JPH09512533A - 関節ポリシダルオキサジアジンの製造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 それらのキラル中心においてラセミ又は鏡像異性体的に富んでいる関節 オキサジアジン及び中間体を作るための方法であって、（ＩＩ）又は（ＩＩａ） ［式中、Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり、そしてＲ⁴は、Ｈ又はＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）である］から選ばれた中間体の反応を含んで成る前記オキサジアジンを作るための方法、並びに上で述べたものを含むある種の選ばれた中間体、及びそれらを作る方法。

Description

【発明の詳細な説明】 関節ポリシダルオキサジアジンの製造 発明の背景 本発明は、関節ポリシダル（ａｒｔｈｒｏｐｏｄｉｃｉｄａｌ）オキサジアジ ンの製造及びそのための中間体に関する。 関節ポリシダルオキサジアジンは、ＷＯ９２１１２４９及びＷＯ９３１９０４ ５中に開示されている。しかしながら、これらの化合物のための製造方法は、経 済的な商業的操作のために改善されなければならない。従って、本発明は、好ま しい関節ポリシダルオキサジアジンへの好都合なルートを提供する。 発明の要約 本発明は、キラル中心＊においてラセミ的な又は鏡像異性体的に富んでいる式 Ｉ ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、そして Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルである］ の化合物を製造するための方法であって、 （ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ Ｈ₂Ｎ−ＮＨＲ₃ ＩＩＩ の化合物と反応させて、式ＩＶ ［式中、 Ｒ³は、保護基ＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）である］ の化合物を生成させること、 （ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコキシ）メタ ンと反応させて式Ｖ の化合物を生成させること、 （ｃ）式Ｖの化合物を水素化させて式ＶＩ の化合物を生成させること、そして （ｄ）式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ の化合物と反応させて、式ＩＩの化合物と実質的に同じ絶対配置を有する式Ｉの 化合物を生成させること を含んで成る方法に関する。 本発明は、更にまた、ステップａ中の式ＩＩの化合物が所望の式Ｉの化合物と 同じ配置を有する、＊において鏡像異性体的に富んでいる、ステップａ〜ｄを含 んで成るキラル中心で鏡像異性体的に富んだ式Ｉの化合物を製造するための方法 に関する。 本発明は、更にまた、ステップａ〜ｄ及び更にまた （ｉ）ルイス酸の存在下でｐ−置換フェニルアセチルハロゲン化物をエチレン と反応させて式ＶＩＩＩ の化合物を製造するステップ、 （ii）ＶＩＩＩをペルオキシ酸と反応させて式ＩＸ の化合物を製造するステップ、 （iii）酸触媒の存在下でＩＸをＣ₁〜Ｃ₃−アルコールと反応させて式Ｘ の化合物を製造するステップ、 （iv）Ｘを塩基と反応させて式ＸＩ の化合物を製造するステップ、 並びに （ｖ）キラル塩基の存在下でＸＩをヒドロペルオキシドと反応させて鏡像異性 体的に富んだＩＩを製造するステップ を含んで成り、そしてステップｖからの鏡像異性体的に富んだＩＩはステップａ において反応させられ、そして前記式中、Ｒ¹及びＲ²は前に定義した通りである キラル中心＊において鏡像異性体的に富んだ式Ｉの化合物を製造するた めの方法に関する。 本発明は、更に個々の方法ステップａ、ｂ、ｃ及びｄに関し、そしてａ、ｂ； ａ、ｂ、ｃ；ｂ、ｃ；ｂ、ｃ、ｄ；及びｃ、ｄの多段ステップ方法に関する。 本発明は、更にまた、式ＸＩの化合物から式ＩＩの鏡像異性体を製造するため の単一方法ステップｖに、式ＩＩの化合物を製造するための５つのステップｉ〜 ｖに、ｐ−置換フェニルアセチルハロゲン化物からの式ＸＩの化合物の製造のた めの４つのステップｉ〜iv方法に、式ＩＸの化合物を製造するための２つの方法 ステップｉ〜ii方法に、式ＩＸの化合物を製造するための単一ス方法テップiiに 、そして式Ｘの化合物を製造するための２つのステップii〜iii方法に関する。 本発明は、更にまた、式ＩＩ： ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルである］ の化合物の（＋）鏡像異性体に関し、そしてこれらの化合物は実質的に純粋な（ ＋）鏡像異性体である。 本発明は、更にまた、式ＩＶ、Ｖ及びＶＩ： ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、 Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり、そして Ｒ⁴は、ＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）である］ のラセミ及び鏡像異性体的に富んだ化合物に関する。 本発明は、更にまた、式ＶＩＩ の化合物に関する。 本発明は、更にまた、式ＩＸ及びＸ ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシの群から選ばれれ、そし て Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルである］ の化合物に関する。 上の定義においては、“ハロゲン化物”という語は、フッ化物、塩化物、臭化 物又はヨウ化物を意味する。“Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキル”という語は、１、２又は３ 個の炭素原子を有する直鎖の又は分岐したアルキルを示し、そしてメチル、エチ ル、ｎ−プロピル又はイソプロピルを意味する。“Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコキシ”とい う語は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ又はイソプロポキシを意味する。 “Ｃ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシ”という語は、部分的に又は全部がフッ素原子 によって置換されたメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ又はイソプロポキシを 意味し、そして、例えば、ＣＦ₃Ｏ及びＣＦ₃ＣＨ₂Ｏを含む。“Ｃ₁〜Ｃ₃−アル コール”という語は、メチル、エチル、ｎ−プロピル又はイソプロピルアルコー ルを意味する。 式ＩＶ、Ｖ及びＶＩの好ましい化合物は、Ｒ²がメチルでありそしてＲ¹が塩素 、ＣＦ₃Ｏ及びＣＦ₃ＣＨ₂Ｏである化合物である。