JPH0430952B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は新規7−チアプロスタグランジンE1
類およびその製造法に関する。更に詳細には医薬
品としておよびその中間体として有用な新規7−
チアプロスタグランジンE1類および2−オルガ
ノチオ−2−ヒクロペンテノン類に有機銅化合物
を共役付加させ、次いで必要に応じて脱保護およ
び/または加水分解および/または塩生成反応せ
しめて該7−チアプロスタグランジンE1類を製
造する方法ならびに7−チアプロスタグランジン
E1類を4,5デヒドロ誘導体を水素添加反応せ
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造する方法に関するものである。
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び/または加水分解および/または塩生成反応せ
しめて該7−チアプロスタグランジンE1類を製
造する方法ならびに7−チアプロスタグランジン
E1類を4,5デヒドロ誘導体を水素添加反応せ
しめて該7−チアプロスタグランジンE1類を製
造する方法に関するものである。
従来技術
天然プロスタグクランジン類は生物学的および
薬理学的に高度な活性を持つ局所ホルモンとして
知られており、それ故にそれらの誘導体に関する
研究も数多く行なわれている。天然型プロスタグ
ランジン類の中でもプロスタグランジンE1は強
い血小板凝集抑制作用、血管拡張作用等を有し、
臨床への応用が期待されている。
薬理学的に高度な活性を持つ局所ホルモンとして
知られており、それ故にそれらの誘導体に関する
研究も数多く行なわれている。天然型プロスタグ
ランジン類の中でもプロスタグランジンE1は強
い血小板凝集抑制作用、血管拡張作用等を有し、
臨床への応用が期待されている。
天然プロスタグランジン類、特にPGE1類の最
大の欠点は、経口投与によつて速やかに代謝され
るため経口投与で用いることができず、通常静注
により用いなければならない点にある。
大の欠点は、経口投与によつて速やかに代謝され
るため経口投与で用いることができず、通常静注
により用いなければならない点にある。
従来、天然プロスタグランジン類の骨格を形成
する炭素原子の1個又は2個を硫黄原子で置き換
えた人工プロスタグランジン類の研究も種々行な
われている。
する炭素原子の1個又は2個を硫黄原子で置き換
えた人工プロスタグランジン類の研究も種々行な
われている。
例えば、1位の炭素原子を硫黄原子で置換した
骨格を持つ(従つて1位に硫黄原子が存在するの
で1Sを冠して表示される。以下他の位置が硫黄
と置換されたものについても同様に硫黄の置換位
置に相当する番号とSとを冠して表示する)1S
−プロスタグランジンE2又はF2α類(ジヤーナ
ルオブオルガニツクケミストリー(J.Org.
Chem.),40,521(1975)および特開昭53−
34747)、3S−11−デオキシプロスタグランジン
E1(テトラヘドロンレターズ(Tetrahedron
Letters),1975,765およびジヤーナルオブメデ
イシナルケミストリー(J.Med.Chem.),20,
1662(1977)),7S−プロスタグランジンF1α類
(ジヤーナルオブアメリカンケミカルソサイエテ
イー(J.Amer.Chem.Soc.),96、6757(1974)),
9S−プロスタグランジンE1類(テトラヘドロン
レターズ(Tetrahedron Letters),1974,4267
および4459;テトラヘドロンレターズ
(Tetrahedron Letters)1676,4793およびヘテ
ロサイクルズ(Heterocycles),6,1097
(1977)),11S−プロスタグランジンE1又はF1α
類(テトラヘドロンレターズ(Tetrahedron
Letters),1975,1165),13S−プロスタグランジ
ンE又はF類(USP,4080,458(1978)),およ
び15S−プロスタグランジンE2類(テトラヘドロ
ンレターズ(Tctrahedron Letters),1977,
1629)等が知られている。
骨格を持つ(従つて1位に硫黄原子が存在するの
で1Sを冠して表示される。以下他の位置が硫黄
と置換されたものについても同様に硫黄の置換位
置に相当する番号とSとを冠して表示する)1S
−プロスタグランジンE2又はF2α類(ジヤーナ
ルオブオルガニツクケミストリー(J.Org.
Chem.),40,521(1975)および特開昭53−
34747)、3S−11−デオキシプロスタグランジン
E1(テトラヘドロンレターズ(Tetrahedron
Letters),1975,765およびジヤーナルオブメデ
イシナルケミストリー(J.Med.Chem.),20,
1662(1977)),7S−プロスタグランジンF1α類
(ジヤーナルオブアメリカンケミカルソサイエテ
イー(J.Amer.Chem.Soc.),96、6757(1974)),
9S−プロスタグランジンE1類(テトラヘドロン
レターズ(Tetrahedron Letters),1974,4267
および4459;テトラヘドロンレターズ
(Tetrahedron Letters)1676,4793およびヘテ
ロサイクルズ(Heterocycles),6,1097
(1977)),11S−プロスタグランジンE1又はF1α
類(テトラヘドロンレターズ(Tetrahedron
Letters),1975,1165),13S−プロスタグランジ
ンE又はF類(USP,4080,458(1978)),およ
び15S−プロスタグランジンE2類(テトラヘドロ
ンレターズ(Tctrahedron Letters),1977,
1629)等が知られている。
発明の目的
本発明者らは先に7−チアプロスタグランジン
E1誘導体類の合成に成功し、別途報告したが、
今回、前記7−チアプロスタグランジンE1誘導
体類の新規な類縁化合物に冠して鋭意研究した結
果、新規な4,5−デヒドロ−7−チアプロスタ
グランジンE1類の合成に成功し、本発明に到達
したものである。
E1誘導体類の合成に成功し、別途報告したが、
今回、前記7−チアプロスタグランジンE1誘導
体類の新規な類縁化合物に冠して鋭意研究した結
果、新規な4,5−デヒドロ−7−チアプロスタ
グランジンE1類の合成に成功し、本発明に到達
したものである。
発明の構成および作用効果
本発明では、下記式〔〕
〔式中、R1は水素原子、C1〜C10アルキル基、
置換もしくは非置換のフエニル基、置換もしくは
非置換のC3〜C10シクロアルキル基、置換もしく
は非置換のフエニル(C1〜C2)アルキル基、ま
たは一当量のカチオンを表わし、R2,R3は同一
もしくは異なり、水素原子、トリ(C1〜C7)炭
化水素シリル基、または水酸基の炭素原子ととも
にアセタール結合を形成する基を表わし、R4は
水素原子、メチル基、またはビニル基を表わし、
R5は酸素原子を含んでいてもよい直鎖もしくは
分枝鎖C3〜C8アルキル基;置換されてもよいフ
エニル基、フエノキシ基、もしくはC3〜C10シク
ロアルキル基で置換されている直鎖もしくは分枝
鎖C1〜C5アルキル基を表わし、Xはエチニレン
基、シス−ビニレン基、またはトランス−ビニレ
ン基を表わし、nは0または1を表わす。〕 で表わされる化合物およびその15(n=0のとき)
または16(n=1のとき)エピマーならびにそれ
らの鏡像体あるいはそれらの任意の割合の混合物
である新規7−チアプロスタグランジンE1類が
提供される。
置換もしくは非置換のフエニル基、置換もしくは
非置換のC3〜C10シクロアルキル基、置換もしく
は非置換のフエニル(C1〜C2)アルキル基、ま
たは一当量のカチオンを表わし、R2,R3は同一
もしくは異なり、水素原子、トリ(C1〜C7)炭
化水素シリル基、または水酸基の炭素原子ととも
にアセタール結合を形成する基を表わし、R4は
水素原子、メチル基、またはビニル基を表わし、
R5は酸素原子を含んでいてもよい直鎖もしくは
分枝鎖C3〜C8アルキル基;置換されてもよいフ
エニル基、フエノキシ基、もしくはC3〜C10シク
ロアルキル基で置換されている直鎖もしくは分枝
鎖C1〜C5アルキル基を表わし、Xはエチニレン
基、シス−ビニレン基、またはトランス−ビニレ
ン基を表わし、nは0または1を表わす。〕 で表わされる化合物およびその15(n=0のとき)
または16(n=1のとき)エピマーならびにそれ
らの鏡像体あるいはそれらの任意の割合の混合物
である新規7−チアプロスタグランジンE1類が
提供される。
R1は水素原子、C1〜C10アルキル基、置換もし
くは非置換のフエニル基、置換もしくは非置換の
C3〜C10シクロアルキル基、置換もしくは非置換
のフエニル(C1〜C2)アルキル基、または一当
量のカチオンを表わす。
くは非置換のフエニル基、置換もしくは非置換の
C3〜C10シクロアルキル基、置換もしくは非置換
のフエニル(C1〜C2)アルキル基、または一当
量のカチオンを表わす。
C1〜C10のアルキル基としては、例えば、メチ
ル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル,n
−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペ
ンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オク
チル、n−ノニル、n−デシル等の直鎖状または
分岐状のものを挙げることができる。
ル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル,n
−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペ
ンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オク
チル、n−ノニル、n−デシル等の直鎖状または
分岐状のものを挙げることができる。
置換もしくは非置換のフエニル基の置換基とし
ては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシ基、C2
〜C7アシロキシ基、ハロゲン原子で置換されて
いてもよいC1〜C4アルキル基、ハロゲン原子で
置換されていてもよいC1〜C4アルコキシ基、ニ
トリル基、カルボキシル基又は(C1〜C6)アル
コキシカルボニル基等が好ましい。ハロゲン原子
としては、弗素、塩素又は臭素等、特に弗素また
は塩素が好ましい。C2〜C7アシロキシ基として
は、例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ、n
−ブチリルオキシ、iso−ブチリルオキシ、n−
バレリルオキシ、iso−バレリルオキシ、カプロ
イルオキシ、エナンチルオキシまたはベンゾイル
オキシを挙げることができる。
ては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシ基、C2
〜C7アシロキシ基、ハロゲン原子で置換されて
いてもよいC1〜C4アルキル基、ハロゲン原子で
置換されていてもよいC1〜C4アルコキシ基、ニ
トリル基、カルボキシル基又は(C1〜C6)アル
コキシカルボニル基等が好ましい。ハロゲン原子
としては、弗素、塩素又は臭素等、特に弗素また
は塩素が好ましい。C2〜C7アシロキシ基として
は、例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ、n
−ブチリルオキシ、iso−ブチリルオキシ、n−
バレリルオキシ、iso−バレリルオキシ、カプロ
イルオキシ、エナンチルオキシまたはベンゾイル
オキシを挙げることができる。
ハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4アル
キル基としては、メチル、エチル、n−プロピ
ル、iso−プロピル、n−ブチル、クロロメチル、
ジクロロメチル、トリフルオロメチル等を好まし
いものとして挙げることができる。ハロゲンで置
換されていてもよいC1〜C4アルコキシ基として
は、例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、iso−プロポキシ、n−ブトキシ、クロロメ
トキシ、ジクロロメトキシ、トリフルオノメトキ
シ等を好ましいものとして挙げることができる。
(C1〜C6)アルコキシカルボニル基としては、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
