JPH1135552A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH1135552A5
JPH1135552A5 JP1997198955A JP19895597A JPH1135552A5 JP H1135552 A5 JPH1135552 A5 JP H1135552A5 JP 1997198955 A JP1997198955 A JP 1997198955A JP 19895597 A JP19895597 A JP 19895597A JP H1135552 A5 JPH1135552 A5 JP H1135552A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist composition
positive resist
bis
found
diazomethane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1997198955A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP3865473B2 (ja
JPH1135552A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP19895597A priority Critical patent/JP3865473B2/ja
Priority claimed from JP19895597A external-priority patent/JP3865473B2/ja
Priority to US09/119,640 priority patent/US5945517A/en
Publication of JPH1135552A publication Critical patent/JPH1135552A/ja
Publication of JPH1135552A5 publication Critical patent/JPH1135552A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3865473B2 publication Critical patent/JP3865473B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP19895597A 1996-07-24 1997-07-24 新規なジアゾメタン化合物 Expired - Fee Related JP3865473B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19895597A JP3865473B2 (ja) 1997-07-24 1997-07-24 新規なジアゾメタン化合物
US09/119,640 US5945517A (en) 1996-07-24 1998-07-21 Chemical-sensitization photoresist composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19895597A JP3865473B2 (ja) 1997-07-24 1997-07-24 新規なジアゾメタン化合物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPH1135552A JPH1135552A (ja) 1999-02-09
JPH1135552A5 true JPH1135552A5 (enExample) 2004-10-21
JP3865473B2 JP3865473B2 (ja) 2007-01-10

Family

ID=16399727

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19895597A Expired - Fee Related JP3865473B2 (ja) 1996-07-24 1997-07-24 新規なジアゾメタン化合物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3865473B2 (enExample)

Families Citing this family (160)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6783912B2 (en) * 2000-02-27 2004-08-31 Shipley Company, L.L.C. Photoacid generators and photoresists comprising same
JP4359467B2 (ja) 2003-08-28 2009-11-04 信越化学工業株式会社 新規スルホニルジアゾメタン化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法。
JP4732046B2 (ja) 2005-07-20 2011-07-27 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4762630B2 (ja) 2005-08-03 2011-08-31 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4536622B2 (ja) 2005-08-23 2010-09-01 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4979915B2 (ja) 2005-09-09 2012-07-18 東京応化工業株式会社 高分子化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
KR100990353B1 (ko) 2005-09-20 2010-10-29 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 화합물 및 그 제조 방법, 포지티브형 레지스트 조성물 및레지스트 패턴 형성 방법
JP4828204B2 (ja) 2005-10-21 2011-11-30 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物
JP2007133208A (ja) 2005-11-11 2007-05-31 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4717640B2 (ja) 2005-12-12 2011-07-06 東京応化工業株式会社 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5031310B2 (ja) 2006-01-13 2012-09-19 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4937587B2 (ja) 2006-01-17 2012-05-23 東京応化工業株式会社 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP2007199412A (ja) 2006-01-26 2007-08-09 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4937594B2 (ja) 2006-02-02 2012-05-23 東京応化工業株式会社 厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法
JP4912733B2 (ja) 2006-02-17 2012-04-11 東京応化工業株式会社 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4969916B2 (ja) 2006-05-25 2012-07-04 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4808574B2 (ja) 2006-05-25 2011-11-02 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および樹脂
JP5031277B2 (ja) 2006-06-20 2012-09-19 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4717732B2 (ja) 2006-06-22 2011-07-06 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP4574595B2 (ja) 2006-06-23 2010-11-04 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
US7914968B2 (en) 2006-07-24 2011-03-29 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Positive resist composition and method of forming resist pattern
JP4890166B2 (ja) 2006-09-11 2012-03-07 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5000250B2 (ja) 2006-09-29 2012-08-15 東京応化工業株式会社 パターン形成方法
JP4757766B2 (ja) 2006-10-13 2011-08-24 東京応化工業株式会社 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
KR101194105B1 (ko) 2006-10-18 2012-10-24 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 액침노광용 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법
JP2008102429A (ja) 2006-10-20 2008-05-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジストパターン形成方法およびネガ型レジスト組成物
JP5165227B2 (ja) 2006-10-31 2013-03-21 東京応化工業株式会社 化合物および高分子化合物
KR101401755B1 (ko) 2006-10-31 2014-05-30 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 포지티브형 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법
