JPH09160240A - ポリビニルアルコール系感光性樹脂および感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents

ポリビニルアルコール系感光性樹脂および感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン形成方法

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JPH09160240A
JPH09160240A JP7321662A JP32166295A JPH09160240A JP H09160240 A JPH09160240 A JP H09160240A JP 7321662 A JP7321662 A JP 7321662A JP 32166295 A JP32166295 A JP 32166295A JP H09160240 A JPH09160240 A JP H09160240A
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polyvinyl alcohol
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anionic
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 耐水性および耐熱性が良好で、水溶性も十分
であり、アニオン性の添加剤との混和性もよい感光性樹
脂および組成物並びにパターン形成方法を提供する。 【解決手段】 特定の感光性の四級化された芳香族含窒
素複素環を有するスチリル化合物下記一般式(I)と、特
定のスルホン酸基を二つ有するフェニル化合物下記一般
式(II)とを、(I)の含有量が0.5〜10モル%であ
り、(II)の含有量が0.1〜20モル%であるようにペ
ンダントする。 (R1は四級化された芳香族含有窒素複素環残基、R2
水素原子または低級アルコキシル基、mは0または1、
nは1〜6の整数を表す) (X1およびX2は水素原子、Na、K、アンモニウムを
表す)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はポリビニルアルコー
ル系感光性樹脂および感光性樹脂組成物並びにそれを用
いたパターン形成方法に関し、特に、アニオン性の添加
剤との相溶性が良好で、アニオン性基板上に良好にパタ
ーニングできる感光性樹脂および感光性樹脂組成物並び
にそれを用いたパターン形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、水溶性のポリビニルアルコール系
感光性樹脂としては、特公昭56−5761号公報、特
公昭56−5762号公報、特開昭56−11906号
公報、特開昭59−17550号公報、特開平2−11
8575号公報、特公平2−276806号公報および
特開平6−43645号公報などに開示されている四級
化芳香族含窒素複素環を有するスチリル誘導体をペンダ
ントさせたポリビニルアルコール系感光性樹脂が知られ
ている。これらの感光性樹脂は高感度であるが、耐水性
が悪く、現像時に膨潤するため充分な解像度が得られな
いという欠点がある。更にこれらの感光性樹脂はカチオ
ン性であるため、アニオン性の添加剤、例えばアニオン
性の界面活性性剤やエマルジョンと混合すると増粘した
りゲル化を起こしたりするという欠点がある。また、こ
れらの感光性樹脂を用いて、アニオン性の表面を有する
基板上にパターンを形成した場合、イオン的相互作用に
よりスカムが発生するなどの問題点もある。
【0003】一方、このような問題点を解決したものと
して、ポリビニルアルコール系感光性樹脂としてベタイ
ン構造を持つ四級化芳香族含窒素複素環を有するスチリ
ル誘導体をペンダントさせたポリビニルアルコールが特
開平2−160807号公報に開示されている。しかし
この感光性樹脂は、水溶性が充分でない、および感度が
若干低いなどの欠点を有する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のポリビ
ニルアルコール系感光性樹脂は、例えば、耐水性が悪
い、耐熱性が悪い、水溶性が充分でない、アニオン性の
添加剤との混和性が悪いなどの欠点を有している。
【0005】本発明はこのような事情に鑑み、耐水性お
よび耐熱性が良好で、水溶性も十分であり、アニオン性
の添加剤との混和性もよい感光性樹脂および感光性樹脂
組成物並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する
ことを課題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を達成する本発
明の第1の態様は、下記一般式(I)および(II)で表され
る構成単位を有するポリビニルアルコール系高分子化合
物であって、
【0007】
【化3】 (R1は四級化された芳香族含有窒素複素環残基、R2
水素原子または低級アルコキシル基、mは0または1、
nは1〜6の整数を表す)
【0008】
【化4】 (X1およびX2は水素、Na、K、アンモニウムを表
す) 前記一般式(I)の含有量が0.5〜10モル%であり、
前記一般式(II)の含有量が0.1〜20モル%であるポ
リビニルアルコール系高分子化合物からなることを特徴
とするポリビニルアルコール系感光性樹脂にある。
【0009】ここで、前記一般式(I)の構成単位/一般
式(II)の構成単位で示されるモル比が2より小さいのが
このましい。
【0010】また、本発明の第2の態様は、前記ポリビ
ニル系感光性樹脂を含有することを特徴とするポリビニ
ルアルコール系感光性樹脂組成物にある。
