JPS6020316A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6020316A JPS6020316A JP58128388A JP12838883A JPS6020316A JP S6020316 A JPS6020316 A JP S6020316A JP 58128388 A JP58128388 A JP 58128388A JP 12838883 A JP12838883 A JP 12838883A JP S6020316 A JPS6020316 A JP S6020316A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- group
- magnetic layer
- layer
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/733—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the addition of non-magnetic particles
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ード等の磁気記録媒体に関するものであり、さらに言え
ば、特に非磁性支持体と磁性層との間に形成される下塗
り層の組成に関するものである。
ば、特に非磁性支持体と磁性層との間に形成される下塗
り層の組成に関するものである。
一般に、磁気記録媒体は、ポリエステルフィルム等の非
磁性支持体上に、磁性粉末やバインダと称される結合剤
、分散剤、潤滑剤等を有機溶剤に分散混練してなる磁材
塗料を塗布、乾燥し磁性層を形成して成っている。
磁性支持体上に、磁性粉末やバインダと称される結合剤
、分散剤、潤滑剤等を有機溶剤に分散混練してなる磁材
塗料を塗布、乾燥し磁性層を形成して成っている。
ところで、この種の磁気記録媒体では、記録密度の向上
に伴って上記磁性層への磁性粉末の高充填化が図られた
り、記録波長の短波長化に伴って磁性層ζこおける厚み
損失を減少するために上記磁性層の薄膜化等が図られて
いる。しかしながら、上述のように磁性粉末の充填密度
を高くすると、磁性層の支持体に対する接着性が悪くな
ってこの磁性層が上記支持体から剥離するという虞れが
生じている。さらに上記磁性層の表面電気抵抗が高くな
ってこの磁性層が帯電しやすくなり、記録再生時に放電
ｌこよるノイズが発生したり、塵埃が付着してドロップ
アウトの原因となったりしている。
に伴って上記磁性層への磁性粉末の高充填化が図られた
り、記録波長の短波長化に伴って磁性層ζこおける厚み
損失を減少するために上記磁性層の薄膜化等が図られて
いる。しかしながら、上述のように磁性粉末の充填密度
を高くすると、磁性層の支持体に対する接着性が悪くな
ってこの磁性層が上記支持体から剥離するという虞れが
生じている。さらに上記磁性層の表面電気抵抗が高くな
ってこの磁性層が帯電しやすくなり、記録再生時に放電
ｌこよるノイズが発生したり、塵埃が付着してドロップ
アウトの原因となったりしている。
一方、上記磁性層の膜厚が薄くなると、支持体のわずか
な変化にも追従できなくなってしまったり、磁性層自体
の塗膜強度も低下してしまう。
な変化にも追従できなくなってしまったり、磁性層自体
の塗膜強度も低下してしまう。
そこで従来は、上記支持体と磁性層の間に塩化ビニール
酢酸ビニル系共重合体やポリエステル樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、セルロース誘導体等のバインダを塗布して下塗
り層を形成し、上記支持体と磁性層の接着性を確保する
ことが試みられている。しかしながら、上記各バインダ
は磁性粉末との親和性が不充分で、特に磁性粉末が高密
度充填される磁性層に対してはほとんど効果が得られな
い。さらに、上記下塗り層は表面平滑性に欠け、特にこ
の下塗り層に上記磁性層の帯電を防止するための導電性
粒子を分散させると著しく平滑性が悪くなり、この下塗
り層上に塗布形成される磁性層の表面平滑性も不充分な
ものとなって、ＳＮ比の劣化を招いてしまっている。
酢酸ビニル系共重合体やポリエステル樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、セルロース誘導体等のバインダを塗布して下塗
り層を形成し、上記支持体と磁性層の接着性を確保する
ことが試みられている。しかしながら、上記各バインダ
は磁性粉末との親和性が不充分で、特に磁性粉末が高密
度充填される磁性層に対してはほとんど効果が得られな
い。さらに、上記下塗り層は表面平滑性に欠け、特にこ
の下塗り層に上記磁性層の帯電を防止するための導電性
粒子を分散させると著しく平滑性が悪くなり、この下塗
り層上に塗布形成される磁性層の表面平滑性も不充分な
ものとなって、ＳＮ比の劣化を招いてしまっている。
そこで、本発明者等は、従来技術の前記欠点を解消する
ために鋭意研究の結果、下塗り層のバインダとしてスル
ホン酸金属塩基やリン酸金属塩基等の如き親水性極性基
を有する樹脂相料を用いることにより磁性層との接着性
を確保することができるとともに、併せて潤滑剤や所定
規格のカーボンブラックを混入することにより表面平滑
性を良好なものとし帯電防止を図ることができることを
見出し本発明を完成したものであって、非磁性支持体と
磁性層との間に、親水性極性基を有する化合物からなる
樹脂材料とカーボンブラックと潤滑剤とを含有してなる
下塗り層を形成することを特徴とするものである。
ために鋭意研究の結果、下塗り層のバインダとしてスル
ホン酸金属塩基やリン酸金属塩基等の如き親水性極性基
を有する樹脂相料を用いることにより磁性層との接着性
を確保することができるとともに、併せて潤滑剤や所定
規格のカーボンブラックを混入することにより表面平滑
性を良好なものとし帯電防止を図ることができることを
見出し本発明を完成したものであって、非磁性支持体と
磁性層との間に、親水性極性基を有する化合物からなる
樹脂材料とカーボンブラックと潤滑剤とを含有してなる
下塗り層を形成することを特徴とするものである。
上記下塗り層のバインダとして用Ｇ）られる樹月旨材料
としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化
ヒニルー酢酸ビニルービニルアルコ−カリたは炭化水素
基を表す。）から選ばれた親水性極性基を導入したもの
が挙げられる。
としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化
ヒニルー酢酸ビニルービニルアルコ−カリたは炭化水素
基を表す。）から選ばれた親水性極性基を導入したもの
が挙げられる。
ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂＝前記親水性極
性基を導入する方法としては、次のような方法が挙げら
れる。
性基を導入する方法としては、次のような方法が挙げら
れる。
（１） ポリウレタン又はポリエステルの原料である２
塩基酸あるいはポリオール等に前記親水性極性基を予め
導入しておく方法。
塩基酸あるいはポリオール等に前記親水性極性基を予め
導入しておく方法。
（２ン２官能若しくは３官能以上の一〇Ｈ基を有するポ
リウレタン樹脂又はポリエステ）ｖ樹カ旨を変性する方
法。
リウレタン樹脂又はポリエステ）ｖ樹カ旨を変性する方
法。
上記（２）の具体−としては、例えば、（、ＡＪ （Ｊ
ＣＨ２ＣＨｚＳＯ３Ｍ，Ｃ４ＣＨｚＣＨｚＯＳＯ３Ｍ。
ＣＨ２ＣＨｚＳＯ３Ｍ，Ｃ４ＣＨｚＣＨｚＯＳＯ３Ｍ。
ＣＪｌＣＨ２ＣＯＯＭ，ｃｚＣＨ２Ｐ（ＯＭ）２（但し
、Ｍは水素原子又はアルカリ金属、Ｍは水素原子、アル
カリ金属又は炭化水素基）の如く、分子中に親水性極性
基と塩素を含有する化合物と、多官能のＯＨ基を有する
ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂とを、両成分が
溶解性のあるジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等の溶剤に溶解し、ピリジン、ピコリン、トリエチ
ルアミンなどのアミン類やエチレンオキサイド、プロピ
レンオキサイドなどのエポキ７化合物等の脱塩酸剤の存
在下での一〇 Ｈ基と塩素との脱塩酸反応により親水性
極性基を導入する方法がある。この反応式を示せば次の
ようになる。
、Ｍは水素原子又はアルカリ金属、Ｍは水素原子、アル
カリ金属又は炭化水素基）の如く、分子中に親水性極性
基と塩素を含有する化合物と、多官能のＯＨ基を有する
ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂とを、両成分が
溶解性のあるジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等の溶剤に溶解し、ピリジン、ピコリン、トリエチ
ルアミンなどのアミン類やエチレンオキサイド、プロピ
レンオキサイドなどのエポキ７化合物等の脱塩酸剤の存
在下での一〇 Ｈ基と塩素との脱塩酸反応により親水性
極性基を導入する方法がある。この反応式を示せば次の
ようになる。
（Ａ−１） Ｒ−ＯＨ＋（４ＣＨ２ＣＨ２８０３Ｍ”１
％ ＯＣＨ２ＣＨｚＳＯ３Ｍ＋ＨＣＪ（Ａ−２） ＲＯ
Ｈ＋（ＪＣＨｚＣＨｚＯＳＯ３Ｍ− Ｒ− Ｏ ＣＨ２
ＣＨ２ ０ Ｓ Ｏ ａ Ｍ＋ＨＣＪＬ（Ａ−３）
几−ＯＨ＋（ＪＣＨ２ＣＯＯＭ→Ｒ−ＯＣＨ２ＣＯＯＭ
＋ＨＣ４ （Ａ−４） Ｒ−０）（＋ＣＪＣＨｚＰ（ＯＭ）＋１ →Ｒ−ＯＣＨｚＰ（ＯＭ）２ ＋ＨＣＪ１１ （但し、Ｒ：ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂） 若干の副生成物を生じるが、次の方法でも合成可能であ
る。即ち、 （ＢＩ ＨＯＣＩ４２ＣＨ２Ｓ０３Ｍ，ＨＯＣＨ２ＣＨ
２０Ｓ０３Ｍ。
％ ＯＣＨ２ＣＨｚＳＯ３Ｍ＋ＨＣＪ（Ａ−２） ＲＯ
Ｈ＋（ＪＣＨｚＣＨｚＯＳＯ３Ｍ− Ｒ− Ｏ ＣＨ２
ＣＨ２ ０ Ｓ Ｏ ａ Ｍ＋ＨＣＪＬ（Ａ−３）
几−ＯＨ＋（ＪＣＨ２ＣＯＯＭ→Ｒ−ＯＣＨ２ＣＯＯＭ
＋ＨＣ４ （Ａ−４） Ｒ−０）（＋ＣＪＣＨｚＰ（ＯＭ）＋１ →Ｒ−ＯＣＨｚＰ（ＯＭ）２ ＋ＨＣＪ１１ （但し、Ｒ：ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂） 若干の副生成物を生じるが、次の方法でも合成可能であ
る。即ち、 （ＢＩ ＨＯＣＩ４２ＣＨ２Ｓ０３Ｍ，ＨＯＣＨ２ＣＨ
２０Ｓ０３Ｍ。
ＨＯＣＨ２ＣＯＯＭ，ＨＯＣＨ２Ｐ（ＯＭ）２とジイソ
シアネ１ 一ト化合物、例えば、４，４−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートとを等モル反応させ、ジイソシアネ
ートの二方のＮＣＯ基と上記分子中のＯＨ基との反応に
よる反応生成物を得る。
シアネ１ 一ト化合物、例えば、４，４−ジフェニルメタンジイソ
シアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネートとを等モル反応させ、ジイソシアネ
ートの二方のＮＣＯ基と上記分子中のＯＨ基との反応に
よる反応生成物を得る。
次にポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂の一〇Ｈ基
と残留している一Ｎ Ｃ−０基とを反応させれば、親水
性極性基の導入されたポリウレタン樹脂、ポリエステル
樹脂が得られる。
と残留している一Ｎ Ｃ−０基とを反応させれば、親水
性極性基の導入されたポリウレタン樹脂、ポリエステル
樹脂が得られる。
（Ｂ−１）
ＯＣＮ ＲＩ−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｍ→Ｏ
ＣＮ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２８０３ＭＲ−ＯＨ＋
０ＣＮ−Ｒ，−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２８０３Ｍ−Ｒ−
ＯＣＯＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＳＯｓＭ（Ｂ
−２） ＯＣＮ−トＮＣＯ＋ＨＯＣＨｚＣＨｚＯ８ＯａＭ、ＯＣ
Ｎ−に−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２０Ｓ０３ＭＲ−ＯＨ＋
０ＣＮ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ８０３Ｍ−Ｒ−
ＯＣＯＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨｚ ＣＨ２０Ｓ Ｏａ
Ｍ−（Ｂ−３） ＯＣＮ−Ｒｆ−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨ２Ｃ００Ｍ→ＯＣＮ−
Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨｚＣＯＯＭＲ−ＯＨ＋０ＣＮ−Ｒｆ
−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＯＯＭ−”Ｒ−ＯＣｏ ＮＨ−Ｒ
−ＮＨＣ００ＣＨ２むＯＯＭ（Ｂ−４） ＯＣＮ−Ｒ’−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨ２Ｐ （ＯＭ’） ２
１ 一０ＣＮ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２Ｐ （ＯＭ’）２′１
１ （但し、Ｒ：ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂 Ｒ′：２価の炭化水素基） また、親水性極性基の導入された塩化ビニル系共重合体
の出発原料としては、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共−合体をはシメ、塩化ビニル−プロピオン
酸ビニル−ビニルアルコール、塩化ビニル−酢酸ビニル
−プロピオン酸ビニル−ビニルアルコールの共重合体が
挙げられる。
ＣＮ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２８０３ＭＲ−ＯＨ＋
０ＣＮ−Ｒ，−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２８０３Ｍ−Ｒ−
ＯＣＯＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＳＯｓＭ（Ｂ
−２） ＯＣＮ−トＮＣＯ＋ＨＯＣＨｚＣＨｚＯ８ＯａＭ、ＯＣ
Ｎ−に−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２０Ｓ０３ＭＲ−ＯＨ＋
０ＣＮ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ８０３Ｍ−Ｒ−
ＯＣＯＮＨ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨｚ ＣＨ２０Ｓ Ｏａ
Ｍ−（Ｂ−３） ＯＣＮ−Ｒｆ−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨ２Ｃ００Ｍ→ＯＣＮ−
Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨｚＣＯＯＭＲ−ＯＨ＋０ＣＮ−Ｒｆ
−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＯＯＭ−”Ｒ−ＯＣｏ ＮＨ−Ｒ
−ＮＨＣ００ＣＨ２むＯＯＭ（Ｂ−４） ＯＣＮ−Ｒ’−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨ２Ｐ （ＯＭ’） ２
１ 一０ＣＮ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２Ｐ （ＯＭ’）２′１