JP5314882B2 (ja) 2007-02-15 2013-10-16 東京応化工業株式会社 高分子化合物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5238216B2 (ja) 2007-04-17 2013-07-17 東京応化工業株式会社 化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5002323B2 (ja) 2007-04-27 2012-08-15 東京応化工業株式会社 含フッ素高分子化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
JP4866790B2 (ja) 2007-05-23 2012-02-01 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
US7776510B2 (en) 2007-06-13 2010-08-17 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition, method of forming resist pattern, compound and acid generator
JP5349765B2 (ja) 2007-06-13 2013-11-20 東京応化工業株式会社 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
US7745097B2 (en) 2007-07-18 2010-06-29 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Compound, manufacturing method thereof, acid generator, resist composition and method of forming resist pattern
JP4925954B2 (ja) 2007-07-20 2012-05-09 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
KR101004984B1 (ko) 2007-08-03 2011-01-04 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 불소 함유 화합물, 액침 노광용 레지스트 조성물 및레지스트 패턴 형성 방법
US7604920B2 (en) 2007-08-07 2009-10-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Positive resist composition, method of forming resist pattern, polymeric compound, and compound
JP5250226B2 (ja) 2007-09-04 2013-07-31 東京応化工業株式会社 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
JP5285884B2 (ja) 2007-09-07 2013-09-11 東京応化工業株式会社 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
KR100960252B1 (ko) 2007-09-12 2010-06-01 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 신규 화합물 및 그 제조 방법, 그리고 산발생제
US7713679B2 (en) 2007-10-22 2010-05-11 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
JP5130019B2 (ja) 2007-10-30 2013-01-30 東京応化工業株式会社 ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
TWI391781B (zh) 2007-11-19 2013-04-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光阻組成物，光阻圖型之形成方法，新穎化合物及酸產生劑
JP5210612B2 (ja) 2007-12-05 2013-06-12 東京応化工業株式会社 新規な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
US9034556B2 (en) 2007-12-21 2015-05-19 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Compound and method of producing the same, acid generator, resist composition and method of forming resist pattern
US7968276B2 (en) 2008-01-15 2011-06-28 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Positive resist composition and method of forming resist pattern
JP5178220B2 (ja) 2008-01-31 2013-04-10 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5398248B2 (ja) 2008-02-06 2014-01-29 東京応化工業株式会社 液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
JP5399639B2 (ja) 2008-02-18 2014-01-29 東京応化工業株式会社 レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法
TWI403846B (zh) 2008-02-22 2013-08-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 正型光阻組成物，光阻圖型之形成方法及高分子化合物
JP5489417B2 (ja) 2008-04-23 2014-05-14 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5173557B2 (ja) 2008-04-24 2013-04-03 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物
JP5358211B2 (ja) 2008-04-25 2013-12-04 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5412125B2 (ja) 2008-05-01 2014-02-12 東京応化工業株式会社 液浸露光用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5250309B2 (ja) 2008-05-28 2013-07-31 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5401126B2 (ja) 2008-06-11 2014-01-29 東京応化工業株式会社 液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
JP5584894B2 (ja) 2008-06-11 2014-09-10 ダイトーケミックス株式会社 含フッ素化合物および高分子化合物
JP5049935B2 (ja) 2008-06-20 2012-10-17 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5172494B2 (ja) 2008-06-23 2013-03-27 東京応化工業株式会社 液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物
JP5172505B2 (ja) 2008-07-07 2013-03-27 東京応化工業株式会社 ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
JP5364444B2 (ja) 2008-07-15 2013-12-11 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤
JP5173642B2 (ja) 2008-07-18 2013-04-03 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5268588B2 (ja) 2008-07-18 2013-08-21 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤
JP5449909B2 (ja) 2008-08-04 2014-03-19 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP2010040849A (ja) 2008-08-06 2010-02-18 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジストパターン形成方法
JP5469954B2 (ja) 2008-08-22 2014-04-16 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
JP5548406B2 (ja) 2008-08-22 2014-07-16 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
JP5663153B2 (ja) 2008-08-27 2015-02-04 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
US8367296B2 (en) 2008-09-29 2013-02-05 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Positive resist composition, method of forming resist pattern, and polymeric compound
JP5559501B2 (ja) 2008-09-30 2014-07-23 東京応化工業株式会社 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5264393B2 (ja) 2008-10-01 2013-08-14 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法
JP5401086B2 (ja) 2008-10-07 2014-01-29 東京応化工業株式会社 液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法および含フッ素樹脂
