JPS60169459A - フエノキシプロスタトリエン酸誘導体の製造法 - Google Patents

フエノキシプロスタトリエン酸誘導体の製造法

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JPS60169459A JP59270571A JP27057184A JPS60169459A JP S60169459 A JPS60169459 A JP S60169459A JP 59270571 A JP59270571 A JP 59270571A JP 27057184 A JP27057184 A JP 27057184A JP S60169459 A JPS60169459 A JP S60169459A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 1 本発明はフェノキシプロスダトリ′エン酸誘導体の製造
法、および中間化、更iこ盲しくは同一フェノキシまた
はI・・6−置換フェノキシ−プロスタトリエン酸誘導
体の立体異性体またはその混合物の製造法に関するもの
である。 [発明の要約] 本発明は、式: [式中、Rは水素または低級アルギル;Xは水素、ハロ
、トリフルオロメチル、低級アルキルまたは低級アルコ
キシ;波線(2個)はα配置またはβ配置(ただし一方
の波線がα配置であるとき、他方の波線はβ配置)を表
わす。] で示されるI6−フェノキシまたは16−(o、■もし
くはp)−置換フエノキシ−プロスタグランジン誘導体
の立体異性体型あるいはその混合物型化合物(およびそ
のRが水素である化合物の薬理学的に許容される非毒性
塩類を包含する)の製造法ならびにこれらの化合物製造
のための新規中間体とRがメチル、Xが水素である化合
物(I)の立体異性体およびこれらの新規化合物の製造
法を提供するものである。 [従来の技術および問題点の解決] 化合物(1)はそれ自体、米国特許第4,178゜45
7号に開示されている。 ここに記載された合成法は、どのようにして、C’ll
基およびC−15基を酸化することなく該脱保護基を酸
化できるように、また次いでC−11基およびC−15
基を脱保護しても得られる分子を損傷することがないよ
うに、C−9のヒドロキシル基を選択的に脱保護して、
目的化合物の各立体異性体を製造することができるかに
ついての、一対の問題に向けられたものである。 各立体異性体製造の問題は、ジアステレオマー混合物と
して製造されるがこれを立体化学的に純粋な2個の異性
体に分割することができる新規プロパルギルアルコール
中間体を経由して処理することにより、解決することが
できる。次いでこの立体化学的に純粋なプロパルギルア
ルコールの1種の異性体を、立体特異性同族体化/転位
反応(次工程)に付することにより、該異性体を立体化
学的に純粋な単一のアレン化合物に変換する。立体化学
的に特異性を有する一純粋なフェノキシラクトン化合物
(従来技術により得られる)を出発物質として用い、こ
のラクトン環を開環し、得られた酸をアルデヒド体に変
換することができる。この新規アルデヒド体と金属アセ
チリドを反応させて2個の立体異性体型を有するプロパ
ルギルアルコールを得る。この2個の異性体をクロマト
グラフィーにより立体化学的に純粋な2個の分画に分割
することができる(この場合、(、−9、C−11およ
びC−15(特にC−9)のエーテル形成保護基を正し
く選定する)。この分割を容易に行なうため、C−9の
嵩高エーテル形成基を選択する必要があることを見出し
た。たとえばC−9ヒドロキシル保護基が適当なアルキ
ル、アリールまたはアリールアルキル置換シリルエーテ
ル基であるとき、他の分割法が通常困難でやるかまたは
不完全である場合でも容易に2個のプロパルギルアルコ
ール異性体を分割することができる。第二の必要な工程
は、立体化学的に純粋な1個の異性体を立体化学的に純
粋な単一アレン含有化合物に変換する工程である。これ
は同族体化/転位反応(オルト酢酸トリアルキル試薬を
用い、加熱)により達成することができる。 他の問題は、酸化できるように保護C−9ヒドロキシル
基を選択的脱保護処理し、次いで生成分子を分解するこ
となくC−11およびC−15ヒドロキシル保護基を脱
離することができる合成工程を設計することである。こ
れはC−11およびC−15基を塩基に安定なエーテル
形成基で保護すると共にC−9基を塩基に不安定なエー
テル形成基で保護することにより達成される。次いでこ
のC−9保護基を脱離し、ヒドロキシル基を酸化し、次
に緩和な酸性条件下にC−11およびC−15保護基を
脱保護することができる。この工程は、塩基がB型プロ
スタグランジンへ脱離−転位される原因となり、接触的
水素化がアレン基に影響するという理由から、必要なも
のである。 また、上記方法は、米国特許第4,178,457号に
開示された化合物、特に後記のように式(1)に包含さ
れる4種の成分の混合物型化合物を製造するために有効
な方法を提供する。 米国特許第4,178,457号開示の化合物はプロス
タグランノン類が適応となる哺乳類の治療に有用である
ことが知られている。これらの化合物は胃液分泌の抑制
剤として特に有用である。また式(I)におけるRがメ
チル、Xが水素であってR−アレン配置を有する化合物
、すなわち式。 H で示される化合物の立体異性体は、すぐれた生物学的性
質(たとえば薬理活性、低毒性など)およびその医薬と
しての用途に影響を及ぼす他の性質(たとえば化学的安
定性、保存寿命など)を有することが見い出された。ラ
ットを用いて行なった試験は、この各R−アレン型立体
異性体の抗分泌ED、。値は約6μg/kgであること
を示した。 更に、このR−アレン型立体異性体は結晶型として得ら
れる。 プロスタグランノン類はしばしば曲状物質である。Rが
メチノ区Xが水素である化合物(1)のラセミ−ジアス
テレオマー混合物は粘稠な曲状物質(米国特許第4,1
78,4.57号参照)または低融点のワックス状固体
であることが知られている。 またR−アレン型立体異性体(I”)に構造上密接に関
連する化合物およびそのラセミ−ジアステレオマー混合
物、すなわち(dl)−9α、IIα。 15α−トリヒドロキシルー16−フニノキシー17.
18,1.9.20−テトラノルプロスタ−4,5,1
3(E)−トリエン酸メチルエステル(米国特許第3,
985,791号の例16の化合物)は油状物として得
られる。R−アレン型立体異性体(■゛)として得られ
る。R−アレン型立体異性体(Io)は最初、油状物と
して得られるが、冷凍庫中に安定して保蔵するとき、驚
くべきことにこの油状物質は自然に結晶化する。この結
晶性物質は70℃以上の融点を有する。この異性体と対
照的に、対応するラセミ−ジアステレオマー混合物は、
上記と同一条件下に冷凍庫中に保蔵するとき、ワックス
様固体となるのに約1〜3週間を要する。式(Io)に
対応するS−アレン型立体異性体は同様の条件下に決し
て結晶化することがない。 加うるに自由に流動しうる結晶性固体物質を得るために
はプロスタグランジン類をその有機塩または無機塩に変
換しなければならないことが、英国特許第1,288,
174号、米国特許第4,005.133号および欧州
特許(公開)第97,439号に記載されている。しか
しR−アレン型立体異性体(Io)は塩に変換しなくて
も自由に流動しうる結晶性物質であるという事実は驚く
べき利点である。 結晶性物質(1′)は、常套の方法を用いて容易に精製
することができる。この物質の結晶性は取扱いおよび化
学分析を容易にし、化学的安定性を改良する。更に結晶
性物質(ro)は、゛これを容易に固体投与剤形に製剤
することができる。 [定 義] 本明細書中の用語の定義に関して以下に説明すアレン基
を有する式は、該アレン基の一端上に置換基を有し、他
端上の置換基に対して90°に配向するものとして表わ
される。破線は、その置換基がアレン基の平面の後方に
あり、α配置であるものとして指定されることを表わす
。長三角形の線は、アレン基の平面の前方にあり、β配
置であると呼ばれる置換基を定義する。式(I)に示す
ように、アレン基土に少なくとも3個の異なる基が置換
して存在するとき、このアレン部分は無対称となる。 上記式および本明細書の他の式中、炭素8,9゜11お
よび15位における破線は、それに結合する置換基が、
α配置であることすなわちシクロペンクン環または下側
の側鎖の平面の下にあることを示す。C−12位におけ
る三角形の線は、β配置すなわち置換基がシクロペタン
環の平面の上にあることを表示する。 これらの式中のC−13位の二重結合は、天然超厚のP
GEおよびPGE系のプロスタグランジン類と同様にト
ランス配置を有する。 本発明化合物は不整中心を有し、それ故これをラセミま
たは非ラセミ混合物としてまたはそれぞれの(+)−も
しくは(−)−光学対掌体として製造することができる
。各光学対掌体は、合成のある適当な工程における中間
体のラセミまたは非ラセミ混合物を分割することにより
得ることができる。 ラセミまたは非ラセミ混合物および個個の(+)−もし
くは(−)−鏡像体は本発明の範囲内に包含される。 本発明化合物(1)は、下記単一構造の化合物(Ia 
)、 (Ia’)、 (Ib )および(l b’ )
、各構造成分のうちの単一成分2個または3個の任意割
合のすべての組合わせおよび各構造部分のうちの単一成
分4個すべての任意割合の混合物を包含する。 IJM X 各成分化合物は、後記反応工程のラクトン体(式l)の
適当な各光学対掌体を出発物質とし、後記方法により製
造することができる。また化合物(Ia)と(Ia’)
、(Ib)と(Ib’)、(Ia)と(Ib)および(
I a’ )と(lb’)のそれぞれの混合物または4
種の成分化合物の混合物は下記方法により製造すること
がてきる。化合物(Ia)と(I a’ )’if: 
タi;L化合物(lb)と(lb’)の混合物あるいは
4種の成分化合物すべての混合物もラクトン体(式l)
のラセミもしくは非ラセミ修飾体を出発物質として製造
することができる。化合物(Ia)と(I b)t タ
+;i:化合物(Ia’)と(Ib’)の混合物は光学
活性を有する適当なラクトン(式l)を出発物質として
製せられる。また、」二記ずべての混合物または化合物
(Ia)と(Ib’)もしくは化合物(Ib)と(I 
a’ )の混合物は後記方法により得られる適当な中間
体あるいは各成分を混合することにより製造することが
できる。3成分の任意の混合物は後記方法により得られ
る適当な中間体または各成分を混合することにより製造
することができる。 説明を簡潔にするため、後記製造法において1種の光学
対掌体すなわち天然起原のプロスタグランジン配置を有
する光学対掌体のみについて説明するが、この発明はラ
セミおよび非ラセミ混合物ならびに非天然起原の光学対
掌体も包含し、これらは対応するラセミまたは非ラセミ
混合物らしくは非天然起原の光学対掌体出発物質を用い
ることにより得ることができる。 天然起原の配置は式(Ia)および(Ib)により表わ
される。非天然起原の配置は式(Ia’)および(Ib
’)により表わされる。 混合物という語は化合物(I)に適用される用語であっ
て、この語は本明細書において4種すべての成分(前記
式(I a)、(I a’ )、(Tb)および(Ib
’)で示される化合物)の任意割合における任意の組合
わせ、および4種の成分のうちの任意2または3種のす
べての組合わせとして定義される。特許請求の範囲の記
載における合成中間体(l 1)〜(Mil+) (ま
たは後記反応工程における化合物(弐8〜17)に適用
されるように、混合物という用語は本明細書において波
線で示される立体異性体および立体異性体の光学対掌体
の任意割合の各組合わせとして定義される。 置換基の頭に付する記号Rの用法は、カーンーインゴー
ルト −ブレログ則(Cahn −I ngold −
Prelog rules) [カーノら: Ange
w、 Chme。 I nter、 Edit、第5巻385頁(1966
年)正誤表511頁、カーノら: Angew、 Ch
em、第78巻413頁(1966年)、カーノおよび
インゴールド: J 、 Chem、 Soc、 (L
ondon) 1951巻612頁、カーノら: Ex
perientia第12巻81頁(1956頁)、カ
ーノら: J 、 Chem、 Educ。 第41巻116頁(1964年)参照]に従ってその置
換基の総体立体化学構造を示す。接頭辞αまたはβの記
号を有する化合物中、指摘する置換基と他の置換基との
相互関係によって、1種の置換基の絶対配置の命名はそ
の化合物中のすべての置換基の総体配置、従ってその化
合物全体の総体配置を決定する。 各用語は次の意味を有する。 異性体は同一分子式を有する異なる化合物を示す。 立体異性体は原子または原子団が空間に配列している方
法においてのみ異なる異性体を示す。 光学対掌体(エナンシオマー)は互に重ね合わせること
ができない鏡像である1対の立体異性体を示す。 ジアステレオマーは互に鏡像でない立体異性体を示す。 エピマーは1個の不斉中心の配置のみが異なるジアステ
レオマーである。 ラセミ混合物はそれぞれの光学対掌体同一部を含む混合
物を意味する。非ラセミ混合物はそれぞれの光学対掌体
の異部混合物である。 本発明では、低級アルキルまたはアルキルは炭素数1〜
6の直鎖もしくは分岐状アルキル基を包含する。かかる
基の例はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、t−ブチル、 i−ブチル、5ec−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシルなどである。低級アルコキシはRが低
級アルキルである基−ORを意味する。ハロはフルオロ
、クロロ、ブロモまたはヨードを表わす。アリールは置
換基の炭素数を計算に入れない環式部分が炭素数6〜1
0を含むアリール(たとえばプエニル、ナフチルなどの
ような基)を表わす。低級アルギルアリールは低級アル
キルが上記のような基である低級アルキル鎖を有する上
記のようなアリールを表わす。置換(低級)アルキルア
リールは、上記低級アルキルアリール中のアリール環が
上記低級アルキル、ハロまたは低級アルコキシのような
置換基1個またはそれ以上で置換された基を表わす。 w/v%(重量/容量%)は、溶液100J中の成分の
g数を表わす。 薬理学的に許容される製薬上許容される非毒性塩は、カ
ルボン酸官能基を有する本発明関連の化合物の塩基誘導
型塩を表わす。これらの塩類は薬理学的tこ許容される
非毒性無機塩基または有機塩基から誘導される。 無機塩基から誘導される塩類はナトリウム塩、カリウム
塩、リチウム塩、アンモニウム塩、カルシウム塩、マグ
ネシウム塩、第一鉄塩、亜鉛塩、銅塩、第一マンガン塩
、アルミニウム塩、第二鉄塩、第二マンガン塩などを包
含する。アンモニウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩、
カルシウム塩およびマグネシウム塩が特に好ましい。薬
理学的に許容される非毒性の有機塩基から誘導される塩
類は、第一、第二または第三アミン塩類、天然起源の置
換アミン類、環式アミン類、塩基性イオン交換樹脂を含
む置換アミン塩類、たとえばイソプロピルアミン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
エタノールアミン、2−ジメチルアミノエタノール、2
−ジエチルアミノエタノール、トロメタミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、リジン、アルギニン、ヒスチジン、カ
フェイン、プロカイン、ヒトラバミン、コリン、ベタイ
ン、エチレンノアミン、グルコサミン、N−メチルグル
カミン、テオブロミン、プリン酸、ピペラジン、ピペリ
ジン、N−エチルピペリジン、ポリアミン樹脂などのよ
うなアミンから誘導されるアミン塩類を包含する。特に
好ましい非毒性有機塩法は、イソプロピルアミン、ジエ
ヂルアミン、エタノールアミン、トロメタミン、ジンク
ロヘキシルアミン、コリンおよびカフェインである。 目的化合物の酸塩を製造するのが適当である場合、これ
らの化合物は、対応する化合物の遊離酸を薬理学的に許
容される塩基中なくとも1モル当量で処理することによ
り製造される。このための薬理学的に許容される代表的
塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ア
ンモニウム、水酸化カルシウム、トリメチルアミン、リ
ジン、カフェインなどがある。この反応は、水中または
不活性な水混和性有機溶媒単独もしくは水と組合わせ、
約0〜約1006C(好ましくは室温)で進行させる。 不活性で水混和性の典型的有機溶媒はメタノール、エタ
ノールまたはジオキサンを包含する。化合物(1)と使
用する塩基のモル比は特定の塩のために必要な比が得ら
れるように選択する。 目的化合物の位置番号は、天然起片のPGEおよびPG
F化合物に使用する位置番号に従う。これを次に示す: 本明細書において分析目的のため、特定の中間体の炭素
原子は最終生成物すなわち化合物(1)か何する位置番
号と同じものにされる。たとえば下記反応工程の式8中
のR2エーテル基が置換している炭素原子は、式(1)
の対応する炭素原子の位置番号と同様にC−9と命名さ
れる。 目的化合物(新規中間体を含む)の製造法の概要を説明
するため反応工程を以下に示す。 上記反応工程において、R1は後記のような塩基に安定
で酸に不安定なエーテル形成基、II’は後記のような
塩基に不安定なエーテル形成基、R2は後記のような塩
基に不安定なエーテル形成基、Mは水素またはアルカリ
金属イオンのj;うな金属イオンである。 [製造法] 次に本発明の製造法について詳述する。 出発物質(式l)は米国特許第3,880,712号、
同第3,985,79’1号および同第4,304.9
07号に開示された操作に従って製造することができる
。この操作を本明細書で引用し開示の一部とする。 出発物質(式l)のラクトン環を開環する前に、2個の
ヒドロキシル基をエーテル基に変換上る。 これら2個の基はそれぞれR1と命名され、塩基に安定
で酸に不安定なエーテル形成基として定義される。この
ような基は、水酸化すl・リウムまたは水酸化カリウム
のような強塩基の水溶液で処理するとき加水分解される
ことなく、生成物(1)を損傷させない緩和な条件下に
酸で加水分解されうるエーテル形成基であることができ
る。塩基に安定で酸に不安定な基の例としてテトラヒド
ロフラニル、テトラヒドロピラニル、2−工トキシエヂ
ルなとがあげられる。アルキルエーテル基、ベンジルエ
ーテル基およびアルキルアリールエーテル糸などはこの
定義から除外される。かかるエーテル基の酸加水分解を
行なうのに正常に必要な条件は、もし実際に酸による加
水分解を行なうならばその加水分解の間に生成物の分解
を引起すことになる。 テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニルまたは2
−エトキシエチルでC−11およびC−15ヒドロキシ
ル暴を保護するのが好ましい。このような岳によるエー
テル形成は、一般に酸触媒と共にハロゲン化炭化水素の
ような非プロトン溶、媒中、この技術分野でよく知られ
た量と反応条件を用いて行なわれる。反応試剤の5重量
%を越えない量の酸触媒を使用するのが好ましい。エー
テル形成剤が少なくとも約2.1当量のジヒトロピ→ 
ゝノブ太−プ 躬寄lしJ 4−1ノ′ノrhn−L 
亀〒 2ノブルホン酸の存在下に反応させるのが最も好
ましい。 この反応は一般に20〜50℃、好ましくは5“ダ囲気
温度で15分ないし4時間、好ましII約2時間にわた
って処理することにより達成される。 ラクトン環の加水分解的開環は、塩基好ましくはアルカ
リ金属塩基の水溶液を用い、極性有機溶媒中で行なわれ
る。ラクトン体含有極性有機溶媒に、水酸化リヂウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのような塩基の
水溶液(すべての反応試剤系を不活性たとえば窒素の雰
囲気下に置く)。添加する塩奇の濃度は約1〜4M、よ
り好ましくは28〜3Mであるのに好ましい。わずかに
モル過剰量の塩基、好ましくはラクトン体モル当り1.