【0011】ここで、前記ポリビニルアルコール系感光
性樹脂の前記一般式(I)の構成単位/一般式(II)の構成
単位で示されるモル比が2より小さいのが好ましい。
【0012】また、本発明の感光性樹脂組成物は、さら
にアニオン性添加剤を含有してもよい。
【0013】本発明の第3の態様は、上述した本発明の
ポリビニルアルコール系感光性樹脂組成物を基板上に塗
布して感光性樹脂層を形成する工程と、この感光性樹脂
層をパターン露光し、続いて現像する工程とを含むこと
を特徴とするパターン形成方法にある。
【0014】本発明者らは、上述した課題を解決する優
れた特性を有する感光性樹脂を開発するために鋭意研究
を重ねた結果、感光性の四級化された芳香族含窒素複素
環を有するスチリル化合物と、スルホン酸基を二つ有す
るフェニル化合物とを特定のモル比でペンダントさせる
ことにより得られるポリビニルアルコール系高分子化合
物が上記目的を達成することを知見し、本発明に至った
ものである。
【0015】本発明のポリビニルアルコール系感光性樹
脂は、新規なものであり、耐水性が良好で、高感度のも
のである。
【0016】また、特に、前記一般式(I)/一般式(II)
で示されるモル比が2より小さいものは、アニオン性添
加剤との相溶性が良好であり、アニオン性基板上に良好
にパターニングすることができるものである。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施の形態と共に
詳細に説明する。
【0018】本発明の感光性樹脂を構成するポリビニル
アルコール系高分子化合物は、ポリ酢酸ビニルケン化物
または酢酸ビニルと他のビニル化合物との共重合体のケ
ン化物に、下記一般式(III)で表されるアルデヒドまた
はそのアセタールと、下記一般式(IV)で表されるアルデ
ヒドとを、酸触媒存在下、水系溶媒中で反応させること
により容易に得ることができる。
【0019】
【化5】
【0020】
【化6】
【0021】一般式(III)におけるR1は四級化された芳
香族含窒素複素環残基を表すが、かかるR1としては下
記に示す例を挙げることができる。
【0022】
【化7】
【0023】ここで、R3は、低級アルキル基、低級ア
ルコキシル基、低級アルコキシルカルボニルアルキル
基、またはベンジル基を表し、Y-は、例えば、塩化物
イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、モノアルキル
硫酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオンなどのアニ
オンを表し、Zは、O、S、Se、またはNR4(R4
低級アルキル基を示す)を表す。
【0024】本発明の感光性樹脂であるポリビニルアル
コール系高分子化合物を合成する反応に用いる酸触媒と
しては、例えばリン酸、塩酸、硫酸、p−トルエンスル
ホン酸、メタンスルホン酸、あるいは酸性イオン交換樹
脂などを用いることができ、または一般式(IV)において
1および/またはX2が水素の場合はこれ自身を当該触
媒としても用いることができる。
【0025】かかる反応は水性媒体中、好ましくは水中
で行われる。反応条件は特に制限はないが、一般には、
室温から100℃までの温度範囲で2〜72時間で行う
ことができる。
【0026】反応後、反応混合物を多量の貧溶媒、例え
ば、アセトン、エタノール、ジオキサンなどに注ぎ、目
的の樹脂を沈澱させ、これを分離してメタノールなどで
洗い、乾燥することにより本発明の感光性樹脂を得るこ
とができる。または、反応後、アルカリ水溶液、例えば
水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、アン
モニア水等で中和するか、あるいは塩基性イオン交換樹
脂で中和後、イオン交換樹脂をろ別することにより、目
的の感光性樹脂の水溶液を得ることができる。
【0027】かかる反応に用いられるポリ酢酸ビニルケ
ン化物としては、例えば平均重合度200〜5000、
好ましくは300〜3000、ケン化度60〜100
%、好ましくは70〜99%のものが好適である。
【0028】ここで、平均重合度を200〜5000と
したのは、重合度が200より小さい場合、十分な感度
が得られず、また一方、5000より大きい場合には感
光性組成物としたときの溶液の粘度が高くなりすぎ、塗
布性が悪くなるか、または水現像性が低下するかし、何
れにしても好ましくないからである。
【0029】また、ケン化度を60〜100%としたの
は、ケン化度が60%より低いと十分な水溶性および水
現像性が得られないためである。
【0030】上述したように酢酸ビニルと他のビニル化
合物との共重合体のケン化物をポリ酢酸ビニルケン化物
の代わりに用いることができるが、かかる他のビニル化
合物(ビニルモノマ)としては、例えばN−ビニルピロ
リドン、アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルア
ミドなどを挙げることができる。
【0031】このようなポリ酢酸ビニルケン化物類と、
上記一般式(III)の化合物および/またはそのアセター
ル物と、一般式(IV)の化合物とを酸触媒の存在下に反応
させる際には、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ベン
ズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒドなどのアル
ドヒド類もしくはこれらのアセタール類を同時に反応さ
せることもできる。
【0032】ポリ酢酸ビニルケン化物類に対する一般式
(III))の化合物またはそのアセタール物の導入率は、モ
ノマ単位当たり、0.5〜10モル%、好ましくは0.