等を挙げることができる。
キル基としては、メチル、エチル、n−プロピ
ル、iso−プロピル、n−ブチル、クロロメチル、
ジクロロメチル、トリフルオロメチル等を好まし
いものとして挙げることができる。ハロゲンで置
換されていてもよいC1〜C4アルコキシ基として
は、例えばメトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、iso−プロポキシ、n−ブトキシ、クロロメ
トキシ、ジクロロメトキシ、トリフルオノメトキ
シ等を好ましいものとして挙げることができる。
(C1〜C6)アルコキシカルボニル基としては、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ブトキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
等を挙げることができる。
置換フエニル基は、上記の如き置換基を1〜3
個、好ましくは1個持つことができる。
個、好ましくは1個持つことができる。
置換もしくは非置換のC3〜C10シクロアルキル
基としては、上記したと同じ置換基で置換されて
いるかまたは非置換の、飽和または不飽和のC3
〜C10、好ましくはC5〜C6、特に好ましくはC6の
基、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル、シクロデシル等を挙げるこ
とができる。
基としては、上記したと同じ置換基で置換されて
いるかまたは非置換の、飽和または不飽和のC3
〜C10、好ましくはC5〜C6、特に好ましくはC6の
基、例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル、シクロデシル等を挙げるこ
とができる。
置換もしくは非置換のフエニル(C1〜C2)ア
ルキル基としては、該フエニル基が上記したと同
じ置換基で置換されているか又は非置換のベンジ
ル、α−フエネチル、β−フエネチルを挙げられ
る。
ルキル基としては、該フエニル基が上記したと同
じ置換基で置換されているか又は非置換のベンジ
ル、α−フエネチル、β−フエネチルを挙げられ
る。
一当量のカチオンとしては、例えばNH4 +、テ
トラメチルアンモニウム、モノメチルアンモニウ
ム、ジメチルアンモニウム、トリメチルアンモニ
ウム、ベンジルアンモニウム、フエネチルアンモ
ニウム、モルホリニウムカチオン、モノエタノー
ルアンモニウム、ピペリジニウムカチオンなどの
アンモニウムカチオン;Na+,K+などのアルカ
リ金属カチオン;1/2Ca2+,1/2Mg2+,1/
2Zn2+,1/3Al3+などの2価もしくは3価の金
属カチオン等を挙げることができる。
トラメチルアンモニウム、モノメチルアンモニウ
ム、ジメチルアンモニウム、トリメチルアンモニ
ウム、ベンジルアンモニウム、フエネチルアンモ
ニウム、モルホリニウムカチオン、モノエタノー
ルアンモニウム、ピペリジニウムカチオンなどの
アンモニウムカチオン;Na+,K+などのアルカ
リ金属カチオン;1/2Ca2+,1/2Mg2+,1/
2Zn2+,1/3Al3+などの2価もしくは3価の金
属カチオン等を挙げることができる。
R1としては、水素原子、C1〜C10アルキル基ま
たは1当量のカチオンが好ましい。
たは1当量のカチオンが好ましい。
R2およびR3は同一もしくは異なり、水素原子、
トリ(C1〜C7)炭化水素シリル基または水酸基
の酸素原子と共にアセタール結合を形成する基で
ある。
トリ(C1〜C7)炭化水素シリル基または水酸基
の酸素原子と共にアセタール結合を形成する基で
ある。
トリ(C1〜C7)炭化水素シリル基としては、
例えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、t
−ブチルジメチルシリル基の如きトリ(C1〜C4)
アルキルシリル、t−ブチルジフエニルシリル基
の如きジフエニル(C1〜C4)アルキルシリルま
たはトリベンジルシリル基等を好ましいものとし
て挙げることができる。
例えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、t
−ブチルジメチルシリル基の如きトリ(C1〜C4)
アルキルシリル、t−ブチルジフエニルシリル基
の如きジフエニル(C1〜C4)アルキルシリルま
たはトリベンジルシリル基等を好ましいものとし
て挙げることができる。
水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成
する基としては、例えばメトキシメチル、1−エ
トキシエチル、2−メトキシ−2−プロピル、2
−エトキシ−2−プロピル、(2−メトキシエト
キシ)メチル、ベンジルオキシメチル、2−テト
ラヒドロピラニル、2−テトラヒドロフラニル又
は6,6−ジメチル−3−オキサ−2−オキソビ
シクロ〔3.1.0〕ヘキス−4−イル基を挙げるこ
とができる。これらのうち、2−テトラヒドロピ
ラニル、2−テトラヒドロフラニル、2−エトキ
シエチル、2−トメキシ−2−プロピル、(2−
メトキシエトキシ)メチル又は6,6−ジメチル
−3−オキサ−2−オキソビシクロ〔3.1.0〕ヘ
キス−4−イル基が特に好ましい。
する基としては、例えばメトキシメチル、1−エ
トキシエチル、2−メトキシ−2−プロピル、2
−エトキシ−2−プロピル、(2−メトキシエト
キシ)メチル、ベンジルオキシメチル、2−テト
ラヒドロピラニル、2−テトラヒドロフラニル又
は6,6−ジメチル−3−オキサ−2−オキソビ
シクロ〔3.1.0〕ヘキス−4−イル基を挙げるこ
とができる。これらのうち、2−テトラヒドロピ
ラニル、2−テトラヒドロフラニル、2−エトキ
シエチル、2−トメキシ−2−プロピル、(2−
メトキシエトキシ)メチル又は6,6−ジメチル
−3−オキサ−2−オキソビシクロ〔3.1.0〕ヘ
キス−4−イル基が特に好ましい。
R2またはR3としては、これらのうち水素原子、
トリ(C1〜C4)アルキルシリル基、ジフエニル
(C1〜C4)アルキルシリル基、2−テトラヒドロ
ピラニル基、2−テトラヒドロフラニル基、1−
エトキシエチル基、2−エトキシ−2−プロピル
基、(2−メトキシエトキシ)メチル基、又は6,
6−ジメチル−3−オキサ−2−オキソビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−4−イル基が好ましい。
トリ(C1〜C4)アルキルシリル基、ジフエニル
(C1〜C4)アルキルシリル基、2−テトラヒドロ
ピラニル基、2−テトラヒドロフラニル基、1−
エトキシエチル基、2−エトキシ−2−プロピル
基、(2−メトキシエトキシ)メチル基、又は6,
6−ジメチル−3−オキサ−2−オキソビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−4−イル基が好ましい。
上記式〔〕においてR4は水素原子、メチル
基またはビニル基を表わす。
基またはビニル基を表わす。
上記式〔〕においてR3は酸素原子を含んで
いてもよい直鎖もしくは分枝鎖C3〜C8アルキル
基;置換されていてもよいフエニル基、フエノキ
シ基、もしくはC3〜C10シクロアルキル基;また
はC1〜C6アルコキシ基、置換されていてもよい
フエニル基、フエノキシ基、もしくはC3〜C10シ
クロアルキル基で置換されている直鎖もしくは分
枝鎖C1〜C5アルキル基を表わす。
いてもよい直鎖もしくは分枝鎖C3〜C8アルキル
基;置換されていてもよいフエニル基、フエノキ
シ基、もしくはC3〜C10シクロアルキル基;また
はC1〜C6アルコキシ基、置換されていてもよい
フエニル基、フエノキシ基、もしくはC3〜C10シ
クロアルキル基で置換されている直鎖もしくは分
枝鎖C1〜C5アルキル基を表わす。
酸素原子を含んでいてもよい直鎖もしくは分枝
鎖C3〜C8アルキル基としては2−トメキシエチ
ル、2−エトキシエチル、プロピル、ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、1−メ
チル−1−ブチル、2−メチル−1−ブチル、2
−メチルヘキシル、2−メチル−2−ヘキシル,
2−ヘキシル、1,1−ジメチルペンチル基、好
ましくは2−トメキシエチル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、(R)−もしくは(S)−2−メチ
ルヘキシル、2−ヘキシル、1−メチル−1−ブ
チル基、特に好ましくはブチル、ペンチル、ヘキ
シル、2−ヘキシル、2−メチルヘキシル基をあ
げることができる。
鎖C3〜C8アルキル基としては2−トメキシエチ
ル、2−エトキシエチル、プロピル、ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、1−メ
チル−1−ブチル、2−メチル−1−ブチル、2
−メチルヘキシル、2−メチル−2−ヘキシル,
2−ヘキシル、1,1−ジメチルペンチル基、好
ましくは2−トメキシエチル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、(R)−もしくは(S)−2−メチ
ルヘキシル、2−ヘキシル、1−メチル−1−ブ
チル基、特に好ましくはブチル、ペンチル、ヘキ
シル、2−ヘキシル、2−メチルヘキシル基をあ
げることができる。
置換されていてもよいフエチル基、フエノキシ
基の置換基としてはR1の置換フエニル基の置換
基としてあげた置換基によつて置換されていても
よい。また置換されていてもよいC3〜C7シクロ
アルキル基としては上記したと同じ置換基で置換
されているかまたは非置換の飽和または不飽和の
C3〜C10、好ましくはC4〜C7、特に好ましくは
C5,C6のシクロアルキル基、例えばシクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘキセニル、シクロヘプチル、シクロオクチル、
シクロデシル基等を挙げることができる。
基の置換基としてはR1の置換フエニル基の置換
基としてあげた置換基によつて置換されていても
よい。また置換されていてもよいC3〜C7シクロ
アルキル基としては上記したと同じ置換基で置換
されているかまたは非置換の飽和または不飽和の
C3〜C10、好ましくはC4〜C7、特に好ましくは
C5,C6のシクロアルキル基、例えばシクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘキセニル、シクロヘプチル、シクロオクチル、
シクロデシル基等を挙げることができる。
C1〜C6アルコキシ基、置換されていてもよい
フエニル基、フエノキシ基、C3〜C10シクロアル
キル基で置換されている直鎖もしくは分枝鎖C1
〜C5アルキル基のうちでC1〜C6アルコキシ基と
しては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、t−ブトキシ、
ヘキシル、オキシ基などがあげられ、置換されて
いてもよいフエニル基、フエノキシ基としては前
記のものをそのまま好適にあげることができる。
C3〜C10シクロアルキル基としても前記のものを
そのまま好適にあげることができ、直鎖もしくは
分枝鎖C1〜C5アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブ
チル、sec−ブチル、t−ブチル、ペンチル基な
どをあげることができ、置換基はその任意の位置
に結合していてもよい。
フエニル基、フエノキシ基、C3〜C10シクロアル
キル基で置換されている直鎖もしくは分枝鎖C1
〜C5アルキル基のうちでC1〜C6アルコキシ基と
しては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、t−ブトキシ、
ヘキシル、オキシ基などがあげられ、置換されて
いてもよいフエニル基、フエノキシ基としては前
記のものをそのまま好適にあげることができる。
C3〜C10シクロアルキル基としても前記のものを
そのまま好適にあげることができ、直鎖もしくは
分枝鎖C1〜C5アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブ
チル、sec−ブチル、t−ブチル、ペンチル基な
どをあげることができ、置換基はその任意の位置
に結合していてもよい。
また上記式〔〕で表わされる化合物において
シクロペンタノン環上に結合している置換基の立
体配置は天然のプロスタグランジンE1と同一な
立体配置を有しているために特に有用な立体異性
体であるが、本発明ではその鏡像体である下記式
〔〕ent 式中、R1,R2,R3,R4,R5,X、およびnは