05モルの塩基を用いる。水酸化カリウムが好ましい塩
基である。窒素雰囲気下、テトラヒドロフランまたは単
純アルコール(たとえばメタノール)のような溶媒にラ
クトン体をあらかじめ溶解して、この溶液に塩基水溶液
を加える。加水分解は、室温ないし100℃、好ましく
は窒素雰囲気下、溶液を加熱還流することにより行なわ
れる。薄層クロマトグラフィー(TLC)により反応の
進行を監視するのが有利である。 ラクトン体の加水分解により形成されるヒト冶ギノル暴
を、塩基に不安定なエーテルの形成剤でエーテル基に変
換する。この基はR2と命名され、塩基に不安定なエー
テル形成基として定義される。 この基は一8IR+RsR6(基中、R4、R5および
R6はアルギル、フェニルまたはアリールアルキル(た
だしこれら3種の献ずへてか同時にメチルであることは
できない)を表イっず)で最ら好適に例示される。ここ
ではアルキルは炭素数1〜6の基を意味する。アリール
アルキルは、その基中のアルキルが低級アルキルと同意
義を有し、アリールかフェニル、アルキル置換フェニル
およびナフチル()こだしこれらの基に限定されるもの
ではない)の岳を包含する。特に好ましいンリル基はt
−ブヂルノメメチンリル、トリイソプロピルノリル、ト
リフェニルンリル、 t−プチルノフェニルシリルおよ
び2,4.6−トリーL−ブチルフェノキシジメチルシ
リル基である。 シリル化剤を用いる場合には、この試剤のための標準的
な条件を適用する。たとえば一般に極性非プロトン溶媒
中、過剰量(2,2〜4当@)のシリル化剤およびシリ
ル化剤に対して過剰量の窒素含有化合物(たとえばイミ
ダゾール)を用いてシリル化反応を行なう。ンリル化は
通常、0〜50℃で行なう。 好ましくはヒドロキン酸塩の乾燥ジメチルホルムアミド
溶液に6当量のイミダゾールと約3当量のt−ブヂルン
メチルシリルクロリトを加え、はぼ室温で一夜撹拌する
。好ましくはこの反応の完結をTLCにより確認する。 この反応はシリルエーテル体と酸のシリルエステル体を
与える。ノリルエステル体は必要ではないので、反応系
に水を加えて、単離することなくその反応系中で加水分
解し、次いでシリルエーテル化合物をその遊離酸型とし
て回収する。 得られた遊離酸(式4)をアルデヒド体(式7)に変換
する。この反応は次に例示する好ましい4種の適当な方
法により達成することができる。第1の場合、化合物(
式4)をエステル化して化合物(式5)を製し、これを
還元してアルコール体(弐〇)を製し、これを酸化して
アルデヒド体(式7)を得る。第2の方法は遊離酸(式
4)を還元してアルコール体(弐〇)を製し、これを酸
化してアルデヒド体(式7)を得ろ方法である。第3の
方法は遊離酸(式4)をエステル化し、このエステル体
を還元して直接アルデヒド体(式7)を得ることから成
る方法である。第4の方法は初めにM離酸(式4)を酸
ハライド(アソルハライド)に変換した後、ローゼンム
ント還元反応に付してアルデヒド体(式7)を得る方法
である。 第1の方法の最初の工程は標準的エステル化、たとえば
ヨウ化アルキルまたはジアゾアルカン試剤のいずれかを
用いることにより遊離酸をエステル化する方法である。 ここにアルキルおよびアルカンはそれぞれ前記低級アル
ギルと同意義である。 試剤がヨウ化アルキル(好ましくはヨウ化メチル)であ
るとき、反応操作はジメチルポルムアミドまたはジメチ
ルアセトアミドのような非プロトン溶媒中、炭酸水素ナ
トリウムのような弱塩乱を含有せしめて行なう。大過剰
量(たとえば約7〜IO当量)のヨウ化アルキルと対応
する大過剰量の塩奇を用いる。不活性(たとえば窒素)
雰囲気下、使用するヨウ化アルキルの沸点を越えること
なく軽く加熱してこの反応を進めるのが好ましい。試剤
がヨウ化メチルであるとき、約40〜45℃で反応さ且
るのが好ましい。反応させるため通常数時間(16〜2
4時間)を要する。TLCにより反応完結を確認するこ
とができる。初めの反応時間後の反応を完結しなければ
、更にヨウ化アルキル1当量と対応量の塩基を加え、前
記のような反応を続ける。必要なだけこの反応を繰返し
行ない、反応を完結する。 ジアゾアルカン(好ましくはジアゾメタン)を用いる場
合、ジアゾメタンを発生させてこれと遊離酸を反応させ
るための標準的操作に従って反応させる [アルント(
F、 Arndt) : Org、5ynCoi1.第
1I巻165(1943年)およびペヒマン(H,vo
n Pechmann): Che’m、 Ber、第
27巻1888(1894年)と第28巻855(18
95年)参照]。 第1の方法の2番目の工程において、カルボン酸エステ
ル(式5)を還元してアルコール体(弐〇)を得るのに
、水素化アルミニウムジイソブチル、水素化アルミニウ
ムリチウムなどのような水素化金属を用いて処理する。 この反応は、選択された還元剤と両立しうる溶媒中、好
ましくは不活性雰囲気下に50℃を越えない温度で約4
時間を越えない時間にわたって行なわれる。 還元剤が水素化アルミニウムシイツブデルであるとき、
トルエン、ベンゼンまたは同様の非極性溶媒中で反応さ
せる。カルボン酸エステル(式5)の冷溶液に、トルエ
ン中水素化アルミニウムジイソブチルを加えた後、反応
溶液を室温でもどし、通常30〜45分後、反応を終了
する。水素化アルミニウムジイソブチルを名目上2.5
当量用いて還元する。’I’ L Cで反応を監視する
ことができる。もし反応が完結しない場合、更に水素化
物を加えて更に30分間内外撹拌を続ける。水とフッ化
ナトリウムまたは硫酸ナトリウムのようなアルカリ金属
塩を加えて未反応水素化物を分解する。 またエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのような
極性溶媒中、水素化アルミニウムリチウムを用い、カル
ボン酸エステルをアルコール体(弐6)に還元してもよ
い。上記水素化アルミニウムシイツブデルに関する記載
と同様の試剤量比および同様の反応条件下、水素化アル
ミニウムリチウムで還元する。 アルコール体(弐6)のアルデヒド体(式7)への酸化
は緩和な酸化剤を用いて行なう。酸化処理するために数
種の緩和な酸化剤を使用することができるが、好ましく
は三酸化クロム(vl)、ジクロム酸ピリジニウム塩、
クロロクロム酸ピリンニウム塩など(好ましくは二酸化
クロム)を、ピリジン、ヘキザメチルリン酸トリアミド
、3.5−ジメチルピラゾールなど(好ましくはピリジ
ン)の存在下に用いるか、または酢酸ナトリウムとクロ
ロクロム酸ピリジニウムを用い、有機溶媒(たとえばジ
クロロメタン、ジクロロエタンなど(好ましくはジクロ
ロメタン)またはその混合物を存在させ、約−1O〜3
0℃(好ましくは約15〜25℃)で約0.5〜2時間
(好ましくは約15〜45分間)反応させることにより
、アルデヒド体(式7)が得られる。この反応は不活性
(たとえば窒素)雰囲気下、無水条件で行なうのが有利
である。 第2の方法はMfl酸(式4)を単に還元して直接、ア
ルコール体(弐〇)を製し、この混合物を酸化してアル
デヒド体(式7)を得ることにより行なわれる。初めて
の工程の酸を還元してアルコール体を得る反応は硫化メ
チルボランを用いて行なイつれる。 この反応では、メチルエステル体を極性溶媒に溶解し、
溶液を約θ〜25℃の浴中で安定にし、この系に乾燥窒
素を導入する。撹拌しながら硫化メチルボラン約3当量
を滴加後、約6時間(好ましくは約3.5時間)を越え
ない時間撹拌を続けて反応させる。 アルコール体を生成させた後、これを前記化合物(式6
)から(式7)への酸化と同様の操作で酸化してアルデ
ヒド体(式7)を得る。 第3の方法は、最初前記方法で遊離酸(式4)をエステ
ル化し、このエステル体(式5)を水素化アルミニウム
シイツブデルにより低温で還元して、直接アルデヒド体
(式7)を得ることから成る方法である。この反応では
前記のような試剤量比で反応させるが、この場合温度は
約−70℃またはその前後で反応させる。 第4の方法において、遊離酸をまず塩化チオニル、三酸
化リンまたは塩化オキサリルと0〜30℃で反応させて
核酸をその酸ハライド(酸クロリド)に変換し、次いで
水素およびパラジウム/硫酸バリウムを用い0〜50℃
でまたはその均等物でローゼンムント還元することによ
りアルデヒド体(式7)に還元する。 次に適当な無水有機溶媒(たとえばハロゲン化アルカン
、エーテル類、炭化水素などのような溶媒)中、好まし
くは不活性(たとえば窒素)雰囲気下、金属アセチリド
を用いてプロパルギルアルコール体(式8)を形成させ
る。あらかじめ、窒素雰囲気下、塩化メチレン、ジクロ
ロエタン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ト
ルエンなど(好ましくは塩化メチレン)のような溶媒中
にアルデヒド体(式7)を溶かした溶液に、過剰量の金
属アセヂリド試剤(たとえば塩化エチニルマグネシウム
、臭化エチニルマグネシウム、ヨウ化エチニルマグネシ
ウム、リチウムアセチリドエチレンジアミン錯体および
エチニルリチウム)を加える。 好ましい金属アセチリドは塩化エヂニルマグネシウムで
ある。この反応は0〜50℃(好ましくは20〜30℃
)で反応完結(TLCで確認することができる)まで(
通常30分以内、最も普通には5〜lO分以内)処理す
ることにより行なわれる。 プロパルギルアルコールエピマーの混合物は、クロマト
グラフィー(たとえばシリカゲル’I”LCまたはカラ
ムクロマトグラフィー上、非極性溶媒と適度に極性の溶
媒の種々の混合物)により、単−純プロパルギルエピマ
ー含有分画に分割することができる。 アレン異性体混合物(化合物(I a)と(Ib)まノ
こは(I a’ )と(I b’ )または4種の化合
物ずへての混合物が所望であるとき、この分割ニに程を
省略する。 プロパルギルアルコール体からアレン体への変換は、立
体異性同族体化/転位反応を行なう任意の反応によって
行なうことができる。この方法によりプロパルギルアル
コール単一エピマーを、対応するアレニル単一立体異性
体に変換することができる。ここでは、オルト酢酸(低
級)トリアルギルと触媒量の低分子量アルカン酸(たと
えば6′1酸、プロピオン酸など)を用い、クライゼン
型転位反応により転位するのが好ましい。この場合、酸
の触媒量は、オルト酢酸トリアルギルの容量に対して5
容量%以下の量である。 使用することができるオルト酢酸トリアルキルはオルト
酢酸トリメチル(もしくはトリエチル)などである。プ
ロパルギルアルコール体を、好ましくは窒素雰囲気下、
オルト酢酸トリアルキル中に触媒量のアルカン酸(通常
オルト酢酸トリアルキルに対して約1容量%)と共に溶
解する。このオルトエステル体とプロパルギルアルコー
ルとが反応して混合オルトトリアルギルエステル体に生
成し、これを単離することなくその反応系中で加熱する
ことにより転位を起こさせる。反応フラスコをあらかじ
めたとえば約150〜250℃に加熱した油浴中に浸し
、反応容器温度を約100〜130°C(好ましくは約
110〜120°C)に保持しながら短い時間(約30
分間)撹拌する。加熱処理の間、反応系からオルトトリ
アルギルエステル−アルカノール−酸の同容量が同時に
留去されるので、反応系に上記と同比率のオルト酢酸エ
ステル体とアルカン酸の混合物を加える。蒸留処理の間
、反応浴を好ましくは約170〜175℃に保持する。 この生成物はエステル化(式9)である。 最終生成物を得るため、分子」二のアレンまたは他のサ
イトの立体化学構造に影響を及ぼさないような方法で化
合物(式9)のアレン基と酸官能基の間に炭素原子1個
を加える(同族体化)ことが必要である。所望の同族体
は(式13)で表わされる。 同族体化はこの技術分野で知られた多くの方法により達
成することができる。好ましい方法は、同族体化の最終
工程で強塩基を用いて同時にII’を脱離し、化合物(
式13)を得ることである。他の反応順序は、同族体を
形成させてC−9ヒドロキモ することである。 クライゼン転位により得られたアルキルエステル体を適
当な還元剤(たとえば水素化アルミニウムリチウム、水
素化アルミニウムンイソブヂルなとのような水素化金属
)で還元することにより、該アルキルエステル体を同族
体化して対応する第一アルコール体を得る。このアルコ
ール茫を良好な脱離基である官能拮に変換して化合物を
製し、これをシアン化アルカリ金属で処理し、次いでこ
れを強塩基で処理してニトリル暴と(、−9位のII2
基の双方を加水分解する。 アルコール基から変換される脱離基は、たとえばブロモ
またはクロロのようなハロ基もしくはスルホニルエステ
ル基であることができる。この技術分野で知られた種々
の方法によりアルコール体を対応するハロ化合物に変換
することができる。 次に生成物をシアン化アルカリ金属(たとえばシアン化
アルギルまたはシアン化カリウム)のようなノアン化物
で処理してニトリル体を得る。このニトリル体を強塩基
で加水分解し、これは同時にI′12(塩基に不安定な
エーテルJi!、)を加水分解する。 また、ニトリル体を得るためのアルコール体をアルキル
またはアリールアルギルスルホニルエステル形成剤で処
理少る。かかるエステル形成剤は、好ましくはメタンス
ルボニルクロ1月・もしくはp−トルエンスルボニルク
ロリドまたは同様のスルホニルハライドである。次いで
ンアン化アルカリ金属塩(好ましくはシアン化ナトリウ
ムまたはシアン化カリウム)により、スルホニルエステ
ル(式II)をニトリル(式12)に変換する。このニ
トリル体を強塩基で処理して酸を形成させると同時にR
2基を加水分解することにより、化合物(式13)を得
ることができる。 更に次に示す別法によると、エステル体(式9)のエス
テル基を還元してアルデヒド体を製し、得られた同族体
化したアルデヒド体をビチッヒ反応にイ;]シ、加水分
解、酸化し、次いでこの酸生成物を塩基で処理4−るこ
とにより、R2を加水分解4′る。この連続的工程にお
いて、エステル体(式9)を還元してその対応するアル
コール体を製し、これを酸化してアルデヒド体を得る。 または水素化アルミニークムジイソブヂルを用い、低温
(たとえば−70°C)でエステル体を還元して直接、
アルデヒド体を得ることができる。得られたアルデヒド
体をリンイリド:(フェニル)3P = CI40 C
I−1s、次いでHg (OAC)2/ K Iで処理
して化合物(式14)のアルデヒド同族体を緩和な酸化
剤(前記のような酸化剤のいずれか1種)で処理して保
護された酸を得る。保護された酸を強塩基の希溶液で処
理することにより112基を加水分解4−る。塩基加水
分解条件の十分な説明を後述する。 第3の変法はアルントーアイスチルト合成法である。た
とえば塩化オキサリルまたは塩化チオニルを用いてエス
テル体(式9)をその酸ハライド(酸クロリド)に変換
し、これをジアゾメタンで処理してジアゾケトン体を得
る。ジアゾケトン体を酸化銀と水で処理して同族体型酸
を得る。この酸を塩基で処理してR2基を加水分解する
ことにより、化合物(式13)を得ることができる。 化合物(式9)をその同族体(式13)に変換するため
に好ましい方法は、エステル体(式9)を還元して対応
するアルコール体を製し、このアルコール体のスルボニ
ルエステル体を製し、スルホニルエステル体をシアン化
アルカリ金属で処理してニトリル体を製し、ニトリル体
を塩基で加水分解して酸に変換すると同時にR2(塩基
に不安定なエーテル基)を加水分解する方法である。 好ましい連続工程において、酸エステル体(式9)を、
好ましくは不活性雰囲気下、無水条件で水素化金属によ
り還元してその対応するアルコール体を得る。乾燥不活
性雰囲気下、無水ジエヂルエーテルなどのような無水極
性非プロトン溶媒を仕込み、還元剤たとえば水素化アル
ミニウムリチウム(LAH)などのような水素化金属(
2,2〜4当量)、次いてアレン型エステル体を加える
。低温(約0〜15℃)で反応成分を混合し、次いで溶
液を10〜30分間、またはT L Cが反応完結を示
すまで還流するのが好ましい。 還元反応が終結したとき、反応混合物を再び0〜15℃
に冷却し、過剰量の試剤(LAI−I)とカルボニル含
有化合物(たとえばアレンまたは酢酸エチル)を反応さ
せることにより後続する完全な分解を調節する(完全な
分解は、酒石酸ナトリウムカリウムまたは同様のアルミ
ニウム錯体形成塩のような錯体形成剤水溶液を加えた後
で起る)。 ニトリル体製造のため、前節で製せられた第一アルコー
ル体をまずアルキル(またはアリールアルキル)スルボ
ニルエステル体(たとえばメタンスルホニルエステルま
たはp−トルエンスルホニルエステル誘導体)に変換す
る。アレニルアルコール体を、無水極性有機溶媒(ハロ
ゲン化アルカンずなわち塩化メチレン、ジクロロエタン
などのような溶媒)に溶解し、反応フラスコ中に、トリ
エチルアミンのような無水トリアルキルアミンと共に導
入する。反応フラスコに乾燥窒素を導入し、混合物を約
−40〜25℃に冷却する。混合物の温度を約−40〜
−20°C(好ましくは−30〜−20°C)に保持し
て撹拌しながら、スルホニルエステル形成剤(たとえば
メタンスルボニルクロリド)の無水有機溶媒溶液を加え
る。約2倍モル過剰量のエステル形成剤を用いる。スル
ホニルエステル形成剤の添加を終ったとき(約15〜3
0分)、TLCによりできる監視に従って反応が完結す
るまで約−30〜−10°Cで混合物を撹拌する。反応
か完結したとき、冷浴を除き、更にあらかじめ有機溶媒
に溶解したトリアルキルアミンを加える。強く撹拌しな
がら炭酸水素ナトリウムまたは同様の塩基の水溶液を加
えて過剰量のエステル形成剤を分解する。 上記スルボニルエステル体から、シアン化アルカリ金属
(最も好ましくはシアン化カリウム)により所望の二l
・リル体を製造する。この反応は、不活性雰囲気下、極
性溶媒(たとえばジメチルスルホキシド)中、50〜1
20℃で1時間を越えない時間処理することにより行な
イつれる。乾燥条件であるのか好ましい。 最初ンアン化金属約5〜8当量を、不活性(たとえば窒
素)雰囲気下のフラスコ中に入れろ。溶媒を加え、フラ
スコをあらかじめ約75〜80℃に加熱した浴中に置き
、溶媒に溶解した中間体を加える。TLCによりできる
監視に従って反応が完結するまで2時間を越えない時間
(好ましくは1時間)加熱、撹拌を続ける。 次にニトリル体を塩基で加水分解し、得られた塩(式1
3の−COOM)を酸性にして遊離酸を生成させ、同時
に前記のような塩基に不安定なエルチル基で保護したヒ
ドロギンル暴を脱保護させる。 かがる加水分解は、水酸化アルカリ金属(たとえば水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)
のような強塩基の希溶液で行なう。 希溶液は0.05〜2M(好ましくは約0 、5 M)
の濃度を有するものである。適当な溶媒は、たとえば水
と混和し得る2−メトキノエタノールまたは同様の極性
溶媒である。好ましくは不活性雰囲気) を維持する。温度および時間については、溶媒の還流温
度で約72時間を越えない時間加熱することにより反応
させる。 好ましくはかかる加水分解は、反応フラスコに溶媒と試
剤を入れ、あらかじめ水に溶解した塩基を加え、この系
に窒素を導入する。この混合物を約60時間還流する。 反応混合物を冷却して中和した後、9−ヒドロキシ−I
−酸生成物を単離する。 酸(式13)および(式15)はこれをOq記化合物(
式4)のエステル化の記載と同様の方法によりエステル
化することができる。 ヒドロキシルIC−9の酸化は、化合物(弐〇)の酸化
に関して記載したような緩和な酸化剤により行なイっれ
る。好ましくは酸化剤は三酸化クロム(4,5〜IO当
量)と3,5−ジメチルピラゾールまたはコリンズ試薬
(三酸化クロムとピリジン)であって、反応処理は不活
性雰囲気下、極性非プロトン溶媒中で行なう。低温(約
−30〜−1O℃)で試剤と溶媒を合せて撹拌しながら
試剤を完全に混和する。追加溶媒中にアルコール体を入
れて添加し、添加の間および反応残余時間(通常約1〜
2時間)に4つたって初めの低温を保持させる。好まし
くは乾燥窒素雰囲気下、塩化メチレン中、約1時間にわ
たって反応させる。 C−11およびC−15位の封鎖糸の加水分解は、酸た
とえば炭素数1〜6のアルカン酸またはハロゲン化水素
酸により行なわれる。 酢酸を使用する場合は、この技術分野でよく知られた標
準的操作を適用することができる。たとえば酢酸および
極性溶媒(テトラヒドロフランなど)を用いる標準的加
水分解を行なう。フラスコ中、窒素雰囲気下にアルギル
エステル、氷酢酸、水および有機溶媒を混合し、低温(
約20〜60°C1好ましくま40℃)で16時間(好
ましくは12時間)加温する。好ましい反応媒体は氷酢
酸20〜60w/v%水溶液85〜95w/v%と有機
溶媒5〜15w/V%である。最も好ましくは、反応媒
体は水60w/v%、酢酸30w/v%およびテトラヒ
ドロフラン10w/y%である。 またエーテル基の加水分解は、ハロゲン化水素、好まし
くは水に混合しない溶媒中に分散させた酸の水溶液を、
放出された封鎖基と反応するスカベンジャーと共に使用
し、−40〜50℃で約5分ないし5時間にわたって反
応させることによってし行なう。この方法はハロゲン化
水組の水溶液と中間体を溶解した水非混和性溶媒を攪拌
することから成る。ハロゲン化水素はフッ化水素、塩化
水素、臭化水素またはヨウ化水素であることができる。 酸をわずかなモル過剰量(たとえば酸中なくとも約2.