最も好ましいものは、フェニ ルメチル［５−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−２−（メトキシカ ルボニル）−１Ｈ−インデン−１−イリデン］ヒドラジンカルボキシレート（Ｉ Ｖａと名付ける）、４ａ−メチル２−（フェニルメチル）−７−クロロインデノ ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−２，４ａ（３Ｈ，５Ｈ）−ジカ ルボキシレート（Ｖａと名付ける）、及びメチル７−クロロ−２，５−ジヒドロ インデノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−４ａ（３Ｈ）−カルボ キシレート（ＶＩａと名付ける）である。 式ＩＩ、ＩＸ及びＸの好ましい化合物は、［式中、Ｒ²がメチルであり、そし てＲ¹が塩素、臭素、ＣＦ₃Ｏ又はＣＦ₃ＣＨ₂Ｏである］化合物 である。最も好ましいものは、（＋）メチル５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２ −ヒドロキシ−１−オキソ−２Ｈ−インデン−２−カルボキシレート（（＋）Ｈ ａと名付ける）である。 発明の詳細な説明 本発明の一つの面は、典型的には以下のように操作される４つのステップ、ａ 〜ｄを含んで成る、式Ｉの化合物を製造するための方法に関する。 ステップａ）は、ＩＩ（ＷＯ ９２１１２４９中に詳細に述べられているよう な、置換されたインダノン、例えば５−クロロ−１−インダノンから例えば製造 された）を、酸触媒例えばｐ−トルエンスルホン酸、硫酸又は酢酸の存在下で、 必要に応じて不活性溶媒例えばメタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフ ラン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン及び類似物の中で、約等モル量 のＩＩＩと反応させることによってＩＶを生成させる。典型的な反応条件は、約 ０．５〜２５時間の間の約４０〜１２０℃、好ましくは６５〜８５℃の温度を含 む。化合物ＩＶは、必要に応じて反応混合物の水による希釈の後で、標準的方法 例えば濾過によって回収することができる。その代わりに、ＩＶは、溶媒によっ て抽出し、そして単離なしで次の反応ステップにおいて直接に使用することもで きる。 ステップｂ）は、ＩＶを、ルイス酸の存在下で、必要に応じて不活性溶媒例え ばジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、α，α，α−ト リフルオロトルエン及び類似物の存在下でジ（Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコキシ）メタン例 えばジメトキシメタン又はジエトキシメタンと反応させることによってＶを生成 させる。このジ（Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコキシ）メタンはモル過剰で良い。ルイス酸は Ｐ₂Ｏ₅、ＢＦ₃及びＳＯ₃を含 み、最善の結果のためには、これらは一般的には０．９〜４．０モル当量（Ｖに 対して）を必要とし、更にまた含まれるのは、Ｖに対して約０．１〜０．５モル 当量で使用することができる金属（殊に、スカンジウム、イッテルビウム、イッ トリウム及び亜鉛）トリフルオロメタンスルホネートである。このステップのた めの最も好ましいルイス酸はＰ₂Ｏ₅及びＳＯ₃である。ＳＯ₃は、錯体例えばＤＭ Ｆ・ＳＯ₃（ＤＭＦはジメチルホルムアミドである）の形でも良い。典型的な反 応条件は、約０．５〜４８時間に関して、約２０〜１５０℃、好ましくは５０〜 ６０℃、及び約１００〜７００ｋＰａ、好ましくは１００〜３００ｋＰａの圧力 を含む。犠牲にならないルイス酸例えば希土類トリフルオロメタンスルホネート を用いる時には、反応の間に蒸留によって副生成物Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコールを連続 的に除去することが好ましい。化合物Ｖは、標準的方法例えば濾過によって回収 することができ、次の反応ステップにおいて精製なしで使用することができる。 その代わりに、ルイス酸として金属トリフルオロメタンスルホネートを用いる時 には、Ｖは、反応物体を濃縮すること、必要に応じて不活性で水不混和性溶媒例 えば酢酸エチルによって希釈すること、水で洗浄して金属トリフルオロメタンス ルホネートを除去すること、有機相を濃縮すること、並びに必要に応じて適切な 溶媒例えば水性メタノール、ヘキサン及び類似物を添加することによって有機相 からＶが結晶化するようにせしめることによって回収することができる。 ステップｃ）は、水素化金属触媒例えばパラジウム、好ましくは物質例えば炭 の上に支持されたものの存在下で、不活性溶媒例えば酢酸メチル、酢酸エチル、 トルエン、ジエトキシメタン又はＣ₁〜Ｃ₃−アルコー ルの中で、水素ソースからの水素又は好ましくは分子水素それ自体とＶとを反応 させることによってＶＩを生成させる。典型的な反応条件は、約３時間に関して 、約０〜３０℃、好ましくは約２０℃の温度、及び約１０５〜１４０ｋＰａ、好 ましくは３５ｋＰａの圧力を含む。化合物ＶＩは、標準的方法、例えば濾過する こと及び後続のバッチへのリサイクルのためにパラジウムを回収すること、有機 相を分離すること、溶媒を除去することによって有機相を濃縮すること、及び必 要に応じて水性Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコール、アセトニトリル又は脂肪族炭化水素例え ばヘキサンを添加することによってＶＩの結晶化を誘発させることによって、溶 液から回収することができる。好ましくは化合物ＶＩは、有機相中の溶液からの 単離なしで次のステップにおいて使用される。 ステップｄ）は、ＶＩを約モル当量のＶＩＩと、必要に応じて約１．０〜１． ５モル当量（ＶＩＩに関して）の酸スカベンジャー例えばトリアルキルアミン、 ピリジン又は、好ましくは水性炭酸又は重炭酸ナトリウムの存在下で、不活性溶 媒例えばトルエン、キシレン、酢酸メチル、酢酸エチル、ジクロロメタン、１， ２−ジクロロエタン、ジエトキシメタン及び類似物の中で反応させることによっ てＩを生成させる。典型的な反応条件は、約０．２〜２時間の間の約０〜３０℃ の温度を含む。化合物Ｉは、標準的方法によって、例えば反応混合物を水性酸又 は水性塩化ナトリウムで洗浄し、有機相を濃縮し、そして必要に応じてＣ₁〜Ｃ₃ −アルコール、水、アルコール−水混合物又は脂肪族炭化水素例えばヘキサンの 添加によって有機相からのＩの結晶化を誘発することによって回収することがで きる。ステップｃとｄは、Ｖの水素化の間にＶＩＩ及び必要に応じた酸スカベン ジャーを添加することによって単一の反応ポッ ト中に合わせることができる。このやり方においては、化合物ＶＩは、それが生 成させるとすぐにアシル化されてＩを与える。合わせられたステップｃ及びｄの ための典型的な溶媒は、酢酸メチル、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ジクロ ロメタン、１，２−ジクロロエタン及び類似物てである。酸スカベンジャーは、 トリアルキルアミン例えばトリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロ ピルアミン及び類似物、又は固体無機化合物例えば重炭酸ナトリウム、酸化カル シウム、ピロリン酸ナトリウム、クエン酸三ナトリウム塩及び類似物で良い。 反応ステップａ〜ｄは、キラル中心＊での配置を実質的に保留しながら進む。 好ましい実施態様においては、ステップａにおいて用いられる式ＩＩの化合物は 、鏡像異性体的に富んでいて、それによって同じ絶対配置を有する鏡像異性体的 に富んでいる式Ｉの化合物を供給する。