１ （但し、Ｒ：ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂 Ｒ′：２価の炭化水素基） また、親水性極性基の導入された塩化ビニル系共重合体
の出発原料としては、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニル
アルコール共−合体をはシメ、塩化ビニル−プロピオン
酸ビニル−ビニルアルコール、塩化ビニル−酢酸ビニル
−プロピオン酸ビニル−ビニルアルコールの共重合体が
挙げられる。
こノ場合、ビニルアルコールの割合が０．５重量％〜２
０重量％程度のものが好ましい。合成方法とシテハ、ビ
ニルアルコールの一０Ｈ３とＣノＣ’ｌ−ｈＣＨ２０Ｓ
０３Ｍ、ＣＣ１ＣＨ２ＣＨ２５（ｈ、ＣＩ！、ＣＨ２Ｃ
００Ｍ。
０重量％程度のものが好ましい。合成方法とシテハ、ビ
ニルアルコールの一０Ｈ３とＣノＣ’ｌ−ｈＣＨ２０Ｓ
０３Ｍ、ＣＣ１ＣＨ２ＣＨ２５（ｈ、ＣＩ！、ＣＨ２Ｃ
００Ｍ。
（ＪＣＨｚＰ（ＯＭ’）ｚ （但し、Ｍは水素又はアル
カリ金属、Ｍは水素原子、アルカリ金属又は炭化水素基
）等々をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルス
ルホキシド（ＤＭＳＯ）等の溶剤の存在下でピリジン、
ピコリン、トリエチルアミンなどのアミン類、エチレン
オキサ°イド、プロピレンオキサイドなどのエポキ７化
合物等の脱塩酸剤により反応させ、下記の様な化合物を
生成させる。
カリ金属、Ｍは水素原子、アルカリ金属又は炭化水素基
）等々をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルス
ルホキシド（ＤＭＳＯ）等の溶剤の存在下でピリジン、
ピコリン、トリエチルアミンなどのアミン類、エチレン
オキサ°イド、プロピレンオキサイドなどのエポキ７化
合物等の脱塩酸剤により反応させ、下記の様な化合物を
生成させる。
（Ｃ−１）
−ｆ ＣＨ２−ＣＨ−）＋ＣＪ ＣＨ２ＣＨ２Ｓ Ｏａ
ＭＨ −−ｆＣＨ２−ＣＨ−） ＋ＨＣＪＩ ＣＨ２ＣＨ２５０３Ｍ （Ｃ−２） （−ＣＨ２ＣＨ＋＋ＣＣｌ０Ｈ２ＣＨ２０Ｓ０３Ｈ −＋（−ＣＨ２−ＣＨｆ十Ｈ（＃ ＣＨ２ＣＨ２０ＳＯｓＭ （Ｃ−３Ｃ Ｈ２ＣＨ２０ＳＯｓ＋ＣｊＩＣＨｚＣＯＯＭＨ −（ＣＨｚ−ＣＨ−）＋ＨＣ１ ＣＨ２ＣＨ２Ｃ Ｈ２Ｃ０Ｏ そＣＨ２−ＣＨ＋十Ｃ１ＣＨ２Ｐ（ＯＭ）２０ＨＯ −（−ＣＨ２−ＣＨ→十Ｈ（Ｊ これらの反応では、若干の副生成物が生じるが、次の方
法でも合成可能である。即ち、 ＨＯＣＨ２ＣＨ２０ＳＯａＭ、ＨＯＣＨ２ＣＨ２８０ｓ
Ｍ、ＨＯＨＣ２Ｃ００Ｍ、ＨＯＣＨ２Ｐ（ＯＭ’）２と
、２官能イン７アネート化合物（例えば、４．４’−ジ
フェニルメタンジインシアネート、トリレンジイソ７ア
ート、ヘキサメチレンジイソシアネ−１−）とを、ジメ
チルホルムアミド又はジメチルスルホキシド中で等モル
反応させ、ジイソシアネートの一方のイソ７アネート基
と上記分子中のＯＨ基との反応による反応生成物を得る
。次に上記共重合体の一〇Ｈ基と残留している一ＮＣＯ
基りを反応させれば、本発明で使用可能なバインダが得
られる。反応式を示せば、次の通りである。
ＭＨ −−ｆＣＨ２−ＣＨ−） ＋ＨＣＪＩ ＣＨ２ＣＨ２５０３Ｍ （Ｃ−２） （−ＣＨ２ＣＨ＋＋ＣＣｌ０Ｈ２ＣＨ２０Ｓ０３Ｈ −＋（−ＣＨ２−ＣＨｆ十Ｈ（＃ ＣＨ２ＣＨ２０ＳＯｓＭ （Ｃ−３Ｃ Ｈ２ＣＨ２０ＳＯｓ＋ＣｊＩＣＨｚＣＯＯＭＨ −（ＣＨｚ−ＣＨ−）＋ＨＣ１ ＣＨ２ＣＨ２Ｃ Ｈ２Ｃ０Ｏ そＣＨ２−ＣＨ＋十Ｃ１ＣＨ２Ｐ（ＯＭ）２０ＨＯ −（−ＣＨ２−ＣＨ→十Ｈ（Ｊ これらの反応では、若干の副生成物が生じるが、次の方
法でも合成可能である。即ち、 ＨＯＣＨ２ＣＨ２０ＳＯａＭ、ＨＯＣＨ２ＣＨ２８０ｓ
Ｍ、ＨＯＨＣ２Ｃ００Ｍ、ＨＯＣＨ２Ｐ（ＯＭ’）２と
、２官能イン７アネート化合物（例えば、４．４’−ジ
フェニルメタンジインシアネート、トリレンジイソ７ア
ート、ヘキサメチレンジイソシアネ−１−）とを、ジメ
チルホルムアミド又はジメチルスルホキシド中で等モル
反応させ、ジイソシアネートの一方のイソ７アネート基
と上記分子中のＯＨ基との反応による反応生成物を得る
。次に上記共重合体の一〇Ｈ基と残留している一ＮＣＯ
基りを反応させれば、本発明で使用可能なバインダが得
られる。反応式を示せば、次の通りである。
（Ｉ）−１）
ＯＣＮ−几−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｍ→ＯＣ
Ｎ−Ｒ−Ｎ−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｍ→４ ＣＨ２
−ＣＨｆ 占 （Ｄ−２） ＯＣＮ−Ｒ−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨ２ＣＨ２０Ｓ０３Ｍ■ 一０ＣＮ−屁−ＮＣＯＯＣＨ２ＣＨ２０Ｓ０３ＭＯＨ −４（−ＣＨ２−ＣＨチ 【 −Ｃ ＮＨＲＮＨＣＯＯＣＨｚＣＨ２０Ｓ０３Ｍ（Ｄ−３） ＯＣＮ−ぼ−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨｚＣＯＯＭ、ＱＣＮ−ぼ
−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＯＯＭ＋ＣＨ２−ＣＨす＋ＯＣＮ
−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＩ−ｂＣＯＯＭ「 ＯＨ →そＣＨ２−ＣＨチ 「 −Ｃ １。
Ｎ−Ｒ−Ｎ−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｍ→４ ＣＨ２
−ＣＨｆ 占 （Ｄ−２） ＯＣＮ−Ｒ−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨ２ＣＨ２０Ｓ０３Ｍ■ 一０ＣＮ−屁−ＮＣＯＯＣＨ２ＣＨ２０Ｓ０３ＭＯＨ −４（−ＣＨ２−ＣＨチ 【 −Ｃ ＮＨＲＮＨＣＯＯＣＨｚＣＨ２０Ｓ０３Ｍ（Ｄ−３） ＯＣＮ−ぼ−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨｚＣＯＯＭ、ＱＣＮ−ぼ
−ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＯＯＭ＋ＣＨ２−ＣＨす＋ＯＣＮ
−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＩ−ｂＣＯＯＭ「 ＯＨ →そＣＨ２−ＣＨチ 「 −Ｃ １。
ＮＨＲＮＨＣＯＯＣＨｚＣＯＯＭ
（Ｄ−４）
ＯＣＮ−Ｒ−ＮＣＯ＋ＨＯＣＨ２Ｐ（ＯＭ’）２→ＯＣ
Ｎ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２Ｐ（ＯＭ）ｚ（−ＣＨｚ −
ＣＨ＋＋ ０ＣＮ−Ｒ，−ＮＨＣ０ＯＣＨ２Ｐ （ＯＭ
）２ＯＨＱ →（−ＣＨ２−ＣＢ）− 〇 −Ｃ １／ ＮＨＲＮＨＣＯＯＣＨ２Ｐ （ＯＭ’）２（但し、Ｒ：
２価の炭化水素基） またセルロース誘導体に親水性極性基を導入する方法と
しては１、セルロース誘導体中のＯＨ基を変性する方法
が挙げられる。以下に反応式を示す。
Ｎ−Ｒ−ＮＨＣＯＯＣＨ２Ｐ（ＯＭ）ｚ（−ＣＨｚ −
ＣＨ＋＋ ０ＣＮ−Ｒ，−ＮＨＣ０ＯＣＨ２Ｐ （ＯＭ
）２ＯＨＱ →（−ＣＨ２−ＣＢ）− 〇 −Ｃ １／ ＮＨＲＮＨＣＯＯＣＨ２Ｐ （ＯＭ’）２（但し、Ｒ：
２価の炭化水素基） またセルロース誘導体に親水性極性基を導入する方法と
しては１、セルロース誘導体中のＯＨ基を変性する方法
が挙げられる。以下に反応式を示す。
（Ｅ−１）
Ｒ’−０Ｉ−Ｉ＋ＣＪｌＣＩ−Ｉｚ ＣＨ２ＳＯｓ Ｍ
−Ｒ−ＯＣＨ２ＣＨ２ＳＯｓＭ十ＨＣ４（Ｅ−２） Ｗ二ＯＨ＋Ｃ，ＡＣＨｚＣＨ２０Ｓ０３Ｍ−Ｒ’−０Ｃ
Ｈ２ＣＨ２０Ｓ０３Ｍ十Ｈ（Ｊ（Ｂ−３） 痕ＯＨ＋（ＪＣＨ２ＣＯＯＭ −ｆｃ−ＯＣＨｔＣＯＯＭ＋ＨＣ１ （Ｅ−４） π−ＯＨ＋ＣＪ１．ＣＨ２Ｐ（ＯＭ）２→痕０ＣＨ２Ｐ
（ＯＭ）２ ＋Ｉ−ＩＣＡ１（ （但ｔ、、Ｉ’（“：ニトロセルロース骨格Ｍ：水素原