8〜7モル%である。ここで、導入率を0.5〜10モ
ル%としたのは、0.5モル%より少ない場合は感度が
低く実用的でなく、10モル%より多いと水溶性が充分
でないからである。一般的には、使用するポリ酢酸ビニ
ルケン化物類の重合度が低いと導入率を高くしないと充
分な感度が得られず、重合度が高い場合は導入率が低く
ても充分な感度が得られるという傾向がある。
【0033】ポリ酢酸ビニルケン化物類に対する一般式
(IV)の化合物の導入率は、モノマ単位当たり、0.1〜
20モル%、好ましくは0.3〜15モル%である。こ
こで、導入率を0.1〜20モル%としたのは、この範
囲を外れると耐水性が十分でなくなるからである。
【0034】本発明の感光性樹脂では、特に、一般式
(I)の構成単位/一般式(II)の構成単位で示されるモル
比が2より小さいのが好ましい。この場合には、樹脂が
アニオン性となるため、高感度で耐水性が良好であるこ
とに加えて、アニオン性の添加剤との相溶性が良い、ア
ニオン性の基板上にパターンを形成した場合にスカムが
残らないなどの特徴を有する感光性樹脂となる。
【0035】本発明のポリビニルアルコール系感光性樹
脂は、後述する合成例(3)で示すように、得られた樹脂
をイオンクロマトグラフィーで陰イオンの分析をして
も、触媒であるリン酸イオンおよびメチルサルフェート
イオンが検出されないことから、分子内および/または
分子間塩を形成していると考えられる。例えば、合成例
(3)では、下記一般式(V)の構造であると考えられる。
【0036】
【化8】
【0037】本発明の感光性樹脂組成物は、上述した本
発明の感光性樹脂を含有するものであるが、特に、感光
性樹脂の一般式(I)の構成単位/一般式(II)の構成単位
で示されるモル比が2より小さいときにはアニオン性添
加剤との相溶性が良好であるので、さらにアニオン性添
加剤を含有することができるアニオン性の疎水性重合体
エマルジョンとしては、下記(1)〜(3)のものを挙
げることができる。
【0038】(1)アニオン活性剤を乳化剤として用い
た疎水性重合体エマルジョン;アニオン活性剤として
は、高級脂肪酸塩、高級アルキル・ジカルボン酸塩、高
級アルコール硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、
高級アルキル・ジスルホン酸塩、硫酸化脂肪および脂肪
酸塩、スルホン化高級脂肪酸塩、高級アルキルリン酸エ
ステル塩、高級脂肪酸エステルの硫酸エステル塩または
スルホン酸塩、高級アルコール・エーテルの硫酸エステ
ル塩またはスルフォン酸塩、高級脂肪酸とアミノ酸との
縮合物、高級脂肪酸アミドのアルキロール化硫酸エステ
ル塩、高級脂肪酸アミドのアルキル化スルホン酸塩、高
級アルキル・スルホナミドのアルキルカルボン酸塩、ス
ルホ琥珀酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸
塩、アルキルフェノールスルホン酸塩、アルキルナフタ
リンスルホン酸塩、アルキルナフタリンスルホン酸塩の
ホルマリン縮合物、アルキルテトラリンスルホン酸塩、
アルキルベンゾイミダゾールスルホン酸塩、ナフテン酸
塩、ナフテニルアルコール硫酸エステル塩などを挙げる
ことができる。
【0039】(2)乳化剤としてアニオン性保護コロイ
ドを用いた疎水性重合体エマルジョン;アニオン性保護
コロイドとしては、カルボキシルあるいはスルホン酸変
性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸塩、ポリメタ
クリル酸塩などを挙げることができる。
【0040】(3)その他として、アクリル酸、メタク
リル酸、イタコン酸、2−スルホエチルメタクリレート
塩などの不飽和化合物を共重合成分とした疎水性重合体
エマルジョン。
【0041】アニオン性の界面活性剤としては、例え
ば、アニオン性の疎水性重合体エマルジョンの説明で挙
げたようなものを挙げることができる。
【0042】アニオン性染料としては、例えば、直接染
料、酸性染料などを挙げることができる。
【0043】アニオン性顔料としては、例えば、カルボ
ン酸基、スルホン酸基を持った顔料、またはアニオン性
ポリマーなどで処理した顔料などを挙げることができ
る。
【0044】アニオン性の水溶性高分子としては、カル
ボキシル基あるいはスルホン酸を有する水溶性高分子を
挙げることができる。
【0045】また、本発明の組成物の特徴の一つは、他
のアニオン性の感光剤と併用できることである。アニオ
ン性の感光剤としては、4,4’−ジアジドスチルベン
−2,2’−ジスルホン酸、4,4’−ジアジドジベン
ザルアセトン−2,2’−ジスルホン酸、2,5−ビス
(4’−アジド−2’−スルホベンジリデン)シクロペ
ンタノン、2,6−ビス(4’−アジド−2’−スルホ
ベンジリデン)シクロヘキサノンおよびこれらのアルカ
リ金属塩、アンモニウム塩、有機アミン塩、有機第四級
アンモニウム塩などを挙げることができる。
【0046】本発明の組成物に上記アニオン性のアジド
系感光剤を含有させる場合は、アジド基の光反応中間体
と反応性のよい水溶性高分子をさらに加えることが特に
好ましい。このような水溶性高分子としては、例えば、
ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリ
(N,N−ジメチルアクリルアミド)、アクリルアミド
とダイアセトンアクリルアミドとの共重合体、アクリル
アミドとN,N−ジメチルアクリルアミドとの共重合
体、カチオン化セルロースなどを挙げることができる。
【0047】本発明の組成物にはさらに少なくとも一種
の光重合性不飽和化合物と、光重合開始剤系とを加える
ことにより、その特性を向上させることができる。
【0048】かかる光重合性不飽和化合物は、疎水性あ
るいは親水性のどちらでもよく、その例として、アクリ
ル基、メタクリル基、アリル基、ビニルエーテル基、ビ
ニル基、アクリルアミド基などの重合可能な不飽和基を
少なくとも1つ持つ不飽和モノマあるいは不飽和プレポ
リマーを挙げることができる。
【0049】また、光重合開始剤系は光照射により光重
合活性のラジカルが生成する系であればよく、その例と
しては、ベンゾインエーテル、ヒドロキシアルキルケト
ン、ジアルコキシアセトフェノン、ベンゾイルホスフィ
ンオキシド、ベンゾインオキシムケトンなどのα−開裂