前記定義に同じである。
シクロペンタノン環上に結合している置換基の立
体配置は天然のプロスタグランジンE1と同一な
立体配置を有しているために特に有用な立体異性
体であるが、本発明ではその鏡像体である下記式
〔〕ent 式中、R1,R2,R3,R4,R5,X、およびnは
前記定義に同じである。
で表わされる立体異性体あるいはそれらの任意の
割合の混合物をも含むものである。またOR3,
R4およびR5が置換している炭素は不斉炭素であ
るために2種類の光学異性体が存在するがいずれ
の光学異性体でもあるいはそれ なお上記式〔〕(〔−a〕,〔−b〕、およ
び〔V〕を含む)で代表される化合物とは上記式
〔〕(〔−a〕,〔−b〕、および〔V〕を含
む)で表わされる化合物およびその15(n=0の
とき)または16(n=1のとき)エピマーならび
にそれらの鏡像体あるいはそれらの任意の割合の
混合物のことを意味する。
割合の混合物をも含むものである。またOR3,
R4およびR5が置換している炭素は不斉炭素であ
るために2種類の光学異性体が存在するがいずれ
の光学異性体でもあるいはそれ なお上記式〔〕(〔−a〕,〔−b〕、およ
び〔V〕を含む)で代表される化合物とは上記式
〔〕(〔−a〕,〔−b〕、および〔V〕を含
む)で表わされる化合物およびその15(n=0の
とき)または16(n=1のとき)エピマーならび
にそれらの鏡像体あるいはそれらの任意の割合の
混合物のことを意味する。
上記式〔〕においてXはエチニレン基、シス
−ビニレン基、またはトランス−ビニレン基を表
わし、それぞれに応じて上記式〔〕は (a) Xがエチニレン基のときは下記式〔−a〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 (b) Xがシス−ビニレン基のときは下記式〔−
b〕 式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前記
定義に同じである。
−ビニレン基、またはトランス−ビニレン基を表
わし、それぞれに応じて上記式〔〕は (a) Xがエチニレン基のときは下記式〔−a〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 (b) Xがシス−ビニレン基のときは下記式〔−
b〕 式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前記
定義に同じである。
(c) Xがトランス−ビニレン基のときは下記式
〔−c〕 式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前記
定義に同じである。
〔−c〕 式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前記
定義に同じである。
で表わされる。
上記式〔〕(〔−a〕,〔−b〕,〔−c〕
、
および〔V〕を含む)においてnは0または1を
表わし、nが0のとき下記式〔〕′ 式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびXは前記
定義に同じである。
、
および〔V〕を含む)においてnは0または1を
表わし、nが0のとき下記式〔〕′ 式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびXは前記
定義に同じである。
nが1のとき、下記式〔〕″
式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびXは前記
定義に同じである。
定義に同じである。
で表わされる。
本発明により提供される上記式〔〕で表わさ
れる新規7−チアプロスタグランジンE1類の好
ましい具体例としては下記に示した化合物をあげ
ることができる。
れる新規7−チアプロスタグランジンE1類の好
ましい具体例としては下記に示した化合物をあげ
ることができる。
(1) 4,4,5,5−デヒドロ−7−チアプロス
タグランジンE1 (2) 4,4,5,5−デヒドロ−20−メチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (3) 4,4,5,5−デヒドロ−20−エチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (4) 4,4,5,5−デヒドロ−16−メチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (5) 4,4,5,5−デヒドロ−16,20−ジメチ
ル−7−チアプロスタグランジンE1 (6) 4,4,5,5−デヒドロ−17−メチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (7) 4,4,5,5−デヒドロ−17,20−ジメチ
ル−7−チアプロスタグランジンE1 (8) 4,4,5,5−デヒドロ−17(S),20−ジ
メチル−7−チアプロスタグランジンE1 (9) 4,4,5,5−デヒドロ−17(R),20−ジ
メチル−7−チアプロスタグランジンE1 (10) 4,4,5,5−デヒドロ−20−エチル−16
−メチル−7−チアプロスタグランジンE1 (11) 4,4,5,5−デヒドロ−20−エチル−
17−メチル−7−チアプロスタグランジンE1 (12) 4,4,5,5−デヒドハ−16,17,18,
19,20−ペンタノル−15−シクロヘキシル−7
−チアプロスタグランジンE1 (13) 4,4,5,5−デヒドロ−16,17,18,
19,20−ペンタノル−15−シクロペンチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (14) 4,4,5,5−デヒドロ−18−オキサ−
7−チアプロスタグランジンE1 (15) 4,4,5,5−デヒドロ−17,18,19,
20−トテラノル−16−シクロヘキシル−7−チ
アプロスタグランジンE1 (16) 4,4,5,5−デヒドロ−15−デオキシ
−16−ヒドロキシ−7−チアプロスタグランジ
ンE1 (17) 4,4,5,5−デヒドロ−15−デオキシ
−16−ヒドロキシ−18−オキサ−7−チアプロ
スタグランジンE1 (18) 4,4,5,5−デヒドロ−18,19,20−
トリノル−15−デオキシ−16−ヒドロキシ−17
−フエノキシ−7−チアプロスタグランジン
E1 (19) 4,4,5,5−デヒドロ−15−デオキシ
−16−ヒドロキシ−20−メチル−7−チアプロ
スタグランジンE1 (20) 4,4,5,5−デヒドロ−15−デオキシ
−16−ヒドロキシ−17,20−ジメチル−7−チ
アプロスタグランジンE1 (21) 4,4,5,5−デヒドロ−17,18,19,
20−テトラノル−15−デオキシ−16−ヒドロキ
シ−16−シクロペンチル−7−チアプロスタグ
ランジンE1 (22) 4,4,5,5−デヒドロ−17,18,19,
20−テトラノル−15−デオキシ−16−ヒドロキ
シ−16−シクロヘキシル−7−チアプロスタグ
ランジンE1 (23) (1)〜15)の化合物の15−メチル誘導体 (24) (1)〜(15)の化合物の15−ビニル誘導体 (25) (16)〜(22)の化合物の16−メチル誘導
体 (26) (16)〜(22)の化合物の16−ビニル誘導
体 (27) (1)〜(26)の化合物の(4E)−4,5−ジ
ヒドロ誘導体 (28) (1)〜(26)の化合物の(4Z)−4,5−ジ
ヒドロ誘導体 (29) (1)〜(26)の化合物の(4Z)−4,5−ジ
ジユウテリオ(重水素化)誘導体 (30) (1)〜(26)の化合物の(4Z)−4,5−ジ
トリチオ誘導体 (31) (1)〜(30)の化合物のメチルエステル (32) (1)〜(30)の化合物のエチルエステル (33) (1)〜(30)の化合物のナトリウム塩 (34) (1)〜(33)の化合物の水酸基(11位と15位
あるいは11位と16位)がt−ブチルジメチルシ
リル基および/または2−テトラヒドロピラニ
ル基で保護された誘導体 (35) (1)〜(34)の化合物の鏡像体 などを挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。また(1)〜(35)の化合物の15位
または16位の光学異性体およびこれらすべての鏡
像体もあわせて挙げられる。
タグランジンE1 (2) 4,4,5,5−デヒドロ−20−メチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (3) 4,4,5,5−デヒドロ−20−エチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (4) 4,4,5,5−デヒドロ−16−メチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (5) 4,4,5,5−デヒドロ−16,20−ジメチ
ル−7−チアプロスタグランジンE1 (6) 4,4,5,5−デヒドロ−17−メチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (7) 4,4,5,5−デヒドロ−17,20−ジメチ
ル−7−チアプロスタグランジンE1 (8) 4,4,5,5−デヒドロ−17(S),20−ジ
メチル−7−チアプロスタグランジンE1 (9) 4,4,5,5−デヒドロ−17(R),20−ジ
メチル−7−チアプロスタグランジンE1 (10) 4,4,5,5−デヒドロ−20−エチル−16
−メチル−7−チアプロスタグランジンE1 (11) 4,4,5,5−デヒドロ−20−エチル−
17−メチル−7−チアプロスタグランジンE1 (12) 4,4,5,5−デヒドハ−16,17,18,
19,20−ペンタノル−15−シクロヘキシル−7
−チアプロスタグランジンE1 (13) 4,4,5,5−デヒドロ−16,17,18,
19,20−ペンタノル−15−シクロペンチル−7
−チアプロスタグランジンE1 (14) 4,4,5,5−デヒドロ−18−オキサ−
7−チアプロスタグランジンE1 (15) 4,4,5,5−デヒドロ−17,18,19,
20−トテラノル−16−シクロヘキシル−7−チ
アプロスタグランジンE1 (16) 4,4,5,5−デヒドロ−15−デオキシ
−16−ヒドロキシ−7−チアプロスタグランジ
ンE1 (17) 4,4,5,5−デヒドロ−15−デオキシ
−16−ヒドロキシ−18−オキサ−7−チアプロ
スタグランジンE1 (18) 4,4,5,5−デヒドロ−18,19,20−
トリノル−15−デオキシ−16−ヒドロキシ−17
−フエノキシ−7−チアプロスタグランジン
E1 (19) 4,4,5,5−デヒドロ−15−デオキシ
−16−ヒドロキシ−20−メチル−7−チアプロ
スタグランジンE1 (20) 4,4,5,5−デヒドロ−15−デオキシ
−16−ヒドロキシ−17,20−ジメチル−7−チ
アプロスタグランジンE1 (21) 4,4,5,5−デヒドロ−17,18,19,
20−テトラノル−15−デオキシ−16−ヒドロキ
シ−16−シクロペンチル−7−チアプロスタグ
ランジンE1 (22) 4,4,5,5−デヒドロ−17,18,19,
20−テトラノル−15−デオキシ−16−ヒドロキ
シ−16−シクロヘキシル−7−チアプロスタグ
ランジンE1 (23) (1)〜15)の化合物の15−メチル誘導体 (24) (1)〜(15)の化合物の15−ビニル誘導体 (25) (16)〜(22)の化合物の16−メチル誘導
体 (26) (16)〜(22)の化合物の16−ビニル誘導
体 (27) (1)〜(26)の化合物の(4E)−4,5−ジ
ヒドロ誘導体 (28) (1)〜(26)の化合物の(4Z)−4,5−ジ
ヒドロ誘導体 (29) (1)〜(26)の化合物の(4Z)−4,5−ジ
ジユウテリオ(重水素化)誘導体 (30) (1)〜(26)の化合物の(4Z)−4,5−ジ
トリチオ誘導体 (31) (1)〜(30)の化合物のメチルエステル (32) (1)〜(30)の化合物のエチルエステル (33) (1)〜(30)の化合物のナトリウム塩 (34) (1)〜(33)の化合物の水酸基(11位と15位
あるいは11位と16位)がt−ブチルジメチルシ
リル基および/または2−テトラヒドロピラニ
ル基で保護された誘導体 (35) (1)〜(34)の化合物の鏡像体 などを挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。また(1)〜(35)の化合物の15位
または16位の光学異性体およびこれらすべての鏡