子又はアルカリ金属 Ｍ′：水素原子、アルカリ金属又は炭化水素基） まだ、アクリル樹脂やアクリルゴム、ＮＢＲ等のゴム系
バインダについても、同様の方法により親水性極性基を
導入することができる。
−Ｒ−ＯＣＨ２ＣＨ２ＳＯｓＭ十ＨＣ４（Ｅ−２） Ｗ二ＯＨ＋Ｃ，ＡＣＨｚＣＨ２０Ｓ０３Ｍ−Ｒ’−０Ｃ
Ｈ２ＣＨ２０Ｓ０３Ｍ十Ｈ（Ｊ（Ｂ−３） 痕ＯＨ＋（ＪＣＨ２ＣＯＯＭ −ｆｃ−ＯＣＨｔＣＯＯＭ＋ＨＣ１ （Ｅ−４） π−ＯＨ＋ＣＪ１．ＣＨ２Ｐ（ＯＭ）２→痕０ＣＨ２Ｐ
（ＯＭ）２ ＋Ｉ−ＩＣＡ１（ （但ｔ、、Ｉ’（“：ニトロセルロース骨格Ｍ：水素原
子又はアルカリ金属 Ｍ′：水素原子、アルカリ金属又は炭化水素基） まだ、アクリル樹脂やアクリルゴム、ＮＢＲ等のゴム系
バインダについても、同様の方法により親水性極性基を
導入することができる。
上記親水性極性基を有する化合物からなる樹脂材料は、
親水性極性基１個当りの分子量（当量）が２．０００〜
５０．０００であるのが好ましく、この分子量が太きす
ぎると磁性粉末に対して優れた親和性が得られず、また
上記分子量が小さすぎると汎用溶剤に対する溶解性が悪
くなり良好な塗料が得られなくなる。
親水性極性基１個当りの分子量（当量）が２．０００〜
５０．０００であるのが好ましく、この分子量が太きす
ぎると磁性粉末に対して優れた親和性が得られず、また
上記分子量が小さすぎると汎用溶剤に対する溶解性が悪
くなり良好な塗料が得られなくなる。
なお、上記親水性極性基を有する化合物からなる樹脂材
料の分子の両末端部分にアクリル系二重結合の如き二重
結合を導入し、この樹脂材料が電子線の照射によって短
時間に硬化するようになし、下塗り層の乾燥工程を短縮
して生産効率の向上を図ってもよい。
料の分子の両末端部分にアクリル系二重結合の如き二重
結合を導入し、この樹脂材料が電子線の照射によって短
時間に硬化するようになし、下塗り層の乾燥工程を短縮
して生産効率の向上を図ってもよい。
この場合、上記樹脂材料としては、分子内に上記親水性
極性基を有しかつ少なくとも両末端が水酸基である共重
合ポリエステルを基にしてこの水酸基にジイソシアネー
トを反応させて鎖延長されるエステル系ポリウレタン樹
脂を用いることが好ましい。
極性基を有しかつ少なくとも両末端が水酸基である共重
合ポリエステルを基にしてこの水酸基にジイソシアネー
トを反応させて鎖延長されるエステル系ポリウレタン樹
脂を用いることが好ましい。
また、−上記二重結合を導入するために使用される化合
物としては、分子末端に水酸基を有しかつ二重結合を有
するアクリル系またはメタクリル系の単量体が使用され
る。力）力）る単量体としては、一般式： ％式％ （式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を意味し、そし
て、Ｒ２は非置換もしくは置換アルキレン基を意味する
）で表わされる化合物である。前記−数式において、ア
ルキレン基吉は、直鎖状もしくは分校状の二価飽和炭化
水素残基であって、炭素原子数が１ないし１２のもので
ある。このアルキレン基はまた、 ”１ないし３個のハ キ ロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数が工ない
し４のアルキルオキシ基、炭素原子数が２ないし４のア
ルケニルオキシ基、炭素原子数が２ないし４のアルケニ
ルカルボニルオキシ基などの置換基によって置換されて
いてもよい。
物としては、分子末端に水酸基を有しかつ二重結合を有
するアクリル系またはメタクリル系の単量体が使用され
る。力）力）る単量体としては、一般式： ％式％ （式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を意味し、そし
て、Ｒ２は非置換もしくは置換アルキレン基を意味する
）で表わされる化合物である。前記−数式において、ア
ルキレン基吉は、直鎖状もしくは分校状の二価飽和炭化
水素残基であって、炭素原子数が１ないし１２のもので
ある。このアルキレン基はまた、 ”１ないし３個のハ キ ロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数が工ない
し４のアルキルオキシ基、炭素原子数が２ないし４のア
ルケニルオキシ基、炭素原子数が２ないし４のアルケニ
ルカルボニルオキシ基などの置換基によって置換されて
いてもよい。
前述した一般式にて表わされる化合物のうち好ましい例
としては、アクリル酸もしくはメタクリル酸の２−ヒド
ロキシエチルエステル、２−ヒドロキシプロピルエステ
ル、２−ヒドロキシブチルエステル、２−ヒドロキシオ
クチルエステル、２−ヒドロキシエチルエステル、２−
ヒドロキシー：３−１０ロプロピルエステル、２−ヒド
ロキシ−３−７クリルオキシプロビルエステル、２−ヒ
ドロキシ−３−メタクリルオキシプロピルエステル、２
−ヒドロキシ−３−アセトキシプロピルエステル、２−
ヒドロキシ−３−クロロアセトキシプロピルエステル、
２−ヒドロキシ−３−ジクロロアセトキシプロピルエス
テル、２−ヒドロキシ−３−トリクロロアセトキ７プロ
ピルエステル、２−ヒドロキシ−３−クロトニルオキシ
プロピルエステル、２−ヒドロキシ−３−アリルオキシ
エステルなどが挙げられる。これらの好ましい化合物の
ほか、エステル系ポリウレタンのイソンーアネート基と
反応する活性水素を有しかつアクリル系もしくはメタク
リル系の二重結合を有する単量体であれば何れも適用で
きる。
としては、アクリル酸もしくはメタクリル酸の２−ヒド
ロキシエチルエステル、２−ヒドロキシプロピルエステ
ル、２−ヒドロキシブチルエステル、２−ヒドロキシオ
クチルエステル、２−ヒドロキシエチルエステル、２−
ヒドロキシー：３−１０ロプロピルエステル、２−ヒド
ロキシ−３−７クリルオキシプロビルエステル、２−ヒ
ドロキシ−３−メタクリルオキシプロピルエステル、２
−ヒドロキシ−３−アセトキシプロピルエステル、２−
ヒドロキシ−３−クロロアセトキシプロピルエステル、
２−ヒドロキシ−３−ジクロロアセトキシプロピルエス
テル、２−ヒドロキシ−３−トリクロロアセトキ７プロ
ピルエステル、２−ヒドロキシ−３−クロトニルオキシ
プロピルエステル、２−ヒドロキシ−３−アリルオキシ
エステルなどが挙げられる。これらの好ましい化合物の
ほか、エステル系ポリウレタンのイソンーアネート基と
反応する活性水素を有しかつアクリル系もしくはメタク
リル系の二重結合を有する単量体であれば何れも適用で
きる。
上記二重結合を導入するには、例えば、カルボン酸、ス
ルホン酸金属塩基等の親水性極性基を含有するカルボン
酸ならびに多価アルコールを用いて適当な分子量、例え
ば好ましくは約１．０００ないし３□０００の分子量を
有するように丈ず共重合ポリエステル樹脂を常法に従っ
て製造し、さらにジイソシアネート化合物を反応させて
上記共重合ポリエステル樹脂をウレタン結合を介して鎖
延長した後、その両末端に残存するイソシアネート基に
前述したようなアクリル系もしくはメタクリル系の単量
１体を反応させればよい。
ルホン酸金属塩基等の親水性極性基を含有するカルボン
酸ならびに多価アルコールを用いて適当な分子量、例え
ば好ましくは約１．０００ないし３□０００の分子量を
有するように丈ず共重合ポリエステル樹脂を常法に従っ
て製造し、さらにジイソシアネート化合物を反応させて
上記共重合ポリエステル樹脂をウレタン結合を介して鎖
延長した後、その両末端に残存するイソシアネート基に
前述したようなアクリル系もしくはメタクリル系の単量
１体を反応させればよい。
上記下塗り層に用いられるカーボンブラックとしては、
ＢＥＴ法による比表面積が８〜２００ｍ”／９．ＤＢＰ
法による吸油量が３６〜２００ｍ１７１００ｇのものが
適し、特に上記比表面積が１００〜１５０ｍ’／ｇ、上
記吸油量が５５〜６０ｍ１／１０ｉのものが好沫しい。
ＢＥＴ法による比表面積が８〜２００ｍ”／９．ＤＢＰ
法による吸油量が３６〜２００ｍ１７１００ｇのものが
適し、特に上記比表面積が１００〜１５０ｍ’／ｇ、上
記吸油量が５５〜６０ｍ１／１０ｉのものが好沫しい。
上記比表面積や吸油量が太きすぎると、上記力−ボンブ