型開始剤、ベンゾフェノン、ベンジル、チオキサント
ン、ケトクマリンなどの芳香族ケトン並びにこれらの芳
香族ケトンとアミンのような水素供与体との系、有機過
酸化物、オニウム塩、トリフェニルアルキルホウ酸や鉄
−アレーン錯体とチオキサンテン色素やケトクマリンの
ような電子供与体との系、N−アリールグリシンと電子
吸引体との系、ポリハロゲン化合物などを挙げることが
できる。
【0050】さらにこれらの光重合系には、通常、熱重
合禁止剤を加えることが望ましい。
【0051】本発明の組成物には、上記成分以外の非イ
オン性の疎水性重合体エマルジョン、界面活性剤、染
料、顔料、無機充填剤、乳化安定剤、可塑剤、レベリン
グ剤なども含有させることができる。また、組成物溶液
が増粘したり、ゲル化したりしない程度のカチオン性の
添加剤も含有させることができ、さらに蛍光体パターン
形成用には各種蛍光体、ブラックマトリックス形成用に
は黒鉛などの光吸収物質を含有させることができる。
【0052】本発明の組成物は、前記ポリビニルアルコ
ール系高分子化合物に、必要により前記カチオン性添加
剤並びに必要に応じて各種添加剤を添加し、水を主体と
する溶剤に溶解あるいは分散させることにより調製する
ことができる。
【0053】この際用いられる溶剤としては、一般には
水が用いられるが、これに50重量%以下の割合で水に
可溶な溶剤、例えば、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール、アセトン、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、N−メ
チルピロリジノンなどの水可溶性剤、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル等を加えることができる。
【0054】上述したように得られた本発明の感光性樹
脂組成物は、用途に応じて、アルミニウムやステンレス
等の金属板、スクリーンメッシュ、紙、ガラス板、半導
体基板、その他任意の基材上に、例えば、0.5〜10
00μmの乾燥厚さとなるように塗布・乾燥するように
して使用される。
【0055】これらの塗膜には、紫外線、例えば波長3
00〜500nmのような活性光線を照射して照射部を
硬化させた後、非照射部を水等により除去すれば、パタ
ーン画像が得られ、例えば、スクリーン印刷板、カラー
ブラウン管のブラックマトリックスや蛍光体パターン形
成、CCDやLCDのカラーフィルタ、印刷のカラープ
ルーフや各種エッチングレジスト等として利用できる。
【0056】本発明の組成物を用いるパターン形成で特
に有利に用いられるのは、アニオン性表面を有する基板
上にパターンを形成する場合である。従来より知られて
いるカチオン性のポリビニルアルコール系感光性樹脂を
用いて、アニオン性表面を有する基板上にパターンを形
成すると、非露光部にスカムが残るが、本発明の組成物
を用いてこのような基板上にパターンを形成すると、ス
カムのないきれいなパターンが形成される。
【0057】次に、アニオン性表面を有する基板上に本
組成物を用いたパターン形成の具体例を挙げる。カラー
ブラウン管はフェースプレート内面に設けられた赤、
緑、青の蛍光体からなるストライプまたはドットパター
ンと、その空隙に埋められた黒鉛等からなる非発光性光
吸収物質とからなる構造であり、その蛍光体パターンの
空隙を埋めた非発光性光吸収部分をブラックマトリック
スという。その作成方法は、まずブラックマトリックス
を形成した後に各色の蛍光体パターンを形成するのであ
るが、ブラックマトリックスには黒鉛を分散した液が用
いられる。この黒鉛の分散剤としては、例えば、カルボ
キシメチルセルロースのナトリウム塩(特公昭46−2
18号公報)、カルボキシメチルセルロースのリチウム
塩(特開平4−82140号公報)、β−ナフタレンス
ルホン酸ソーダなどのアニオン系が用いられる。従っ
て、ブラックマトリックスの表面はアニオン性である。
この上に蛍光体を分散させた感光性組成物を塗布、露光
後、現像するのであるが、この感光性組成物がカチオン
性であると、完全に現像されずにスカムが残り、非露光
部のブラックマトリックス上の蛍光体が残ることにな
る。この蛍光体の分散させた感光性組成物に本発明のア
ニオン性の組成物を用いると、完全に現像され混色のな
いきれいな蛍光体のパターンが得られる。
【0058】
【実施例】
[合成例(1)]ポリビニルアルコール(PVA)GH
−17(日本合成化学工業製、重合度1700、ケン化
率88%)10grを純水90grに溶解した。この溶
液にN−メチル−4−ホルミルスチリルピリジニウムメ
トサルフェート0.581gr(以下SbQと略す;P
VАのユニットモルに対して0.85モル%)、および
リン酸0.25grを添加し、30℃にて3時間撹拌し
た。続いてこの溶液にベンズアルデヒド−2,4−ジス
ルホン酸ナトリウム0.783gr(純度84.7%;
以下diBАSと略す;SbQの1.235倍モル)を
添加し、30℃にて20時間撹拌した。この反応液にア
ンバーライトIR−45(ローム&ハース社製のイオン
交換樹脂)2.5grを添加して2時間撹拌した。pH
が中性であることを確認後、400メッシュの紗にてろ
過し、淡黄色のポリマー水溶液を得た。
【0059】紫外分光光度法によりSbQおよびdiB
АSのポリビニルアルコールへの結合率を測定したとこ
ろ、各々、0.72モル%、0.76モル%であった。
【0060】[合成例(2)]ポリビニルアルコール
(PVA)GH−17(日本合成化学工業製、重合度1
700、ケン化率88%)10grを純水90grに溶
解した。この溶液にSbQ0.581gr(PVАのユ
ニットモルに対して0.85モル%)、およびリン酸
0.25grを添加し、30℃にて3時間撹拌した。続
いてこの溶液にdiBAS0.286gr(SbQの
0.54倍モル)を添加し、30℃にて20時間撹拌し
た。この反応液にアンバーライトIR−45(ローム&
ハース社製のイオン交換樹脂)2.5grを添加して2
時間撹拌した。pHが中性であることを確認後、400
メッシュの紗にてろ過し、淡黄色のポリマー水溶液を得
た。
【0061】紫外分光光度法によりSbQおよびdiB
АSのポリビニルアルコールへの結合率を測定したとこ
ろ、各々、0.72モル%、0.33モル%であった。
【0062】[合成例(3)]ポリビニルアルコール