05当量)で存在させるべきであるが、大過剰量(すな
わちlO当量を越えない量またはそれ以上)の酸を用い
ることにより反応を行なうことできる。好ましくは2.
05〜3.0当量、最も好ましくは約2.5当量を用い
る。水に混和しない有機溶媒を用いてもよいが、ハロゲ
ン化炭化水素(たとえば塩化メチレン、ジクロロメタン
などのような溶媒)を用いるのが好ましい。放出された
封鎖基を捕捉するため、反応性スカベンジャーを反応混
合物に加える。スカベンジャーは好ましくはメルカプタ
ン(たとえばメルカプトエタノール)である。スカベン
ジャーは2.0〜3,0当蛍(好ましくは約2.0当量
)の量で存在せしめる。 この反応は、約30*60分、約−30〜50’C(好
ましくは10〜50°C)で完結する。 式。 N で示される化合物のR−アレン異性体を製造した場合に
は、減圧下に溶媒を除くと油状物として生成物が得られ
る。油状生成物を低温(好ましくは一20〜0°C)に
冷却すると、自然に結晶化する。 結晶生成物を通常の再結晶法で精製することがてきる。 R−アレン異性体(■゛)は胃潰瘍と十二指腸潰瘍の治
療および予防に非常に有用である。 R−アレン異性体(Io)は、これを単独でまたは薬理
学的に両立しうる他の薬剤と組合わせ、経口投与または
非経口投与もしくは気管支拡張剤の場合の吸入投与のた
めに適当な薬理組成物型として広範囲の投与剤型で投与
することができる。この化合物は、代表的な場合、本質
的にこれと製薬用担体から成る医薬組成物として投与す
ることができる。製薬用担体は固体物質、液体またはエ
ーロゾルのいずれであってもよく、この中に活性化合物
を溶解、分解もしくはけんたくし、要すれば少量の保存
剤および/またはpH緩衝剤を含有させることができる
。使用することができる適当な保存剤はたとえはベンジ
ルアルコールなどを包含する。適当な緩衝剤は、たとえ
ば酢酸すトリウムと製薬用リン酸塩などを包含する。 液体組成物はたとえば溶液、エマルジョン、懸濁液、シ
ロップ剤またはエリキシル剤型であることができる。固
体組成物は錠剤、散剤、カプセル剤、火剤などの剤型、
好ましくは単一投与または正確な投与のための単位投与
剤型を取ることができる。適当な固体担体はたとえば医
薬用の殿粉、乳糖、サッカリンナトリウム、タルク、亜
硫酸水素ナトリウムなどを包含する。 吸入投与のため、R−アレン異性体(Io)は、これを
共通溶媒(cosolvent)たとえばメタノールお
よび任意の保存剤と緩衝剤からなる不活性噴射剤に含有
せしめたエアロゾルとして投与することができる。更に
エアロゾルの吸入投与に関する知見は米国特許第2,8
68,691号および同第3゜095.355号中の言
及から得ることができる。 R−アレン異性体(Io)の正確な投与量は投与方法、
治療条件および患者の症状に応じて変る。 次に実施例をあげて本発明の好ましい目的化合物の製造
法を詳述する。実施例は本発明の技術的範囲を限定する
ものではない。 実施例1 (lα−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−フェノキン−1(E)−ブテ
ン−1−イル)シクロペンタ−2α−イル)酢酸ラクト
ンの製造: 磁気撹拌棒とトライアライト(D rierite)乾
燥管を備えたlfl丸底フラスコに、(lα、4α−ン
ヒドロキシー3β (3α−ヒドロキシ−4−フェノキ
ン−1(E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2α
−イル)酢酸ラクトン16.5g、塩化メチレン500
J、ジヒドロピラン88m!および少量のp−トルエン
スルホン酸I水化物結晶を入れる。混合物を室温で2時
間撹拌する。トリエチルアミン2滴を加えてこの溶液を
2分間撹拌する。反応混合物を飽和塩化ナトリウム水溶
液で(50m、9X 1回)洗い、硫酸すトリウムで乾
燥する。 溶媒を蒸発させて残渣を最少量の酢酸エチルに溶解し、
純ヘキサンで充填したシリカゲル500gのカラム(7
,5cm直径)上に負荷する。カラムをヘギザン中20
〜40%酢酸エチルの勾配溶離剤て溶離する。適当な分
画を合せて蒸発乾固し、標記化合物を得た。 上記出発物質の代りに適当な置換フェノキンラクトンを
用い、上記同様に処理して次に示す化合物を得た: (1α−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロビランン−
2−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)−4−(m−トリフルオロメチル
フエノキソ)−1(E)−ブテン−I−イル)シクロペ
ンタ−2α−イル)酢酸ラクトン(1α−ヒドロキシ−
4α−(テトラヒドロビランン−2−イルオキシ)−3
β−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)
−4−(m−フルオロフェノキン)−1(E)−ブテン
−1−イル)フクロペンタ−2α−イル)酢酸ラクトン (1α−ヒドロキソ−4α−(テ)・ラドトロピラン−
2−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)−4−(o−フルオロフェノキシ
:)−1(E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2
α−イル)酢酸ラクトン (Iα−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(p−フルオロフェノキシ)
−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンター2α−
イル)酢酸ラクトン (1α−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(p−クロロフェノキン)−
1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α−イ
ル)酢酸ラクトン (lα−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(o−クロロフェノキシ)−
1(E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2α−イ
ル)酢酸ラクトン (1α−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(m−クロロフェノキシ)−
1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α−イ
ル)酢酸ラクトン (1α−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(m−ブロモフェノキン)−
1(E)−ブテン−I−イル)シクロペンタ−2α−イ
ル)酢酸ラクトン (1α−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(o−ブロモフェノキシ)−
1(E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2α−イ
ル)酢酸ラクトン (lα〜ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)〜3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(p−ブロモフェノキン)i
(E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2α−イル
)酢酸ラクトン (1α−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(m−メチルフェノキシ)−
1(E)−ブテン−I−イル)シクロペンター2α−イ
ル)酢酸ラクトン (lα−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(o−メチルフエノキシ)−
1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α−イ
ル)酢酸ラクトン (1α−ヒドロキシ−4α〜(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキソ)−4−(p−メチルフエノキン)−
1(E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2α−イ
ル)酢酸ラクトン (lα−ヒト頂キン−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(m−メトキシフェノキン)
i(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α−イ
ル)酢酸ラクトン (1α−ヒドロギン−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(o−メトキンフェノキシ)
−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α−
イル)酢酸ラクトン (1α−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−(p−メトキシフェノキン)
−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α−
イル)酢酸ラクトン 実施例2 (1α−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−4−フェノキノー1(E)−ブテ
ン−1−イル)シクロペンタ−2α−イル)酢酸カリウ
ムの製造: 磁気撹拌機と頭部窒素導入口を何する還流冷却器を備え
た反応フラスコに、テトラヒドロフラン25m兇と(t
α−ヒドロキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2−イ
ルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−4−フェノキシ−1(E)−ブテン−
1−イル)フクロペンタ−2α−イル)酢酸ラクトン5
gを入れる。 この懸詞液を試剤が溶解するまで撹拌し、この間フラス
コを減圧にして窒素でパージする。29M水酸化カリウ
ム/水3.F32Jを加え、再び反応フラスコを減圧に
して窒素でパージする。この溶液を窒素雰囲気下、反応
完結まで(T L Cで監視)還流する。冷却した溶液
を蒸発乾固し、トルエン50Jに溶解し、減圧下に蒸発
乾固して標記化合物を得た。 上記出発物質の代りに実施例1て得られたすべての類似
体を用い、上記と同様に処理して該類似体をそれぞれ対
応するカリウム塩に変換した。 実施例3 (lα−t−プチルジメチルシリルオギンー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキソ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
ノー1(E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2α
−イル)酢酸の製造(lα−ヒドロキシ−4α−(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
シ−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α
−イル)酢酸カリウム7.76gを反応フラスコに導入
し、乾燥ジメチルポルムアミド25m克を加える。この
混合物を撹拌しながらイミダゾール4.32g、次いで
t−ブチルジメチルシリルクロリド4.7gを加える。 混合物を室温で一夜撹拌後、強く撹拌しながら30〜4
5分間にわたって水5mflを加える。ジエチルエーテ
ルで生成物を抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗っ
た後、溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に
除き、残留物を得る。酢酸エヂル/ヘギザン(IOv/
v%)中、シリカゲル95gのスラリーを充填した3 
50mJl“C”焼結ガラスロートに残留物を通し、l
O%酢酸エチル/ヘキサンI OOOm、Qで遊離酸を
溶離することにより該残留物を精製する。 適当な分画を合せて溶媒を除き、標記化合物を得ノこ。 前記実施例2で製せられた化合物を上記同様の方法で処
理し、対応するt−プチルジメチルシリルエーテル化合
物を得た。 実施例4 (1α−t−ブヂルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
シ−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α
−イル)酢酸メチルの製造:撹拌機と頭部に窒素/減圧
/隔壁の開口を有する還流冷却器を備えた反応フラスコ
に、乾燥ジメチルホルムアミド80m、12、(1α−
[−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノギン−1(
E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2α−イル)
酢酸6.24g、炭酸水素すトリウム3.00gおよび
ヨウ化メチル12.01gを導入する。 このフラスコを減圧にて窒素で5回パーン後、40〜4
5℃に加温し、−夜撹拌する。更にヨウ化メチル1.4
6gを加え、翌−夜40〜45℃を続ける。反応混合物
に水50.0+n克を加え、これを塩化メチレンで(5
0J、x 3回)抽出する。塩化メチレン層を合せて更
にヘキサン等容量で希釈する。得られた有機層を水(5
0Jx2回)、飽和塩化ナトリウム(50Jx 1回)
で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を蒸発させて
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製する。15%酢酸エチル/ヘキサン中に充填し
たシリカゲルカラムを調製し、化合物を上記の溶媒混合
物で溶離する。適当な分画を合せて蒸発乾固し、標記化
合物を得た。 上記出発化合物の代りに実施例3で製せられた各化合物
を用い、上記と同様に処理することにより実施例3の各
化合物をそれぞれそのメチルエステル体に変換した。 実施例5 (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
シ−1(E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2α
−イル)−2−エタン−1−オールの製造。 窒素/減圧/隔壁の開口を有する反応フラスコに、(l
α−t−プチルジメチルンリルオキシー4α−(テトラ
ヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキン−
1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α−イ
ル)酢酸メチル53gの乾燥トルエン53J溶液を導入
する。混合物を水浴で冷却し、5回窒素て減圧パーンす
る。乾燥注射器tl二人法により、トルエン中水素化ア
ルミニウムジイソブチルの1.0M溶液21.4mff
1を滴下漏斗に入れ、これを前記冷反応溶液に、約20
分間にイつたって添加する。水浴を除いて、30分後に
混合物をTLCでヂエックする。もし反応が完結してい
なければ更に水素化物溶液4.28Jを加える。反応が
完結したとき、反応混合物を乾燥ヘキサン26m児で希
釈し、強く撹拌しなからフッ化すトリウム粉末4−.3
2gを加える。次に水1.39Jを、撹拌しなから加え
る。更に30〜40分経過後(この間、撹拌を続ける)
、反応溶液をセライトを介してY過し、塩化メチレン1
00Jで洗う。溶媒を減圧下に除き、残渣を更にシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する。標記化
合物の’H−NMRスペクトルデータを次に示す・ 可土坦 7.28 2H,t、 J=7.5Hz、 H−196
,86〜698 3I−!、m、 H−18,205,
46−5,8321(、m、 H−13〜144.92
 m、 ト1−2’ Ti1l)4.81 m、 H−
2’ THP 4.67 1++、 1−1−2”l″I−I P3.
88 21−1. m、 H−6’ THP3.47 
21(、m、 H−6’ i”1(PO,899H,s
、 L−ブチル 0.5 s、シリルメチル 0、7 S、シリルメチル 3.9〜4.15 3I−1,m、、 H−11,16
4、L9 lH,m、 H−9 4,521H,m、 H−15 3,62214,m、 H−6 前記実施例4で得られたすべての化合物を上記と同様に
処理し、それぞれ対応するアルコール体に変換した。 実施例6 (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
ノー1(L’、)−ブテノ−1−イル)フクロペンタ−
2α−イル)−2−エタン−1−オールの製造 この実施例は標記アルコール体を製造4−ろための別法
てある。 撹拌機と隔壁/窒素/減圧のための開[」を備えた丸底
フラスコに、(lα−t−ブチルンメチルンリルオキシ
ー4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3
β(3α−(デ)・ラヒドロピランー2−イルオギソ)
−4−フェノキシ−ICE)−ブテン−1−イル)フク
ロペンタ−2α−イル)酢酸1.08gを秤り込む。乾
燥テトラヒドロフラン11mji、を加えて酢酸化合物
を溶解する。このフラスコを水温(約18〜20℃)」
二に置き、乾燥窒素で5回パージする。次いで硫化メチ
ルボラン0゜392n+4を30分間にわたって滴下す
る。約3゜5時間撹拌を続ける。次にメタノールImJ
lを滴下する(滴下速度によりガス放出を制御する)。 更にメタノール501!を加えて溶液を30分間撹拌す
る。反応混合物を濃縮し、残留物をメタノールに溶解し
、再濃縮する。この濃縮物をジエチルエーテル25m!