鏡像異性体的に富んでいるということは 、化合物のバルクサンプルが（＋）か（−）のどちらかの過剰の鏡像異性体を含 み、そして１００％を含みそれまでの純粋な鏡像異性体の、鏡像異性体の１対１ （ラセミ）混合物よりも大きい何かを含むことを意味する。かくして、例えば、 ２５％（−）鏡像異性体と７５％（＋）鏡像異性体を有する富んだ化合物は、５ ０％のラセミ化合物及び５０％の純粋な（＋）鏡像異性体の混合物と見なされ、 そして５０％の鏡像異性体的に過剰な（＋）鏡像異性体を有するとされる。本発 明の殊に好ましい実施態様においては、式ＩＩの化合物は（＋）鏡像異性体に富 んでいて、これは（＋）鏡像異性体に富んだ式Ｉの化合物を導き、そして（＋） 鏡像異性体は一層関節ポリシダル活性鏡像異性体であることが見い出された。式 ＩＩの化合物の富化は好ましくは少なくとも１０％そして更に好ましくは少なく とも２０％の（＋） 鏡像異性体である。 式ＩＩの鏡像異性体的に富んだ化合物は、例えば、標準的方法に従ってラセミ 混合物の鏡像異性体を物理的に分離することによって製造することができる。し かしながら、このような方法は、大規模で操作するのが困難であり、そして望ま ない鏡像異性体を廃棄しなければならないのでしばしば不経済である。本発明の 好ましい実施態様においては、式ＩＩの鏡像異性体的に富んだ化合物を、５つの ステップ、ｉ〜ｖを含んで成る鏡像異性体選択的方法によって製造する。“鏡像 異性体選択的”ということは、キラル生成物の所望の鏡像異性体が、必ずしも排 他的ではないけれども、優先的に生成されることを意味する。 ステップｉ）は、購入することができる（例えばＳｐｅｃｔｒｕｍ Ｃｈｅｍ ｉｃａｌ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏ．から）か又は既知の手順によっ て酸から製造することができそして必要に応じてその場で生成させることができ る適切に置換されたフェニルアセチルハロゲン化物を、約１〜４モル当量、好ま しくは２モル当量のエチレンガス及び約０．９〜１．５モル当量のルイス酸例え ば塩化アルミニウムと、約３〜１０重量部の不活性溶媒例えばジクロロメタン、 ジクロロエタン、二硫化炭素、又はｏ−ジクロロベンゼンの中で反応させること によってＶＩＩＩを生成させる。典型的な反応条件は、約−２０〜＋３０℃、好 ましくは−５〜０℃の範囲の温度、約６０〜４００ｋＰａの範囲の圧力及び約０ ．５〜８時間の反応時間を含む。化合物ＶＩＩＩは、標準的方法によって単離す ることができ、又は溶媒が適切、例えばジクロロメタン又はジクロロエタンであ る時には、反応混合物はＶＩＩＩの単離なしで次のステップにおいて用いること ができる。 ステップii）は、ＶＩＩＩを、約２．５〜３．５当量のペルオキシカルボン酸 、好ましくはペルオキシ酢酸と、不活性溶媒例えば酢酸、ジクロロメタン、ｏ− ジクロロベンゼン、又は１，２−ジクロロエタンの中で反応させることによって ＩＸを生成させる。典型的な反応条件は、約１５〜５５℃、好ましくは２５〜４ ５℃の範囲の温度、及び約５〜３５時間の反応時間を含む。温度は、安全上の理 由のために低く保持する。必須ではないが、好ましくは、この反応は、０．５〜 ２．５モル当量の緩衝剤例えば酢酸ナトリウムの存在下で行われる。ＶＩＩＩの 溶液へのペルオキシカルボン酸の添加の速度は、過剰のペルオキシカルボン酸を 集積させることを回避するために制御される。生成物は、例えば、水で急冷し、 必要に応じて還元剤例えば二酸化硫黄を添加して過剰の酸化剤を除去し、そして 濾過することによって単離することができる。必要な場合には、生成物の濾過の 前にｐＨを３未満に調節することができる。 ステップiii）は、標準的方法によるＩＸのエステル化によってＸを生成させ る。好ましい実施態様においては、ＩＸを、アルコール溶媒（約２〜２０重量部 ）と、断水剤としての約１〜２０モル当量の対応するアルコールのカーボネート 誘導体及び約０．００１〜０．２モル当量の酸触媒、例えば硫酸又はｐ−トルエ ンスルホン酸の存在下で反応させる。ここで、典型的な反応条件は、７５〜１０ ５℃の範囲の温度、約１００〜５００ｋＰａの範囲の圧力及び約１０〜３０時間 の反応時間を含む。化合物Ｘを標準的方法によって単離することができる。その 代わりに、反応混合物をＸの単離なしで次のステップにおいて用いることができ る。好ましくは、Ｘはステップivの前には単離されない。 ステップiv）は、Ｘを強塩基例えばアルカリ金属アルコキシド又は水 素化物と、適切な溶媒例えば対応するアルコール、ベンゼン、トルエン又はキシ レンの中で反応させることによってＸＩを生成させる。典型的な反応条件は、約 ６０〜９０℃の温度、約１００〜５００ｋＰａの圧力及び約０．５〜１０時間の 反応時間を含む。生成物は、アルカリ金属塩として回収しそして例えば濾過によ って単離することができる。その代わりに、生成物をまず酸例えば氷酢酸又は薄 い水性鉱酸によって中和し、次に例えば濾過又は抽出によって単離することがで きる。 ステップｖ）は、ＸＩを約０．９〜１．５当量のヒドロペルオキシド例えば過 酸化水素及び過酸化水素のモノエーテルと、約０．００１〜１．５当量の光学的 に活性なアミン塩基及び必要に応じて不活性溶媒の存在下で反応させることによ って鏡像異性体的に富んだＩＩを生成させる。過酸化水素の好ましいモノエーテ ルは、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド及びそれらの 組み合わせを含む。適切な溶媒は、脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサン、芳香 族炭化水素例えばトルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン及びクメン 、ハロゲン化炭化水素例えばジクロロメタン、ジクロロエタン及びオルトジクロ ロベンゼン、ケトン例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びメ チルイソプロピルケトン、エステル例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプ ロピル、並びにエーテル例えばジエチルエーテル及びテトラヒドロフランを含む 。芳香族炭化水素溶媒が好ましい。典型的な反応条件は、約−５〜５０℃の範囲 の反応温度及び約２時間〜８日間の反応時間を含む。アミン塩基は、好ましくは 、キナノキ（ｃｉｎｃｈｏｎａ）アルカロイド又はそれらの誘導体である。好ま しくは、（＋）鏡像異性体に富んだＩＩ（（＋）ＩＩと名付ける）を製造するた めには、キナノ キアルカロイドはシンコニン、クイニジン、シンコニン又はクイニジンの対応す るジヒドロ誘導体そして上記のものの任意の組み合わせであり、これらの中でキ ラルアルカロイドは［８−（Ｒ）、９−（Ｓ）］配置を有する。（−）鏡像異性 体に富んだ式ＩＩの化合物は、［８−（Ｓ）、９−（Ｒ）］配置を有する塩基、 例えばシンコニジン、キニン及びそれらの誘導体の使用によって得られる。生成 物は、標準的方法、例えば濾過、必要に応じて引き続く触媒を除去するために十 分な量の水性酸又は無極性溶媒例えばヘキサンのどちらかによる希釈によって回 収することができる。その代わりに、生成物混合物を、極性の水不混和性溶媒例 えば酢酸エチルによって吸収し、水性酸によって洗浄して触媒を除去し、濃縮し 、そして結晶化させることができる。