(PVA)GH−17(日本合成化学工業製、重合度1
700、ケン化率88%)10grを純水90grに溶
解した。この溶液にSbQ0.581gr(PVАのユ
ニットモルに対して0.85モル%)、およびリン酸
0.25grを添加し、30℃にて3時間撹拌した。続
いてこの溶液にdiBAS0.783gr(SbQの
1.235倍モル)を添加し、30℃にて20時間撹拌
した。この反応液を大量のアセトンに注いで白色のポリ
マーを析出させた。この析出ポリマーをメタノールで十
分に洗浄後、真空乾燥して9.5grのポリビニルアル
コール誘導体を得た。
【0063】紫外分光光度法によりSbQおよびdiB
АSのポリビニルアルコールへの結合率を測定したとこ
ろ、各々、0.72モル%、0.76モル%であった。
【0064】また、イオンクロマト分析によりSbQ由
来のメチル硫酸根、および触媒由来のリン酸根はトレー
ス程度しか検出されず、この分析結果より上述した一般
式(V)に示す内部塩構造が支持され、この結果、このポ
リマーはアニオン性であることが明らかとなった。
【0065】[比較合成例(1)]特開昭55−231
63号公報に示される方法に従い、上記PVА(GH−
17)にSbQが0.72モル%結合したポリビニルア
ルコール誘導体を得た。この物はアニオン成分を全く含
まないため、完全にカチオン性ポリマーである。
【0066】[実施例(1)]合成例(1)の10重量
%ポリマー水溶液にアニオン性エマルジョンであるファ
インテックスΕS−650(大日本インキ社製;ポリエ
ステル系エマルジョン、固形分含量29重量%)を固形
分比1:2で混合した。ごく少量の増粘は見られたが、
きれいな感光性組成物が得られた。
【0067】かかる感光性組成物を用い、250メッシ
ュのスクリーン版にスクリーン紗上15μmの厚さで塗
膜を形成し、2kWの超高圧水銀灯で60cmの距離か
ら90秒露光し、水スプレー現像を行った。得られたパ
ターンを観察すると、膨潤が少なく、解像度も良好だっ
た。
【0068】[比較例(2)]実施例(1)と同様な比
較合成例(1)で得られたポリマーを純水に溶解して1
0重量%の水溶液を得た。この水溶液に実施例(1)と
同様にES−520を固形分比1:2で混合したとこ
ろ、極端な増粘が見られ、実施例(1)と同様なスクリ
ーン上でのテストは実施できなかった。
【0069】[実施例(2)]合成例(2)の10重量
%ポリマー水溶液に酢酸ビニルエマルジョン(ヘキスト
合成社製モビニールMA6)を固形分比1:2で混合し
た。250メッシュのスクリーン版にスクリーン紗上に
15μmの厚さで塗膜を形成し、2kWの超高圧水銀灯
で60cmの距離から110秒間露光し、水スプレー現
像を行った。得られたパターンを観察すると、膨潤が少
なく、解像度も良好であった。
【0070】[比較例(2)]合成例(2)の10重量
%ポリマー水溶液に酢酸ビニルエマルジョン(ヘキスト
合成社製モビニールMA6)を固形分比1:2で混合し
た。250メッシュのスクリーン版にスクリーン紗上に
15μmの厚さで塗膜を形成し、2kWの超高圧水銀灯
で60cmの距離から110秒間露光し、水スプレー現
像を行った。得られたパターンを観察すると、実施例
(2)と比較して膨潤が多く、解像度も悪いものであっ
た。
【0071】[実施例(3)]10cm四方のソーダガ
ラス板上に、特開昭48−90815号公報等に記載さ
れている一般的な方法により、ポリビニルピロリドンと
4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’−ジスルホン
酸ナトリウムとからなる感光液、エレクトロダック15
30(日本アチソン社製;グラファイト分散液)、およ
びホール径135μmのシャドーマスクを使用して、ホ
ール径105μmのブラウン管用ブラックマトリックス
を作成した。
【0072】続いて、上記ガラス板上に、下記処方のい
わゆる蛍光体スラリーを塗布・乾燥して8〜10μm厚
に塗工し、以下の条件にて蛍光体パターンを作成した。
得られたパターンを観察すると、蛍光体の充填度は良好
で、解像度も優れており、ブラックマトリックス上の蛍
光体の残りもなかった。
【0073】 (蛍光体スラリーの組成) 緑色蛍光体 10gr 合成例(1)の10重量%ポリマー水溶液 10gr 純水 15gr 5%タモール731水溶液 1gr (ローム&ハース社製;アニオン性界面活性剤) 10%LT−221水溶液 0.05gr (日本油脂社製;ノニオン性界面活性剤)
【0074】(パターン作成条件) シャドーマスク:ホール径135μm シャドーマスク−ガラス板距離:10mm 光源−ガラス板距離:30cm 光源:超高圧水銀、350nm、照度0.15mw/c
2 露光時間:40秒 現像:水スプレー現像
【0075】[比較例(3)]同様な評価を比較合成例
(1)のポリマーを用いて行った。但し、アニオン性界
面活性剤であるタモール731との混和性が十分ではな
いので、実施例(3)の処方からタモール731を除い
た蛍光体スラリーを作成した。
【0076】これらの蛍光体スラリーを使用し、実施例
(3)と同様な条件にて蛍光体パターンを作成したとこ
ろ、蛍光体の充填度および解像度はほぼ実施例(3)同
等であったが、ブラックマトリックス上に多量の蛍光体
の現像残りが観察された。
【0077】この結果より、比較合成例(1)のポリマ
ーはカチオン性ポリマーであるため、アニオン性である
ブラックマトリックス表面にイオン的な結合により残留
しやすく、従って、蛍光体もブラックマトリックス表面
に残り易くなっているものと推察される。
【0078】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、感光性
の四級化された芳香族含窒素複素環を有するスチリル化
合物と、スルホン酸基を二つ有するフェニル化合物とを
特定のモル比でペンダントさせることにより得られるポ
リビニルアルコール系高分子を感光性樹脂としているの
で、耐水性および耐熱性が良好で、水溶性も十分である
という効果を奏し、また、構成要素の比を適宜選択する
ことにより、さらにアニオン性の添加剤との混和性もよ
いという効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/12 G03F 7/12 H01J 9/227 H01J 9/227 C