ラ・ンクの分散性が悪くなって良好な表面平滑性が得ら
れない。
ラ・ンクの分散性が悪くなって良好な表面平滑性が得ら
れない。
上述の条件を満足するカーボンブラックとしては、例え
ば商品名ＲＥＧＡＬ ６６０Ｒ（キャホット社製）等が
挙げられる。
ば商品名ＲＥＧＡＬ ６６０Ｒ（キャホット社製）等が
挙げられる。
上記カーボンブラックの添加量としては、上記樹脂材料
１０．０重量部に対して５０〜４．００重量部であるこ
とが好ましく、特に１５０〜３００重量部であることが
好ましい。この添加量が５０重量部以下であると、上記
下塗り層を上記非磁性支持体に塗布して巻き取ったとき
に重なり合う支持体の裏面に上記下塗り層が粘着してし
まい、磁性層を塗布する際に塗布機での走行トラブルの
原因となったりしてしまう。また、上記カーボンブラッ
クの添加量が４００重量部を超えると、上記磁性層に対
する接着性を確保することができない。
１０．０重量部に対して５０〜４．００重量部であるこ
とが好ましく、特に１５０〜３００重量部であることが
好ましい。この添加量が５０重量部以下であると、上記
下塗り層を上記非磁性支持体に塗布して巻き取ったとき
に重なり合う支持体の裏面に上記下塗り層が粘着してし
まい、磁性層を塗布する際に塗布機での走行トラブルの
原因となったりしてしまう。また、上記カーボンブラッ
クの添加量が４００重量部を超えると、上記磁性層に対
する接着性を確保することができない。
また、上記下塗り層に用いられる潤滑剤としては、炭素
数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の
一価のアルコールから成る脂肪酸エステル類や、グリセ
リンの脂肪酸エステルであるグリセリド類、カプリル酸
、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノー
ル酸、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数１２−１８
個の脂肪酸、ジアルキルポリシロキサン（アルキルは炭
素数１〜５個）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコ
キンは炭素数１〜４個）、 モ／フルキルモノアルコキ
シボリア０キサン（アルキルは炭素数１〜５個、アルコ
キシは炭素数１〜４個）フェニルポリシロキサン、フロ
ロアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個
）等のシリコンオイル等が挙げられる。これら潤滑剤を
上記バインダとなる樹脂材料に対して２〜４０重量係、
好ましくは４〜２０重量％添加する。上記潤滑剤の添加
量が少なすぎると、この下塗り層上の磁性塗料の塗布が
円滑に行なわれず、上記下塗り層上に形成される磁性層
の表面平滑度が悪くなってＳＮ比が低下する等の問題が
生ずる。さらに、上記下塗り層に含まれる潤滑剤の量が
少ないと、上記磁性層に含まれる潤滑剤が上記下塗り層
に吸収されてしまい、上記磁性層の表面付近に存在する
潤滑剤量が所定の含有量よりも少なくなって摩擦係数を
増大し、塗膜ダメージをもたらして耐久性の悪いものと
なってしまう。
数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の
一価のアルコールから成る脂肪酸エステル類や、グリセ
リンの脂肪酸エステルであるグリセリド類、カプリル酸
、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノー
ル酸、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数１２−１８
個の脂肪酸、ジアルキルポリシロキサン（アルキルは炭
素数１〜５個）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコ
キンは炭素数１〜４個）、 モ／フルキルモノアルコキ
シボリア０キサン（アルキルは炭素数１〜５個、アルコ
キシは炭素数１〜４個）フェニルポリシロキサン、フロ
ロアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個
）等のシリコンオイル等が挙げられる。これら潤滑剤を
上記バインダとなる樹脂材料に対して２〜４０重量係、
好ましくは４〜２０重量％添加する。上記潤滑剤の添加
量が少なすぎると、この下塗り層上の磁性塗料の塗布が
円滑に行なわれず、上記下塗り層上に形成される磁性層
の表面平滑度が悪くなってＳＮ比が低下する等の問題が
生ずる。さらに、上記下塗り層に含まれる潤滑剤の量が
少ないと、上記磁性層に含まれる潤滑剤が上記下塗り層
に吸収されてしまい、上記磁性層の表面付近に存在する
潤滑剤量が所定の含有量よりも少なくなって摩擦係数を
増大し、塗膜ダメージをもたらして耐久性の悪いものと
なってしまう。
一方、上記下塗り層を塗布する非磁性支持体の素材とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２
，６−ナフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン
、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロースト
リアセテート、セルロースタイアセテート、セルロース
アセテートブチレート、セルロースアアセテートフロピ
オネート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート、
ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリヒド
ラジド類、銅、スズ、亜鉛−またはこれらを含む非磁性
合金等の非磁性金属類、ガラス、陶器、磁器等のセラミ
ック類、紙またはポリエチレン、ポリプロピレン、エチ
レン−ブテン共重合体等の炭素数２〜１０のα−ポリオ
レフィン類を塗布もしくはラミネートした紙等の紙類等
が挙げられる。この非磁性支持体の形態はフィルム、テ
ープ、シート、ディスク、カード、ドラム等いずれでも
良い。
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２
，６−ナフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン
、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロースト
リアセテート、セルロースタイアセテート、セルロース
アセテートブチレート、セルロースアアセテートフロピ
オネート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート、
ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリヒド
ラジド類、銅、スズ、亜鉛−またはこれらを含む非磁性
合金等の非磁性金属類、ガラス、陶器、磁器等のセラミ
ック類、紙またはポリエチレン、ポリプロピレン、エチ
レン−ブテン共重合体等の炭素数２〜１０のα−ポリオ
レフィン類を塗布もしくはラミネートした紙等の紙類等
が挙げられる。この非磁性支持体の形態はフィルム、テ
ープ、シート、ディスク、カード、ドラム等いずれでも
良い。
そして、上記非磁性支持体上に先ず下塗り層を塗布形成
し、さらにこの下塗り層上に磁性粉末をバインダ中に分
散し有機溶剤に溶かして調製される磁性塗料を塗布して
磁性層を形成する。
し、さらにこの下塗り層上に磁性粉末をバインダ中に分
散し有機溶剤に溶かして調製される磁性塗料を塗布して
磁性層を形成する。
上記磁性層に用いられる磁性粉末には通常のものであれ
ば何れも使用することができる。したがって、使用でき
る磁性粉末としては、γ−Ｆｅ２０３ 。
ば何れも使用することができる。したがって、使用でき
る磁性粉末としては、γ−Ｆｅ２０３ 。
Ｆｅ５０４． ｒ−Ｆｅｚ０３とＦｅａｓ４の中間の酸