に溶解し、水(5m、iX 1回)、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液(5Jx1回)、食塩水(5JX1回)で
洗い硫酸ナトリウムで乾燥する。この乾燥溶液を濾過、
濃縮し、無色油状物を得る。 この油状物を、lθ%酢酸エヂル/ヘギザンで湿潤充填
したシリカゲル10gカラムに通して濾過する。lO%
酢酸/ヘキサン200mJl、20%酢酸/ヘキサンお
よび30%酢酸/ヘキサンの連続的部分を用いて各分画
20m児を集めながら生成物を溶離することにより精製
する。分画12〜30を合せて溶媒を減圧下に除き、無
色油状物として標記化合物を得た。 実施例7 (lα−t−プチルジメチルソリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
シ−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α
−イル)アセトアルデヒドの製造: 反応フラスコに滴下漏斗と乾燥窒素人口/出口バルブを
取イτ]()る゛。このフラスコに無水塩化メチレン1
50mjJと無水三酸化クロム(Vl)5.96gを入
れる。フラスコを窒組で減圧パーツし、水浴上約15℃
に冷やす。フラスコ内を強く撹拌しながらこれに無水ピ
リジン9.4.6gを添加後、混合物を乾燥窒素雰囲気
下、雰囲気温度で30分間強く撹拌する。窒素雰囲気下
、乾燥セライh5.og、次いで無水塩化メチレン18
.5+n4中(lα−t−ブヂルジメメチノリルオキシ
−4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3
β(3α−(テトラヒドロピラン− ノキシ−1(E)−ブテン−l−イル)フクロペンタ−
2αーイル)−2−エタン−1−オール4.7gを加え
る。この溶液を15〜20分間、またはT L Cが反
応の完結を示すまで撹拌し、この時点て粉砕硫酸水素ナ
トリウム・1水化物12.5gを加える。更に15分間
強く撹拌後、反応混合物を濾過し、保持物(reten
tate)を塩化メチレンで(50m,9X3回)洗う
。塩化メチレン溶液を合せて水で(50mjuX3回)
洗い、水層を塩化メチレン(25JX2回)逆抽出する
。乾燥(無水硫酸ナトリウム)塩化メチレン溶液を減圧
下に蒸発さU′で標記化合物を得た。その’H−NMR
スペクトルデ−りを次に示す。 4」理 7、28 21(、 t, J=7.5Hz. I−1
−196、86 〜6.98 3 1−1, m, I
−1−18. 205、46 〜5.73 2H, m
, I−1−13−144、95 m, I−1−2’
 TI−IF5、8[1 m, I(−2 ° T J
−1 1)4、67 m, l−r − 2° T 1
刊〕3、88 211, m, II−6”I’l−I
F5、47 2H, m, H−G’ TI−(PO.
89 91−1. s. t−ブチル0、5 s,ンリ
ルメチル 0、7 s,ソリルメチル 3、9 〜4.15 3H, m, H−11. 16
4、23 L H. m, H − 94.50 11
−1. m、H−15 9,7511−I、 m、H−6 前記実施例5および6で製せられた化合物を上記同様に
処理し、それぞれ対応する下記アセトアルデヒド化合物
に変換した: (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)=4−(m−
1−リフルオロメチルフェノキノ)−1(E)−ブテン
−I−イル)−シクロペンタ−2α−イル)アセトアル
デヒド (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
フルオロフェノキノ)−1(E)−ブテン−■−イル)
−シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (lα−t−プチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒト冶ピランー2−イルオキシ)−4−(o−
フルオロフェノキン)l(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
フルオロフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)
−シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
クロロフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (Iα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
クロロフェノキシ)=1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
クロロフェノキシ)i、(E)−ブテンミーイル)−シ
クロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (lα−し−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4,−(m
−ブロモフェノキシ)−1E)−ブテノ−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
ブロモフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)−
フクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
ブロモフェノキン)−1(E)−ブテン−i−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (lα−t−ブヂルジメチルノリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2〜イルオキシ)−4−(p−
メチルフェノキノ)−1(E)−ブテン1−イル)−7
クロペンター2α−イル)アセトアルデヒド (!α−[−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒト七ピランー2−イルオキシ)−4−(o−
メチルフェノキノ)l(]ε)−ブテン−1−イル)−
フクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (1α−1−プチルノメチルンリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
メチルフエノギン)−1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (1α−t−ブヂルジメチルシリルオギシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4〜(m−
メトキンフェノキン)−1(E)−ブテン−■−イル)
−シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (1α−t−ブヂルジメチルノリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4,−(o
−メトギンフェノギン)−1(E)−ブテン−I−イル
)−フクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (lα−t−ブチルジメチルンリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
メトキンフェノキン)− 1 (E)−ブテン−l−イ
ル)−シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド 実施例8 (lα−t−ブヂルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
ン−1(E)−ブテン−l−イル)フクロペンタ−2α
ーイル)アセトアルデヒドの製造: 前記実施例4のメチルエステル体から直接標記アルデヒ
ド体を次に示す別法により製造することができる。 撹拌機と隔壁/窒素/減圧のための人口を備えた丸底フ
ラスコに、(lα−[−ブチルノメチルンリルオギシ−
4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β
(3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4
−フェノキノー1(E)−ブテン−l−イル)シクロペ
ンタ−2α−イル)酢酸メチル0.1 00gを秤り込
む。トルエンIJを加え、この系を窒素で5回減圧パー
ジする。この溶液をドライアイス/イソプロパツール浴
上て冷却し、トルエン中水素化アルミニウムシイツブデ
ル1M溶液0.324mflを約8分間にわたって滴下
する。この溶液を窒素雰囲気下、−78℃で2時間撹拌
後、ジエチルエーテルI Omflで希釈する。冷浴を
除き、飽和塩化アンモニウム水溶液4Jを加え、この溶
液を30分間強く撹拌後、セライトに通してr過する。 水層をジエチルエーテルで抽出し、抽出物を合せて乾燥
し、減圧下に溶媒を除き、油状物として標記化合物を得
る。 前記実施例4て製せられた他のメチルエステル体を上記
のように処理し、それぞれその対応する下記アルデヒド
体に変換した。 (1α−t−プチルジメチルノリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒト七ピランー2ーイルオキシ)−4−(p−
ヘキシルフエノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)
−シクロペンタ−2α=イル)アセトアルデヒド (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
へキシルフェノキン)l(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (lα−t−プチルジメチルソリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4. − 
(m−ヘギノルフエノキン)− 1 (E)−ブテン−
l−イル)−フクロペンタ−2αーイル)アセトアルデ
ヒド (lα−t−ブヂルンメチルンリルオキシ−4α−(テ
トラヒト七ピランー2ーイルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
ヘキシルオキシフェノキン)−1(E)−ブテン−1−
イル)−フクロペンタ−2αーイル)アセトアルデヒド (lα−t−ブヂルンメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β〜(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
ヘキシルオキシフェノキン)−1(E)−ブテン−1−
イル)−シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド (Iα−t−ブヂルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒト七ピランー2−イルオキシ)−4−(p−
へギシルオギノフエノキノ)−1(E)−ブテン−1−
イル)−シクロペンタ−2α−イル)アセトアルデヒド 実施例9 (■α−t−ブチルンメチルノメチオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキソ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
ン−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α
−イル)ブタ−3−イン−2−オールの製造。 等圧滴下漏斗と乾燥窒素人口/出口バルブを備えた反応
フラスコに、無水塩化メチレン30mi中(1α−L−
プチルジメチルシリルオキソー4α−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(テトラヒドロ
ピラン−2−イルオキソ)−4−フェノキン−1(E)
−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α−イル)アセ
トアルデヒド465g(7,9ミリモル)を入れる。こ
のフラスコを乾燥窒素で減圧パージし、強く撹拌しなか
ら約15°Cに冷却する。この溶液にテトラヒドロフラ
ン中塩化エチニルマグネシウム1.25M溶液9.Om
flを添加後、容器内を雰囲気温度で5〜lO分間また
はT L Cで監視して反応が完結するまで撹拌する。 次いで塩化メチレン30m!および濾過した加温(35
℃)飽和塩化アンモニウム水溶液50mJlを加え、溶
液を5〜10分間強く撹拌ずろ。 更に5〜IO分間撹拌しながら温水(35℃)50m!
を加える。溶液を濾過し、保持物(retentate
)を塩化メチレン50m、I2.で洗い、水層を塩化メ
チレンで(15JX2回)抽出する。塩化メチレン抽出
物を合せて水100mJiiと混合し、塩化メチレン層
を除いて水層を塩化メチレン20m!て逆抽出する。塩
化メチレン溶液を合せて無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾
過し、減圧下に溶媒を除き、油状残留物として標記化合
物を得た。 次の方法で各異性体に分割する二上記油状物をヘキサノ
で充填したシリカゲルカラム上で、クロマトグラフィー
にイτ]し、5〜15%酢酸エチル/ヘキサン(5%段
階で酢酸エヂル濃度を増加)で生成物を溶離する。この
分割方法でそれぞれ立体化学的に純粋なプロパルギルア
ルコール体を含む分画2種を得る。 (lα、4α−ノヒドロキシー3β−(3α−ヒドロギ
ン−4−フェノキシ−1(E)−ブテン−1−イル)シ
クロペンタ−2α−イル)−1−ブタ−3〜イン−2−
オールの純粋であるか分割されていない2種の異性体、
およびそのクロマトクラフィーによる分割後の各異性体
2種の13C−NMRスペクトルを測定した。NMRス
ペクトル測定前にC−9、C−11およびC−15位の
保護拮を酸で加水分解する。加水分解は後記実施例17
の条件と試剤を用い酢酸で行なう(またこの目的のため
に後記実施例18の条件と試剤を用いることもできる)
。スペクトルの測定はプルカー(B ruker)WM
300スペクトロメータ上、CD(43/CD30D中
、スペクトル幅18,500Hz、フリップ角40°、
および16にデータ表を用い、75473MHzで操作
し、周波数領域0 、031)l)mのディンタル分解
を与える1、0l−1z線の拡幅適用後、Oから32K
まで満足させて行なった。すべてのスペクトルのための
内部標準物質きしてテトラメチルシランを使用した。 得られたスペクトルデータを下表に示す。化合物の各炭
素について化学シフトか得られる。番号1−16は式(
1)に関する特定の当該炭素を意味する。番号17〜2
0はフェノギン部分のそれぞれ酸素置換位置、オルト、
メタおよびパラ位置の炭素を、意味する。この実施例に
おいて、最初の炭素3個は存在しないので化学シフトは
記録されない。これを文字NA(not applic
able)て表わず。 分割した異性体は、単なる同定の目的て異性体1および
2と命名する。 異性体混合物 1、NA 6. 60.65. 61,372、NA 
7. 34.28. 35.713、NA 8. 45
.42. 47.334.72.68,73.39 9
.71.84,71.965. 84.38. 85.
1? 10. 42..10. 42.1911.76
.86,76.95 16.71.65゜12.55.
47,55.76 17.158.56■3.130.
89 18. 114.7514.134.86,13
4.95 19.12.9.5615.70.90,7
0.97 20.121.20異性体1 1、 NA 6.60.69 11.77.032、 
NA 7.34.20 12.55,643、 NA 
8.45.55 13.130,704.73.36 
9.71.89 14.134.925.84.27 
10.42.01 15.70.9216、71.64 17、158.54 18、114.70 19、129.56 20、121.20 異性体2 L、NA 6. 61.36 11、76.852、N
A 7. 35.71 12. 55,823、NA 
8. 47.43 13. 130.864.72,5
4 9.71.94 14.134..865.85.
18 10.42.10 15.70.8716、、 
71.66 17、 158.57 18、 114.75 19、 129.56 20.121.21 前記実施例7および8で製せられたアセトアルデヒド体
に、上記と同様の試剤と条件を適用し、クロマトグラフ
ィーによる分割を反復適用して該アルデヒド体を対応す
るアルコール体に変換し、次いて各立体異性体に分割し
た。これらの化合物を次に示す: (lα−[−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
トリフルオロメチルフェノキン)−1(E)−ブテン−
1−イル)−フクロペンタ−2α−イル)−1−ブタ−
3−イン−2−オール(lα−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキ
シ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イル
オキシ)−4−(m−フルオロフェノキン)−I(E)
−ブテン−1−イル)−シクロペンタ−2α−イル)−
1−ブタ−3−イン−2−オール (lα−
【−ブチルジメチルシリルオキシー4α−一(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α
−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o
−フルオロフェノギン)−1(E)−ブテン−1−イル
)−シクロペンタ−2α−イル)−1−ブタ−3−イン
−2−オール (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒト七ピランー2−イルオギシ)−4−(p−
フルオロフェノキン)−1(IE)−ブテン−1−イル
)−シクロペンタ−2α−イル)−1−ブタ−3−イン
−2−オール (lα−1−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2〜イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
クロロフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)−1−ブタ−3−イン−2
−オール (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−’4−(o
−クロロフェノキシ)−1(E)−ツブテン−1−イル
)−シクロペンタ−2α−イル月−ブター3−インー2
−オール (lα−t−ブヂルジメチルンリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒト七ピランー2−イルオキシ)−4−(m−
クロロフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)−
フクロペンタ−2α−イル月−ブター3−イン−2−オ
ール (1α−1−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
ブロモフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル月−ブター3−インー2−オ
ール (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
ブロモフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)l−ブタ−3−イン−2−
オール (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキソ)−4−(p−
ブロモフェノキノ)−1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)1−ブタ−3−イン−2−
オール (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
メチルフェノギン)−1(IE)−ブテン−1−イル)
−フクロペンタ−2α−イル月−ブター3−イン−2−
オール (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
)・ラヒドロピランー2−イルオキシ)−3β−(3α
−(テトラヒト七ピランー2−イルオギノ)−4−(o
−メチルフェノギン)i(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)■−ブター3−インー2−
オール (Iα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
メチルフェノギン)−1(E)−ブテン−1−イル)−
フクロペンタ−2α−イル月−ブター3−イン−2−オ
ール (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ〜4α〜(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
メトキシフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)
−フクロペンタ−2α−イル月−ブター3−イン−2−
オール (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
メトキンフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)
−シクロペンタ−2α−イル月−ブター3−インー2−
オール (lα−t−ブヂルジメチルノリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
メトキシフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)
−シクロペンタ−2α−イル)l−ブタ−3−イン−2
−オール (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒト七ピランー2−イルオキソ)−4−(p−
ヘキシルフェノキノ)−1(E)−ブテン−1−イル)
−フクロペンタ−2α−イル月−ブタ〜3−イン−2−
オール (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α〜
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
ヘキシルフェノキノ)−1(E)−ブテン−1−イル)
−フクロペンタ−2α−イル月−ブター3−イン−2−
オール (lα−1−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
へキシルフエノギン)−1(E)−ブテン−I−イル)
−シクロペンタ−2α〜イル月−ブター3−インー2−
オール (1α−t−プチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒト七ピランー2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
ヘキシルオキシフェノギン)−1(E)−ブテン−1−
イル)−シクロペンタ−2α−−イル月−ブター3−イ
ン−2−オール (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−/I−(0
−へギノルオキシフェノギン)−13)−ブテン−1−
イル)−フクロペンタ−2α−,イル月−ブター3−イ
ン−2−オール (lα−1−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
へキシルオキシフェノキノ)−1(E)−ブテン−1−
イルブーツクロペンタ−2α〜イル)アセトアルデヒド 実施例10 (1α−t−ブヂルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)=4−フェノキ
ノー1(IΣ)−ブテン−■−イル)シクロペンタ−2
α−イル)−6−ヘキサ−3,4−ジエン酸エヂルの製
造・ 三頚フラスコに窒素入口針、等圧滴下漏斗およびコール
ドフィンガー型冷却器(:1属の減圧型蒸留ヘットを取
付+−する。オルト酢酸トリエチル18m!に(lα−
t−ブヂルノメチルンリルオキシー4α−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(テトラヒ
ト七ピランー2−イルオキシ)−4−フェノキノー1(
E)−ブテン−1−イル)フクロペンタ−2α−イル)
−I−ブタ−3−イン−2−オールの1種の異性体3.