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I)および(II)で表される構
    成単位を有するポリビニルアルコール系高分子化合物で
    あって、 【化1】 (R1は四級化された芳香族含有窒素複素環残基、R2
    水素原子または低級アルコキシル基、mは0または1、
    nは1〜6の整数を表す) 【化2】 (X1およびX2は水素原子、Na、K、アンモニウムを
    表す) 前記一般式(I)の含有量が0.5〜10モル%であり、
    前記一般式(II)の含有量が0.1〜20モル%であるポ
    リビニルアルコール系高分子化合物からなることを特徴
    とするポリビニルアルコール系感光性樹脂。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記一般式(I)の構
    成単位/一般式(II)の構成単位で示されるモル比が2よ
    り小さいことを特徴とするポリビニルアルコール系感光
    性樹脂。
  3. 【請求項3】 請求項1のポリビニル系感光性樹脂を含
    有することを特徴とするポリビニルアルコール系感光性
    樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 請求項3において、前記ポリビニルアル
    コール系感光性樹脂の前記一般式(I)の構成単位/一般
    式(II)の構成単位で示されるモル比が2より小さいこと
    を特徴とするポリビニルアルコール系感光性樹脂組成
    物。
  5. 【請求項5】 請求項4において、さらにアニオン性添
    加剤を含有することを特徴とするポリビニルアルコール
    系感光性樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 請求項3〜5の何れかのポリビニルアル
    コール系感光性樹脂組成物を基板上に塗布して感光性樹
    脂層を形成する工程と、この感光性樹脂層をパターン露
    光し、続いて現像する工程とを含むことを特徴とするパ
    ターン形成方法。
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DE69620983T DE69620983T2 (de) 1995-12-11 1996-12-10 Fotoempfindliches Harz auf Basis von Polyvinylalkohol, fotoempfindliche Zusammensetzung, und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung
EP96119803A EP0779553B1 (en) 1995-12-11 1996-12-10 Polyvinyl alcohol base photosensitive resin, photosensitive composition, and method for pattern formation using the same
US08/763,415 US5807657A (en) 1995-12-11 1996-12-11 Polyvinyl alcohol base photosensitive resin, photosensitive composition, and method for pattern-formation using the same
KR1019960064078A KR970049039A (ko) 1995-12-11 1996-12-11 폴리비닐알콜 기제 감광성수지, 감광성 조성물 및 그것을 사용하는 패턴형성방법

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001051416A (ja) * 1999-06-04 2001-02-23 Toyo Gosei Kogyo Kk ポリ酢酸ビニル鹸化物系感光性組成物並びにパターン形成方法
JP2005062542A (ja) * 2003-08-14 2005-03-10 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版
KR101468496B1 (ko) * 2013-07-25 2014-12-04 전자부품연구원 전도성 나노 물질을 포함한 감광성 코팅액 조성물 및 그를 이용한 코팅 전도막
US9977327B2 (en) 2013-03-25 2018-05-22 Korea Electronics Technology Institute Photosensitive coating composition, coating conductive film using photosensitive coating composition, and method for forming coating conductive film

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR980010618A (ko) * 1996-07-16 1998-04-30 손욱 포토레지스트 조성물
JP3771705B2 (ja) 1998-03-12 2006-04-26 互応化学工業株式会社 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトレジストインク
KR100263860B1 (ko) * 1998-04-14 2000-08-16 김순택 적색 필터막 형성방법
JP3771714B2 (ja) 1998-05-12 2006-04-26 互応化学工業株式会社 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトソルダーレジストインク
US6020093A (en) * 1998-05-13 2000-02-01 Toyo Gosei Kogyo, Ltd. Photosensitive compounds, photosensitive resin compositions, and pattern formation method making use of the compounds or compositions