化状態の酸化鉄、Ｃｏ含含有−Ｆｅ２０３、ＣＯ含有Ｆ
ｅａｓ４、Ｃｏ含有のγ−Ｆｅ ２０３とＦｅ３Ｏ４の
中間の酸化状態の酸化鉄、前記酸化鉄にさらに一種以上
の金属元素（特に遷移金属元素）を含有させたもの、前
記酸化鉄にＣＯ酸化物又は水酸化物を主体とした被覆層
を有するもの、Ｃｒ０ｚ、Ｃｒ０ｚの表面を還元処理し
てＣｒｚＯａ層を形成したものなどの酸化物系磁性粉ま
たはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ 等の金属あるいはＦｅ−Ｃｏ合
金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ −Ｃｏ −Ｎｉ合金、Ｃｏ
−Ｎ１−Ｐ合金、Ｃｏ −Ｎｉ −１；’ｅ −Ｂ合金
、Ｆｅ −Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｆｅ −Ｍｎ −Ｚｎ合金
、Ｆｅ −Ｃｏ −Ｎｉ −Ｐ合金などの合金などの強
磁性微粉末などが挙げられる。
化状態の酸化鉄、Ｃｏ含含有−Ｆｅ２０３、ＣＯ含有Ｆ
ｅａｓ４、Ｃｏ含有のγ−Ｆｅ ２０３とＦｅ３Ｏ４の
中間の酸化状態の酸化鉄、前記酸化鉄にさらに一種以上
の金属元素（特に遷移金属元素）を含有させたもの、前
記酸化鉄にＣＯ酸化物又は水酸化物を主体とした被覆層
を有するもの、Ｃｒ０ｚ、Ｃｒ０ｚの表面を還元処理し
てＣｒｚＯａ層を形成したものなどの酸化物系磁性粉ま
たはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ 等の金属あるいはＦｅ−Ｃｏ合
金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ −Ｃｏ −Ｎｉ合金、Ｃｏ
−Ｎ１−Ｐ合金、Ｃｏ −Ｎｉ −１；’ｅ −Ｂ合金
、Ｆｅ −Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｆｅ −Ｍｎ −Ｚｎ合金
、Ｆｅ −Ｃｏ −Ｎｉ −Ｐ合金などの合金などの強
磁性微粉末などが挙げられる。
上記磁性層に用いられるバインダとしては、磁気記録媒
体のバインダとして従来から使用されているものを用い
ればよ（、かかる例としては、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル−酢賦ビニルーマレイン酸共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
アルコールｌ−ＩＪル共重合体、アクリル酸エステル−
アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化
ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニ
リデン共重合体、メククリル酸エステルースチレン共重
合体、熱可塑ポリウレタン樹脂、フェノキ７樹脂、ポリ
弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−メタクリル酸共重合体、ポリビ
ニルブチラール、セルロース誘導体、スチレン−ブタジ
ェン共重合体、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキ７樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、アルキド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹
脂またはこれらの混合物などが挙げられる。さらに、こ
れら樹脂に、先の下塗り層に用いられるバインダと同様
に、親水性極性基を導入して磁性粉末との親和性を向上
して分散性を良好なものとしたり、アクリル系二重結合
を導入してこの磁性層が電子線の照射ｌこよって短時間
に硬化するようにしてもよい。
体のバインダとして従来から使用されているものを用い
ればよ（、かかる例としては、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル−酢賦ビニルーマレイン酸共重合
体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
アルコールｌ−ＩＪル共重合体、アクリル酸エステル−
アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化
ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニ
リデン共重合体、メククリル酸エステルースチレン共重
合体、熱可塑ポリウレタン樹脂、フェノキ７樹脂、ポリ
弗化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−メタクリル酸共重合体、ポリビ
ニルブチラール、セルロース誘導体、スチレン−ブタジ
ェン共重合体、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキ７樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、アルキド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹
脂またはこれらの混合物などが挙げられる。さらに、こ
れら樹脂に、先の下塗り層に用いられるバインダと同様
に、親水性極性基を導入して磁性粉末との親和性を向上
して分散性を良好なものとしたり、アクリル系二重結合
を導入してこの磁性層が電子線の照射ｌこよって短時間
に硬化するようにしてもよい。
また磁性層の構成材料は有機溶剤に溶かして磁性塗料を
調製し、これを下塗り層上に塗布するが、その磁性塗料
の溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、
メタノール、エタノール、フロパノール、フタノール等
のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル
、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等の
エステル類、エーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジオ
キサン等のグリコールエーテル類、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等
の脂肪族炭化水素、メチレンクロライド、エチレンクロ
ライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒ
ドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、ニトロ
プロパン等が挙げられる。
調製し、これを下塗り層上に塗布するが、その磁性塗料
の溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、
メタノール、エタノール、フロパノール、フタノール等
のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル
、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等の
エステル類、エーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジオ
キサン等のグリコールエーテル類、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等
の脂肪族炭化水素、メチレンクロライド、エチレンクロ
ライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒ
ドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、ニトロ
プロパン等が挙げられる。