18gを溶解し、この溶液に氷酢酸0.I8Jを加え、
反応容器に導入する。溶液に乾燥窒素を吹き込み、撹拌
しながら170〜175℃の油浴上で加熱する。 この溶液に、更に氷酢酸0.1Jとオルト酢酸トリエチ
ル6.0Jを30〜35分間にわたって加える。反応系
からオル)−酢酸トリエチル−エタノール−酢酸6m、
9を留去後、熱時反応溶液を第2のフラスコに移し、反
応溶液にトルエン12.0m児を加える。試剤を減圧下
に留去して油状物を得る。油状物にトルエンを加えた後
、減圧下にトルエンを除き、次に示す’I−1l−1−
Nスペクトルデータろ有する標記化合物を得た ・ L土朋 7.28 21〜1. L、 J=7.5Hz、 l−
1−196,86−6,983H,m、 H−18,2
05,43〜5.82 2 H、m、 l−1−13−
144,98m、H−2° T HP 4.81 m、 l−1−2’ i’1lP4.67 
m、 l−1−2’ THP3.88 21−1. m
、 H−6°T HI)3.47 2 H,m、 I−
I −6° T I−I PO,899H,s、 t−
ブチル 0.5 、 s、ノリルメチル 07 s、ノリルメチル 3.9−4.15 3H,m、 H−11,164,1
91I−I、 m、H−9 4,521I−1,m、 H−15 5,222H,m、 l−1−4,6 4,132H,q J =7.0.0CI−1゜3.0
1 21−1. m、 H−3 1,272H1m、CH3 次いでこの粗アレニルエステル体をンリカゲル上でクロ
マトグラフィーに例し、ヘキサノないし50%酢酸エチ
ル/ヘキサンの勾配溶離剤て溶離し、残留プロパルギル
アルコール前駆体からアレン化合物を分離した。 前記実施例7または8で製且゛°られた化合物の各異性
体らしくは未分割の混合物を、前記同様の方法で処理し
、対応する下記ツエン酸エステル体を得た (1α−L−ブチルジメチルンリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
トリフルオロメチルフェノギシ:l−1(E)−ブテン
−1−イル)−シクロペンタ−2α−イル)−6−ヘキ
サ−3,4−ジエン酸エチル(lα−t−ブヂルジメチ
ルンリルオキソ〜4α−(テトラヒドロピラン−2−イ
ルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−4−(+n−フルオロフェノキン)l
(E)−ブテン−1−イル)−フクロペンタ−2α−イ
ル)1−6−ヘキサ−3,4−ツエン酸エチル (1α−[−ブチルノメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)=4−(o−
フルオロフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)
−フクロペンタ−2α−イル月−6−ヘキサ−3,4−
ジエン酸エチル (lα−t−ブヂルジメチルンリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
フルオロフェノキシ)−1(E)−ブテシー1−イル)
−シクロペンタ−2α−イル)■−6−ヘキサ〜3,4
−ジエン酸エヂル (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
クロロフェノキシ)l(E)−ブテン−1−イル)−シ
クロペンタ−2α−イル)■−6−ヘキサー3.4−ジ
エン酸エチル (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
クロロフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)−
フクロペンタ−2α−イル月−6−ヘキサー3,4−ジ
エン酸エチル (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
クロロフェノキン)l(E)−ブテン−1−イル)−フ
クロペンタ−2α−イル)l−6−ヘキサ−3,4−ジ
エン酸エチル ″ (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3
α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(
m−ブロモフェノキノ)−1(E)−ブテン−1−イル
)−シクロペンタ−2α−イル)1〜6−へギザ−3,
4−ジエン酸エチル (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
ブロモフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)−
フクロペンタ−2α−イル)1−6−ヘギザー3.4−
ジエン酸エチル (1α−L−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
ブロモフェノキノ)−1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル月−6−へギザ−3,4−ジ
エン酸エチル (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
メチルフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)1−6−ヘキサ−3,4−
ジエン酸エチル (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒト七ピランー2−イルオキシ)−4−(o−
メチルフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)−
フクロペンタ−2α−イル月−6−へキサ−3,4−ジ
エン酸エチル (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキソ)−4−(m−
メチルフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)−
シクロペンタ−2α−イル)1−6−ヘキサ−3,4−
ジエン酸エチル (lα−し−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
メトキシフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)
−シクロペンタ−2α−イル)l−6−ヘキサ−3,4
−ジエン酸エチル (lα−t−ブチルジメチルシリルオキソ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
メトキノフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)
−シクロペンタ−2α−イル月−6−ヘキサー3.4−
ジエン酸エヂル (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
メトキンフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)
−フクロペンタ−2α−イル)1−6−ヘキサ−3,4
−ジエン酸エヂル (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−
ヘキシルフェノキシ)−1(E)〜ブテンー1−イル)
−シクロペンタ−2α−イル月−〇−ヘキサ−3,4−
ジエン酸エチル (■α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−
へキシルフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)
−シクロペンタ−2α−イル)l−6−ヘキサ−3,4
−ジエン酸エチル (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒト七ピランー2−イルオギン)−3β〜(3α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−
ヘキシルフェノキシ)−1(E、)−ブテン−1−イル
)−シクロペンター2α−イル)■−6−へキーサー3
.4−ツエン酸エチル(lα−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキ
シ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イル
オキシ)−4−(m−ヘキシルオキシフェノキシ)−1
(E)−ブテン−■−イル)−シクロペンタ−2α〜イ
ル)l−6−ヘキサ−3,4−ジエン酸エチル(1α−
1−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラ
ヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o−ヘキシル
オキシフェノキシ)l(E)−ブテン−1−イル)−シ
クロペンタ−2α−イル月−6−ヘキサー3,4−ジエ
ン酸エチル(lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−
4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β
−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−
4−(p〜フルオロフェノキシ)−1(E)−ブテン−
1−イル)−シクロペンタ−2α−イル月−6−ヘキサ
ー3.4−ジエン酸エチル 実施例11 (Iα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
シ−1(E)−ブテン−I−イル)シクロペンタ−2α
−イル)−6−ヘキサ−3,4−ジニンーl−オールの
製造: 温度計、等圧滴下漏斗、乾燥窒素入口および減圧出口を
備えた三頚反応フラスコに、無水ジエチルエーテル62
.5m、[を加夫、反応系を乾燥窒素でパージする。乾
燥窒素雰囲気下、撹拌しながら粉末水素化アルミニウム
リチウム0.32gを少量づつ加える。この溶液を雰囲
気温度で15〜20分間撹拌し、約10℃に冷却する。 無水ジエチルエーテル2L5+n4中(1α−L−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−4α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−3β(3α−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)−4−フェノキシ−1(E)−ブ
テンー1−イル)シクロペンタ−2α−イル)−〇−へ
ギザ−3,4−ジエン酸エチル656gの溶液を、10
−15℃に保持されるような速度で添加する。混合物を
、還元が完結するまで室温で撹拌し、再び約lO℃に冷
却し、アセトン3゜0mlを約15分間にわたって加え
た後、反応容器内を更に15分間撹拌する。飽和酒石酸
ナトリウムカリウム水溶液2.5Jを滴下する。水素ガ
スが放出されなくなったとき、更に飽和酒石酸ナトリウ
ムカリウム水溶液29.0m、Mを加える(反応容器内
は雰囲気温度である)。水層を回収して酢酸エチルで(
25Jx2回)抽出する。エーテルおよび酢酸エチル抽
出物を合せて水35mJ!、で洗う。有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥、濾過し、減圧下に濃縮し、次の’H
−NMRスペクトルデータを有する標記アルコール体を
得た。 炙」凹 7.28 .2H,t、 J=7.5Hz、 H−19
6,86〜6.98 3H,tn、 H−18,205
,46〜5.83 2H,m、 H−13〜144.9
6 m、 H−2’ THP 4.82 m、 H−2’ TI−IF5.67 m、
 H−2’ T’1−IF5.88 21−1. m、
 H−6°T I−I P3.47 2H,m、 H−
6’ THPo、89 91−1. s、 L−ブチル
0.5 s、シリルメチル 0.7 s、シリルメチル 3.9〜4.15 3H,m、 H−1f、 164.
19 1H,m、 H−9 4,521H,m、 H−15 3,672H,t、 J=6. H−25.08 1 
I−I、 m、H−4 5,1011−1、m、I−(−6 前記実施例1Oて製せられたジエン酸エステルを同様の
試剤および条件で還元し、対応するアルコール体を得た
。 実施例12 (lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
シ−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α
−イル)−6−(1−メタンスルホニルオキシ)ヘキサ
−3,4−ンエノの製造:窒素人口/出口バルブと機械
撹拌器を取付けた反応フラスコに、無水塩化メチレンG
Vmi中(lα−t−ブチルジメチルシリルオキシー4
α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β(
3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−
フニノキノ−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペン
タ−2α−イル)−6−ヘキサ−3,4−ジエン−1−
オール724gを加える。これに無水トリエチルアミン
6.7Jを加え、このとき反応系を乾燥窒素でパージし
、約−30℃に冷却する。 これに無水塩化メチレン13.5J中塩化メタンスルボ
ニル235gを、反応溶液か最初の温度に保持されるよ
うに15〜20分間にわたって加える。反応が完結する
まで(約30分間)撹拌ずろ。 冷浴を取除き、トリエチルアミン2.0mjjの塩化メ
チレン20m!溶液、次いて飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液20mflを加える。塩化メチレン層を回収し、水
層を塩化メチレンで(50+J、X 2回)抽出する。 塩化メチレン抽出物を合せて飽和炭酸水素ナトリウム(
1: I (v:v))20mえて洗う。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を除き、次に示
す’H・NMRスペクトルデータを有する標記化合物を
得た: 克」肌 7.2g 2H,t、 J =7.5Hz、 H−19
6,86−6,983H,m、l−1−18,205,
46〜5.83 2H,m、 H−13〜I44.96
 m、 H−2”I”HF 2.81m、H−2° THP L67 m、H−2’ TI−IF 5.88 2H,m、 l−1−6’ TI−IF5.
47 21−1. m、 l−1−6’ TI−IPO
,899H,s、 t−ブチル 05 s、シリルメチル 0.7 s、ンリルメチル 3.9〜4.15 31(、m、 H−11,164,
1,91H,m、 I−1−9 4,521I−I 、m、 l−l−154,232H
,t、 J=6. I(−25,0411−1、m、 
H−4 5,1311(、m、I(I(−6 2,9831−I、 s、 S (L+Me前記実施例
11の方法により製せられた他のジエノール類を上記の
ように処理し、対応するメルシート類に変換した。一 実施例13 (lα−L−プチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒト七ビランー2−イルオキシ)−3β(3α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−フェノキ
シ−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペンタ−2α
−イル)−6−へギザ−3,4−ジエノー1−二トリル
の製造: 乾燥窒素人口/出口バルブを備えたフラスコに、シアン
化カリウム4.7gと無水ジメチルスルホギソド16.
5m克を入れ、これを乾燥窒素雰囲気下、75〜80℃
で約30分撹拌する。これに無水ノメチルスルポキシド
20m児中(lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−
4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β
(3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4
−フェノキシ−1(E)−ブテン−1−イル)シクロペ
ンタ−2α−イル)−6−(1−メタンスルポニルオキ
シ)−へギザ−3,4−ジエン8.13gを、一度に加
える。60〜80℃の浴上、約60分間反応させて反応
を完結する。反応溶液を約40℃に冷却し、塩化メチレ
ン5m、Mを加える。混合物を更に雰囲気温度に冷却し
、塩化メチレン120+n4を含む分液漏斗に移す。反
応フラスコ内容を塩化メチレンで洗い、洗液を抽出漏斗
に移す。粗ニトリル体の塩化メチレン溶液を水160J
と共に振盪後、水性の上層を回収し、塩化メチレンで(
4−OJX3回)抽出する。塩化メチレン抽出物を合せ
て水120m1.で洗う。水層を合せて再び塩化メチレ
ン40m、Lで抽出する。すべての塩化メチレン抽出物
を合せて無水硫酸ナトリウムで乾燥、ア過し、減圧下に
溶媒を除き、標記化合物を得た。この粗ニトリル体を更
にノリカゲルカラムに通し、ヘキサ2150%酢酸エヂ
ルーヘギザン勾配溶離剤で溶離して精製し、次に示す’
H・NMRスペクトルデータを有する標記化合物の分画
を得た。 炙」叩 7.282H,t、J=7.5l−Iz、H−196,
86〜6.98 3 H,m、 H−18,205,4
6〜5.83 2H,m、 H−13−144,96m
、H−2° THP 4.82 m、 H−2’ THP 4.67 m、 H−2’ TI−IF5.88 2H
,m、 H−6° THP、:r二 3.47 2 H,m、H−6° T HPO,899
H,s、 t−ブチル 0.5 s、シリルメチル 0.7 s、シリルメチル 3.9〜4.i5 3H,m、 H−11,164,1
91H,m、 I−1−9 4,521H,m、 H−15 前記実施例12で製せられた他のメシレート類または同
様のスルホニルエステル体を、上記方法で処理してそれ
ぞれ次に示す化合物に変換した。 (1α−t−ブチルジメチルシリルオキシー4α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−
(テトラヒドロピラン−2〜イルオキシ)−4−(m−
トリフルオロメチルフェノキシ)−1(E)−ブテン−
1−イル)−フクロペンタ−2α−イル)−6−l\キ
サ−3,4−ジェノ−■−二トリル(lα−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−4α−(テトラヒドロピラン−
2−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキソ)−4−(m−フルオロフェノキシ
)−1(B)−ブテン−1−イル)−シクロペンタ−2
α−イル)−6−ヘキサ−3,4−ジェノ−1−ニトリ
ル(lα−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α
−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(o
−フルオロフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル
)−シクロペンタ−2α−イル)−6−へギザ−3,4
−ノエノー1−ニトリル(lα−t−ブチルジメチルシ
リルオキシー4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオ
キシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イ
ルオキシ)−4−(p−フルオロフェノキシ)−1(E
)−ブテン−1−イル)−シクロペンタ−2α−イル)
−〇−ヘキサー3.4−ジェノー1−ニトリル(lα−
t−ブチルジメチルシリルオキジ−4α−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラ
ヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−クロロフ
ェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)−シクロペ
ンタ−2α−イル)−6−ヘキサ−3,4−ジェノ−1
−ニトリル(lα−1−ブチルジメチルシリルオキシ−
4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β
−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−
4−(o−クロロフェノキシ)−1(E)−ブテン −
−1−イル)−シクロペンタ−2α−イル)−6−・\
キサー3,4−ジェノー1−ニトリル(lα−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−4α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)〜4−(m−クロロフェノキシ
)−1(E)−ブテン−1−イル)−シクロペンタ−2
α−イル)−6=ヘキサ−3,4−ジェノ−1−ニトリ
ル(lα−L−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α
−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m
−ブロモフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)
−シクロペンタ−2α−イル)−6−ヘキサ−3,4−
ジェノ−1−ニトリル(lα−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシー4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキ
シ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イル
オキシ)−4−(o−ブロモフェノキシ)−1(E)−
ブテン−1−イル)−シクロペンタ−2α−イル)−6
−ヘキサ−3,4−ジエノー1−ニトリル(lα−t−
プチルジメチルシリルオキシー4α−(テトラヒドロビ
ラ、シー2−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−4−(p−ブロモフェ
ノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)−シクロベン
タル2α−イル)−6−ヘキサ−3,4−ジェノ−1−
二トリル(lα−t−プチルジメチルシリルオキシー4
αニー(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β
−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−
4−(p−メチルフェノキン)−1(E)−ブテン−1
−イル)−シクロベンタル2α−イル)−6−へギザ−
3,4−ノエノー1−ニトリル(lα〜t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−4α〜(テトラヒドロピラン−2−
イルオキシ)−3β〜(3α〜(テトラヒドロピラン−
2−イルオキシ)−4−(o−メチルフェノキシ)−1
(E)−ブテン−1−イル)−シクロペンタ−2α−イ
ル)−6−ヘキサ−3,4〜ジェノ−■−ニトリル(l
α−t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テトラ
ヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(m−メチ
ルフェノキシ)−1(E)−ブテン−1−イル)−シク
ロペンタ−2α−イル)−6−ヘキサ−3,4〜ジエノ
ー1−二トリル(lα−t−プチルジメチルンリルオキ
シー4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−
3β−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ
)−4−(m−メトキシフェノキシ)−1(E)−ブテ
ン−1〜イル)−シクロペンタ−2α−イル)−6−へ
ギザ−3,4−ジエノー1−ニトリル(lα−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシー4α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−4−(o−メトキンフェノキ
シ)−1(E)−ブテン−1−イル)−7クロペンター
2α−イル)−6−ヘキサ−3,4−ジェノ−1−二ト
リル(1α〜t−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3
α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−4−(
p−メトキシフェノキシ)−1(E)−ブテン−■−イ
ル)−シクロペンタ−2α−イル)−6−へギザ−3,
4−ジエノー1−ニトリル(1α−t−ブチルジメチル
シリルオキシ−4α−(テトラヒドロピラン−2−イル
オキシ)−3β−(3α〜(テトラヒドロピラン−2−
イルオキシ)−4−(p−へキシルフェノキン)−1(
E)−ブテン−l−イル)−シクロベンタル2α−イル
)−6−へギザ−3,4−ジエノー1−ニトリル(1α
−t〜ブブチジメメチンリルオキシ−4α−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−(テト
ラヒドロピラノ−2−イルオキシ)−4−(o−へキシ
ルフェノキン)−1(E)−ブテン−1−イル)−シク
ロベンタル2α−イル)−6−へキサ−3,4−ノエノ
ー1−ニトリル(1α−t−ブチルノメチルノリルオキ
シ−4α(テトラヒドロピラン− −(3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−
4−(m−へキシルフェノキン)−1(E)−ブテン−
1−イル)−シクロベンタル2αーイル)−6−へギザ
−3.4ージエノー1ーニトリル(lα−t−プチルジ
メチルシリルオキシー4α−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−3β−(3α−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)− 4. − (m−ヘキシルオキ
シフエノキシ)−1(E)−ブテン−I−イル)−シク
ロペンタ−2α−イル)−6−ヘキサ−3.4−ジェノ
−1−二トリル(lα−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−4α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−
3β−(3α−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ
)−4−(o−ヘキシルオギンフエノギノ)、− 1 
(E)−ブテン−1−イル)−シクロペンタ−2α−イ
ル)−6−ヘキサ−3.4−ジェノ−■−二トリル(l
α−[−ブチルジメチルシリルオキシ−4α−(テトラ
ヒドロピラン−2−イルオキシ)−3β−(3α−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)− 4 − (p
−ヘキシルオキシフエノギノ)−川(ID)−ブテンー
1−イル)−シクロペンタ−2α−イル)−6−ヘキサ
−3,4−ジェノ−1−ニトリル実施例14 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−フニノキシー1
7.18,19.20−テトラノルプロスタ−4,5,
13(E)−トリエン酸メチルの製造。 冷却器と窒素人口/出口バルブを備えた反応フラスコに
、1−ニトリル体(実施例13の生成物)3.47gの
2−メトキシエタノール370m児溶液を入れる。これ
に水酸化カリウム09gの水3IJ、溶液を添加後、こ
の系を乾燥窒素て減圧パージする。混合物を窒素雰囲気
下に約63時間加熱還流する。反応混合物を約50〜6
0℃に冷却し、減圧下に溶媒を除く。残留物を水5.0
Jに溶解し、等圧滴下漏斗とpH電極を備えた反応フラ
スコに移す。この溶液を5〜10℃に冷却し、溶液のp
i(が約2となるまで冷(100C)水性塩酸(水2部
に対して農塩酸1部)を加える。酢酸エチル/ジエチル
エーテル(l・l)20m児を加え、この系を雰囲気温
度で撹拌する。水層を回収し、更に酢酸エチル/ジエチ
ルエーテル(1:I)で(20Jx2回)抽出する。有
機層を合せて水で(5n+4×2回)洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥、濾過する。減圧下に溶媒を除き、粗残
留物として標記酸を得た。 この時点で酸を抽出、クロマトグラフィーなどのような
通常の方法で回収、精製することができる。酸生成物は
下記’H−NMRスペクトルデータを有する。 炙」西 7.28 2H,t、 J=7.5Hz、 H−196
,86〜6.98 3H,m、 H−18,205,4
6〜5.87 2H,m、 H−13〜144.95m
、H−2° T HP 4.85 m、 H−2° T I−I P4.67m
、H−2° T HP 3.88 2H,m、 H−6° THP3.47 2
H,m、 H−6’ THP3.9〜4.15 3H,
m、H−11,164,19L H,m、H−9 4,524H,m、H−15 しかし精製することなく、上記粗酸生成物を次のように
処理してもよい。すなわちこの粗酸をジメチルホルムア
ミド45m、9で反応フラスコに移す。この溶液に粉末
炭酸水素ナトリウム165g、次いでヨウ化メチル2.