像体もあわせて挙げられる。
上記式〔〕で表わされる本発明の新規7−チ
アプロスタグランジンE1類は下記式〔〕 〔式中、R11はC1〜C10アルキル基、置換もし
くは非置換のフエニル基、置換もしくは非置換の
C3〜C10シクロアルキル基、置換もしくは非置換
のフエニル(C1〜C2)アルキル基を表わし、R21
はトリ(C1〜C7)炭化水素シリル基、または水
酸基の酸素原子とともにアセタール結合を形成す
る基を表わし、Xは前記定義に同じである。〕 で表わされる2−オルガノチオ−2−シクロペン
テノン類またはその鏡像体あるいはそれらの任意
の割合の混合物を下記式〔〕 〔式中、R31はトリ(C1〜C7)炭化水素シリル
基または水酸基の酸素原子とともにアセタール結
合を形成する基を表わし、R4,R5、およびnは
前記定義に同じである。〕 で表わされる有機リチウム化合物を下記式〔〕 CuQ ……〔〕 〔式中、Qはハロゲン原子、シアノ基、フエニ
ルチオ基、または1−ペンチニル基を表わす。〕 で表わされる銅化合物とから得られる有機銅化合
物と共役付加反応せしめ、必要に応じて脱保護お
よび/または加水分解および/または塩生成反応
に付すことにより製造することができる。
アプロスタグランジンE1類は下記式〔〕 〔式中、R11はC1〜C10アルキル基、置換もし
くは非置換のフエニル基、置換もしくは非置換の
C3〜C10シクロアルキル基、置換もしくは非置換
のフエニル(C1〜C2)アルキル基を表わし、R21
はトリ(C1〜C7)炭化水素シリル基、または水
酸基の酸素原子とともにアセタール結合を形成す
る基を表わし、Xは前記定義に同じである。〕 で表わされる2−オルガノチオ−2−シクロペン
テノン類またはその鏡像体あるいはそれらの任意
の割合の混合物を下記式〔〕 〔式中、R31はトリ(C1〜C7)炭化水素シリル
基または水酸基の酸素原子とともにアセタール結
合を形成する基を表わし、R4,R5、およびnは
前記定義に同じである。〕 で表わされる有機リチウム化合物を下記式〔〕 CuQ ……〔〕 〔式中、Qはハロゲン原子、シアノ基、フエニ
ルチオ基、または1−ペンチニル基を表わす。〕 で表わされる銅化合物とから得られる有機銅化合
物と共役付加反応せしめ、必要に応じて脱保護お
よび/または加水分解および/または塩生成反応
に付すことにより製造することができる。
本発明の7−チアプロスタグランジンE1類の
合成経路を、その原料化合物である2−オルガノ
チオ−2−シクロペンテノン類の合成経路も含め
て図示すると次のようになる。
合成経路を、その原料化合物である2−オルガノ
チオ−2−シクロペンテノン類の合成経路も含め
て図示すると次のようになる。
R11,R21,R31,R4,R5,X,n、およびQは
前記定義に同じである。
前記定義に同じである。
本発明方法の特徴の1つは、出発原料としてdl
体を用いると、途中の中間体は上記に図示した化
合物とその鏡像体との混合物として立体特異的に
合成経路を進んで行き、前記式()あるいは前
記式()のいずれか一方が光学活性ならば適当
な段階において分離することにより各々の立体異
性体を純品として単離することができることにあ
る。
体を用いると、途中の中間体は上記に図示した化
合物とその鏡像体との混合物として立体特異的に
合成経路を進んで行き、前記式()あるいは前
記式()のいずれか一方が光学活性ならば適当
な段階において分離することにより各々の立体異
性体を純品として単離することができることにあ
る。
式〔〕の有機リチウム化合物におけるR31
は、R21と同様に、R3の定義から水素原子を除い
たものである。式〔〕の銅化合物におけるQ
は、塩素、フツ素、臭素などのハロゲン原子;シ
アノ基、フエニルチオ基または1−ペンチニル基
を表わす。
は、R21と同様に、R3の定義から水素原子を除い
たものである。式〔〕の銅化合物におけるQ
は、塩素、フツ素、臭素などのハロゲン原子;シ
アノ基、フエニルチオ基または1−ペンチニル基
を表わす。
式〔〕の有機リチウム化合物と式〔〕の銅
化合物とから有機銅化合物を得るには、例えば文
献G.H.Posner,Organic Reaction,vol.19,1
(1972),Tetrahedron Lett.21,1247(1980)な
どが参考とされる。
化合物とから有機銅化合物を得るには、例えば文
献G.H.Posner,Organic Reaction,vol.19,1
(1972),Tetrahedron Lett.21,1247(1980)な
どが参考とされる。
本発明方法では有機銅化合物とともに、三価の
有機リン化合物、例えば、トリアルキルホスフイ
ン(例えば、トリエチルホスフイン、トリブチル
ホスフインなど)、トリアルキルホスフアイト
(例えば、トリメチルホスフアイト、トリエチル
ホスフアイト、トリイソプロピルホスフアイト、
トリ−n−ブチルホスフアイトなど)、ヘキサメ
チルホスホラストリアミド、あるいはトリフエニ
ルホスフインなどを用いると本共役付加反応が円
滑に進行するが、特にトリブチルホスフイン、ヘ
キサメチルホスホラストリアミドが好適に用いら
れる。
有機リン化合物、例えば、トリアルキルホスフイ
ン(例えば、トリエチルホスフイン、トリブチル
ホスフインなど)、トリアルキルホスフアイト
(例えば、トリメチルホスフアイト、トリエチル
ホスフアイト、トリイソプロピルホスフアイト、
トリ−n−ブチルホスフアイトなど)、ヘキサメ
チルホスホラストリアミド、あるいはトリフエニ
ルホスフインなどを用いると本共役付加反応が円
滑に進行するが、特にトリブチルホスフイン、ヘ
キサメチルホスホラストリアミドが好適に用いら
れる。
本発明方法は前記式〔〕で代表される2−オ
ルガノチオ−2−シクロペンテノン類を、前記式
〔〕で代表される有機銅化合物と、三価の有機
リン化合物および非プロトン性不活性有機媒体の
存在下に反応せしめることにより行なわれる。
ルガノチオ−2−シクロペンテノン類を、前記式
〔〕で代表される有機銅化合物と、三価の有機
リン化合物および非プロトン性不活性有機媒体の
存在下に反応せしめることにより行なわれる。
2−オルガノチオ−2−シクロペンテノン類と
該有機銅化合物とは、化学量論的には等モル反応
を行なうが、通常、2−オルガノチオ−2−シク
ロペンテノ類1モルに対し、0.5〜5.0倍、好まし
くは0.8〜2.0倍、特に好ましくは1.0〜1.5モル倍
の有機銅化合物を用いて行なわれる。
該有機銅化合物とは、化学量論的には等モル反応
を行なうが、通常、2−オルガノチオ−2−シク
ロペンテノ類1モルに対し、0.5〜5.0倍、好まし
くは0.8〜2.0倍、特に好ましくは1.0〜1.5モル倍
の有機銅化合物を用いて行なわれる。
反応温度は−100℃〜50℃、特に好ましくは−
78℃〜0℃程度の温度範囲が採用される。反応時
間は反応温度により異なるが、通常−78℃〜−20
℃にて約1時間反応せしめれば充分である。
78℃〜0℃程度の温度範囲が採用される。反応時
間は反応温度により異なるが、通常−78℃〜−20
℃にて約1時間反応せしめれば充分である。
反応は有機媒体の存在下に行なわれる。反応温
度下において液状であつて、反応試剤とは反応し
ない不活性の非プロトン性の有機媒体が用いられ
る。
度下において液状であつて、反応試剤とは反応し
ない不活性の非プロトン性の有機媒体が用いられ
る。
かかる非プロトン性不活性有機媒体としては、
例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンの如き飽和炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレンの如き芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルの如きエーテル系溶媒、その他ヘキサ
メチルホスホリツクトリアミド(HMP)、N,
N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジ
メチルアセトアミド(DMAC)、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、N−メチルピロリドンの如
きいわゆる非プロトン性極性溶媒等があげられ、
二種以上の溶媒の混合溶媒として用いることも可
能である。また、かかる非プロトン性不活性有機
媒体としては、有機銅化合物を製造するに用いら
れた不活性媒体を、そのまま用いることもでき
る。すなわち、この場合、有機銅化合物を製造し
た反応系内に該2−オルガノチオ−2−シクロペ
ンテノン類を添加せしめて反応を行なえばよい。
有機媒体の使用量は反応を円滑に進行させるに十
分な量があれば良く、通常は原料の1〜100倍容
量、好ましくは2〜20倍容量が用いられる。
例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンの如き飽和炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレンの如き芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルの如きエーテル系溶媒、その他ヘキサ
メチルホスホリツクトリアミド(HMP)、N,
N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジ
メチルアセトアミド(DMAC)、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、N−メチルピロリドンの如
きいわゆる非プロトン性極性溶媒等があげられ、
二種以上の溶媒の混合溶媒として用いることも可
能である。また、かかる非プロトン性不活性有機
媒体としては、有機銅化合物を製造するに用いら
れた不活性媒体を、そのまま用いることもでき
る。すなわち、この場合、有機銅化合物を製造し
た反応系内に該2−オルガノチオ−2−シクロペ
ンテノン類を添加せしめて反応を行なえばよい。
有機媒体の使用量は反応を円滑に進行させるに十
分な量があれば良く、通常は原料の1〜100倍容
量、好ましくは2〜20倍容量が用いられる。
三価の有機リン化合物を有機銅化合物の前記し
た調製時に存在せしめておくこともでき、その系
内に2−オルガノチオ−2−ヒクロペンテノンを
加えて反応を実施することもできる。
た調製時に存在せしめておくこともでき、その系
内に2−オルガノチオ−2−ヒクロペンテノンを
加えて反応を実施することもできる。
かくして、前記式〔〕で表わされる化合物の
うち、その水酸基が保護され、かつ、その1位の
カルボン酸のエステル体が得られる。本発明の製
造法は立体特異的に進行する反応を用いているた
めに上記式〔〕で表わされる立体配置を持つ出
発原料からは前記式〔〕で表わされる立体配置
を持つ化合物が得られ、上記式〔〕の鏡像体か
らは前記式〔〕entで表わされる前記式〔〕
の鏡像体が得られることになる。
うち、その水酸基が保護され、かつ、その1位の
カルボン酸のエステル体が得られる。本発明の製
造法は立体特異的に進行する反応を用いているた
めに上記式〔〕で表わされる立体配置を持つ出
発原料からは前記式〔〕で表わされる立体配置
を持つ化合物が得られ、上記式〔〕の鏡像体か
らは前記式〔〕entで表わされる前記式〔〕
の鏡像体が得られることになる。
反応後、得られる生成物は通常の手段により反
応液から分離、精製される。例えば抽出洗浄、ク
ロマトグラフイーあるいはこれらの組み合わせに
より行なわれる。
応液から分離、精製される。例えば抽出洗浄、ク
ロマトグラフイーあるいはこれらの組み合わせに
より行なわれる。
さらにここで得られた水酸基が保護され、かつ
その1位のカルホン酸がエステル体である化合物
は、次いで必要に応じて脱保護、加水分解、ある
いは塩生成反応に付すことができる。
その1位のカルホン酸がエステル体である化合物
は、次いで必要に応じて脱保護、加水分解、ある
いは塩生成反応に付すことができる。
水酸基の保護基(R21および/またはR31)の
除去は、保護基が水酸基の酸素原子と共にアセタ
ール結合を形成する基の場合には、例えば酢酸、
p−トルエンスルホン酸のピリジニウム塩又は陽
イオン交換樹脂等を触媒とし、例えば水、テトラ
ヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、ア
セトン、アセトニトリル等を反応溶媒とすること
により好適に実施される。反応は通常−78℃〜+
50℃の温度範囲で10分〜30日間程度行なわれる。
また、保護基がトリ(C1〜C7)炭化水素シリル
基の場合には、例えば酢酸、テトラブチルアンモ
ニウムフルオライド、セシウムフルオランド、フ