TWI224715B (en) * 1998-08-05 2004-12-01 Toyo Gosei Kogyo Kk Photosensitive resin derived from saponified poly(vinyl acetate)
US6797452B2 (en) 1999-06-04 2004-09-28 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Photosensitive composition comprising photosensitive saponified poly(vinyl acetate) and pattern formation method making use of the composition
EP1058154A1 (en) * 1999-06-04 2000-12-06 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Composition comprising photosensitive saponified poly(vinyl acetate) and pattern formation method making use of the composition
JP4248137B2 (ja) * 2000-11-22 2009-04-02 富士フイルム株式会社 ネガ型感光性平版印刷版
DE10209024A1 (de) * 2001-03-07 2002-09-19 Inctec Inc Photoempfindliche Zusammensetzungen
JP4238003B2 (ja) * 2001-10-31 2009-03-11 三菱製紙株式会社 感光性組成物及び平版印刷版
ES2687431T3 (es) * 2004-08-04 2018-10-25 Sekisui Chemical Co., Ltd. Proceso para producir resina acetal polivinilo
KR20060106873A (ko) * 2005-04-04 2006-10-12 주식회사 동진쎄미켐 네가티브형 포토레지스트 조성물
EP1783552B1 (de) 2005-11-03 2015-10-07 Kissel & Wolf GmbH Photopolymerisierbare Zusammensetzung zur Herstellung von Druckformen

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50101445A (ja) * 1974-01-10 1975-08-12
JPS58194905A (ja) * 1982-04-23 1983-11-14 オ−トタイプ・インタ−ナシヨナル・リミテツド 感光性重合体
JPS59213705A (ja) * 1983-05-19 1984-12-03 Agency Of Ind Science & Technol 変性ポリビニルアルコ−ル感光性樹脂
JPS6010244A (ja) * 1983-06-30 1985-01-19 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS6010245A (ja) * 1983-06-30 1985-01-19 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS6010243A (ja) * 1983-06-30 1985-01-19 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS60247637A (ja) * 1984-05-23 1985-12-07 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS6117138A (ja) * 1984-07-04 1986-01-25 Agency Of Ind Science & Technol プラスチツクフイルム塗布用感光性エマルジヨン
JPS6187153A (ja) * 1984-09-11 1986-05-02 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS6187150A (ja) * 1984-09-11 1986-05-02 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS61230138A (ja) * 1985-04-03 1986-10-14 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPH02118575A (ja) * 1987-10-17 1990-05-02 Autotype Internatl Ltd 光二量化性重合体組成物、その製造方法およびスクリーン印刷用フォトステンシル
JPH02160807A (ja) * 1988-12-14 1990-06-20 Agency Of Ind Science & Technol 感光性ポリビニルアルコール誘導体
JPH0643645A (ja) * 1992-02-03 1994-02-18 Sericol Ltd 光硬化性組成物

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS46218Y1 (ja) * 1966-12-17 1971-01-07
CA1002805A (en) * 1972-08-14 1977-01-04 Burton H. Waxman Instant access three color photography using preformed dyes and silver ions for the image generated for diffusion
JPS565761A (en) * 1979-06-29 1981-01-21 Asahi Chemical Ind Novel laminate
JPS565762A (en) * 1979-06-28 1981-01-21 Uchida Yoko:Kk Automatic adjusting circuit for background density in stencil paper making machine