9gを加える。 この溶液を45℃で48時間またはエステル形成が完結
するまて撹拌する。反応混合物をセライトを介して濾過
する。濾過ケーキを塩化メチレン50111克で洗い、
有機溶媒を合Uて減圧下に蒸発させて油水残留物を得る
。残留物を塩化メチレン65mj7.に溶解し、水洗(
15m!×2回)する。水層を塩化メチレンで逆抽出し
、前の塩化メチレン溶液と合せて無水硫酸ナトリウムで
乾燥、濾過する。溶媒を除いて得られた粗メチルエステ
ル体をシリカゲルクロマトグラフィーで精製する。クロ
マトグラフィーによる精製は、ヘキサン150%酢酸エ
チルーヘキサン勾配溶離剤、75%酢酸エチルーヘキサ
ンおよび必要に応じて最終的に酢酸エチルを用いて行な
う。純メチルエステル体を含む分画を合せて減圧下に溶
媒を除き、次に示す’H・NMRスペクトルデータを有
する標記化合物を得た: δppm 7.28 2H,t、 J =7.5Hz、 l−1−
196,86〜6.98 31−[、m、l−1−18
,205,46〜5.83 2H,m、 H−13〜1
44.96 m、l−1−2° T I−I P4.7
9 m、 H−2’ THP 4.70m、H−2° T II P 3.8g 2 H,m、 H−6° T HP3.47
 2 1−1. m、 H−6° T HP3.9〜4
.’15 3H,m、 l−1−11,164,231
[−1,m、 H−9 4,521H,m、 H−15 3,673H,s、 OMe 而記面施例I3で製せられた他のニトリル化合物を、上
記方法に従って処理してそれぞれ次に示す対応する9−
ヒドロキシジエン酸メチルエステル体に変換した・ 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−トリフルオ
ロフルオロフェノキシ−17,18,19,20−テト
ラノルプロスタ−4,5,13(E)。 −トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−フルオロフ
ェノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−o−フルオロフ
ェノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒトロギシー11α、15α−ビス=(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−フルオロフ
ェノキシ−17,1B、19.20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−)ジエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、+5α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−クロロフェ
ノキン−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,l 3(E)−)ジエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキソ)−16−o−クロロフェ
ノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒトロギシー11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−クロロフェ
ノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ヒス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−ブロモフェ
ノキン−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,13(E)−1−ジエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−o−ブo −F
−7工/キシ−17,18,19,20−7トラノルプ
ロスター4.5.13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロビランン−2−イルオキソ)−16−p−ブロモフ
ェノキン−17,18,19,2O−f−トラノルプロ
スタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−te−p−メチルフェ
ノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,13(E)−)ジエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−o−メチルフェ
ノキン−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,l 3(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−メチルフェ
ノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−jlα、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−m〜メトキシフ
ェノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−Itα、15α−ヒス=(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−o−メトキシフ
ェノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16”p−メトキシフ
ェノキシ−17,18,19,20−y−トラノルプロ
スクー4..5,13(E)−)リエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−ヘキシルフ
ェノキン−17,18,19,20−テトラノルプロス
タ−4,5,1:3(E) ’トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−Ifα、15α−ヒス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16,−o−へキシル
フェノキノー17,18.19.20−テトラノルプロ
スタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ヒス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−ヘキシルフ
ェノキン−17,18,19,20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−)リエン酸メチル 9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−’16−m−ヘキシル
オキソフェノキシ−17,1i3.19.20−テトラ
ノルプロスタ、−4,5,13(E)−)リエン酸メチ
ル 9α−ヒ1舶ギシー11α、15α−ヒス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−o−ヘキシルフ
ェノキシ−17,+ 8.19.20−テトラノルプロ
スタ−4,5,13(E)−1−リエン酸メチル 9α−ヒドロギン−11α、+5α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−ヘキシルフ
ェノキン−17,18,19,20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9α−ヒドロギン−11α、15α−ヒス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−フェノギンー1
7.18.19.20−テトラノルプロスタ−4,,5
,13(E)−トリエン酸9α−ヒドロキシ−11α、
+5α−ヒス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ
)−16−o−フルオロフェノキシ−17,18,19
,20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−)
リエン酸ソα−こトロ干ソー11α、15α−ヒス−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−フ
ルオロフェノキシ−17,18,19,20−テトラノ
ルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸9α−ヒ
ドロキシ−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)−16−m−フルオロフェノキシ
−17,18,19,20−テトラノルプロスタ−4,
5,13(E)〜トリエン酸9α−ヒドロキシー11α
、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキ
シ)−16−m−メチルフェノキシー17,18.19
.20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−)
リエン酸9α−ヒドロキソ−11α、15α−ビス−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−メ
チルフェノキシ−17,18,19,20−テトラノル
プロスタ−4,5,’I 3(E)−トリエン酸9α−
ヒドロキシ−11α、15α−ヒス=(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−16−p−メトキンフェノキ
ン−17,18,19,20−テトラノルプロスタ−4
,5,13(E)−トリエン酸9α−ヒドロキシ−11
α、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオ
キシ)−16−〇−メトキシフェノキンー17.18,
19.20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)
−)リエン酸9α−ヒドロキシ=11α、15α−ビス
−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−p
−メトキンフェノキシ−17,18,19,20−テト
ラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸実施
例I5 9α−オキソ−IIα、15α−ビス−(テトラヒドロ
ピラン−2−イルオキシ)−16−フェノキシー17.
18,19.20−テトラノルプロスタ−4,5,13
(E)−トリエン酸メチルの製造乾燥窒素雰囲気下、塩
化メチレン100mJu中、二酸化クロム2.66gの
懸濁液(約−20℃に冷却)に、固体3,5−ジメチル
ピラゾール2.58gを加える。−20℃で約0,5時
間撹拌後、9α−ヒドロキシ−11α、15α−ビス−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−フェ
ノキシー17.18,19.20−テトラノルプ口スタ
−4,5,13(E)−トリエン酸メチル337gの塩
化メチレン50J、溶液を加える。この低温で約1時間
撹拌を続ける。これにシリカゲル50gを加え、減圧下
に溶媒を除く。含浸したシリカゲルを、別にヘギサンで
調製したシリカゲルカラムの頂部上に仕込む。ヘキサン
中5〜50%酢酸エチル勾配溶離剤て標記化合物を回収
、分離する。 適当な分画を合せて減圧下に濃縮し、次に示すI4・N
MRスペクi・ルデータを有する標記化合物を得ノこ 
。 イ浦−ptシー 7.28 2H,L、 J=7.511z、 H−19
6,86〜6.98 3 H,m、 l−1−18,2
05,48〜5.95 2H,m、 H−13〜144
.96 m、 H−2’ THP 4.82m、H−2° T HP 4.67 m、 H−2° T I−I P3.88 
2 H,m、 l−1−6° T HP3.50 2H
,m、 H−6° T HP3.9−4.15 3H,
m、 H−11,164,191H,m、H−9 4,5611−1,m、 H−15 3,663I−1,s、OMe 上記16−フェノキシー置換化合物の代りに実施例14
て製せられた適当なメチルエステル体または遊離酸を用
い、上記と同様に処理して該実施例14のすべての化合
物を、それぞれ次に示す対応するC−9オキソ化合物に
変換しノこ:9−オギソー11α、15α−ヒス−(テ
トラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−1リ
フルオロメヂルフエノキソ−17,18,19,20=
テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−1−リエン
酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ビス=(テトラヒドロピ
ラン−2〜イルオキシ)−16−m−フルオロフェノキ
シ−17,18,19,20−テトラノルプロスター4
.5.13(E)−)リエン酸メチル9−オキソ−11
α、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオ
キシ)−16−o−フルオロフェノキシ−17,18,
19,20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)
−トリエン酸メチル9−オキソ−11α、15α−ビス
−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−p
−フルオロフェノキソーj7.1’8,19.20−テ
トラノルプロスタ−4,!5.13(E)−)リエン酸
メチル9−オギソー11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−クロロフェ
ノキノ−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,13(E)−)リエン酸メチル9−オキソ−
11α、15α−ヒス−(テトラヒドロピラン−2−イ
ルオキシ)−16−o−クロロフェノキン−17,18
,19,20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E
)−トリエン酸メチル9−オキソ−11α、15α−ヒ
ス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−
m−クロロフェノキノー17.18.19.20−テト
ラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチ
ル−9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)−16−m−ブロモフェノ
キン−17,18,19,20−テトラノルプロスタ−
4,5,13(E)−トリエン酸メチル9−オキソ−1
1α、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イル
オキシ)−16−o−ブロモフェノキシ−17,18,
19,20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)
−トリエン酸メチル9−ネギソー11α、15α−ヒス
−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−p
−ブロモフェノキン−17,+8.19.20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル
9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−16−p−メチルフェノギン
−17,18,19,20−テトラノルプロスタ−4,
5,13(El−1−リエン酸メチル9−オキソ−11
α、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオ
キシ)−16−o−メチルフェノキシー17.18,1
9.20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−
トリエン酸メチル9−オキソ−11α、15α−ビス−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−
メチルフェノキシ−17,18,19,20−テトラノ
ルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル9
−オキソ−+1α、15α−ビス−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)−16−m−メトキシフェノキン
−17,18,19,20−テトラノルプロスタ−4,
5,13(E)−トリエン酸メチル9−オキソ−11α
、+5α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキ
シ)−16−o−メトキシフェノキシ−17,18,1
9,20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−
トリエン酸メチル9−オキソ−11α、15α−ビス−
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−
メトキシフェノキシ−17,18,19,20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,I 3(E:)−トリエン酸メ
チル9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)−16−p−ヘキシルフェ
ノキシ−17,+8.19.20−テトラノルプロスタ
−4,5,13(E)−1−リエン酸メチル9−オキソ
−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−
イルオキシ)−16−o−へキシルフェノキシ−17,
18,19,2[)−テトラノルプロスタ−4,5,1
3(E)−トリエン酸メチル9−オキソ−11α、15
α−ビス=(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)=
16−m−ヘキシルフェノキシ−17,18j 9,2
0−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−)リエ
ン酸メチル9−オキソ−11α、15α−ビス−(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−ヘキシ
ルオキシフエノキソ−17,18,19,20−テトラ
ノルプロスター4.5.13(1:E)−1−リエン酸
メチル 9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−16−o−ヘキシルオギノフ
エノキソ−17,18,19,20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9−オキソ−11α、】5α−ビス=(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−16−p−ヘキシルオキシフ
エノキシー17,18,19.20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−)リエン酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−16−フェノキシー17.1
8,19.20−テトラノルプロスタ−4,5,13(
E)−トリエン酸メチル9−オキソ−11α、15α−
ビス−(テトラヒドロピラン−2〜イルオキシ)−16
−o−フルオロフェノキシ−17,18,19,20−
テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸
メチル9−オギソ−11α、15α−ヒス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−フルオロフ
ェノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロス
タ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル9−オキソ
−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−
イルオキシ)−16−m−フルオロフェノキシ−17,
18,19,20−テトラノルプロスタ−4,5,13
(E)−トリエン酸メチル9−オキソ〜11α、15α
−ヒス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキソ)−1
6−m−メチルフエノキシー17,18,19.20−
テトラノルプロスター4.5.13(E)−トリエン酸
メチル9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒ
ドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−メチルフエ
ノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,13(El−トリエン酸メチル9−オキソ−
11α、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イ
ルオキシ)−16−p−メトギンフェノギン−17,1
8,19,20−テトラノルプロスタ−4,5,13(
E)4リエン酸メチル9−オキソ−1lα、15α−ビ
ス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−
o−メトキシフェノキシ−17,18,19,20−テ
トラノルプロスター4.5.13(E)−トリエン酸メ
チル9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒド
ロピラン−2−イルオキシ)−16−p−メトギンフェ
ノキシ−17,18,19,20−テトラノルプロスタ
−4,5,13(E)−トリエン酸メチル実施例16 9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−16−フェノキシー17.1
8,19.20−テトラノルプ口スタ−4,5,13(
E)−1−リエン酸メチルの製造=9−オキソ−11α
、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキ
シ)−16−フェノキシー17.18,19.20−テ
トラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸0
 、3 mgを無水ジエチルエーテルlom、Qに溶解
し、これに過剰量のジアゾメタンを室温で加える。’1
” L Cて反応過程を追求し、反応完結のとき、エル
チルと過剰量のジアゾメタンを減圧下に除き、標記メチ
ルエステル体を得た。 前記実施例15で製せられたすべての9−オキソ酸化合
物を上記のように処理し、これらをそれぞれ次に示す対
応するメチルエステル体に変換した。 9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−16−m−)リフルオロメチ
ルフエノキン−17,18,19,20−テトラノルプ
ロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピ
ラン−2−イルオキシ)−16〜m−フルオロフェノキ
シ−17,18,19,20−テトラノルプロスタ−4
,5,13(E)−トリエン酸メチル9〜オキソ−2α
、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキ
シ)−16−o−フルオロフェノキノー17,18,1
9.20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−
1−リエン酸メチル9−オキソ−+1α、15α−ビス
−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−p
−フルオロフェノキン−17,18,19,20−テト
ラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチ
ル9〜オキソ−11α、15α−ビス−(テトラヒドロ
ピラン−2−イルオキシ)−16−p−クロロフェノキ
ノー17.18,19.20−テトラノルプロスター4
.5.13(E)−トリエン酸メチル9−オキソ−11
α、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオ
キシ)−16−o−クロロフェノキシ−17,18,1
9,20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−
トリエン酸メチル9−オキソ−11α、15α−ビス=
(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−
クロロフェノキシ−17,18,19,20−テトラノ
ルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル9
−オキソ−11α、15α−ヒス−(テトラヒドロピラ
ン−2−イルオキシ)−16−m−ブロモフェノキシ−
17,18,19,20−テトラノルプロスタ−4,5
,13(E)−トリエン酸メチル9〜オキソ−11α、
15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ
)−16−o−ブロモフェノキシ−17,18,19,
20−テI・ラノルプロスター4,5.13(E)−ト
リエン酸メチル9〜オキソ−11α、15α−ビス−(
テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−ブ
ロモフェノキン−17,18,19,20−テトラノル
プロスタ−4,5,13(E)−)リエン酸メチル9−
オキソ−11α、+5α−ビス−(テトラヒドロピラン
−2−イルオキシ)−16−p−メチルフェノキシ−1
7,18,19,20−テトラノルプロスタ−4,5,
13(E)−トリエン酸メチル9−オキソ−11α、1
5α−ビス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)
−16−o−メチルフェノキシ−17,18,19,2
0−テトラノルプロスター4.5.13(E)−トリエ
ン酸メチル9−オキソ−11α、15α−ビス−(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−m−メチル
フェノキノー17.18,19.20−テトラノルプロ
スタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル9−オキ
ソ−11α、15α−ビス−(テトラヒドロピラン−2
−イルオキシ)−16−m−メトキノフェノキン−17
,18,19,20−テトラノルプロスタ−4,5,1
3(E)−トリエン酸メチル9−オキソ−11α、15
α−ヒス−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−
16−o−メトキノフェノキンー17.+8.19.2
0−テトラノルプロスター4.5.13(E)−トリエ
ン酸メチル9−オキソ−11α、15α−ビス−(テト
ラヒドロピラン−2−イルオキシ)−16−p−メトキ
ンフェノキン−17,18,19,20−テトラノルプ
ロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル実施例
17 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロギン−I6−フ
ェノキシー17.18,19.20−テトラノルプロス
ター4.5.13(E)−トリエン酸メチルの製造: 前記実施例15の保護されたメチルエステル体0 、3
 mgを、氷酢酸10.0J、水6.0Jおよびテトラ
ヒドロフラン1.7mJlの溶液に溶解する。 この混合物を乾燥窒素雰囲気下、約40℃で12時間撹
拌する。溶媒を減圧下に除き、残留物をトルエン(l 
Om、1ijx3回)と共沸蒸留する。ヘギサンで調製
したンリカケルカラム」二で生成物をヘキサン中酢酸エ
ヂル(75%)で溶離して精製する。 適当な分画を合せて減圧下に蒸発乾固し、標記化合物を
得た。 前記実施例15および16て製せられたエステ−ル体を
上記同様に処理し、それぞれ次に示す対応するジヒドロ
キシ化合物を得た。 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−16−m
−トリフルオロメチルフエノキシ−17゜18.19.
20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリ
エン酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−!6−m
−フルオロフェノキンー17.18.19゜20−テト
ラノルプロスター4.5.13(El)−トリエン酸メ
チル 9−オキソ−11α、+5α−ノビトロキン−16−o
−フルオロフェノキシ−17,18,19゜20−テト
ラノルプロスタ−4,,5,13(E)−トリエン酸メ
チル 9−オキソ−11α、15α−ノビトロキン−16−p
−フルオロフェノキシー17.18.19゜20−テト
ラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチ
ル 9−オキソ−11α、+5α−ジヒドロキシー16−p
−クロロフェノキノー17.18.19.20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(E)−1−リエン酸メチ
ル 9−オキソ−11α、15α−ンヒトロキンー16−0
−クロロフェノキン−17,18,19,20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(E)−1−リエン酸メチ
ル 9〜オギソー11α、+5α−ジヒドロキシ−16−m
−りoaミツエノキシ17.18,19.20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(E)−)リエン酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−1G−m
−ブロモフェノキシ−17,18,19,20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−16−〇
−ブロモフェノキンー17.18.19.20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(Iε)−トリエン酸メチ
ル 9−オキソ−11α、15α〜ンヒトロキン−16−p
−ブロモフェノキン−17,18,19,20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(El−トリエン酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−16−p
−メチルフェノキシ−17,18,19,20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ノヒドロキシ=16−0
−メチルフェノキシ−17,18,19,20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(E)−)リエン酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシー16−m
−メチルフェノキシ−17,18,19,20−テトラ
ノルプロスタ−4,5,13(E)−)リエン酸メチル 9−オキソ−+1α、15α−ノビトロキン−16−m
−メトキンフェノキン−17,18,19゜20−テト
ラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリ、エン酸メ
チル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−16−o
−メトキンフェノキン−17,+ 8.19゜20−テ
トラノルプロスター4.5.13(E)−4リエン酸メ
チル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−16−1
)−メトキンフェノキン−17,18,19゜20−テ
トラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メ
チル 9−オキソ−11α、+5α−ジヒドロキシ−+6−p
−へキシルフェノキシ−17,18,19゜20−テト
ラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチ
ル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−16−〇
−ヘキシルフエノキシー17.L8,19゜20−テト
ラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチ
ル 9−オキソ−11α、+5α−ノヒド七キンー16−m
−ヘキシルフェノキン−17,18,19゜20−テト
ラノルプロスタ−4,5,13(E)−)リエン酸メチ
ル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ=16−m
−ヘキシルオキシフエノキン−17,18゜19.20
−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン
酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−+6−o
−へキシルオキシフェノキシ−17,18゜19.20
−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン
酸メチル 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−16−p
−ヘキシルオキシフエノギノ−17,18゜19.20
−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−トリエン
酸メチル また上記方法を用いて前記実施例における各中間体のエ
ルチル基を加水分解して対応化合物を得た。 実施例18 9−オキソ−11α、15α−ジヒドロキシ−16−フ
ニノキシー17.I 8.19.20−テトラノルプロ
スタ−4,5,13(E)−トリエン酸メチルの製造。 前記実施例15で製した保護されたメチルエステル50
0mgを塩化メチレンに溶解し、強く撹拌しながら48
%フッ化水素酸0.1Jを加える。 これにメルカプトエタノールの塩化メチレン溶液(17
mg/mJl)7.5mi、を30分間にわたって滴下
する。溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液的0゜3Jで中
和する。塩化メチレンで生成物を抽出し、抽出物を合せ
て硫酸すトリウムて乾燥し、減圧下に溶媒を除き、生成
物をンリカゲル力ラムを用いて精製する。20%酢酸エ
チル/ヘキサン、50%と75%酢酸エチル/ヘキサン
および最終の酢酸エチルで段階的にカラムを溶出する。 実施例17と同様に実施例I5および16で製造された
すべてのアルキルエステル化合物を上記方法で加水分解
することができる。 前記実施例9で製せられた単一プロパルギルアルコール
異性体を用い、実施例1O〜18の後段の処理によりそ
の単一異性体を処理し、個々の9−オギソー11α、1
5α−ジヒドロキシ−16−フニノキシートリエン酸ア
ルキルを得た。 実施例9と同様に、異性体混合物および各アレン異性体
について13C−NMRスペクトルを測定した。実施例
9と同一の方法および条件でスペクトルを得た(ただし
化合物をCDC,J。に可溶化するためCD30Dを加
えなかった)。スペクトルデータは実施例9と同様の番
号を付した。アレン異性体“R”は実施例9の異性体1
から、アレン異性体“S”は実施例9の異性体2から誘
導された。 スペクトルデータを次に示す・ 異性体混合物 1、173.59 ’ 6. 88.762.33.0
8,33.24’ ?、26.733.23.71,2
3.83 8.53.34,53,484.90.26
,90,40 9.213.63.2+、3.405、
204.79 10. 45.9911.71.97,
72.01 16.71.57゜12.54.14,5
4.19 1?、158.3913、131.91 1
8.114.6514.133.23,133.34 
19.129.6415、 70.80 20.121
.650)Ae 51.65 R−アレン異性体 1.173.58 ’6.88.7,7 11.71.