ツ化水素酸、フツ化水素−ピリジン等を触媒と
し、上記した反応溶媒中で同様の温度で同程度の
時間実施される。
除去は、保護基が水酸基の酸素原子と共にアセタ
ール結合を形成する基の場合には、例えば酢酸、
p−トルエンスルホン酸のピリジニウム塩又は陽
イオン交換樹脂等を触媒とし、例えば水、テトラ
ヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、ア
セトン、アセトニトリル等を反応溶媒とすること
により好適に実施される。反応は通常−78℃〜+
50℃の温度範囲で10分〜30日間程度行なわれる。
また、保護基がトリ(C1〜C7)炭化水素シリル
基の場合には、例えば酢酸、テトラブチルアンモ
ニウムフルオライド、セシウムフルオランド、フ
ツ化水素酸、フツ化水素−ピリジン等を触媒と
し、上記した反応溶媒中で同様の温度で同程度の
時間実施される。
カルボキシル基の保護基(R11)の除去すなわ
ち加水分解反応は、例えばリパーゼ、エステラー
ゼ等の酵素を用い、水又は水を含む溶媒中で−10
℃〜+60℃の温度範囲で10分〜24時間程度行なわ
れる。
ち加水分解反応は、例えばリパーゼ、エステラー
ゼ等の酵素を用い、水又は水を含む溶媒中で−10
℃〜+60℃の温度範囲で10分〜24時間程度行なわ
れる。
本発明によれば、上記の如き加水分解反応によ
り生成せしめたカルボキシル基を有する化合物
は、次いで必要により、更に塩生成反応に付され
相当するカルボン酸塩を与える。塩生成反応はそ
れ自体公知であり、カルボン酸とほぼ等量の水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム
などの塩基性化合物あるいはアンモニア、トリメ
チルアミン、モノエタノールアミン、モノホリン
とを通常の方法で中和反応せしめることにより行
なわれる。
り生成せしめたカルボキシル基を有する化合物
は、次いで必要により、更に塩生成反応に付され
相当するカルボン酸塩を与える。塩生成反応はそ
れ自体公知であり、カルボン酸とほぼ等量の水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム
などの塩基性化合物あるいはアンモニア、トリメ
チルアミン、モノエタノールアミン、モノホリン
とを通常の方法で中和反応せしめることにより行
なわれる。
以上の方法により製造される前記式〔〕で代
表される新規7−チアプロスタグランジンE1類
は、出発原料として用いた前記式〔〕で代表さ
れる2−オルガノチオ−2−シクロペンテノン類
のXの種類によつて下記式〔−a〕(Xがエチ
ニレン基のとき)、下記式〔−b〕(Xがシス−
ビニレン基のとき)、下記式〔−c〕(Xがトラ
ンス−ビニレン基のとき)の三種類の誘導体の形
で得られることになる。すなわち、下記式〔−
a〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 で代表される4,4,5,5−デヒドロ−7−チ
アプロスタグランジンE1類、 下記式〔−b〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 で代表される(4Z)−4,5−デヒドロ−7−チ
アプロスタグランジンE1類、および下記式〔
−c〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 で代表される(4E)−4,5−デヒドロ−7−チ
アプロスタグランジンE1類である。
表される新規7−チアプロスタグランジンE1類
は、出発原料として用いた前記式〔〕で代表さ
れる2−オルガノチオ−2−シクロペンテノン類
のXの種類によつて下記式〔−a〕(Xがエチ
ニレン基のとき)、下記式〔−b〕(Xがシス−
ビニレン基のとき)、下記式〔−c〕(Xがトラ
ンス−ビニレン基のとき)の三種類の誘導体の形
で得られることになる。すなわち、下記式〔−
a〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 で代表される4,4,5,5−デヒドロ−7−チ
アプロスタグランジンE1類、 下記式〔−b〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 で代表される(4Z)−4,5−デヒドロ−7−チ
アプロスタグランジンE1類、および下記式〔
−c〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 で代表される(4E)−4,5−デヒドロ−7−チ
アプロスタグランジンE1類である。
本発明の方法によつて得られる上記式〔−
b〕で代表される(4Z)−4,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1類は上記式〔−
a〕で代表される4,4,5,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1類を水素添加触媒
の存在下に接触還元することによつて得られ、さ
らに上記式〔−b〕で代表される(4Z)−4,
5−デヒドロ−7−チアプロスタグランジンE1
類を水素添加触媒の存在下に接触還元することに
よつて下記式〔〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 で代表される7−チアプロスタグランジンE1類
が製造される。すなわち、このプロセスを図示す
ると次のようになる。
b〕で代表される(4Z)−4,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1類は上記式〔−
a〕で代表される4,4,5,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1類を水素添加触媒
の存在下に接触還元することによつて得られ、さ
らに上記式〔−b〕で代表される(4Z)−4,
5−デヒドロ−7−チアプロスタグランジンE1
類を水素添加触媒の存在下に接触還元することに
よつて下記式〔〕 〔式中、R1,R2,R3,R4,R5、およびnは前
記定義に同じである。〕 で代表される7−チアプロスタグランジンE1類
が製造される。すなわち、このプロセスを図示す
ると次のようになる。
以下、行程1、行程2について遂次説明する。
行程1は上記式〔−a〕で代表される4,
4,5,5−デヒドロ−7−チアプロスタグラン
ジンE1類を上記式〔−b〕で代表される(4Z)
−4,5−デヒドロ−7−チアプロスタグランジ
ンE1類に接触還元する行程である。該接触還元
反応は、水素添加触媒の存在下に実施される。か
かる水素添加触媒としては通常使用されるパラジ
ウム系触媒、白金触媒、あるいはロジウム触媒が
用いられる。パラジウム系触媒としてはパラジウ
ム−活性炭、パラジウム−炭酸カルシウム、パラ
ジウム−硫酸バリウムなどがあげられるが、なか
でも、パラジウム−活性炭が好ましい。また行程
1のみを進行させ、式〔−b〕で代表される
(4Z)−4,5−デヒドロ−7−チアプロスタグ
ランジンE1類を得る時にはリンドラ−触媒また
はキノリンで被毒されたパラジウム−硫酸バリウ
ム触媒が好適に用いられる。
4,5,5−デヒドロ−7−チアプロスタグラン
ジンE1類を上記式〔−b〕で代表される(4Z)
−4,5−デヒドロ−7−チアプロスタグランジ
ンE1類に接触還元する行程である。該接触還元
反応は、水素添加触媒の存在下に実施される。か
かる水素添加触媒としては通常使用されるパラジ
ウム系触媒、白金触媒、あるいはロジウム触媒が
用いられる。パラジウム系触媒としてはパラジウ
ム−活性炭、パラジウム−炭酸カルシウム、パラ
ジウム−硫酸バリウムなどがあげられるが、なか
でも、パラジウム−活性炭が好ましい。また行程
1のみを進行させ、式〔−b〕で代表される
(4Z)−4,5−デヒドロ−7−チアプロスタグ
ランジンE1類を得る時にはリンドラ−触媒また
はキノリンで被毒されたパラジウム−硫酸バリウ
ム触媒が好適に用いられる。
白金触媒としては酸化白金、白金黒などが用い
られるが本発明方法の出発原料には硫黄原子がス
ルフイド結合を形成して含まれているために、こ
の硫黄原子が触媒毒となる傾向が認められるた
め、好ましい水素添加触媒としては選ばれない。
ロジウム触媒としてはクロロトリス(トリフエニ
ルホスフイン)ロジウム()などがあげられ
る。その他の例示としてはルテニウム系触媒など
もあり、これら水素添加触媒に関する詳細は各種
触媒に対する反応条件等も含めて日本化学会編
「新実験化学講座15、酸化と還元」(丸善株式会
社)333頁〜448頁(1977)に記載されている。
られるが本発明方法の出発原料には硫黄原子がス
ルフイド結合を形成して含まれているために、こ
の硫黄原子が触媒毒となる傾向が認められるた
め、好ましい水素添加触媒としては選ばれない。
ロジウム触媒としてはクロロトリス(トリフエニ
ルホスフイン)ロジウム()などがあげられ
る。その他の例示としてはルテニウム系触媒など
もあり、これら水素添加触媒に関する詳細は各種
触媒に対する反応条件等も含めて日本化学会編
「新実験化学講座15、酸化と還元」(丸善株式会
社)333頁〜448頁(1977)に記載されている。
反応条件の一例を示すとパラジウム−活性炭を
水素添加触媒として用いた場合、反応溶媒として
は酢酸エチル、エタノール、メタノールが使用さ
れ、通常、常圧下室温にて数時間から数日反応さ
せれば充分である。
水素添加触媒として用いた場合、反応溶媒として
は酢酸エチル、エタノール、メタノールが使用さ
れ、通常、常圧下室温にて数時間から数日反応さ
せれば充分である。
工程2は上記式〔−b〕で代表される(4Z)
−4,5−デヒドロ−7−チアプロスタグランジ
ンE1類を上記式〔V〕で代表される7−チアプ
ロスタグランジンE1類に接触還元する工程であ
る。なお、上記式〔−a〕で代表される4,
4,5,5−デヒドロ−7−チアプロスタグラン
ジンE1類を出発原料とし、途中、上記式〔−
b〕で代表される(4Z)−4,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1類を単離すること
なしに工程1および工程2を実施して上記式
〔V〕で代表される7−チアプロスタグランジン
E1類を得てもよく、リンドラー触媒またはキノ
リンで被毒されたパラジウム−硫酸バリウム触媒
の場合を除き、通常、この方法が採用される。従
つて水素添加触媒、反応溶媒、反応温度、反応時
間ともに工程1での説明がそのまま適用される。
−4,5−デヒドロ−7−チアプロスタグランジ
ンE1類を上記式〔V〕で代表される7−チアプ
ロスタグランジンE1類に接触還元する工程であ
る。なお、上記式〔−a〕で代表される4,
4,5,5−デヒドロ−7−チアプロスタグラン
ジンE1類を出発原料とし、途中、上記式〔−
b〕で代表される(4Z)−4,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1類を単離すること
なしに工程1および工程2を実施して上記式
〔V〕で代表される7−チアプロスタグランジン
E1類を得てもよく、リンドラー触媒またはキノ
リンで被毒されたパラジウム−硫酸バリウム触媒
の場合を除き、通常、この方法が採用される。従
つて水素添加触媒、反応溶媒、反応温度、反応時
間ともに工程1での説明がそのまま適用される。
かくして得られた式〔−b〕および式〔V〕
の化合物の単離は通常実施されている方法がその
まま用いられ、ロカ、洗浄、抽出、クロマトグラ
フイーなどの操作により達成される。
の化合物の単離は通常実施されている方法がその
まま用いられ、ロカ、洗浄、抽出、クロマトグラ
フイーなどの操作により達成される。
本発明本法により得られる式〔−a〕、式
〔−b〕、式〔−c〕、および式〔V〕で代表
される各種の7−チアプロスタグランジンE1類
の内、R2およびR3が遊離の水酸基である誘導体
は血小板凝集抑制作用、血管拡張作用、血圧降下
作用特のプロスタングランジン様作用を有し、こ
れらの生理作用に期待される医薬品、例えば、血
栓症治療薬または予防薬、血小板凝集阻止薬、降
圧薬などとして有用である。
〔−b〕、式〔−c〕、および式〔V〕で代表
される各種の7−チアプロスタグランジンE1類
の内、R2およびR3が遊離の水酸基である誘導体
は血小板凝集抑制作用、血管拡張作用、血圧降下
作用特のプロスタングランジン様作用を有し、こ
れらの生理作用に期待される医薬品、例えば、血
栓症治療薬または予防薬、血小板凝集阻止薬、降
圧薬などとして有用である。
また、十二指腸潰瘍、胃潰瘍などの消化器疾
患、肝炎、劇症肝炎、脂肪肝、完成昏睡、肝臓肥