JP5337576B2 (ja) 2008-10-07 2013-11-06 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5542413B2 (ja) 2008-11-12 2014-07-09 東京応化工業株式会社 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
US8808959B2 (en) 2008-11-13 2014-08-19 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
US8232040B2 (en) 2008-11-28 2012-07-31 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Positive resist composition and method of forming resist pattern
US8338076B2 (en) 2008-11-28 2012-12-25 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
JP5337579B2 (ja) 2008-12-04 2013-11-06 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5398246B2 (ja) 2008-12-10 2014-01-29 東京応化工業株式会社 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5232663B2 (ja) 2009-01-14 2013-07-10 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物
JP5232675B2 (ja) 2009-01-26 2013-07-10 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物
JP5238529B2 (ja) 2009-01-26 2013-07-17 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5325600B2 (ja) 2009-02-16 2013-10-23 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
JP5292133B2 (ja) 2009-03-09 2013-09-18 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5346627B2 (ja) 2009-03-10 2013-11-20 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5244657B2 (ja) 2009-03-10 2013-07-24 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
JP5264575B2 (ja) 2009-03-11 2013-08-14 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5507113B2 (ja) 2009-04-24 2014-05-28 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および化合物
JP5544212B2 (ja) 2009-04-27 2014-07-09 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤
JP5364443B2 (ja) 2009-05-20 2013-12-11 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
JP5386236B2 (ja) 2009-06-01 2014-01-15 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5452102B2 (ja) 2009-07-02 2014-03-26 東京応化工業株式会社 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5568258B2 (ja) 2009-07-03 2014-08-06 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物
JP5401218B2 (ja) 2009-09-03 2014-01-29 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5542412B2 (ja) 2009-10-28 2014-07-09 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
JP5439124B2 (ja) 2009-11-11 2014-03-12 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5449993B2 (ja) 2009-11-12 2014-03-19 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5470053B2 (ja) 2010-01-05 2014-04-16 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5597460B2 (ja) 2010-01-05 2014-10-01 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
JP5639795B2 (ja) 2010-02-18 2014-12-10 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法
JP5750272B2 (ja) 2010-02-18 2015-07-15 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法
JP5548494B2 (ja) 2010-03-19 2014-07-16 東京応化工業株式会社 表面改質材料、レジストパターン形成方法及びパターン形成方法
JP5542500B2 (ja) 2010-03-30 2014-07-09 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法およびレジスト組成物
US8932795B2 (en) 2010-05-19 2015-01-13 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
JP2011257499A (ja) 2010-06-07 2011-12-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジストパターン形成方法及びパターン微細化処理剤
JP5622448B2 (ja) 2010-06-15 2014-11-12 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物
JP5645495B2 (ja) 2010-06-17 2014-12-24 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP2012018304A (ja) 2010-07-08 2012-01-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5557657B2 (ja) 2010-09-02 2014-07-23 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤
TWI556958B (zh) 2010-09-14 2016-11-11 東京應化工業股份有限公司 基質劑及含嵌段共聚物之層的圖型形成方法
JP5564402B2 (ja) 2010-10-29 2014-07-30 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤
JP5658546B2 (ja) 2010-11-30 2015-01-28 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
JP5775783B2 (ja) 2010-12-07 2015-09-09 東京応化工業株式会社 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5802385B2 (ja) 2010-12-08 2015-10-28 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5781755B2 (ja) 2010-12-08 2015-09-24 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
JP5749480B2 (ja) 2010-12-08 2015-07-15 東京応化工業株式会社 新規化合物
JP5690584B2 (ja) 2010-12-28 2015-03-25 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP2012145868A (ja) 2011-01-14 2012-08-02 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5802394B2 (ja) 2011-01-17 2015-10-28 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物
JP5856809B2 (ja) 2011-01-26 2016-02-10 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5663338B2 (ja) 2011-02-14 2015-02-04 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法
JP5723624B2 (ja) 2011-02-14 2015-05-27 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および高分子化合物
JP5677127B2 (ja) 2011-02-18 2015-02-25 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5677135B2 (ja) 2011-02-23 2015-02-25 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物
KR101845121B1 (ko) 2011-03-08 2018-04-03 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트 패턴 형성 방법, 및 네거티브형 현상용 레지스트 조성물