942.33.08 7.26.70’ 12.54,
133.23,70 8.53.43 13.131,
904.90.37 9,213.62 14.L33
.495.204.75 10.45.94 15.7
0.8B16、 71.54 17、158.39 18、114.63 19、129.62 20、12]:40 OMe 51.63 S −アレン異性体 L 173.53 6.88.74 比71.982.
33.24 7.26.75 12.54.193.2
3,83 8.53.46 13.131.914.9
0,26 9.213.62 14.133.235.
204.71 10.46.02 15.70.791
.6. 71.58 17、158.39 18、114.65 19、129.63 20、121.42 OMe 51.65 実施例19 結晶性(4,5,6R,8R)−9−オキソ−11α、
15α−ジヒドロキシ−16−フニノキシー17.18
,19.20−テトラノルプロスタ−4゜5.13(E
)−トリエン酸メチルの製造。 油状の(4,5,6R,8R)−9−オキソ−11α、
15α−ジヒドロキシ−16−フニノキシー17.18
,19.20−テトラノルプロスタ−4゜5.13(E
)−トリエン酸メチル約720mgを冷凍庫に保持して
該油状物質を自然に結晶化させる。 固体物質の一部50mgをフラッシュクロマトグラフィ
ー、次いで酢酸エチル/ヘキサンからの結晶化により精
製し、融点71〜?+、5°Cの針状結晶得た。この物
質はHI) L Cにより測定すると98%純度であっ
た。 実施例20 (4,5,6R,8R)−9−オキソ−IIα、15α
−ンヒドロギシー16−フニノキンー17,18.19
.20−テトラノルプロスター4.5.13(E)−ト
リエン酸メチルの生物学的活性(ヒスタミン誘発胃酸分
泌試験)。 この試験にスプレィクーダウレイ(S praqueD
awley) (Hilltop)雄ラットを使用した
。餌および糞尿に近づくのを防ぎ、48時間の断食期間
の胃を空にするのを確実にするため、ラットの首の回り
にプラスチック製円形えりを固定する。試験の朝、手術
の30分前に、標記化合物を強制的に胃管で経口投与す
る。処置の間、ラットをエーテル麻酔し、l縫合糸を幽
門括約筋に近い十二指腸上に、他を喉頭に対して後部食
道に位置させる。 開腹口を傷口クリップで閉じ、刺激胃酸分泌の3時間試
験間隔に1回40 mg/ kgヒスタミン・2リン酸
を皮下注射する。3時間経過の終時点でラットを屠殺し
て胃の胃液内容を吸出し、その容量を記録する。胃液の
一部を0.02M水酸化ナトリウムでpH−7,0±0
.1の終点まで滴定(pi−1メータ上)する。分泌胃
酸をlong体重当りのミリ当量として計算する。処置
した群を対照詳に対して統計的に比較する。この試験に
おいて、(4,5,6R,8R)−9−オギソー】lα
、15α−ジヒドロキシー16−フニノキシー17.’
18゜19.20−テトラノルプロスタ−4,5,13
(E)−トリエン酸メチルは0.5〜4μg/kgの投
与ffiで外挿ED、。値6μ/kgであることを見出
した。 実施例21 (4,5,6R,8R)−9−オキソ−11α、15α
−ジヒドロキシ−16−フニノキシー17.18.19
.20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−ト
リエン酸メチルの毒性: (4,5,6R,8R)−9−オキソ−11α、15α
−ジヒドロキシ−16−フニノギシー17,18.19
.20−テトラノルプロスタ−4,5,13(E)−ト
リエン酸メチルを雄(S im(I Crt)F BR
)マウスに0.125〜0.5mg/kgの投与量で腹
腔内投与した。これらの投与量で致死マウスは記録され
なかった。 特許出願人 ンンテツクス(ニー・ニス・エイ)インコ
ーホレイテッド 代理人 弁理上前 山 葆 ほか1名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式: [式中、■えは水素または低級アルギル(好ましくはメ
    ヂル)、Xは水素、ハロ、トリフルオロメチル、低級ア
    ルキルまたは低級アルコキン(好ましくけ水素)、波線
    (2個)はα配置またはβ配置(ただし一方の波線がα
    配置であるとき、他方の波線はβ配置)を表わす。] で示される化合物(Rが水素である化合物(I)の薬理
    学的に許容される非毒性塩類を包含する)もしくはその
    非天然起原プロスタグランジン配置の対応物質またはこ
    れらの混合物を製造するため、式6 [式中、R,Xおよび波線は前記と同心義。R1は塩浩
    に安定で酸に不安定なエーテル形成基(好ましくはテト
    ラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル はテトラヒドロピラニル)を表わす。]で示される化合
    物もしくはその非天然起原プロスタグランジン配置の対
    応物質またはこれらの混合物のR1基を酸で加水分解し
    、所望により、Rか水素である化合物(I)をその薬理
    学的に許容される非毒性塩に変換することを特徴とする
    、前記化合物(1)もしくはその対応物質またはこれら
    の混合物の製造法。 2、酸が炭素数1〜6 (好ましくは2〜4)のアルカ
    ン酸(最も好ましくは酢酸)である特許請求の範囲第1
    項記載の製造法。 3.酢酸が20〜60ω/υ%氷酢酸水溶液85〜95
    ω/υ%と有機溶媒5〜15ω/υ%から成るものであ
    る特許請求の範囲第2項記載の製造法。 4、酸水溶液が水約60ω/υ%、酢酸約30ω/υ%
    およびテトラヒドロフラン約lOω/υ%から成るもの
    であって、反応を窒素雰囲気下約20〜60℃の温度で
    進行させる特許請求の範囲第3項記載の製造法。 5、出発化合物が(4,5,6)R,8R−立体異性体
    または(4,5,6)S、8R−立体異性体である特許
    請求の範囲第1〜4項のいずれか1項に記載の製造法。 6、酸がハロゲン化水素酸、好ましくはフッ化水素酸で
    ある特許請求の範囲第1項記載の製造法。 7、メルカプタン2,0〜3.0当量を含む水非混和性
    溶媒(好ましくはハロゲン化炭化水素)中に分散させた
    酸少なくとも 2.05〜10当量の水溶液(好ましく
    はフッ化水素2.05〜3当量)を用い、反応を一30
    〜50°C(好ましくは10〜50℃)の温度で進行さ
    せることにより加水分解を行なう特許請求の範囲第6項
    記載の製造法。 8 酸がフッ化水素2.5当量の水溶液から成り、溶媒
    が塩化メチレンであり、メルカプタンが20 当量のメ
    ルカプトエタノールであって、反応を雰囲気温度で進行
    させる特許請求の範囲第7項記載の製造法。 9、出発化合物が(4,’5.6)R,8R−立体異性
    体または(4,,5,6)S、8R−立体異性体である
    特許請求の範囲第6〜8項のいずれか1項に記載の製造
    法。 10式・ 9日 U式中、R,R’ S、Xおよび波線は第1項と同意義
    。] で示される化合物もしくはその非天然起原プロスタクラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物を酸化する
    ことにより、化合物(I +)もしくはその非天然起原
    プロスタグランジン配置の対応物質またはこれらの混合
    物が製造されたものである特許請求の範囲第1項記載の
    製造法。 11、3.5−ジメチルピラゾールの存在下、緩和な酸
    化剤(好ましくはクロム誘導酸化剤、最も好ましくは三
    酸化クロム)またはコリンズ試薬(三酸化クロムとピリ
    ジノ)により酸化を行なう特許請求の範囲第1O項記載
    の製造法。 12、出発化合物が(4,5,e+rt、8R−立体異
    性体または(4,5,6)S、8R−立体異性体である
    特許請求の範囲第10または11項記載の製造法。 13、式: [式中、X、R’および波線は第1項と同意義。]で示
    される化合物もしくはその非天然起原プロスタグランノ
    ン配置の対応物質またはこれらの混合物の酸官能基を、
    (好ましくは低級ノアシアルカン(最も好ましくはジア
    ゾメタンで)エステル化することにより、Rが低級アル
    キルである化合物(I+)もしくはその非天然起原プロ
    スタグランジン配置の対応物質またはこれらの混合物を
    製造する特許請求の範囲第1項記載の製造法。 14、式。 U式中、Rは低級アルキル(好ましくはメチル)である
    。Xは水素、ハロ、トリフルオロメチル、低級アルキル
    または低級アルコキシ、波線(2個)はα配置またはβ
    配置(ただし一方の波線がα配置であるとき、他方の波
    線はβ配置)を表イっず。]て示される化合物もしくは
    その非天然起片プロスタグランジン配置の対応物質また
    はこれらの混合物を製造するため、 式。 「式中、Xおよび波線は上記と同意義。]で示される化
    合物もしくはその非天然起片プロスタグランノン配置の
    対応物質またはこれらの混合物の酸基を、低級ジアゾア
    ルカン(好ましくはジアゾメタン)でエステル化するこ
    とを特徴とする、上記化合物(L)もしくはその対応物
    質またはこれらの混合物の製造法。 15、式: [式中、Rは水素または低級アルキル(好ましくはメチ
    ル)、R1は塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成基
    (好ましくはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラ
    ニルまたは2−エトキシエチル、最も好ましくはテトラ
    ヒドロピラニル)、Xは水素、ハロ、トリフルオロメチ
    ル、低級アルキルまたは低級アルコキシ(好ましくは水
    素)、波線(2個)はα配置またはβ配置(ただし一方
    の波線がα配置であるとき、他方の波線はβ配置)を表
    わす。] で示される化合物もしくはその非天然起片プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物。 1 16、化合物が(4,El、6)R,8R−立体異性体
    または(4,5,6)S、’8R−立体異性体である特
    許請求の範囲第15項記載の化合物。 17式 ) [式中、Rは水素または低級アルキル(好ましくはメチ
    ル)、R1は塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成基
    (好ましくはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラ
    ニルまたは2−エトキシエチル、最も好ましくはテトラ
    ヒドロピラニル)、Xは水素、ハロ、トリフルオロメチ
    ル、低級アルキルまたは低級アルコキシ(好ましくは水
    素)、波線(2個)はα配置またはβ配置(ただし一方
    の波線がα配置であるとき、他方の波線はβ配置)を表
    わす。] で示される化合物もしくはその非天然起片プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物。 18、化合物が(4,5,6)R,8R−立体異性体ま
    たは(4,5,6)S、8R−立体異性体である特許請
    求の範囲第17項記載の化合物。 19、式: [式中、Mは水素またはアルカリ金属、R1は塩基に安
    定で酸に不安定なエーテル形成基:Xは水素、ハロ、ト
    リフルオロメチル、低級アルキルまたは低級アルコキシ
    ;波線(2個)はα配置またはβ配置(ただし一方の波
    線がα配置であるとき、他方の波線はβ配置)を表わす
    。]で示される化合物もしくはその非天然起片プロスタ
    グランジン配置の対応物質またはこれらの混合物を製造
    するため、 式: OR2 [式中、X、R’および波線は上記と同意義。 R2は塩基に不安定なエーテル形成基を表わす。 Rは炭素数1〜6のアルキルである。]で示される化合
    物もしくはその非天然起源プロスタグランジン配置の対
    応物質またはこれらの混合物を同族体化し、所望により
    、Mがアルカリ金属である化合物(m酸性にしてその対
    応する遊離酸にすることを特徴とする、前記化合物(m
    もしくはその非天然起片プロスタグランノン配置の対応
    物質またはこれらの混合物の製造法。 20式。 [式中、Mは水素またはアルカリ金属(塩);R1は塩
    基に安定で酸に不安定なエーテル形成基(好ましくはテ
    トラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニルまたは2−
    エトキシエチル、最ら好ましくはテトラヒドロピラニル
    );Xは水素、ハロ、トリフルオロメチル、低級アルキ
    ルまたは低級アルコキシ(好ましくは水素);波線(2
    個)はα配置またはβ配置(ただし一方の波線がα配置
    であるとき、他方の波線はβ配置)を表わす。]で示さ
    れる化合物もしくはその非天然起源プロスタグランジン
    配置の対応物質またはこれらの混合物を製造するため、 式・ R2 ) [式中、R2は塩基に不安定なエーテル形成基(好まし
    くは一8IR4RsRe (基中、R4、R5およびR
    6は同一または異なって炭素数1〜6のアルキル、フェ
    ニルまたはアリールアルキル(フェニルアルキル、アル
    キル置換フェニルアルキルまたはナフチルアルキルのよ
    うな基)、ただしこれら3個の基すべてが同時にメチル
    であることはできない。最も好ましくはt−ブチルジメ
    チルシリルである。))を表わす。、R’ SXおよび
    波線は上記と同意義。] で示される化合物もしくはその非天然起源プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物を、塩基(
    好ましくは強塩基、最も好ましくは水酸化ナトリウムま
    たは水酸化カリウム)で加水分解し、所望により、Mが
    アルカリ金属である化合物(mを酸性にしてその対応す
    る遊離酸にすることを特徴とする、前記化合物(1v)
    もしくはその非天然起源プロスタグランジン配置の対応
    物質またはこれらの混合物の製造法。 21、出発化合物が(4,5,6)R,8R−立体異性
    体または(4,5,6)S、8R−立体異性体である特
    許請求の範囲第20項記載の製造法。 22、式 [式中、R1は塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成
    基(好ましくはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ
    ラニルまたは2−エトキンエチル、最も好ましくはテト
    ラヒドロピラニル);R2は塩基に不安定なエーテル形
    成基(好ましくは一9iR4RsRe (基中、R4、
    R5およびR6は同一または異なって炭素数1〜6のア
    ルキル、〕エニルまたはアリールアルキル(フェニルア
    ルキル、アルキル置換フェニルアルキルまたはナフチル
    アルキルのような基)、ただしこれら3個の基すべてが
    同時にメチルであることはできない。最も好ましくはt
    −ブチルジメチルシリルである。)):Xは水素、ハロ
    、トリフルオロメチル、低級アルキルまたは低級アルコ
    キシ(好ましくは水素);波線(2個)はα配置または
    β配置(ただし一方の波線がα配置であるとき、他方の
    波線はβ配置)を表わす。] で示される化合物もしくはその非天然起片プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物。 23 化合物が(4,5,6)R,8R−立体異性体ま
    たは(4,5,,6)S、8R−立体異性体である特許
    請求の範囲第22項記載の化合物。 24、式。 R2 [式中、R1は塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成
    基(好ましくはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ
    ラニルまたは2−エトキシエチル、最も好ましくはテト
    ラヒドロピラニル);R2は塩基に不安定なエーテル形
    成基(好ましくは一8iR,R5Re (基中、R4、
    R5およびR6は同一または異なって炭素数1〜6のア
    ルキル、フェニルまたはアリールアルキル(フェニルア
    ルキル、アルキル置換フェニルアルキルまたはナフチル
    アルキルのような基)、ただしこれら3個の基すべてが
    同時にメチルであることはできない。最も好ましくはt
    −ブチルジメチルシリルである。));Xは水素、ハワ
    、トリフルオロメチル、低級アルキルまたは低級アルコ
    キシ(好ましくは水素);波線(2個)はα配置または
    β配置(ただし一方の波線がα配置であるとき、他方の
    波線はβ配置)を表わす。] で示される化合物もしくはその非天然起源プロスタグラ
    ンノン配置の対応物質またはこれらの混合物を製造する
    ため、 シアン化アルカリ金属(好ましくはシアン化ナトリウム
    もしくはカリウム)と 式: [式中、Yはハロゲンまたは一08O2R’ (好まし
    くは一09O,R3(基中、R3炭素数1〜6の低級ア
    ルキル、炭素数6〜IOのアリール、アリール(炭素数
    6〜10)低級アルキルまたは置換アリール(炭素数6
    〜10)低級アルキル、最も好ましくはメチルまたはp
    −トリル))を表わす。 R’ 、R’ 、Xおよび波線は上記と同意義。]で示
    される化合物もしくはその非天然起源プロスタグランノ
    ン配置の対応物質またはこれらの混合物を反応させるこ
    とを特徴とする、前記化合物もしくはその対応物質また
    はこれらの混合物の製造法。 25、出発化合物が(4,5,6)R,8R−立体異性
    体または(4,5,6)S、、8R−立体異性体である
    特許請求の範囲第24項記載の製造法。 26、式 [式中、Yはハロゲンまたは一0SO2R3(好ましく
    け一0SO,R3(基中、R3炭素数1〜6の低級アル
    キル、炭素数6〜10のアリール、アリール(炭素数6
    〜10)低級アルキルまたは置換アリール(炭素数6〜
    10)低級アルキル、最も好ましくはメタンスルホニル
    オキシまたはp−トルエンスルホニルオキシ);R1は
    塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成基(好ましくは
    テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニルまたは2
    −エトキシエチル、最も好ましくはテトラヒドロピラニ
    ル):R2は塩基に不安定なエーテル形成基(好ましく
    は一5iR4R+、Re (基中、R4、R5およびR
    6は同一または異なって炭素数1〜6のアルキル、フェ
    ニルまたはアリールアルキル(フェニルアルキル、アル
    キル置換フェニルアルキルまたはナフチルアルキルのよ
    うな褪)(ただしR4、R3およびR6のすべてが同時
    にメチルであることはてきない)、最も好ましくはL−
    ブチルジメチルシリル));Xは水素、ハロ、トリフル
    オロメチル、低級アルキルまたは低級アルコキシ(好ま