大、肝硬変などの肝臓疾患、膵炎などの膵臓疾
患、糖尿病腎症、急性腎不全、膀胱炎、尿道炎な
どの泌尿器疾患、肺炎、気管炎などの呼吸器疾
患、内分泌疾患、免疫疾患およびアルコール中
毒、四塩化炭素中毒などの中毒症状ならびに血圧
降下などの各種疾患の予防および/または治療に
用いることができる。
患、肝炎、劇症肝炎、脂肪肝、完成昏睡、肝臓肥
大、肝硬変などの肝臓疾患、膵炎などの膵臓疾
患、糖尿病腎症、急性腎不全、膀胱炎、尿道炎な
どの泌尿器疾患、肺炎、気管炎などの呼吸器疾
患、内分泌疾患、免疫疾患およびアルコール中
毒、四塩化炭素中毒などの中毒症状ならびに血圧
降下などの各種疾患の予防および/または治療に
用いることができる。
さらに本発明の製造方法において接触還元を重
水素中、またはトリチウム中で実施することによ
り重水素またはトリチウムで標識された式〔−
b〕で代表される(4Z)−4,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1類あるいは式〔V〕
で代表される7−チアプロスタグランジンE1類
が得られるという注目すべき特徴を有している。
かかる重水素またはトリチウムで標識された化合
物は対応する医薬品として有用な7−チアプロス
タグランジンE1類の定量あるいは生体内動態の
研究に有用な化合物であり、この点からも本発明
方法の有用性を示しているものといえる。
水素中、またはトリチウム中で実施することによ
り重水素またはトリチウムで標識された式〔−
b〕で代表される(4Z)−4,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1類あるいは式〔V〕
で代表される7−チアプロスタグランジンE1類
が得られるという注目すべき特徴を有している。
かかる重水素またはトリチウムで標識された化合
物は対応する医薬品として有用な7−チアプロス
タグランジンE1類の定量あるいは生体内動態の
研究に有用な化合物であり、この点からも本発明
方法の有用性を示しているものといえる。
以下本発明を実施例により更に詳細に説明する
か、本発明はこれらに限定されるものではない。
か、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例 1
(E)−(3S)−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−ヨード−1−オクテン(4.39g、
11.94mmol)をエーテル(20ml)に溶かし−78℃
に冷却した後、t−ブチルリチウム(1.9M、
12.9ml、23.9mmol)を添加し、−78℃で2時間撹
拌した。フエニルチオ銅(2.06g、11.94mmol)
とヘキサメチルホスホラストリアミド(5.84g、
35.8mmol)のエーテル(20ml)溶液をこの反応
混合物に添加し、−78℃で1時間撹拌した。次い
で(R)−4−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−2−(5−メトキシカルボニル−2−ペンチニ
ルチオ)−2−シクロペンテノン(3.95g、
10.7mmol)のテトラヒドロフラン(50ml)溶液
を加え−78℃で15分、−40℃で30分間撹拌した。
シ−1−ヨード−1−オクテン(4.39g、
11.94mmol)をエーテル(20ml)に溶かし−78℃
に冷却した後、t−ブチルリチウム(1.9M、
12.9ml、23.9mmol)を添加し、−78℃で2時間撹
拌した。フエニルチオ銅(2.06g、11.94mmol)
とヘキサメチルホスホラストリアミド(5.84g、
35.8mmol)のエーテル(20ml)溶液をこの反応
混合物に添加し、−78℃で1時間撹拌した。次い
で(R)−4−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−2−(5−メトキシカルボニル−2−ペンチニ
ルチオ)−2−シクロペンテノン(3.95g、
10.7mmol)のテトラヒドロフラン(50ml)溶液
を加え−78℃で15分、−40℃で30分間撹拌した。
反応混合物に2Mアセテート緩衝液を加え、ヘ
キサン(150ml×3)で抽出し、各々の有機層を
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥し、別後濃縮して6.8gの粗生成物を得た。
このものをシリカゲルカラムクロマトグフイー
(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)に付して目的
とする11,15−ビス(t−ブチルジメチルシリ
ル)−4,4,5,5−デヒドロ−7−チアプロ
スタグランジンE1メチルエステル(6.83g、
11.2mmol、94%)を得た。
キサン(150ml×3)で抽出し、各々の有機層を
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥し、別後濃縮して6.8gの粗生成物を得た。
このものをシリカゲルカラムクロマトグフイー
(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)に付して目的
とする11,15−ビス(t−ブチルジメチルシリ
ル)−4,4,5,5−デヒドロ−7−チアプロ
スタグランジンE1メチルエステル(6.83g、
11.2mmol、94%)を得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3、δ(ppm));
0.06(12H,s),0.87(21H),1.0〜1.8(8H,
m),2.3〜3.6(10H,m),3.67(3H,s),3.80
〜4.40(2H,m),5.50〜5.75(2H,m)。
m),2.3〜3.6(10H,m),3.67(3H,s),3.80
〜4.40(2H,m),5.50〜5.75(2H,m)。
赤外吸収スペクトル(液膜、cm-1);
1745,1250,1165,1110,1075,965,885,
835,805,775。
835,805,775。
質量分析(FD−MS);610(M+)。
実施例 2
実施例1で得られた11.15−ビス(t−ブチル
ジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ−
7−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(1.22g、2.0mmol)をアセトニトリル(50ml)
に溶かし、ピリジン(1.0ml)、次いでフツ化水素
−ピリジン(2.0ml)か添加し室温で3時間攪拌
した。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
て中和し、酢酸エチル(150ml×3)で抽出後、
分離した各有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥後に濃縮して780mgの粗生成
物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマト
グラフイー(ヘキサン:酢酸エチル=1:3)に
付して目的とする4,4,5,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(710mg、1.86mmol、93%)を得た。
ジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ−
7−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(1.22g、2.0mmol)をアセトニトリル(50ml)
に溶かし、ピリジン(1.0ml)、次いでフツ化水素
−ピリジン(2.0ml)か添加し室温で3時間攪拌
した。反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
て中和し、酢酸エチル(150ml×3)で抽出後、
分離した各有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥後に濃縮して780mgの粗生成
物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマト
グラフイー(ヘキサン:酢酸エチル=1:3)に
付して目的とする4,4,5,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(710mg、1.86mmol、93%)を得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3,δ(ppm));
0.7〜1.0(3H,m),1.0〜1.8(8H,m),2.3〜
3.5(12H,m),3.67(3H,s),3.8〜4.4(2H,
m),5.6〜5.8(2H,m)。
3.5(12H,m),3.67(3H,s),3.8〜4.4(2H,
m),5.6〜5.8(2H,m)。
赤外吸収スペクトル(液膜、cm-1);
3400,1740,1260,845,730。
質量分析(FD−MS);382(M+)。
実施例 3
実施例1において(E)−(3S)−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−1−ヨード−1−オクテン
の代わりに(E)−(3S,5R)−3−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−5−メチル−1−ヨード−
1−ノネン、フエニルチオ銅の代わりに1−ペン
チニル銅を用いて、実施例1と同様の操作手順に
よつて、11,15−ビス(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)−4,4,5,5−デヒドロ−17(R),
20−ジメチル−7−チアプロスタグランジンE1
メチルエステルを収率89%で得た。
メチルシリルオキシ−1−ヨード−1−オクテン
の代わりに(E)−(3S,5R)−3−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−5−メチル−1−ヨード−
1−ノネン、フエニルチオ銅の代わりに1−ペン
チニル銅を用いて、実施例1と同様の操作手順に
よつて、11,15−ビス(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)−4,4,5,5−デヒドロ−17(R),
20−ジメチル−7−チアプロスタグランジンE1
メチルエステルを収率89%で得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3、δ(ppm));
0.06(12H,s),0.87(24H),1.0〜1.8(9H,
m),2.3〜3.6(10H,m)3.67(3H,s),3.85
〜4.35(2H,m),5.50〜5.75(2H,m)。
m),2.3〜3.6(10H,m)3.67(3H,s),3.85
〜4.35(2H,m),5.50〜5.75(2H,m)。
赤外吸収スペクトル(液膜、cm-1);
1745,1250,1165,1110,1075,965,885,
835,805,775。
835,805,775。
質量分析(FD−MS);638(M+),581(M−57),
57。
57。
実施例 4
実施例3で得られた11,15−ビス(t−ブチル
ジメチルシリルオキシ)−4,4,5,5−デヒ
ドロ−17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタ
グランジンE1メチルエステルを実施例2と全く
同様の脱保護反応、後処理、精製をして収率79%
で4,4,5,5−デヒドロ−17(R),20−ジメ
チル−7−チアプロスタグランジンE1メチルエ
ステルを得た。
ジメチルシリルオキシ)−4,4,5,5−デヒ
ドロ−17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタ
グランジンE1メチルエステルを実施例2と全く
同様の脱保護反応、後処理、精製をして収率79%
で4,4,5,5−デヒドロ−17(R),20−ジメ
チル−7−チアプロスタグランジンE1メチルエ
ステルを得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3,δ(ppm));
0.7〜1.0(6H,m),1.0〜1.9(9H,m),2.3〜
3.5(12H,m),3.67(3H,s),3.8〜4.4(2H,
m),5.6〜5.8(2H,m)。