JPS5611906A (en) * 1979-07-11 1981-02-05 Agency Of Ind Science & Technol Photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative and its preparation
JPS56147804A (en) * 1980-04-17 1981-11-17 Agency Of Ind Science & Technol Photosensitive resin material for forming fluorescent surface of cathode ray tube
JPS5917550A (ja) * 1982-07-21 1984-01-28 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光架橋性感光材料
US4564580A (en) * 1983-06-30 1986-01-14 Kogyo Gijutsuin Photosensitive resin composition
GB2226564B (en) * 1988-12-16 1993-03-17 Sericol Group Ltd Photopolymerisable polyvinyl alcohols and compositions containing them
JP2938525B2 (ja) * 1990-07-25 1999-08-23 株式会社日立製作所 カラー陰極線管

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50101445A (ja) * 1974-01-10 1975-08-12
JPS58194905A (ja) * 1982-04-23 1983-11-14 オ−トタイプ・インタ−ナシヨナル・リミテツド 感光性重合体
JPS59213705A (ja) * 1983-05-19 1984-12-03 Agency Of Ind Science & Technol 変性ポリビニルアルコ−ル感光性樹脂
JPS6010244A (ja) * 1983-06-30 1985-01-19 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS6010245A (ja) * 1983-06-30 1985-01-19 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS6010243A (ja) * 1983-06-30 1985-01-19 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS60247637A (ja) * 1984-05-23 1985-12-07 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS6117138A (ja) * 1984-07-04 1986-01-25 Agency Of Ind Science & Technol プラスチツクフイルム塗布用感光性エマルジヨン
JPS6187153A (ja) * 1984-09-11 1986-05-02 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS6187150A (ja) * 1984-09-11 1986-05-02 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS61230138A (ja) * 1985-04-03 1986-10-14 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPH02118575A (ja) * 1987-10-17 1990-05-02 Autotype Internatl Ltd 光二量化性重合体組成物、その製造方法およびスクリーン印刷用フォトステンシル
JPH02160807A (ja) * 1988-12-14 1990-06-20 Agency Of Ind Science & Technol 感光性ポリビニルアルコール誘導体
JPH0643645A (ja) * 1992-02-03 1994-02-18 Sericol Ltd 光硬化性組成物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001051416A (ja) * 1999-06-04 2001-02-23 Toyo Gosei Kogyo Kk ポリ酢酸ビニル鹸化物系感光性組成物並びにパターン形成方法
JP2005062542A (ja) * 2003-08-14 2005-03-10 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP4515730B2 (ja) * 2003-08-14 2010-08-04 コダック株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版
US9977327B2 (en) 2013-03-25 2018-05-22 Korea Electronics Technology Institute Photosensitive coating composition, coating conductive film using photosensitive coating composition, and method for forming coating conductive film
KR101468496B1 (ko) * 2013-07-25 2014-12-04 전자부품연구원 전도성 나노 물질을 포함한 감광성 코팅액 조성물 및 그를 이용한 코팅 전도막

Also Published As

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EP0779553A1 (en) 1997-06-18
EP0779553B1 (en) 2002-05-02
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