    しくは水素);波線(2個)はα配置またはβ配置(た
    だし一方の波線がα配置であるとき、他方の波線はβ配
    置)を表わす。] で示される化合物もしくはその非天然超厚プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物。 27、化合物が(4,5,6)R,8R−立体異性体ま
    たは(4,5,6)S、8R−立体異性体である特許請
    求の範囲第26項記載の化合物。 28、式: [式中、Rは低級アルキルである。R1は塩柄に安定で
    酸に不安定なエーテル形成法(好ましくはテトラヒドロ
    ピラニル、テトラヒドロフラニルまたは2−エトキシエ
    チル、最も好ましくはテトラヒドロピラニル);R2は
    塩基に不安定なエーテル形成基(好ましくは一8iR4
    R5Re (基中、R4、R5およびR8は同一または
    異なって炭素数1〜6のアルキル、フェニルまたはアリ
    ールアルキル(フェニルアルキル、アルキル置換フェニ
    ルアルギルまたはナフチルアルキルのような暴)(ただ
    しR4、R5およびR8のすべてが同時にメチルである
    ことはできない)、最も好ましくはt−ブチルジメチル
    シリル));Xは水素、ハロ、トリフルオロメチル、低
    級アルキルまたは低級アルコキシ(好ましくは水素):
    波線(2個)はα配置またはβ配置(ただし一方の波線
    がα配置であるとき、他方の波線はβ配置)を表わす。 ]で示される化合物もしくはその非天然超厚プロスタグ
    ランノン配置の対応物質またはこれらの混合物を製造す
    るため、 式: ) [式中、R’、R”、Xおよび波線は上記と同意義。] で示されるプロパルギルアルコールらしくはその非天然
    起片プロスタグランジン対応物質またはこれらの混合物
    と、オルト酢酸(低級)アルキルおよび触媒量の低級ア
    ルカン酸を反応させることを特徴とする、前記化合物(
    V)もしくはその対応物質またはこれらの混合物の製造
    法。 29、オルト酢酸トリアルキルがオルト酢酸トリエチル
    、アルカン酸が炭素数1〜6のアルカン酸、好ましくは
    酢酸またはプロピオン酸(オルト酢酸トリエチル容量に
    対して 0.1〜5容量%)であって、反応を上昇温度
    (好ましくは100〜130℃)で進行させる特許請求
    の範囲第28項記載の製造法。 30、式: [式中、Rは低級アルキルである。R1は塩基に安定な
    エーテル形成基(好ましくはテトラヒドロピラニル、テ
    トラヒドロフラニルまたは2−エトキンエチル、最も好
    ましくはテトラヒドロピラニル);R2は塩基に不安定
    なエーテル形成基(好ましくは一3iR,R5R6(基
    中、R4、R5およびR6は同一または異なって炭素数
    1〜6のアルキル、フェニルまたはアリールアルキル(
    フェニルアルキル、アルキル置換フェニルアルキルまた
    はナフチルアルキルのような基)(た/g L R4、
    R5およびR6のずべてが同時にブチルであることはで
    きない)、最も好ましくはt−ブチルジメチルシリル)
    );Xは水素、ハロ、トリフルオロメチル、低級アルキ
    ルまたは低級アルコキシ(好ましくは水素);波線(2
    個)はα配置またはβ配置(ただし一方の波線がα配置
    であるとき、他方の波線はβ配置)を表わす。コ で示される化合物もしくはその非天然起原プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物。 31 化合物が(4,5,6)R,8R〜立体異性体ま
    たは(4,5,6)S、8n−立体異性体である特許請
    求の範囲第30項記載の化合物。 32式: E式中、R1は塩基に安定なエーテル形成基(好ましく
    はテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニルまたは
    2−エトキシエチル、最も好ましくtよテトラヒドロピ
    ラニル);R2は塩基に不安定なエーテル形成基(好ま
    しくは一9!R4RaR5(基中、R4、R5およびR
    eは同一または異なって炭素数1〜6のアルキル、フェ
    ニルまたはアリールアルキル(フェニルアルキル、アル
    キル置換フェニルアルキルまたはナフチルアルキルのよ
    うな基)(ただしR4、R6およびR6のずべてが同時
    にメチルであることはできない)、最も好ましくはt−
    ブチルジメチルシリル));Xは水素、ハロ、トリフル
    オロメチル、低級アルキルまたは低級アルコキン(好ま
    しくは水素);波線(2個)はα配置またはβ配置(た
    だし一方の波線がα配置であるとき、他方の波線はβ配
    置)を表イっす。]で示される化合物もしくはその非天
    然起原プロスタグランジン配置の対応物質またはこれら
    の混合物。 33 化合物が6R,8R−立体異性体または6S、8
    R−立体異性体である特許請求の範囲第32項記載の化
    合物。 34式: ) [式中、R1は塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成
    基;R2は塩基に不安定なエルチル形成基:Xは水素、
    ハロ、トリフルオロメチル、低級アルキルまたは低級ア
    ルコキシ;波線(2個)はα配置またはβ配置(ただし
    一方の波線がα配置であるとき、他方の波線はβ配置)
    を表わす。コで示される化合物もしくはその非天然起原
    プロスタグランジン配置の対応物質またはこれらの混合
    物を製造するため、 金属アセチリドと、 式。 R2 [式中、R1、R2、およびXは上記と同意義。]で示
    される化合物またはそのラセミ混合物もしくは非ラセミ
    混合物を、不活性溶媒中で処理し、所望により、化合物
    (Vlll)のそれぞれのジアステレオマーをクロマト
    グラフィーにより分割することを特徴とする、前記化合
    物(Vlll)もしくはその対応物質またはこれらの混
    合物の製造法。 35 金属アセチリドが塩化エチニルマグネシウム、臭
    化エヂニルマグネシウム、エヂニルリチウムまたはりヂ
    ウムアセチリドエチレンンアミン錯体であって、反応を
    ハロゲン化(低級)アルカン(好ましくは塩化メチレン
    )、エーテルまたはトルエン中、0〜50°C(好まし
    くは20〜30’C)で進行させる特許請求の範囲第3
    4項記載の製造法。 36、式: U式中、R1は塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成
    基(好ましくはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ
    ラニルまたは2−エトキシエヂル、最も好ましくはテト
    ラヒドロピラニル);R2は塩基に不安定なエーテル形
    成承(好ましくはS lR4R5R8(基中、■え。、
    R5およびR6は同一または異なって炭素数1〜Gのア
    ルギル、フェニルまたはアリールアルキル(フェニルア
    ルキル、アルキル置換フェニルアルキルまたはナフヂル
    アルギルのような括)(ただしR4、R5およびR8の
    ずべてが同時にメチルであることはできない)、最も好
    ましくはL−ブチルジメチルシリル));Xは水素、ハ
    ロ、トリフルオロメチル、低級アルキルまたは低級アル
    コキン(好ましくは水素)を表わす。コ で示される化合物またはそのラセミ混合物もしくは非ラ
    セミ混合物。 37式。 R2 [式中、RIは塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成
    基(好ましくはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ
    ラニルまたは2−エトキシェヂル、最も好ましくはテト
    ラヒドロピラニル);R”は塩基に不安定なエーテル形
    成基(好ましくは5IRAR6R1+ (基中、R4、
    R5およびR8はよ エニルまたはアリールアルキル躾フヂルアルキルのよう
    な基)(ただしR,、R5およびR6のずべてが同時に
    メチルであることはできない)、最も好ましくはt−ブ
    チルジメチルシリル)):Xは水素、ハロ、トリフルオ
    ロメチル、低級アルキルまたは低級アルコキシ(好まし
    くは水素)を表ゎす。] で示される化合物またはそのラセミ混合物もしくは非ラ
    セミ混合物を製造するため、 式: し式中、R1,R2、およびXは上記と同意義。]で示
    される化合物またはそのラセミ混合物もしくは非ラセミ
    混合物を、クロムベースの緩和な酸化剤で酸化すること
    を特徴とする、前記化合物(1x)またはそのラセミ混
    合物もしくは非ラセミ混合物の製造法。 38、酸化剤が、3.5−ジメチルピラゾールの存在下
    の二酸化クロムまたはコリンズ試薬(三酸化クロムとピ
    リジン)である特許請求の範囲第37項記載の製造法。 39、式: OR2 [式中、R1は塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成
    基(好ましくはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ
    ラニルまたは2−エトキンエチル、最も好ましくはテト
    ラヒドロピラニル);R2は塩基に不安定なエーテル形
    成基(好ましくは一8iR4RsRe (基中、R4、
    R5およびR8はルのような基)(ただしR4、R5お
    よびR6のずべてが同時にメチルであることはできない
    )、最も好ましくい基はt−ブチルジメチルシリル))
    ;Xは水素、ハロ、トリフルオロメチル、低級アルキル
    または低級アルコキシ(好ましくは水素)を表わす。] で示される化合物またはそのラセミ混合物も、シ<は非
    ラセミ混合物を製造するため、 式・ R2 [式中、X、R’およびR2は前記と同意義。Rは炭素
    数1〜6のアルキルを表わす。]で示される化合物を還
    元することを特徴とする、前記化合物(IX)またはそ
    のラセミ混合物もしくは非ラセミ混合物の製造法。 40、低温で水素化アルミニウムジイソブチルのような
    還元剤により還元処理を行なう特許請求の範囲第39項
    記載の製造法。 41、式: [式中、R1は塩基に安定で酸に不安定なエーテル形成
    基(好ましくはテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフ
    ラニルまたは2−エトキンエチル、最も好ましくはテト
    ラヒドロピラニル):R2は塩基に不安定なエーテル形
    成基(好ましくは一9jRaRsRe (系中、R4、
    R5およびR6はま− ルのような基)(ただしrt、 、R5およびR6のず
    べてか同時にメチルであることはできない)、最も好ま
    しくはt−ブチルジメチルシリル));Xは水素、ハロ
    、トリフルオロメチル、低級アルキルまたは低級アルコ
    キン(好ましくは水素)を表わす。 ] で示される化合物またはそのラセミ混合物もしくは非ラ
    セミ混合物を製造するため、 式: [式中、R’ 、R1、およびXは前記と同意義。]で
    示される化合物またはそのラセミ混合物もしくは非ラセ
    ミ混合物を水素およびパラジウム/硫酸ぼりうむで還元
    することを特徴とする前記化合物(IX)またはそのラ
    セミ混合物もしくは非ラセミ混合物の製造法。 42、式; [式中、Rは水素または低級アルキル(好ましくはメチ
    ル):Xは水素、ハロ、トリフルオロメチル、低級アル
    ギルまたは低級アルコキシ(好ましくは水素);Ijl
    線(2個)はα配置またはβ配置(たたし一方の波線が
    α配置であるとき、他方の波線はβ配置)を表わす。コ で示される化合物(Rが水素である化合物(1)の薬理
    学的に許容される非毒性塩類を包含するうもしくはその
    非天然起片プロスタクランジン配置の対応物質またはこ
    れらの混合物を製造するため、(a)式: [式中、Xおよび波線は上記と同意義。R1は塩基に安
    定で酸に不安定なエーテル形成基、R2は塩基に不安定
    なエーテル形成基を表わす。]で示されるプロパルギル
    アルコールもしくはその非天然起片プロスタグランジン
    配置の対応物質またはこれらの混合物とオルト酢酸トリ
    (低級)アルキルおよび触媒量の低級アルカン酸を反応
    させて、式: [式中、X、R’、R2および波線は前記と同意義。R
    は炭素数1〜6のアルキルである。]で示される化合物
    もしくはその非天然起片プロスタグランジン配置の対応
    物質もしくはこれらの混合物を製造し、 (b)工程(a)で得られたエステル体を同族体化し、
    塩基に不安定なエーテル形成基OR2を加水分解して、
    式: [式中、X、R’および波線は前記と同意義。 Mはアルカリ金属である。] で示される化合物もしくはその非天然起片プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物を製造し、 (C)工程(b)で得られた塩酸性にして対応ずれ遊離
    酸を製造し、所望により (d)工程(C)で得られた酸をエステル化して式・ r4 [式中、X、R’および波線は前記と同意義。 Rは炭素数1〜6のアルキルである。」で示される化合
    物もしくはその非天然起片プロスタグランジン配置の対
    応物質またはこれらの混合物を製造し、 (e)工程(C)で得られた酸または工程(d)で得ら
    れたエステル体を酸化して 式: [式中、XSR’および波線は前記と同意義。 Rは水素または炭素数1〜6のアルキルを表わす。]で
    示される化合物もしくはその非天然起片プロスタグラン
    ジン配置の対応物質またはこれらの混合物を製造し、 (f)工程(e)で得られた化合物の保護法1え1を酸
    で加水分解して、 式・ [式中、X、R’および波線は前記と同意義。]て示さ
    れる化合物もしくはその非天然起源プロスタグランジン
    配置の対応物質またはこれらの混合物を製造し、所望に
    より (g)工程(Dで得られたRが水素である化合物をエス
    テル化してRが炭素数1〜6のアルキルである対応する
    化合物を製造し、所望により(h) Rが水素である化
    合物(1)を、その対応する薬理学的に許容される非毒
    性塩に変換することを特徴とする、市1記化合物(夏)
    もしくはその対応物質またはこれらの混合物の製造法。 43、第42項の同族体化工程(b)において、(a)
    式・ R2 [式中、R,R’ 、R2、Xおよび波線は第42項の
    工程(a)の場合と同意義。] で示される化合物もしくはその非天然起源プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物を還元して 式 し式中、X、R’ 、R2および波線は上記と同意義。 ] で示される第一アルコールもしくはその非天然起片プロ
    スタグランノン配置の対応物質またはこれらの混合物を
    製造し、 (b)工程(a)で得られたアルコール体を式・ R2 [式中、X、 R’ 、R2および波線は上記と同意義
    。R3炭素数1〜6の低級アルギル、炭素数6〜10の
    アリール、アリール(炭素数6〜10)低級アルキルま
    たは置換アリール(炭素数6〜10)低級アルギルを表
    わす。] で示される化合物もしくはその非天然起源プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物に変換し、 (C)工程(b)で得られた化合物または混合物とシア
    ン化アルカリ金属を反応させて、 式: [式中、X、R’ 、r(2および波線は前記と同意義
    。] で示される化合物もしくはその非天然起源プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物を製造し、 (d)工程(C)で得られた化合物を強塩基で加水分解
    して、 式。 9日 [式中、X、R’および波線は前記と同意義。 Mはアルカリ金属である。] て示される化合物もしくはその非天然超厚プロスタグラ
    ンジン配置の対応物質またはこれらの混合物を製造する
    ことにより同族体化工程(b)を行なう、特許請求の範
    囲第42項記載の製造法。 44、第43項において、極性非プロトン溶媒中、水素
    化アルミニウムリチウムまたは水素化アルミニウムジイ
    ソブチルのような水素化金属を用い、好ましくは不活性
    雰囲気中、溶媒の還流温度で還元工程(a)を行なう特
    許請求の範囲第43項記載の製造法。 45、第43項におけるアルコール体と、低級アルキル
    (またはアリール)スルホン酸エステル(メタンスルホ
    ニルクロリドまたはp−1ルエンスルホニルクロリドの
    ような化合物)を、有機溶媒中、−40〜25℃で反応
    させることにより、変換工程(b)を行なう特許請求の
    範囲第43項記載の製造法。 46、第43項の工程(C)においてスルホン酸エステ
    ルとシアン化ナトリウムもしくはカリウムを極性溶媒中
    、50〜120℃で反応させる特許請求の範囲第43項
    記載の製造法。 47、第43項の工程(d)において強塩基が水酸化ア
    ルカリ金属(好ましくは水酸化リチウム、ナトリウムも
    しくはカリウム)である特許請求の範囲第43項記載の
    製造法。 48、第42項の工程(e)において緩和な酸化剤(好
    ましくは3.5−ツメデルピラゾールの存在下の三酸化
    クロムまたは極性溶媒中のコリンズ試薬)を用いて酸化
    反応を行なう特許請求の範囲第42項記載の製造法。 49、第42項の工程(f)において、炭素数1〜6の
    アルカン酸(好ましくは酢酸)またはハロゲン化水素酸
    (好ましくははフッ化水素酸)を用いることにより加水
    分解を行なう特許請求の範囲第42項記載の製造法。 50、式・ で示される(4,5.61j、8R)9−オキソ−11
    α、15α−ジヒドロキシ−16−フエツキシー17.
    18,19.20−テトラノルプロスタ−4,5,13
    (E)−トリエン酸メチル。 51、結晶型である特許請求の範囲第50項記載の化合
    物。 52、第50項の化合物の油状物質を低温(好ましくは
    一20〜θ℃)に冷却することを特徴とする第51項の
    結晶性化合物の製造法。 郵、第50または51項の化合物の治療的有効量を薬理
    学的に許容される1種ないしそれ以上の賦形剤との混合
    物として含有せしめたことを特徴とする薬剤。 54、第50または51項の化合物の治療的有効量を哺
    乳類に投与することを特徴とする消化性潰瘍または十二
    指腸潰瘍の治療法。 55、第1〜14項および第42〜49項により製造さ
    れた特許請求の範囲第50項または51項記載の化合物
    。 1 56、第50または51項の化合物の薬剤製造における
    使用。 57、第1〜14項および第42〜49項により製せら
    れた第50および51項の活性成分を薬理学的に許容さ
    れた担体と混合する特許請求の範囲第1−14項および
    第42〜49項記載の製造法
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