必要に応じて、ＩＩを、適切な溶媒、例え ば酢酸イソプロピルと共につき砕き又は再結晶させて、鏡像異性体的に富んだ混 合物から純粋な鏡像異性体を分離することができる。 好ましい実施態様においては、ステップｖにおける溶媒は、その中では式ＸＩ の化合物が式ＩＩの対応する化合物よりも実質的により大きい溶解度を有する溶 媒である。このような溶媒によれば、ＩＩは沈殿するであろうしかつ濾過によっ て回収することができ、そして何らかの溶けたＩＩ、未反応ＸＩ及び触媒を含む 濾液は、引き続くバッチに好都合にリサイクルすることができる。好ましくは、 溶媒はまた水不混和性であり、その結果引き続くバッチにおける使用に先立って 、水性塩基及び／又は水で洗浄して酸性不純物及び水可溶性副生成物の量を減ら すことができる。濾液のリサイクルは生成物ロスを最小にし、そして触媒の一層 有効な使用を与える。殊にＩＩａのような化合物の製造のためには、芳 香族炭化水素例えばキシレンは、殊にＩＩａのような化合物の製造のためには、 このやり方における使用のための特に好ましい溶媒である。 実施例１ 式Ｉの化合物を生成させるためのステップａ〜ｄの例示 ステップａ：フェニルメチル［５−クロロ−２，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ −２−（メトキシカルボニル）−１Ｈ−インデン−１−イリデン］ヒドラジンカ ルボキシレート（化合物ＩＶａ）の生成 頭上撹拌機、温度計、還流コンデンサー及び窒素入り口を備えた１Ｌの三ッ口 フラスコに、８７ｇ（０．３６３モル）のメチル５−クロロ−２，３−ジヒドロ −２−ヒドロキシ−１−オキソ−１Ｈ−インデン−２−カルボキシレート、６３ ．５ｇ（０．３８０モル）のフェニルメチルヒドラジンカルボキシレート（Ｌａ ｎｃａｓｔｅｒ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓから）、１．８ｇ（０．０１モル）のｐ− トルエンスルホン酸一水和物、及び３００ｍＬのメタノールを仕込んだ。スラリ ーを還流（６７℃）に加熱すると、オレンジ色の溶液が得られ、それから生成物 が次第に沈殿した。１４〜１６時間後に、混合物を５℃に冷却しそして濾過した 。濾過ケークを１００ｍＬの冷たいメタノールで洗浄し、そして６０℃で真空下 で窒素パージしながら２時間の間の乾燥させると、白い結晶性固体として１３５ ｇ（インデンカルボキシレートを基にして９６％）のＩＶａが得られた。アセト ニトリルからの再結晶によって分析サンプルを製造した、ｍｐ １８７〜１８８ ℃；¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ３．２３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．４ ８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．７（ｓ，３Ｈ）、４．５８（ｂｒ ｓ，１ Ｈ）、５．１９（ｂｒ ＡＢ ｑ，２Ｈ）、７．１８（ｄ，１Ｈ）、７．２５（ ｄのｄ、１Ｈ） 、７．４５（ｍ，５Ｈ）、７．７５（ｂｒ ｄ，１Ｈ）、９．５５（ｂｒ ｓ， １Ｈ）。生成物は、殆ど排他的にＺ−（ｓｙｎ−）異性体であると思われる。 ステップｂ：４ａ−メチル２−（フェニルメチル）−７−クロロインデノ［１， ２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−２，４ａ（３Ｈ，５Ｈ）−ジカルボキ シレート（化合物Ｖａ）の生成 頭上撹拌機、温度計、還流コンデンサー及び窒素入り口を備えた乾いた１Ｌの 三ッ口フラスコに、４２ｇのケイソウ土、５００ｍＬの１，２−ジクロロエタン 、及び１００ｍＬのジメトキシメタンを仕込んだ。五酸化リン（４２ｇ、０．３ １モル）を外部冷却（２０℃のバス）しながら窒素下で添加し、そしてこの混合 物を２０〜２５℃で１５分間撹拌せしめ、その後で９７ｇ（０．２５モル）のＩ Ｖａを少しずつ添加した。この混合物を５５〜６０℃で２時間加熱しそして次に 濾過した。濾過ケークを１，２−ジクロロエタンの二つの部分で洗浄し、そして 合わせた濾液を蒸留によって体積を約１５０ｍＬに減らした。３００ｍＬのメタ ノール中の約５ｇのＮａＯＡｃの添加によって、ｐＨを約１．５から約４に上げ 、そして約１５０ｍＬの溶媒の蒸留によって、残留ジクロロエタンを除去した。 次に、約３０ｍＬの水を添加し、そしてこの混合物を５℃に冷却しかつ濾過した 。濾過した生成物を１００ｍＬの冷たいメタノールで洗浄し、そしてフィルター の上で一晩吸引乾燥すると、８９ｇ（ＩＶａを基にして８９％）のＶａが得られ た。イソプロパノールからの再結晶によって分析サンプルを製造した、ｍｐ １ ２２〜１２４℃；¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ３．１６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈ ｚ）、３．４２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．６４（ｓ，３Ｈ）、５．１２ （ｄ ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．２６（ＡＢ ｑ，２Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ）、５．５ ３（ｂｒ，ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、７．２〜７．４５（ｍ，７Ｈ）、７．６ ５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ）。 ステップｃ：メチル７−クロロ−２，５−ジヒドロインデノ［１，２−ｅ］［１ ，３，４］オキサジアジン−４ａ（３Ｈ）カルボキシレート（化合物ＶＩａ）の 生成 磁気撹拌機、温度計、ｐＨプローブ、及び三方止めコックを有するガス入り口 バルブを備えた１Ｌの三ッ口フラスコに、窒素をどっと流し、そして２７．３ｇ （０．１３モル）のクエン酸一水和物、１００ｍｌの水、１０．４ｇ（０．１３ モル）の５０％の水性ＮａＯＨ、０．６ｇの炭素上のパラジウム、５００ｍＬの 酢酸メチル、及び５２．０ｇ（０．１３モル）のＶａを仕込んだ。反応容器を窒 素でパージし、そしてこの混合物を水素の流れを表面下で（ｓｕｂｓｕｒｆａｃ ｅ）通しながら、５〜１０℃で約３時間激しく撹拌した。この反応をＶａの消失 に関してＨＰＬＣによって監視した。反応が完結した（約４時間）時に、反応容 器を窒素でパージし、そして炭素上のパラジウムをケイソウ土のパッドの上に濾 過し、そして５０ｍＬの酢酸メチル及び２０ｍＬの水でリンスした。濾液を分離 し、そしてＶＩａを含む有機相を次のステップにおいて直接に使用した。別のバ ッチにおいては、ステップｃのための上の手順を繰り返し、そして約４００ｍＬ の溶媒を蒸留によって除去し、約１００ｍＬのヘキサンを添加し、そして結晶化 生成物を吸引乾燥させることによってＶＩａを単離した。ｍｐ １２４〜１２７ ℃；¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ３．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、３．４ ０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１７Ｈｚ）、３．６５（ｄ，３Ｈ）、４．