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用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備
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KR102638425B1
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 표면 내에 형성된 오목부를 충진하기 위한 방법 및 장치
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荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
用於3d nand應用中之插塞填充沉積之設備及方法
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ドアオープナーおよびドアオープナーが提供される基材処理装置
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
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2020-11-18 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
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KR20200130118A
(ko)
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2019-05-07 |
2020-11-18 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
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(ko)
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2020-11-19 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー |
ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
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KR20200141002A
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법
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KR20200141931A
(ko)
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
석영 에피택셜 챔버를 세정하는 방법
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KR20200143254A
(ko)
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2019-06-11 |
2020-12-23 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
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(en)
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2019-06-14 |
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KR20210005515A
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
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同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
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2019-07-17 |
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토폴로지-제어된 비정질 탄소 중합체 막을 형성하는 방법
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用于化学源容器的液位传感器
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
냉각 장치를 포함한 히터 어셈블리 및 이를 사용하는 방법
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成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
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KR20210024423A
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
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비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
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通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
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基板處理裝置
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포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체
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氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法
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막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
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(ko)
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 표면 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
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(en)
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(ko)
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2019-11-05 |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
|
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US11501968B2
(en)
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2019-11-15 |
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Asm Ip Holding B.V. |
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KR20210062561A
(ko)
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2019-11-20 |
2021-05-31 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
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CN112951697B
(zh)
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2019-11-26 |
2025-07-29 |
Asmip私人控股有限公司 |
基板处理设备
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KR20210065848A
(ko)
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2019-11-26 |
2021-06-04 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법
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KR20210132600A
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바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
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JP2021172884A
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TW202208671A
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JP2021172585A
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KR20210132605A
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냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리
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KR102783898B1
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KR20210134869A
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Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
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TW202147543A
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KR20210137395A
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불소계 라디칼을 이용하여 반응 챔버의 인시츄 식각을 수행하기 위한 장치 및 방법
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KR102788543B1
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TW202146699A
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TW202147383A
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KR20210145079A
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TWI873343B
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TW202212650A
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TWI876048B
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KR20210156219A
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TW202218133A
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TWI873359B
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KR102707957B1
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TWI864307B
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TWI878570B
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KR20220011092A
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KR20220050048A
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TW202223136A
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過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
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USD990441S1
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