JPS5930227A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘツドの製造方法

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JPS5930227A
JPS5930227A JP57139415A JP13941582A JPS5930227A JP S5930227 A JPS5930227 A JP S5930227A JP 57139415 A JP57139415 A JP 57139415A JP 13941582 A JP13941582 A JP 13941582A JP S5930227 A JPS5930227 A JP S5930227A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点 近年高保磁力のメタルテープの出現により、高磁束密度
の磁心材料を用いるメタル系磁気ヘッドの開発が盛んに
進められている。これらメタル系磁気ヘッド材料にはセ
ンダストや非晶質合金があげられる。しかしながら、従
来よりフェライトヘッドを作製するのに使用されている
磁気ギャップ作製法を、これらメタル系ヘッド材料を用
いた磁気ヘッド作製に用いるのは困難であった。すなわ
ち、従来の方法は磁気ギャップ部にガラスを用い、これ
をフェライトではさんで高温度下で軟化させ接合すると
いうものであるが、このときガラスの一部分がわずかに
フェライト中に拡散し、ギャップ接着強度を上昇させる
他、ガラスの熱膨張係数がフェライトのそれに近いもの
が選べるという利点があるためである。しかしながら、
センダストや非晶質合金のガラスによる接着強度はきわ
めて弱いほか、センダストの場合には熱膨張係数αが（
Ｚ＝１７０Ｘ１０　　ときわめて大きく、それに比べて
ガラスのそれがα＝５０Ｘ１０　〜１２０Ｘ１０−７と
小さいため、熱膨張係数があわせられないという問題が
ある。上述のメタル材料をガラスによって接着すること
が困難な原因としては、フェライトの場合と異なり、ガ
ラスがメタル内へ拡散しにくいということが考えられて
いる。非晶質合金の場゛合には、結晶化温度が６００℃
付近にあり、接着もこの温度以下で行なわないと合金の
磁気特性がそこなわれるといった問題点があり、センダ
ストの場合よりもガラスを軟化させ、合金内に拡散させ
て、接着強度を上げるのは困難なことである。
また、樹脂によりメタル材を接着することは比較的低い
温度でも可能であるが、磁気ギャップ部のように±ｏ１
／１ｍ以上の精度を必要とする接着には、樹脂自体が膨
張、収縮することから、その使用は好ましくない。
発明の目的 本発明は、上述のようなメタル系磁気ヘッドにおける磁
気ギャップ作製上の問題点を解決し、きわめて精度よく
磁気ギャップを形成することのできる方法を提供するこ
とを目的とする。
発明の構成 本発明は、磁気ギャップ部をスパッター法で形成し、補
助的にガラス接着または樹脂接着を用いることによって
、精度のよい磁気ギャップを備えた磁気ヘッドを容易に
作製できる。
実施例の説明 以下、本発明の実施例について詳述する。
実施例１ 第１図に示したような厚さ３００μｍで熱膨張係数αが
１０４×１０−７の耐摩耗性の良好な高融点ガラス基板
１を中央２で切断し、切断した一方のガラス基板３の表
面上に第２図に示したようにスパッター法により厚さ２
０μｍの零磁歪非晶質合金Ｃ０８８Ｎｂ８Ｚｒ４よりな
る磁性層４を形成した。さらに、この端面５を鏡面仕上
げした後、第３図に示すようにスパッター法によりＳ　
１０２層６を０３；１ｍ付着させた。次に、このように
して得られた複合体と、前述の切断しておいたもう一方
のガラス基板７とを、第４図に示したように、ガラス基
板３．７の底面を一致させて、４５０℃接着を行なった
。このとき、第４図においてアーチ形破線で示した部分
８を削り取り、この部分に上記の低融点ガラスを入れて
接着すると、より効果的である。また、基板３．了を構
成する高融点ガラスを低融点ガラスで接着するのは、拡
散が起こりやすいので比較的簡単である。このようにし
て得られた表面に約２０μｍの段差を有する複合基板９
の表面に、第６図に示したように、さらにスパッター法
により、同じ非晶質合金Ｃ０８８Ｎｂ８Ｚｒ４よりなる
磁性層１ｏを２０μｍ形成した。得られたものは第６図
に示したように磁性層１ｏが連続して磁気的にショート
された形状になっているので、このまま平板状に研摩す
るか、もしくは、第６図に示したように樹脂または低融
点ガラス１１によりモールドした後平板状に研摩して、
第７図に示すようなギャップを有するコア１１が得られ
た。そして、これを第８図に示すように巻線１２をあら
かじめ施しであるサイドコア１３に非晶質磁性層４．１
ｏが接着面となるように接着すれば、磁気ヘッドの主要
部分が得られる。以下、これまでに実施されている手順
で磁気ヘッドに加工する。なお、１４はサイドコア１３
の高融点ガラス部である。なお、第８図のようにサイド
コアを用いずに単に同じガラス板で非晶質磁性層をはさ
み、これに透孔を設けて巻線を施し、磁気ヘッド化して
もよい。
実施例２ ギャップ材として非磁性非晶質合金 Ｆｅ８ｏＺｒ１ＯＮｂ１ｏをＳｉＯ２に代えてスパッタ
ーし、実施例１と同様の方法で磁気ギャップを形成した
。
他の手順についても実施例１と同じとした。
実施例３ 第９図に示すように、中央部分２１がフォルステライト
よりな９、両側の部分２２がフェライトよりなる厚さ３
００μｍの複合基板２３を中央部分２４で切断し、一方
の基板の端面上に非晶質合金ＣＯｓ　ｌＭｏ３Ｃｒ　７
Ｚ　ｒ　９からなる磁性層をスパッター法により厚さ２
０μｍ″！、で付け、以下実施例１と同じ手順で第１０
図に示す形状の素体を作製した。