JP5723648B2 (ja) 2011-03-25 2015-05-27 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5789396B2 (ja) 2011-04-05 2015-10-07 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法
JP5767845B2 (ja) 2011-04-12 2015-08-19 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物
JP5732306B2 (ja) 2011-04-20 2015-06-10 東京応化工業株式会社 化合物、高分子化合物、酸発生剤、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5873250B2 (ja) 2011-04-27 2016-03-01 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法
JP5898985B2 (ja) 2011-05-11 2016-04-06 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法
JP5758197B2 (ja) 2011-05-25 2015-08-05 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤
JP2012252077A (ja) 2011-06-01 2012-12-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物及びその製造方法
JP5830273B2 (ja) 2011-06-10 2015-12-09 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法
JP5715890B2 (ja) 2011-06-10 2015-05-13 東京応化工業株式会社 高分子化合物の製造方法
TWI550350B (zh) 2011-06-10 2016-09-21 東京應化工業股份有限公司 溶劑顯影負型光阻組成物、光阻圖型之形成方法、含有嵌段共聚物層的圖型之形成方法
US9097971B2 (en) 2011-06-17 2015-08-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Compound, radical polymerization initiator, method for producing compound, polymer, resist composition, and method for forming resist pattern
KR101911094B1 (ko) 2011-09-15 2018-10-23 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트 패턴 형성 방법
KR101936435B1 (ko) 2011-09-22 2019-01-08 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법
US9405200B2 (en) 2011-09-22 2016-08-02 Toyko Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition and method of forming resist pattern
US9057948B2 (en) 2011-10-17 2015-06-16 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition for EUV or EB, and method of forming resist pattern
JP2013097272A (ja) 2011-11-02 2013-05-20 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP5856441B2 (ja) 2011-11-09 2016-02-09 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物
JP5933364B2 (ja) 2011-11-09 2016-06-08 東京応化工業株式会社 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP6002378B2 (ja) 2011-11-24 2016-10-05 東京応化工業株式会社 高分子化合物の製造方法
JP5764480B2 (ja) 2011-11-25 2015-08-19 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物
JP5846888B2 (ja) 2011-12-14 2016-01-20 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
JP5846889B2 (ja) 2011-12-14 2016-01-20 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物
JP5820719B2 (ja) 2011-12-21 2015-11-24 東京応化工業株式会社 レジストパターン形成方法
JP5898962B2 (ja) 2012-01-11 2016-04-06 東京応化工業株式会社 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5818710B2 (ja) 2012-02-10 2015-11-18 東京応化工業株式会社 パターン形成方法
JP2013171085A (ja) 2012-02-17 2013-09-02 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP6306810B2 (ja) 2012-03-14 2018-04-04 東京応化工業株式会社 下地剤、ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法
JP6118573B2 (ja) 2012-03-14 2017-04-19 東京応化工業株式会社 下地剤、ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法
JP5919148B2 (ja) 2012-03-28 2016-05-18 東京応化工業株式会社 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物
JP6037689B2 (ja) 2012-07-10 2016-12-07 東京応化工業株式会社 アンモニウム塩化合物の製造方法、及び酸発生剤の製造方法
KR102395336B1 (ko) 2014-12-05 2022-05-06 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 하지제, 및 상 분리 구조를 포함하는 구조체의 제조 방법
JP6475963B2 (ja) 2014-12-05 2019-02-27 東京応化工業株式会社 下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法
JP7219606B2 (ja) 2018-12-21 2023-02-08 東京応化工業株式会社 半導体基板の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH1135552A5 (enExample)
JPH1135573A5 (enExample)
TW201027245A (en) Resist composition, method of forming resist pattern, compound and acid generator
HUP9903971A1 (hu) Izoflavonok alkalmazása klimax elleni gyógyszerkészítmények előállítására
EP0378255A3 (en) 2-aminopyrimidinone derivatives
KR920700201A (ko) 신규 1α-히드록시비타민D 2 에피머 및 유도체
JP2002012712A5 (enExample)
KR910009707A (ko) 피소스타그민에 관련된 아미노카보닐카바메이트, 이의 제조방법 및 이의 약제로서의 용도
DE60232763D1 (de) Bilderzeugungsmaterial und Ammoniumverbindung
JPH1180578A5 (enExample)
JP2002278053A5 (enExample)
KR930016830A (ko) 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 조성물
IE45624L (en) (pyrazol-1-yl)-phenylacetic acids.
ATE132138T1 (de) Neue arylsulfonamide, diese verbindungen enthaltende arzneimittel und verfahren zu ihrer herstellung
ATE152707T1 (de) Neue naphthalin-amide und sulfonamide, verfahren zu ihrer herstellung und sie enthaltende pharmazeutische zusammensetzungen
EP1081136A4 (en) OPTICALLY ACTIVE TETRAHYDROBENZINDOLES DERIVATIVES
EP1449833A4 (en) BISIMIDINE COMPOUND, ACID GENERATOR AND PROTECTION LACQUER COMPOSITION, WHICH INCLUDE THESE COMPOUNDS, AND METHOD FOR THE FORMATION OF PATTERNS FROM THE COMPOSITION
JP2000053601A5 (ja) 新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂組成物
JPH1138613A5 (enExample)
DE69838645D1 (de) Epitope der gp120 v1/v" domäne von hiv-1 geeignet zur herstellung neutralisierender antikörper
JP2001294524A5 (enExample)
KR910005860A (ko) 항간질환성 조성물
ATE12643T1 (de) 2-0- und 5-0-substituierte 1.4;3.6-dianhydrohexit-mononitrate, verfahren zu ihrer herstellung und pharmazeutische zubereitung.
JPH10231284A5 (enExample)
JP2001523698A5 (enExample)