さらに、上記磁性層には、前記バインダや磁性粉末の他
に添加剤として分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、
防錆剤等を加えてもよい。
に添加剤として分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、
防錆剤等を加えてもよい。
上述のように、本発明においては、親水性極性基を有す
る化合物からなる樹脂材料と所定規格のカーボンブラッ
クと潤滑剤とを含有した下塗り層を、設けているので、
非磁性支持体と磁性粉末が高密度に充填される磁性層と
の接着性を確保することができ、さらに上記磁性層の平
面平滑性を良好なものとして特性を向上することが可能
となっている。
る化合物からなる樹脂材料と所定規格のカーボンブラッ
クと潤滑剤とを含有した下塗り層を、設けているので、
非磁性支持体と磁性粉末が高密度に充填される磁性層と
の接着性を確保することができ、さらに上記磁性層の平
面平滑性を良好なものとして特性を向上することが可能
となっている。
以下、本発明の具体的な実施例について説明する。
実施例１
（１）下塗り塗料の調製
５ＯｓＮａ含有ポリウレタン樹脂１００重量部（極性基
当量＝２．２０００．Ｍｎ＝２４，０００）カーボンブ
ラック ２００重量部 ステアリン酸ブチル ４重量部 メチルインブチルケトン ４５０重量部トルエン ４５
０重量部 上記組成物をボールミルを用いて４８時間混練し下塗り
塗料を調製した。
当量＝２．２０００．Ｍｎ＝２４，０００）カーボンブ
ラック ２００重量部 ステアリン酸ブチル ４重量部 メチルインブチルケトン ４５０重量部トルエン ４５
０重量部 上記組成物をボールミルを用いて４８時間混練し下塗り
塗料を調製した。
（１１）磁性塗料の調製
Ｃｏ被着ｒ −Ｆｅｚｅ３４００重量部下記組成式で表
わされる塩化 ３０重量部ビニル−酢酸ビニル系共重合 体 ニトロセルロース ３０重量部 （Ｈ３４、旭化成社製） 酸化アルミニウム（ＡＪｚ０３）１０重量部カーボンブ
ラック １０重量部 メチルイソブチルケトン ４００重量部トルエン ４０
０重量部 上記組成物をボールミルまたはサンドミルを用いて混練
し磁性塗料を調製した。
わされる塩化 ３０重量部ビニル−酢酸ビニル系共重合 体 ニトロセルロース ３０重量部 （Ｈ３４、旭化成社製） 酸化アルミニウム（ＡＪｚ０３）１０重量部カーボンブ
ラック １０重量部 メチルイソブチルケトン ４００重量部トルエン ４０
０重量部 上記組成物をボールミルまたはサンドミルを用いて混練
し磁性塗料を調製した。
曲）磁気記録媒体の製造
上記下塗り塗料を厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタ
レートベースフィルム上に塗布して下塗り層を形成し、
この下塗り層を乾燥した後、上記下塗り層上に上記磁性
塗料を塗布・乾燥して磁性層を形成し、さらに上記磁性
層の表面に鏡面処理を施して磁気記録媒体を得た。この
磁気記録媒体をテープ状に裁断し、ビデオテープレコー
ダで録画再生してビデオ信号のＳＮ比の測定を行なった
。
レートベースフィルム上に塗布して下塗り層を形成し、
この下塗り層を乾燥した後、上記下塗り層上に上記磁性
塗料を塗布・乾燥して磁性層を形成し、さらに上記磁性
層の表面に鏡面処理を施して磁気記録媒体を得た。この
磁気記録媒体をテープ状に裁断し、ビデオテープレコー
ダで録画再生してビデオ信号のＳＮ比の測定を行なった
。
上記下塗り塗料に用いられたカーボンブラックの比表面
積及び吸油量と得られた測定結果の関係を第１表に示す
。
積及び吸油量と得られた測定結果の関係を第１表に示す
。
第１表
上記第１表に示す結果から明らかなように、下塗り層に
使用するカーボンブラックの比表面積が１０００ｍ２／
ｇのように大きくなると、このカーボンブラックの分散
が困難となり、下塗り層の表面平滑性が悪（なってビデ
オ信号の８Ｎ比を劣化してしまう。上記カーボンブラッ
クの比表面積が２００７７＋２７ｇ以下であれば安定し
たＳＮ比が得られる。
使用するカーボンブラックの比表面積が１０００ｍ２／
ｇのように大きくなると、このカーボンブラックの分散
が困難となり、下塗り層の表面平滑性が悪（なってビデ
オ信号の８Ｎ比を劣化してしまう。上記カーボンブラッ
クの比表面積が２００７７＋２７ｇ以下であれば安定し
たＳＮ比が得られる。
実施例２
下塗り塗料のカーボンブラックに、比表面積１２５ ｒ
ｔ？／！ｊ、吸油量５５ｒｎＡ／１０１のものを用い、
このカーボンブラックの添加量を第２表に示す如く変え
て、先の実施例１と同様に磁気記録媒体を製造した。
ｔ？／！ｊ、吸油量５５ｒｎＡ／１０１のものを用い、
このカーボンブラックの添加量を第２表に示す如く変え
て、先の実施例１と同様に磁気記録媒体を製造した。
カーボンブランクの添加量と得られる磁気記録媒体の特
性を第２表に示す。
性を第２表に示す。
第 ２ 表
上記第２表に示す結果から明らかなように、下塗り層の
バインダに対するカーボンブラック添加量の割合が小さ
いと、この下塗り層と非磁性支持体間の粘着が起こり、
才だ表面電気抵抗値も高し）。
バインダに対するカーボンブラック添加量の割合が小さ
いと、この下塗り層と非磁性支持体間の粘着が起こり、
才だ表面電気抵抗値も高し）。
これに対して、カーボンブラックの添加量が多すぎると
、接着強度を低下してしまう。したがって、上記カーボ
ンブラックの添加量は、ノベインダとして用いる樹脂材
料１００重量部に対して５０重量部〜４００重量部であ
ることが好ましい。
、接着強度を低下してしまう。したがって、上記カーボ
ンブラックの添加量は、ノベインダとして用いる樹脂材
料１００重量部に対して５０重量部〜４００重量部であ
ることが好ましい。
実施例３
下塗り塗料のカーボンブランクに、比表面積１２５ｒｒ
？／９、吸油量５５ｍｇ／１００ｇのものを用い、ステ
アリン酸ブチルの添加量を第３表に示す如く変えて、先
の実施例１と同様に磁気記録媒体を製造した。
？／９、吸油量５５ｍｇ／１００ｇのものを用い、ステ
アリン酸ブチルの添加量を第３表に示す如く変えて、先
の実施例１と同様に磁気記録媒体を製造した。
ステアリン酸ブチルの添加量と得られる磁気言己第３表
上記第３表から明らかなように、下塗り層を設けていな
い磁気記録媒体や下塗り層に潤滑剤であるステアリン酸
ブチルを全く含まない磁気記録媒体では耐久性が極めて
悪くなっている。これに対して、下塗り層に潤滑剤を添
加した磁気記録媒体では、耐久テストでの寿命が２０〜
１００倍に伸びており、また、表面平滑性も良好なもの
となつ実施例４ 下塗り塗料に添加する潤滑剤を第４表に示すも・のに変
えて先の実施例１と同様に磁気記録媒体を製造した。
い磁気記録媒体や下塗り層に潤滑剤であるステアリン酸
ブチルを全く含まない磁気記録媒体では耐久性が極めて
悪くなっている。これに対して、下塗り層に潤滑剤を添
加した磁気記録媒体では、耐久テストでの寿命が２０〜
１００倍に伸びており、また、表面平滑性も良好なもの
となつ実施例４ 下塗り塗料に添加する潤滑剤を第４表に示すも・のに変
えて先の実施例１と同様に磁気記録媒体を製造した。
添加する潤滑剤の種類と得られる磁気記録媒体の耐久性
を第４表に示す。なお、カーボンブラ・ツクは比表面積
１２５ ｔｒｉ’／９、吸油量５５ｍ４／１００Ｉのも
のを用いた。
を第４表に示す。なお、カーボンブラ・ツクは比表面積
１２５ ｔｒｉ’／９、吸油量５５ｍ４／１００Ｉのも
のを用いた。
第４表
上記第４表からも明らかなように、グリセライドや複合
した潤滑剤でも効果が得られることが判−１−二二二１
−−□−−−−□−−−−−□−−−□実施例５ 下塗り塗料のバインダである樹脂材料を第５表に示すも
のに変え、先の実施例■と同様に磁気記録媒体を製造し
た。
した潤滑剤でも効果が得られることが判−１−二二二１
−−□−−−−□−−−−−□−−−□実施例５ 下塗り塗料のバインダである樹脂材料を第５表に示すも
のに変え、先の実施例■と同様に磁気記録媒体を製造し
た。
用いた樹脂材料と得られた磁気記録媒体の特性を第５表