４３（ｄ，１Ｈ， Ｊ＝７Ｈｚ）、４．７９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．１０（ｂｒ，ｓ，１Ｈ ）、７．２５（ｍ，２Ｈ）、７．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）。 ステップｄ：メチル７−クロロ−２，５−ジヒドロ−２［［（メトキシカルボニ ル）］４−（トリフルオロメトキシ）−フェニル］アミノ］カルボニル］インデ ノ［１，２−ｅ］［１，３，４］オキサジアジン−４ａ（３Ｈ）−カルボキシレ ート（化合物Ｉａ）の生成 ＶＩａを含むステップｃからの有機相に、水性飽和ＮａＨＣＯ₃（１４０ｇ、 約０．１５モル）、引き続いて４１ｇ（０．１４モル）のメチル（クロロカルボ ニル）［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］カルバメート（化合物ＶＩＩ ）を添加し、そしてこの混合物を１０〜１５℃で約１時間撹拌した。有機相を分 離し、乾燥し（ＭｇＳＯ₄）し、真空下で濃縮して約４００ｍＬの酢酸メチル除 去し、そして加熱温度が６４℃に到達するまで、３００ｍＬのメタノールとの蒸 留によって残留溶媒を交換した。この混合物を５℃に冷却し、そして生成物を濾 過し、７０ｍｌの冷たいメタノールで洗浄しかつ吸引乾燥すると、５８ｇのＩａ （ステップｃからのＶａを基にして、８５％総括）が得られた。ｍｐ１３９〜１ ４１℃：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ３．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３ ．４８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６Ｈｚ）、３．７０（ｓ，３Ｈ）、３．７１（ｓ，３ Ｈ）、５．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ）、５．６９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０Ｈ ｚ）、７．２〜７．４（ｍ，６Ｈ）、７．５０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ）。 実施例２ 式ＩＩの化合物を生成させるステップｉ〜ｖの例示 ステップｉ：６−クロロ−３．４−ジヒドロ−２（１Ｈ）−ナフタレン の生成（化合物ＶＩＩＩａ） フラスコに、３４ｇ（０．２０モル）の４−クロロフェニル酢酸（ＰＣＰＡ） 及び１５０ｍＬの１，２−ジクロロエタンを仕込んだ。懸濁液を撹拌し、２５ｇ （０．２１モル）の塩化チオニルを添加し、そして生成した溶液を２〜３時間の 間８０〜９０℃で加熱した。蒸留ヘッドを取り付け、そして２５ｍＬの溶媒を蒸 留して残留ＳＯ₂及びＨＣｌを除去した。酸塩化物の薄いオレンジ溶液を５℃に 冷却し、塩化アルミニウム（３０ｇ、０．２２モル）を−５〜０℃で仕込み、そ して蒸留装置を風船型フラスコと置き換えた。エチレンガス（１２ｇ、０．４３ モル）を、温度を−５〜０℃で維持しながら、少しずつ風船型フラスコに仕込ん だ。赤い溶液をカニューレによって、冷却温度を２０〜３０℃で維持するような 速度で次第に２００ｍＬの５℃の冷却水の中に移した。この混合物を２５℃で１ 時間の間撹拌した後で、ＶＩＩＩａを含む下部の有機層を分離し、そして１００ ｍＬの５％水性ＨＣｌで洗浄した。 ステップii：２−カルボキシ−５−クロロベンゼンプロパン酸（化合物ＩＸａ） の生成 前のステップからのＶＩＩＩａの溶液を、頭上撹拌機を備えたフラスコに仕込 んだ。酢酸ナトリウム（１６ｇ、０．２０モル）をポットに仕込み、そしてこの 混合物を、１１４ｇ（０．６０モル）の３２％の過酢酸を３〜４時間にわたって 一定添加漏斗から連続的に添加しながら、冷却によって２５〜３０℃で撹拌した 。混合物を２５℃で更に２０時間撹拌せしめ、そして次に３００ｍＬの０．８Ｎ のＨＣｌを添加し、そして生成したスラリーを５℃に冷却した。この混合物を濾 過し、冷たい５％水性ＮａＨＳＯ₃、水で洗浄し、吸引乾燥させ、そして５０℃ 及び減 圧で真空オーブン中で一晩乾燥させると、白い結晶性固体、ｍ．ｐ．１５６〜１ ５８℃として３５〜３６ｇ（ＰＣＰＡを基にして７６〜７８％の収率）の９９％ 純粋なＩＸａが得られた。 ステップiii：５−クロロ−２−（メトキシカルボニル）ベンゼンプロパン酸メ チル（化合物Ｘａ）の生成 熱時計及び頭上撹拌機を備えたフラスコに、４５．７ｇ（０．２００モル）の ＩＸａ、５ｍＬのメタノール、及び１００ｍＬの炭酸ジメチルを仕込んだ。硫酸 （１ｇ）を添加し、そしてこの混合物を窒素下で８５℃で２０時間撹拌した。酸 を３ｇの２５％ナトリウムメトキシド溶液によって中和し、そして全部の炭酸ジ メチル（ＤＭＣ）を反応フラスコから蒸留させた。蒸留の間にはメタノール（１ ００〜２００ｍＬ）を添加して、メタノール／ＤＭＣ共沸混合物（６２℃）を生 成させ、さもなければ９０℃で蒸留するであろうＤＭＣの除去を容易にした。こ のステップからの生成物は、単離なしで次のステップ中に持ち込んだ。 ステップiv：メチル５−クロロ−１−オキソ−２，３−ジヒドロインデン−２− カルボキシレート（化合物ＸＩａ）の生成 殆どのＤＭＣを除去した後で、前のステップからのＸａのメタノール溶液に、 追加の１５０ｍＬのメタノール、引き続いてメタノール中の４７．５ｇ（０．２ ２モル）の２５％ＮａＯＭｅを添加した。溶液を７０℃で維持し、そして効果的 な撹拌のために必要とされる最小レベルまでメタノールを蒸留した。反応が完了 した時に、混合物を周囲温度に冷却した。酢酸（３ｇ、０．０５モル）、引き続 いてｐＨを５〜６にするために十分な１ＮのＨＣｌを添加した。混合物を５℃に 冷却し、濾過し、そして粗製固体を水、次に冷たいヘキサンで洗浄すると、ｍ． ｐ．８０ 〜８２℃のベージュの固体として４０〜４２ｇ（８９〜９３％の収率）のＸＩａ が得られた。 ステップｖ：（＋）メチル５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１ −オキソ−２Ｈ−インデン−２−カルボキシレート（化合物（＋）ＩＩａ）の生 成 １０．０ｇのＸＩａ、イソーオクタン中の１７ｍＬ（５１ミリモル）の３．０ Ｍのｔ−ブチルヒドロペルオキシド、７０ｍＬの酢酸イソプロピル及び０．２ｇ のシンコニン（Ａｌｄｒｉｃｈ^(R) Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．）の混合物を室 温で６日間周囲温度で撹拌した。この混合物に、約１００ｍＬの酢酸エチル、３ ０ｍＬの希薄水性重亜硫酸ナトリウム及び２０ｍＬの２ＮのＨＣｌを添加した。 この混合物を振盪しそして分離し、そして有機抽出物を逐次水とブラインで洗浄 した。溶媒を真空下で除去し、そして粗製固体生成物をヘキサンで洗浄すると、 キラルカラムを使用するＨＰＬＣ分析によって測定されるように７２％（＋）対 ２８％（−）の鏡像異性体比を有する７．３１ｇのＩＩａ（６８％の収率）が得 られた。（＋）に富んだＩＩａを酢酸イソプロピルから再結晶させて、４〜５ｇ の純粋な（＋）ＩＩａを生成させた。ｍ．ｐ．１６３〜１６５℃；［α］_D ²⁵＋ １１５．１°（ＣＨＣｌ₃、ｃ＝１．０）；¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ３．２ １（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．