図において、２６はＳ　１０２層、２６．２７は前記非
晶質合金からなる磁性層、２８はガラス層である。次に
、ガラス層２８側を曲面状に研摩して、第１１図に示す
ような磁気ギャップを有するフロントコア２９を得た。
このフロントコア２９を、図に示したように、フェライ
トよりなり、巻線３゜を有するバックコア３１と接着す
ることにより、磁気ヘッドが作製される。
実施例４ 実施例３において中央部分がフォルステライトに代えて
熱膨張係数α＝１２０Ｘ１０　　の高融点ガラスであり
、両側の部分がフェライトに代えてパーマロイである厚
さ３００μｍの複合基板を使用し、以下実施例１と同じ
手順で非晶質合金Ｆｅ２Ｃ０８３Ｎｂ１．ヲスパソタし
てフロントコアを作製して、第１１図に示すようなバッ
クコアと接着一体化した。
実施例５ 実施例１において熱膨張係数α＝１０４Ｘ１０−７に代
えてα＝１２０Ｘ１０　　の高融点ガラス基板を中央部
分より切断し、一方の基板上にセンダスト合金を厚さ１
０μｍまで付着させた後、以下実施例１と同様にして第
１１図に示す形状の磁気ヘッドを作製した。
以上実施例１〜５で示した本発明方法により作成シたメ
タル系ビデオテープレコーダ用磁気ヘッドと、従来方法
により作製されたメタル系ビデオテープレコーダ用磁気
ヘッドとの寿命試験を行なった。ただし、従来法とはセ
ンダストコア材のギャップ部にガラスを用い、これを高
温で溶かし、コア材同士を突合わして接合する方法であ
る。また、非晶質合金単体では現在のところ、リボン形
状のものしか得られないので、上述のような工程は実施
困難であるため、厚さ２０μｍの零磁歪非晶質リボンＣ
０８１Ｍｏ３ＣｒＣ０８ｌを板厚３ｏＯμｍのガラス板
ではさんで接着し、厚さ約６２０μｍの板厚とした後、
中央で切断して以下一般に実施されている方法で磁気ギ
ャップを作製した。
寿命試験方法としては温度３０℃、相対湿度９０チの雰
囲気中に７日間各磁気ヘッドを放置した後、室温におい
て市販のＶＴＲデツキを用いて８時間走行試験を行ない
、このサイクルを４回繰り返してから、各磁気ヘッドの
ギャップの状態を観察した。結果を下表に示す。
（以下余白） 上表の結果から明らかなように、実施例１〜６による磁
気ヘッドでは、比較例に比べて、その磁気ギヤノブの寸
法精度がよい。そして、上記寿命試験によっても、その
磁気ギャップ長の実質的な変化が認められなかったのに
対して、比較例のそれは大ｄ〕に変化していた。
発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明の方法によれば
、寸法精度よく磁気ギャップを形成できるだけでなく、
磁気ギャップ長の変化が磁気ヘッドの寿命中、従来の磁
気ヘッドのそれに比べてきわめて小さいという利点が得
られる。
【図面の簡単な説明】
第１図から第８図までは本発明にかかる磁気ヘッドの製
造方法の一実施例の工程を示す斜視図、第９図から第１
１図までは同じく他の実施例の工程を示す斜視図である
。 １．３・・・・０ガラス基板、４・・・・φ・磁性層、
５・・・・・・端面、６・・・・・・Ｓ　１０２層（磁
気ギャップ層）、７・・・・・・ガラス基板、９・・・
・・・複合基板、１０・・・・−・磁性層、１１・・・
・・・樹脂または低融点ガラス、１２６１６６６８巻線
、１３　＠１１１１１１１１１１サイドコア、２１・・
−…フォルステライトよりなる中央部分、２２・・・・
・・フェライトよりなる両側部分、２３・・・・・・複
合基板、２５・・・・・・Ｓｉ２０層（磁気ギャップ層
）、２６．２７・・・・・・非晶質合金よりなる磁性層
、２Ｂ・・０・・ガラス層、２９＠−・・・・フロント
コア、３０−・・・・−ｔＨＬ３１　　・０・・・バッ
クコア０代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか
１名第１図 ７図 心９図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 （１）第１の基板の表面にスパッター法もしくは蒸着法
    により磁性層を形成した後、前記第１基板と前記磁性層
    よりなる複合体の側面に非磁性体よりなる磁気ギツプ層
    をスパッター法により所定の厚さに形成してから、前記
    第１の基板とほぼ同じ厚さの第２の基板を、前記磁気ギ
    ャップ層を介して前記第１の基板に対向させて前記複合
    体に一体化し、得られた複合基板の前記磁性層形成面側
    にスパッター法もしくは蒸着法によりの磁性層を所定の
    厚さに形成した後、前記磁性層を研摩して前記ギャップ
    層を前記磁性層間に露出させることを特徴とする磁気ヘ
    ッドの製造方法。 （２）磁性層が非晶質磁性合金よりなることを特徴とす
    る特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法。 （３）磁気ギャップ層がＳｉＯ２よりなることを特徴と
    する特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法
    。 （４）第１．第２の基板がガラスもしくは非磁性のセラ
    ミックよシなることを特徴とする特許請求の範囲第１項
    記載の磁気ヘッドの製造方法。 （６）少なくとも第１の基板がフェライト部と非磁性セ
    ラミックもしくはガラスよりなる非磁性体部とで構成さ
    れ、磁気ギャップ層が前記非磁性体部であって前記第１
    の基板の端面上に形成されていることを特徴とする特許
    請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製造方法。
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