造方法。
  4. (4)金属箔が銅箔またはアルミニウム箔からなる特許
    請求の範囲第(1)〜(3)項のいずれかに記載のポリ
    イミド−金属箔複合フィルムの製造方法。
  5. (5)金属箔とポリイミド膜との50〜250°Cにお
    ける平均線膨張係数の差が0.3X10 ¥C以内であ
    る特許請求の範囲第(1)〜(4)項のいずれかに記載
    のポリイミド−金属箔複合フィルムの製造方法。
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