６７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、３．７ ２（ｓ，３Ｈ）、４．０７（ｓ，１Ｈ）、７．３８（ｄのｄ，１Ｈ，Ｊ＝８及び １Ｈｚ）、７．４７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１Ｈｚ）、及び７．７０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝ ８Ｈｚ）。 実施例３ 鏡像異性体的に富んだＩＩａから出発しそして鏡像異性体的に富んだＩ ａを生成させるステップａ〜ｄの代わりの操作の例示 ステップａ：（＋）ＩＶａ）の生成 Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置及び窒素入り口を備えた１Ｌの一ッ口フラスコに、 ７５ｇ（０．３１２モル）の（＋）ＩＩａ（５０％鏡像異性体的に過剰）、５４ ．６ｇ（０．３５８モル）のフェニルメチルヒドラジンカルボキシレート、１． ７８ｇ（０．００９４モル）のｐ−トルエンスルホン酸一水和物（Ａｌｄｒｉｃ ｈ^(R) Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ）、及び２７５ｍＬの１，２−ジク ロロエタンを仕込んだ。スラリーを還流に加熱すると、オレンジ色の溶液が得ら れ、それから生成物が次第に沈殿した。Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋトラップ中に収集 された水相を除去した。２時間後に、混合物を室温に冷却した。この反応混合物 をステップｂにおいて直接に使用した。 ステップｂ：（＋）Ｖａの生成 頭上撹拌機、温度計、還流コンデンサー及び窒素入り口を備えた２Ｌの三ッ口 フラスコに、８８．５ｇのケイソウ土（Ｃｅｌｉｔｅ^(R)）及び３００ｍＬの１ ，２−ジクロロエタンを添加した。五酸化リン（８８．５ｇ、０．６２３モル） 、引き続いて１２０ｍＬのジメトキシメタンを添加した。ステップａからの１， ２−ジクロロエタン中の（＋）ＩＶａのスラリーを次に添加した。この混合物を ３５〜４０℃で５時間加熱し、そして次に３０℃に冷却しそして濾過した。濾過 ケークを１３５ｍＬの１，２−ジクロロエタンで洗浄し、そして合わせた濾液を 最小体積にまで蒸留した。メタノールを添加し、そして蒸留を続けた。すべての １，２−ジクロロエタンが除去されそして約５００ｍＬのメタノールがポッ ト中に留まった時に、蒸留を停止しそしてポットを４５℃に冷却した。生成物は 沈殿し始め、そして１２０ｍＬの水を添加した。冷却を２０℃まで続けた。混合 物を濾過し、そして濾過ケークを３７０ｍＬの３：１メタノール／水で洗浄した 。固体を一晩真空下で８０℃で乾燥させると、１００．５ｇ（２ステップに関し て８０．５％）の（＋）Ｖａが生成した。¹Ｈ ＮＭＲスペクトルは、実施例１ におけるＶａに関して得られたものと一致した。純度は、ＨＰＬＣによって９９ ．３％であった。 ステップｃ：化合物（＋）ＶＩａの生成 磁気撹拌機、温度計、ｐＨプローブ、及び三方止めコックを有するガス入り口 バルブを備えた５００ｍＬの三ッ口フラスコに、窒素をどっと流し、そして５０ ｍＬの０．５Ｍのリン酸二水素ナトリウム緩衝溶液（ｐＨ ３．５）及び０．２ ｇの５０％水で湿った炭素上の５％パラジウムを仕込んだ。二相懸濁液を周囲温 度で０．５時間撹拌した。分離フラスコにおいて、１０ｇ（０．０２５モル）の （＋）Ｖａを、窒素下で５０ｍＬの酢酸メチルに添加し、３５℃に加熱し、そし て溶けるまで撹拌した。（＋）Ｖａの溶液をＰｄ触媒懸濁液に添加し、そしてこ の混合物を１０℃に冷却した。反応容器を排気し、そして混合物を水素の流れを 表面下で通しながら、１０℃で激しく撹拌した。この反応を、ＴＬＣ及びＧＣに よって（＋）Ｖａの消失に関して監視した。反応が完結した（約１．５時間）時 に、反応容器を排気しそして窒素でパージし、反応混合物をケイソウ土のパッド を通して濾過し、そしてフィルターパッドを追加の２０ｍＬの酢酸メチルで洗浄 した。これらの液相を分離し、そして（＋）ＶＩａを含む酢酸メチル相をステッ プｄに直接に運んだ。 ステップｄ：（＋）Ｉａの生成 （＋）ＶＩａを含むステップｃからの酢酸メチル溶液を、３８ｍＬの水の中の ３ｇのＮａＨＣＯ₃の溶液に添加した。この混合物を窒素下で１０℃に冷却し、 そして７．４３ｇ（０．０２５モル）のＶＩＩを一度に添加した。反応物を１０ ℃で１時間撹拌した。酢酸メチル相を分離し、そして真空下で濃縮して約１００ ｍＬの溶媒を除去した。５０ｍＬのメタノールを添加し、そしてスラリーを再度 蒸発させて、残りのメタノールを酢酸メチル／メタノール共沸混合物として除去 した。最後の５０ｍＬのメタノールを添加し、そして懸濁液を還流に加熱した。 加熱を続けている時にケイソウ土（０．４ｇ）を添加し、そして次に１７ｍＬの 水を滴加した。生成したスラリーを、冷却し、濾過し、３３ｍＬの２：１メタノ ール／水で洗浄し、そして真空乾燥させると１１．１６ｇの富んだ（＋）Ｉａ（ Ｖａを基にしてステップｃ及びｄに関して７８％の総括収率）が得られた。キラ ルＨＰＬＣによる分析は、（＋）鏡像異性体の４２％の過剰を示した。 実施例４ ステップｃ及びｄの代わりの操作の例示 ステップｃ：ＶＩａの生成 磁気撹拌機、温度計、ｐＨプローブ、及び三方止めコックを有するガス入り口 バルブを備えた１Ｌの三ッ口フラスコに、窒素をどっと流し、そして５８０ｍＬ の酢酸メチル、０．１６４ｇの酢酸ナトリウム（２モル％）、及び０．８ｇの炭 素上の５％パラジウム触媒を仕込んだ。約２００ｍＬの溶媒を蒸留によって除去 し、そして生成した乾いた溶媒／触媒懸濁液を５０℃に冷却せしめ、そして４０ ．０ｇ（０．１モル）のＶａを一度に添加した。この混合物を撹拌してＶａを溶 かし、そして次に 周囲温度に冷却した。反応容器を窒素でパージし、次に混合物を、水素の流れが 表面下に入れられる時に周囲温度で激しく撹拌した。反応は、Ｖａの消失に関し て監視した。反応が完結した時に（約３．０時間）、反応容器を排気しそして窒 素でパージした。炭素上のパラジウムを、ケイソウ土のパッドの上に濾過し、そ して５０ｍＬの乾いた酢酸メチルによってリンスした。濾液をステップｄにおい て直接に使用した。 ステップｄ：Ｉａの生成 ＶＩａを含むステップｃからの酢酸メチル溶液を、１５０ｍＬの水の中の１２ ｇのＮａＨＣＯ₃の溶液と合わせた。この混合物を窒素下で１０℃に冷却し、そ して２９．７ｇ（０．１モル）の化合物ＶＩＩを０．５時間にわたって一度に添 加した。混合物を１０〜１５℃で更に約１時間撹拌した。次に、酢酸メチル相を 分離し、そして真空下で濃縮して約４００ｍＬの溶媒を除去した。メタノール（ ５０ｍＬ）を添加し、そして溶媒を真空中で再び除去した。次に７０％の水性メ タノール（１００ｇ）を添加し、そしてこの混合物をアイスバスから冷却しなが ら４５分間撹拌した。生成物を濾過し、２５ｍＬの冷たい７０％水性メタノール で洗浄し、そして真空乾燥させると、５１ｇ（８８．９％ＨＰＬＣ分析を基にし てＶａからの８６％の総括収率）、ｍｐ １３５〜１３８℃が得られた。 実施例５ ステップｖの代わりの操作の例示 ステップｖ：化合物（＋）ＩＩａ）の生成 １１．２５ｇ（５０ミリモル）のＶａ、７０ｍＬの混合キシレン、及び１．４ ｇのシンコニン（Ａｌｄｒｉｃｈ^(R) Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃ ｏ．）の懸濁液を窒素下で撹拌し、そして７．０ｇ（７０ミリモル）の９０％水 性ｔ−ブチルヒドロペルオキシド（Ａｌｄｒｉｃｈ^(R) Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃ ｏ．を添加した。生成した溶液を室温で２４時間の間撹拌せしめると、その時間 の間に生成物が結晶化し始めた。次に、反応混合物を、１００ｍＬの酢酸エチル によって希釈し、そして二つの部分の５０ｍＬの飽和水性重炭酸ナトリウム、５ ０ｍＬの１Ｎの水性塩化水素酸、及び５０ｍＬの飽和水性重亜硫酸ナトリウムに よって逐次洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムの上で乾燥させ、そして溶媒を 減圧下で除去すると、１０．６ｇの富んだ（＋）ＩＩａ（８６％純度、Ｖａを基 にして７６％収率）が得られた。キラルＨＰＬＣによる分析は、（＋）鏡像異性 体の４５％の鏡像異性体を示した。 実施例６ ステップｂの代わりの操作の例示 ステップｂ：化合物Ｖａの生成 磁気撹拌機、温度計、及び二つのガス入り口を備えた５００ｍＬの四ッ口フラ スコに、４９．９ｇ（０．１２８モル）のＩＶａ及び２５０ｍＬのジエトキシメ タンを仕込んだ。この混合物を−１０℃に冷却し、そして反応容器を排気した（ 〜２４ｃｍＨｇ）。三酸化硫黄ガスを、反応混合物の温度が−１０℃〜０℃に維 持されるような速度で冷却反応容器に入れた。添加が完了した時に、窒素を入れ て真空を解放した。この混合物を室温まで加温せしめ、４．７５時間の間撹拌し 、良好な撹拌をしながら室温で５０ｍＬの水を添加し、そして更に２時間撹拌し た。混合物を濾過し、そして濾液から有機相を分離しかつ蒸発させた。残渣を１ ２５ｍＬのメタノール中に溶かし、そして濾過からの固体と合わせた。こ のスラリーに、１２５ｍＬの水を滴加し、その後で混合物を１．５時間撹拌し、 次に濾過した。濾過ケークを室温で真空下で乾燥させると、４６．３ｇ（ＩＶａ を基にして９０％）のＶａが得られた。生成物の小部分をメタノールから再結晶 して、サンプルを供給したが、それのｍｐ及び¹Ｈ ＮＭＲスペクトルは、実施 例１ステップｂにおいて得られたＶａのものと一致した。 実施例７ メチル（クロロカルボニル）［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］ カルバメート（化合物ＶＩＩ）の製造 第一反応フラスコ中で、７０．５ｇ（０．３０モル）のメチル４−（トリフル オロメトキシ）フェニルカルバメートを、７００ｍＬのジクロロメタン中に溶か す。次に、鉱油中の１４．０ｇの６０％水素化ナトリウム（０．３５モル）を、 引き続いて６０ｍＬのｇｌｙｍｅ（エチレングリコールジメチルエーテル）を１ ５分以内に添加する。発熱反応が起こりそして反応混合物の温度は周囲の室温の ものよりも少し高く上昇する。反応混合物を外部加熱なしで一晩（約１６時間） 撹拌する。蒸留塔を備えた第二反応フラスコにおいては、１２０ｇ（１．２モル ）のホスゲンを、５〜１０℃に冷却されている３００ｍｌのジクロロメタン中に 溶かす。濃いスラリーである第一フラスコからの反応混合物を、ホスゲン溶液を 含む第二フラスコに５〜１０℃でゆっくりと添加する。添加が完了した後では、 塔頂温度がジクロロメタンだけが塔頂を越えて来ていることを示すまで、蒸留に よって過剰のホスゲンを除去する。蒸留を停止し、そして反応混合物を約０℃ま で冷却する。２００ｍＬのの氷水を添加して、副生成物の塩化ナトリウムを溶か す。ジクロロメタン層を水性層か ら分離し、濾過しそしてＭｇＳＯ₄で乾燥させる。乾燥されたジクロロメタン溶 液、化合物ＶＩＩを含むｃを、次に、蒸留してジクロロメタンを取り去り、そし て交換に、全部で４００ｍＬのヘキサンを添加する（溶媒交換手順）。ジクロロ メタンが除去されそしてヘキサンが蒸留し始める時に、蒸留を停止する。次に、 ヘキサン溶液を５℃に冷却すると、その際にＶＩＩが沈殿するが（種付けが必要 とされる可能性がある）、追加の冷たいヘキサンで洗浄しそして乾燥させる。収 率は典型的には、ｍ．ｐ．９７〜９９℃の９７〜９８％の純粋なＶＩＩに関して 約９４％である。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ３．８０（Ｓ，３）、７．２９（ Ｓ，４）

【手続補正書】特許法第１８４条の８ 【提出日】１９９６年４月８日 【補正内容】 ２． 式Ｖ： の化合物を作るための方法であって、 （ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ Ｈ₂Ｎ−ＮＨＲ³ ＩＩＩ の化合物と反応させて、式ＩＶ ［これらの式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、 Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり、そして Ｒ³は、保護基ＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）である］ の化合物を生成させること、及び （ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコキシ）メタ ンと反応させること を含んで成る方法。 ３． 式 の式Ｖの化合物を水素化させることを含んで成る、式ＶＩ： の化合物を作るための方法。 ４． 式ＩＶ ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、 Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり、そして Ｒ³は、保護基ＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）である］ の化合物を、ルイス酸の存在下でジ（Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコキシ）メタンと反応させ て、式Ｖ の化合物を生成させ、そして式Ｖの化合物を水素化させることを含んで成る、式 ＶＩ： の化合物を作るための方法。 ５． 請求の範囲第３項又は第４項に従って得られる式ＶＩの化合物を式ＶＩ Ｉ の化合物と反応させることを含んで成る、式Ｉ の化合物を作るためのの方法。 ６． 式Ｉ ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、そして Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルである］ の化合物を作るための方法であって、式Ｖ ［式中、 Ｒ³は、保護のＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）である］ の化合物を水素化させて、式ＶＩ の化合物を生成させ、そして 式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ の化合物と反応させることを含んで成る方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 251/86 9451−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 251/86 271/66 9451−4Ｈ 271/66 // Ｃ０７Ｂ 53/00 7419−4Ｈ Ｃ０７Ｂ 53/00 Ｃ 61/00 ３００ 7419−4Ｈ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)， ＡＭ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＮ，Ｃ Ｚ，ＥＥ，ＦＩ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＧ，ＫＰ ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ， ＭＮ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，Ｓ Ｇ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ ，ＶＮ (72)発明者 シヤピロ， ラフアエル アメリカ合衆国デラウエア州19803−5121 ウイルミントン・フレスノロード1415