3.5(12H,m),3.67(3H,s),3.8〜4.4(2H,
m),5.6〜5.8(2H,m)。
赤外吸収スペクトル(液膜、cm-1);
3400,1740,1240,1200,1165,1075,1040,
965,735。
965,735。
質量分析(FD−MS);410(M+)。
実施例 5
実施例1と同様にして(E)−(3S)−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−3−シクロヘキシル−
1−ヨード−1−プロペンと(R)−4−t−ブ
チルジメチルシリルオキシ−2−((E)−5−メ
トキシカルボニル−2−ペンテニルチオ)−2−
シクロペンテノンから収率87%で(4E)−11,15
−ビス(t−ブチルジメチルシリル)−4,5−
デヒドロ−16,17,18,19,20−ペンタノル−15
−シツロヘキシル−7−チアプロスタグランジン
E1メチルエステルを得た。
ルジメチルシリルオキシ−3−シクロヘキシル−
1−ヨード−1−プロペンと(R)−4−t−ブ
チルジメチルシリルオキシ−2−((E)−5−メ
トキシカルボニル−2−ペンテニルチオ)−2−
シクロペンテノンから収率87%で(4E)−11,15
−ビス(t−ブチルジメチルシリル)−4,5−
デヒドロ−16,17,18,19,20−ペンタノル−15
−シツロヘキシル−7−チアプロスタグランジン
E1メチルエステルを得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3、δ(ppm));
0.06(12H,s),0.87(18H,s),0.8〜1.9
(11H,m),1.9〜3.1(10H,m)3.7〜4.3(2H,
m),3.63(3H,s),5.2〜5.8(4H,m)。
(11H,m),1.9〜3.1(10H,m)3.7〜4.3(2H,
m),3.63(3H,s),5.2〜5.8(4H,m)。
赤外吸収スペクトル(液膜、cm-1);
3080,1740,1270,1200,1080,975,885,
835,805,775。
835,805,775。
質量分析(FD−MS);624(M+)。
実施例 6
実施例5で得られた(4E)−11,15−ビス(t
−ブチルジメチルシリル)−4,5−デヒドロ−
16,17,18,19,20−ペンタノル−15−シクロヘ
キシル−7−チアプロスタグランジンE1メチル
エステルを実施例2と全く同様にして脱保護、後
処理、精製して収率86%で(4E)−4,5−デヒ
ドロ−16,17,18,19,20−ペンタノル−15−シ
クロヘキシル−7−チアプロスタグランジンE1
メチルエステルを得た。
−ブチルジメチルシリル)−4,5−デヒドロ−
16,17,18,19,20−ペンタノル−15−シクロヘ
キシル−7−チアプロスタグランジンE1メチル
エステルを実施例2と全く同様にして脱保護、後
処理、精製して収率86%で(4E)−4,5−デヒ
ドロ−16,17,18,19,20−ペンタノル−15−シ
クロヘキシル−7−チアプロスタグランジンE1
メチルエステルを得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3,δ(ppm));
0.8〜1.9(11H,m),1.9〜3.2(12H,m),3.7
〜4.3(2H,m),3.63(3H,s),5.2〜5.8(4H,
m)。
〜4.3(2H,m),3.63(3H,s),5.2〜5.8(4H,
m)。
赤外吸収スペクトル(液膜,cm-1);
3420,3080,1740,1270,1200,1080,975,
910,730。
910,730。
質量分析(FD−MS);3968(M-1)。
実施例 7
実施例1と同様にして、dl−(E)−4−トリメ
チルシリルオキシ−1−ヨード−1−オクテン
(R)−4−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
−((Z)−5−メトキシカルボニル−2−ペンテ
ニルチオ)−2−シクロペンテノンから収率79%
で(4Z)−(16RS)−11−t−ブチルジメチルシリ
ル)−4,5−デヒドロ−15−デオキシ−16−メ
チル−16−トリメチルシリルオキシ−7−チアプ
ロスタグランジンE1メチルエステルを得た。
チルシリルオキシ−1−ヨード−1−オクテン
(R)−4−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
−((Z)−5−メトキシカルボニル−2−ペンテ
ニルチオ)−2−シクロペンテノンから収率79%
で(4Z)−(16RS)−11−t−ブチルジメチルシリ
ル)−4,5−デヒドロ−15−デオキシ−16−メ
チル−16−トリメチルシリルオキシ−7−チアプ
ロスタグランジンE1メチルエステルを得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3,δ(ppm));
0.0〜0.2(15H,m),0.87(9H,m),0.7〜1.0
(3H,m)1.18(3H,s),1.1〜2.0(6H,m),
2.0〜3.1(12H,m),3.61(3H,s),1.1〜2.0
(6H,m),2.0〜3.1(12H,m),3.61(3H,
s),3.8〜4.2(1H,m),5.2〜6.0(4H,m)。
(3H,m)1.18(3H,s),1.1〜2.0(6H,m),
2.0〜3.1(12H,m),3.61(3H,s),1.1〜2.0
(6H,m),2.0〜3.1(12H,m),3.61(3H,
s),3.8〜4.2(1H,m),5.2〜6.0(4H,m)。
赤外吸収スペクトル(液膜,cm-1);
3080,1740,1250,835,775。
質量分析(FD−MS);584(M+)。
実施例 8
実施例7で得られた(4Z)−(16RS)−11−t−
ブチルジメチルシリル)−4,5−デヒドロ−15
−デオキシ−16−メチル−16−トリメチルシリル
オキシ−7−チアプロスタグランジンE1メチル
エステルを実施例2と全く同様に脱保護、後処
理、精製して収率83%で(4Z)−(16RS)−4,5
−デヒドロ−15−デオキシ−16−ヒドロキシ−16
−メチル−7−チアプロスタグランジンE1メチ
ルエステルを得た。
ブチルジメチルシリル)−4,5−デヒドロ−15
−デオキシ−16−メチル−16−トリメチルシリル
オキシ−7−チアプロスタグランジンE1メチル
エステルを実施例2と全く同様に脱保護、後処
理、精製して収率83%で(4Z)−(16RS)−4,5
−デヒドロ−15−デオキシ−16−ヒドロキシ−16
−メチル−7−チアプロスタグランジンE1メチ
ルエステルを得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3,δ(ppm));
0.88(3H,t),1.14(3H,m),1.1〜2.0(6H,
m),2.0〜3.4(14H,m),3.61(3H,s),3.6
〜4.5(2H,m),5.2〜6.0(4H,m)。
m),2.0〜3.4(14H,m),3.61(3H,s),3.6
〜4.5(2H,m),5.2〜6.0(4H,m)。
赤外吸収スペクトル(液膜,cm-1);
3420,1740,1260,845,730。
質量分析(FD−MS);398(M+)。
実施例 9
実施例1で得られた11,15−ビス(t−ブチル
ジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ−
7−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(610mg,1.0mmol)を酢酸エチル(10ml)に溶か
し、50mgのリンドラ−触媒を加えて室温で24時間
撹拌した。触媒を口別し、酢酸エチルで洗浄後、
濃縮して粗生成物を得、シリカゲルカラムフロマ
トグラフイー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)
に付して目的とする(4Z)−11,15−ビス(t−
ブチルジメチルシリル)−4,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(428mg、0.70mmol、70%)を得た。
ジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ−
7−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(610mg,1.0mmol)を酢酸エチル(10ml)に溶か
し、50mgのリンドラ−触媒を加えて室温で24時間
撹拌した。触媒を口別し、酢酸エチルで洗浄後、
濃縮して粗生成物を得、シリカゲルカラムフロマ
トグラフイー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)
に付して目的とする(4Z)−11,15−ビス(t−
ブチルジメチルシリル)−4,5−デヒドロ−7
−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(428mg、0.70mmol、70%)を得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3,δ(ppm));
0.06(12H,s),0.87(3H,m),1.0〜1.8(8H,
m),2.3〜3.6(10H,m),3.67(3H,s),3.8
〜4.4(2H,m),5.2〜5.8(4H,m)。
m),2.3〜3.6(10H,m),3.67(3H,s),3.8
〜4.4(2H,m),5.2〜5.8(4H,m)。
赤外吸収スペクトル(液膜,cm-1);
1745,1250,1165,1110,1075,965,885,
835,805,775。
835,805,775。
質量分析(FD−MS);612(M+)。
実施例 10
実施例9で得られた(4Z)−11,15−ビス(t
−ブチルジメチルシリル)−4,5−デヒドロ−
7−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(306mg,0.5mmol)を実施例2と全く同様にして
脱保護、後処理、精製して(4Z)−4,5−デヒ
ドロ−7−チアプロスタグランジンE1メチルエ
ステル(177mg、0.46mmol、92%)を得た。
−ブチルジメチルシリル)−4,5−デヒドロ−
7−チアプロスタグランジンE1メチルエステル
(306mg,0.5mmol)を実施例2と全く同様にして
脱保護、後処理、精製して(4Z)−4,5−デヒ
ドロ−7−チアプロスタグランジンE1メチルエ
ステル(177mg、0.46mmol、92%)を得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3,δ(ppm));
0.88(3H,m),1.0−1.8(8H,m),2.2〜3.6
(12H,m),3.63(3H,s),3.8〜4.4(2H,
m),5.2〜5.8(4H,m)。
(12H,m),3.63(3H,s),3.8〜4.4(2H,
m),5.2〜5.8(4H,m)。
赤外吸収スペクトル(液膜,cm-1;
3400,1740,1260,845,730。
質量分析(FD−MS);384(M+)。
実施例 11
実施例2で得られた4,4,5,5−デヒド
ロスタグランジンE1メチルエステル(191mg、
0.5mmol)をアセトン(2ml)に溶かし、PH8
のリン酸緩衝液(20ml)を加えた後、豚肝臓エ
ストラーゼ(シグマ社製、No.E−3128、PH8,
0.2ml)を加えて室温24時間撹拌した。反応終
了後、0.1N塩酸でPH4に酸性化し、水層を硫
酸アンモニウムで飽和した後に酢酸エチルで抽
出し、食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネ
シウム上で乾燥後減圧濃縮して粗生成物を得、
これをシリカゲルカラムクロマトグラフイー
(ヘキサン:酢酸エチル=1:4,0.1%酢酸)
に供して精製し、4,4,5,5−デヒドロ−
7−チアプロスタグランジンE1(162mg、
0.44mmol、88%)を得た。
ロスタグランジンE1メチルエステル(191mg、
0.5mmol)をアセトン(2ml)に溶かし、PH8
のリン酸緩衝液(20ml)を加えた後、豚肝臓エ
ストラーゼ(シグマ社製、No.E−3128、PH8,
0.2ml)を加えて室温24時間撹拌した。反応終
了後、0.1N塩酸でPH4に酸性化し、水層を硫
酸アンモニウムで飽和した後に酢酸エチルで抽
出し、食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネ
シウム上で乾燥後減圧濃縮して粗生成物を得、
これをシリカゲルカラムクロマトグラフイー
(ヘキサン:酢酸エチル=1:4,0.1%酢酸)
に供して精製し、4,4,5,5−デヒドロ−
7−チアプロスタグランジンE1(162mg、
0.44mmol、88%)を得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3,δ(ppm));
0.7〜1.0(3H,m),1.0〜1.8(8H,m),2.3〜
3.5(10H,m),3.8〜4.4(2H,m)5.6〜5.8
(2H,m),6.30(3H,bs)。
3.5(10H,m),3.8〜4.4(2H,m)5.6〜5.8
(2H,m),6.30(3H,bs)。
赤外吸収スペクトル(液膜,cm-1);
3400,1740,1710。
質量分析(FD−MS);368(M+)。
実施例 12
実施例10で得られた(4Z)−4,5−デヒドロ
−7−チアプロスタグランジンE1メチルエステ
ルを実施例11と全く同様の加水分解方法により対
応する(4Z)−4,5−デヒドロ−7−チアプロ
スタグランジンE1を収率87%で得た。
−7−チアプロスタグランジンE1メチルエステ
ルを実施例11と全く同様の加水分解方法により対
応する(4Z)−4,5−デヒドロ−7−チアプロ
スタグランジンE1を収率87%で得た。
核磁気共鳴吸収(CDCl3,δ(ppm));
0.88(3H,m)、1.0〜1.8(8H,m)、2.2〜3.6
(10H,m)、3.8〜4.4(2H,m)、5.2〜5.8(4H,
m)、6.50(3H,bs)。
(10H,m)、3.8〜4.4(2H,m)、5.2〜5.8(4H,
m)、6.50(3H,bs)。
赤外吸収スペクトル(液膜,cm-1);
3400,1740,1710。
質量分析(FD−MS);370(M+)。
実施例 13
実施例3で得られた11,15−ビス(t−ブチル
ジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ−
17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラン
ジンE1メチルエステル(128mg、0.20mmol)を酢
酸エチル(3ml)に溶かし50mgの10%パラジウム
−活性炭を加えて室温24時間撹拌した。触媒を口
別し、酢酸エチルで洗浄後濃縮して粗生成物を
得、このものをそのまま実施例2と同様の脱シリ
ル化反応を実施して標品に一致する17(R),20−
ジメチル−7−チアプロスタグランジンE1メチ
ルエステルを収率62%で得られた。
ジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ−
17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラン
ジンE1メチルエステル(128mg、0.20mmol)を酢
酸エチル(3ml)に溶かし50mgの10%パラジウム
−活性炭を加えて室温24時間撹拌した。触媒を口
別し、酢酸エチルで洗浄後濃縮して粗生成物を
得、このものをそのまま実施例2と同様の脱シリ
ル化反応を実施して標品に一致する17(R),20−
ジメチル−7−チアプロスタグランジンE1メチ
ルエステルを収率62%で得られた。
実施例 14
実施例13において10%パラジウム−活性炭の代
わりにクロロトリス(トリフエニルホスフイン)
ロジウム()を用いて実施し、標品に一致する
17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラン
ジンE1メチルエステルを得た。
わりにクロロトリス(トリフエニルホスフイン)
ロジウム()を用いて実施し、標品に一致する
17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラン
ジンE1メチルエステルを得た。
実施例 15
実施例13と同様にして11,15−ビス(t−ブチ
ルジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ
−17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラ
ンジンE1メチルエステルを出発原料として10%
パラジウム−活性炭を水添触媒に用いて重水素で
接触還元した。同様に脱保護して標品と一致する
17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラン
ジンE1−4,4,5,5−d4メチルエステルを得
た。
ルジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ
−17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラ
ンジンE1メチルエステルを出発原料として10%
パラジウム−活性炭を水添触媒に用いて重水素で
接触還元した。同様に脱保護して標品と一致する
17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラン
ジンE1−4,4,5,5−d4メチルエステルを得
た。
実施例 16
実施例13と同様にして11,15−ビス(t−ブチ
ルジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ
−17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラ
ンジンE1メチルエステルを出発原料として10%
パラジウム−活性炭を水添触媒に用いてトリチウ
ムで接触還元した。同様に脱保護して標品と一致
する17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグ
ランジンE1−4,4,5,5−t4メチルエステル
を得た。
ルジメチルシリル)−4,4,5,5−デヒドロ
−17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグラ
ンジンE1メチルエステルを出発原料として10%
パラジウム−活性炭を水添触媒に用いてトリチウ
ムで接触還元した。同様に脱保護して標品と一致
する17(R),20−ジメチル−7−チアプロスタグ
ランジンE1−4,4,5,5−t4メチルエステル
を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記式[] [式中、R1は水素原子、C1〜C10アルキル基、
または一当量のカチオンを表わし、R2,R3は同
一もしくは異なり、水素原子またはトリ(C1〜
C7)炭化水素シリル基を表わし、R4は水素原子、
メチル基、またはビニル基を表わし、R5は直鎖
もしくは分枝鎖C3〜C8アルキル基、フエニル基、
もしくはC3〜C10シクロアルキル基;またはC1〜
C6アルコキシ基、フエニル基、もしくはC3〜C10
シクロアルキル基で置換されている直鎖もしくは
分枝鎖C1〜C5アルキル基を表わし、Xはエチニ
レン基、シス−ビニレン基、またはトランス−ビ
ニレン基を表わし、nは0または1を表わす。] で表わされる化合物である7−チアプロスタグラ
ンジンE1類。 2 nが0である特許請求の範囲第1項記載の7
−チアプロスタグランジンE1類。 3 nが1である特許請求の範囲第1項記載の7
−チアプロスタグランジンE1類。 4 Xがエチニレン基である特許請求の範囲第1
項〜第3項のいずれか1項記載の7−チアプロス
タグランジンE1類。 5 Xがシス−ビニレン基である特許請求の範囲
第1項〜第3項のいずれか1項記載の7−チアプ
ロスタグランジンE1類。 6 R2とR3は同一もしくは異なり水素原子、ト
リ(C1〜C4)アルキルシリル基、ジフエニル
(C1〜C4)アルキルシリル基である特許請求の範
囲第1項〜第5項のいずれか1項記載の7−チア
プロスタグランジンE1類。 7 R4が水素原子である特許請求の範囲第1項
〜第6項のいずれか1項記載の7−チアプロスタ
グランジンE1類。 8 R4がメチル基である特許請求の範囲第1項
〜第6項のいずれか1項記載の7−チアプロスタ
グランジンE1類。 9 R4がビニル基である特許請求の範囲第1項
〜第6項のいずれか1項記載の7−チアプロスタ
グランジンE1類。 10 R5がブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
1−メチル−1−ブチル基、2−メチル−1−ブ
チル基、2−ヘキシル基、2−メチルヘキシル
基、2−エトキシエチル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シ
クロヘキシルメチル基、またはフエニル基である
特許請求の範囲第1項〜第9項のいずれか1項記
載の7−チアプロスタグランジンE1類。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15203584A JPS6130570A (ja) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | 7―チアプロスタグランジンe↓1類 |
DE8585901090T DE3569728D1 (en) | 1984-03-05 | 1985-03-05 | 7-thiaprostaglandin e 1?'s and process for their preparation |
EP85901090A EP0173754B1 (en) | 1984-03-05 | 1985-03-05 | 7-thiaprostaglandin e 1?'s and process for their preparation |
KR1019850700288A KR920004190B1 (ko) | 1984-03-05 | 1985-03-05 | 7-티아프로스타글란딘 e₁의 제조방법 |
AU39987/85A AU568928B2 (en) | 1984-03-05 | 1985-03-05 | 7-thiaprostaglandins e1 and process for producing same |
PCT/JP1985/000110 WO1985003936A1 (en) | 1984-03-05 | 1985-03-05 | 7-thiaprostaglandin e1's and process for their preparation |
US07/526,682 US5159102A (en) | 1984-03-05 | 1990-05-22 | 7-thiaprostaglandins E, and process for producing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15203584A JPS6130570A (ja) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | 7―チアプロスタグランジンe↓1類 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6130570A JPS6130570A (ja) | 1986-02-12 |
JPH0430952B2 true JPH0430952B2 (ja) | 1992-05-25 |
Family
ID=15531628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15203584A Granted JPS6130570A (ja) | 1984-03-05 | 1984-07-24 | 7―チアプロスタグランジンe↓1類 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6130570A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2851927B2 (ja) * | 1990-06-26 | 1999-01-27 | 株式会社トーメー | 光学系の屈折力測定装置 |
-
1984
- 1984-07-24 JP JP15203584A patent/JPS6130570A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6130570A (ja) | 1986-02-12 |
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