に示す。なお、カーボンブラックは、比表面積１２５ｍ
’／ｇ、吸油量５．５ｍｌ／１０１のものを用いた。
に示す。なお、カーボンブラックは、比表面積１２５ｍ
’／ｇ、吸油量５．５ｍｌ／１０１のものを用いた。
第５表
※光沢二光沢計を用い、入射角７５°、反射角７５°に
おける反射率を測定 上記第５表の結果から明らかなように親水性極性基を含
有しない樹脂材料を用いた場合に比べ、−８Ｏ３Ｎａ
、 −ＣＯＯＮａ 、−Ｐ（ＯＮａ）ｚ等の親水性極性
δ 基を含有した樹脂材料を用いた場合には、光沢や表面粗
度が優れたものとなり、したがってビデオ信号のＳＮ比
も良好なものとなっている。
おける反射率を測定 上記第５表の結果から明らかなように親水性極性基を含
有しない樹脂材料を用いた場合に比べ、−８Ｏ３Ｎａ
、 −ＣＯＯＮａ 、−Ｐ（ＯＮａ）ｚ等の親水性極性
δ 基を含有した樹脂材料を用いた場合には、光沢や表面粗
度が優れたものとなり、したがってビデオ信号のＳＮ比
も良好なものとなっている。
特許出願人 ソニー株式会社
代理人 弁理士 小 池 晃
園 １） 村 榮 −
Claims (1)
- 非磁性支持体と磁性層との間に、親水性極性基を有する
化合物からなる樹脂材料とカーボンブラックと潤滑剤と
を含有してなる下塗り層を形成することを特徴とする磁
気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58128388A JPS6020316A (ja) | 1983-07-14 | 1983-07-14 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58128388A JPS6020316A (ja) | 1983-07-14 | 1983-07-14 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6020316A true JPS6020316A (ja) | 1985-02-01 |
Family
ID=14983577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58128388A Pending JPS6020316A (ja) | 1983-07-14 | 1983-07-14 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6020316A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6074120A (ja) * | 1983-09-29 | 1985-04-26 | Teijin Ltd | 下塗り層を有する磁気記録媒体 |
| JPS61204829A (ja) * | 1985-03-07 | 1986-09-10 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61216116A (ja) * | 1985-03-20 | 1986-09-25 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS61276120A (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-06 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS61296525A (ja) * | 1985-06-26 | 1986-12-27 | Toshiba Corp | 高耐久性磁気記録媒体 |
| JPS62154225A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-09 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ディスク |
| JPS62159337A (ja) * | 1986-01-06 | 1987-07-15 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPS62214514A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS62231417A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS634412A (ja) * | 1986-06-24 | 1988-01-09 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0224822A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| US5079096A (en) * | 1989-03-13 | 1992-01-07 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium comprising a substrate coated with a primer which is a protonic acid doped polyaniline polymer |
| JPH04319514A (ja) * | 1991-04-19 | 1992-11-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH09251631A (ja) * | 1997-02-08 | 1997-09-22 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPH09251632A (ja) * | 1997-02-08 | 1997-09-22 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| DE4227825B4 (de) * | 1991-08-23 | 2006-06-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
-
1983
- 1983-07-14 JP JP58128388A patent/JPS6020316A/ja active Pending
Cited By (17)
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| JPH0743823B2 (ja) * | 1986-06-24 | 1995-05-15 | 日立マクセル株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH0224822A (ja) * | 1988-07-13 | 1990-01-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| US5079096A (en) * | 1989-03-13 | 1992-01-07 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium comprising a substrate coated with a primer which is a protonic acid doped polyaniline polymer |
| JPH04319514A (ja) * | 1991-04-19 | 1992-11-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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| JPH09251632A (ja) * | 1997-02-08 | 1997-09-22 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
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