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． キラル中心＊においてラセミ的な又は鏡像異性体的に富んでいる式Ｉ ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、そして Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルである］ の化合物を製造するための方法であって、 （ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ Ｈ₂Ｎ−ＮＨＲ₃ ＩＩＩ の化合物と反応させて、式ＩＶ ［式中、 Ｒ³は、保護基例えばＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）及び類似物である］ の化合物を生成させること、 （ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコキシ）メタ ンと反応させて式Ｖ の化合物を生成させること、 （ｃ）式Ｖの化合物を水素化させて式ＶＩ の化合物を生成させること、そして （ｄ）式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ の化合物と反応させて、式ＩＩの化合物と実質的に同じ絶対配置を有する式Ｉの 化合物を生成させること を含んで成る方法。 ２． 式Ｖ： の化合物を作るための方法であって、 （ａ）＊において必要に応じて鏡像異性体的に富んでいる、式ＩＩ の化合物を、酸触媒の存在下で式ＩＩＩ Ｈ₂Ｎ−ＮＨＲ₃ ＩＩＩ の化合物と反応させて、式ＩＶ ［これらの式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、 Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり、そして Ｒ³は、保護基ＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）である］ の化合物を生成させること、及び （ｂ）式ＩＶの化合物をルイス酸の存在下でジ（Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコキシ）メタ ンと反応させること を含んで成る方法。 ３． 式Ｖの化合物を水素化させることを含んで成る、式ＶＩ： の化合物を作るための請求の範囲第２項に記載の方法。 ４． 式ＩＶ ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、 Ｒ₂は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり、そして Ｒ³は、保護基ＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）である］ の化合物を、ルイス酸の存在下でジ（Ｃ₁〜Ｃ₃−アルコキシ）メタンと反応させ て、式Ｖ の化合物を生成させ、そして式Ｖの化合物を水素化させることを含んで成る、式 ＶＩ： の化合物を作るための方法。 ５． 式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ の化合物と反応させることを含んで成る、式Ｉ の化合物を作るための、請求の範囲第４項に記載の方法。 ６． 式Ｉ ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、そして Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルである］ の化合物を作るための方法であって、式Ｖ ［式中、 Ｒ³は、保護のＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）である］ の化合物を水素化させて、式ＶＩ の化合物を生成させ、そして 式ＶＩの化合物を式ＶＩＩ の化合物と反応させることを含んで成る方法。 ７． ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ又はＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシであり、 Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルであり、 Ｒ³は、ＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）であり、そして Ｒ⁴は、Ｈ及びＣＯ₂ＣＨ₂（Ｃ₆Ｈ₅）から選ばれる］ の群から選ばれたラセミ又は鏡像異性体的に富んだ化合物。 ８． 式ＩＩ： ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルである］ の化合物の鏡像異性体的に富んだ（＋）又は（−）鏡像異性体を製造するための 方法であって、 （ｉ）ルイス酸の存在下でｐ−置換フェニルアセチルハロゲン化物をエチレン と反応させて式ＶＩＩＩ の化合物を製造するステップ、 （ii）ＶＩＩＩをペルオキシ酸と反応させて式ＩＸ の化合物を製造するステップ、 （iii）酸触媒の存在下でＩＸをＣ₁〜Ｃ₃−アルコールと反応させて式Ｘ の化合物を製造するステップ、 （iv）Ｘを塩基と反応させて式ＸＩ の化合物を製造するステップ、 並びに （ｖ）キラル塩基の存在下でＸＩをヒドロペルオキシドと反応させて鏡像異性 体的に富んだＩＩを製造するステップ を含んで成る方法。 ９． 式： ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして Ｒ²は、Ｃ₁〜Ｃ₃−アルキルである］ の化合物の（＋）鏡像異性体。 １０． （＋）メチル５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２−ヒドロキシ−１− オキソ−２Ｈ−インデン−２−カルボキシレートである、請求の範囲第１項に記 載の化合物。 １１． 式ＩＸ又はＸ： ［式中、 Ｒ¹は、Ｆ、Ｃｌ及びＣ₁〜Ｃ₃−フルオロアルコキシの群から選ばれ、そして Ｒ²は、Ｈ又はＣ₁〜Ｃ₃−アルキルである］ の化合物。 １２． ２−カルボキシ−５−クロロベンゼンプロパン酸である、請求の範囲 第１１項に記載の化合物。 １３． ５−クロロ−２−（メトキシカルボニル）ベンゼンプロパン酸メチル である、請求の範囲第１１項に記載の化合物。 １４． 式： の化合物。