JPH06258823A - 感光性樹脂 - Google Patents
感光性樹脂Info
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- JPH06258823A JPH06258823A JP5071091A JP7109193A JPH06258823A JP H06258823 A JPH06258823 A JP H06258823A JP 5071091 A JP5071091 A JP 5071091A JP 7109193 A JP7109193 A JP 7109193A JP H06258823 A JPH06258823 A JP H06258823A
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- Japan
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- photosensitive resin
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- molecule
- compound
- polymer
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/44—Preparation of metal salts or ammonium salts
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/004—Photosensitive materials
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- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F2800/10—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as molar percentages
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式
【化１】
（式中、ｎは１〜１０の整数）で表される基を分子中に
少なくとも１個有する感光性樹脂。 【効果】 本発明の感光性樹脂は、３００ｎｍ以上に
吸収波長域を持つアジド基を分子内に１個以上持つため
高感度となる。従ってこの感光性樹脂は、該波長域の光
を透過する工業的に安価な乳剤被覆製フォトマスクある
いはソーダガラス製のフォトマスクの使用が可能とな
る。従って本発明の感光性樹脂は、フォトレジストとし
て有用である。
少なくとも１個有する感光性樹脂。 【効果】 本発明の感光性樹脂は、３００ｎｍ以上に
吸収波長域を持つアジド基を分子内に１個以上持つため
高感度となる。従ってこの感光性樹脂は、該波長域の光
を透過する工業的に安価な乳剤被覆製フォトマスクある
いはソーダガラス製のフォトマスクの使用が可能とな
る。従って本発明の感光性樹脂は、フォトレジストとし
て有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は感光性樹脂に関するもの
である。
である。
【０００２】
【従来の技術】従来、感度の高い感光性樹脂としては、
アジド基を感光性官能基として含有した感光性樹脂が使
われており、例えば非感光性ポリマーとビスアジド系光
架橋剤とを配合した感光性樹脂（特開昭６４−１３５４
０号公報）が知られている。
アジド基を感光性官能基として含有した感光性樹脂が使
われており、例えば非感光性ポリマーとビスアジド系光
架橋剤とを配合した感光性樹脂（特開昭６４−１３５４
０号公報）が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしこの場合、ビス
アジド系光架橋剤が分子内に２個しか感光性官能基を持
たないため、光架橋効率が低く、光に対する感度が低い
という問題がある。
アジド系光架橋剤が分子内に２個しか感光性官能基を持
たないため、光架橋効率が低く、光に対する感度が低い
という問題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らはさらに感度
の高い感光性樹脂を得ることを目的に鋭意検討した結果
本発明に到達した。即ち本発明は、一般式
の高い感光性樹脂を得ることを目的に鋭意検討した結果
本発明に到達した。即ち本発明は、一般式
【０００５】
【化３】
【０００６】（式中、ｎは１〜１０の整数）で表される
基を分子中に少なくとも１個有する感光性樹脂である。
基を分子中に少なくとも１個有する感光性樹脂である。
【０００７】本発明の感光性樹脂（Ｉ）は、一般式
【０００８】
【化４】
【０００９】（式中、ｎは１〜１０の整数）で表される
基を分子中に少なくとも１個有する感光性樹脂であり、
通常、一般式
基を分子中に少なくとも１個有する感光性樹脂であり、
通常、一般式
【００１０】
【化５】
【００１１】で表される化合物（Ａ）と、エポキシドと
反応しうる活性基を分子中に少なくとも１個有するポリ
マー（Ｂ）との反応から誘導される。
反応しうる活性基を分子中に少なくとも１個有するポリ
マー（Ｂ）との反応から誘導される。
【００１２】本発明の化合物（Ａ）は、分子内にアジド
基、エポキシ基、および芳香環と共役する炭素−炭素２
重結合の繰り返し単位構造を含有する。本発明の化合物
（Ａ）に含まれるアジド基は、紫外線や可視光線などの
電磁波や電子線等の粒子線に感光して活性種であるナイ
トレンを発生し、ナイトレン同士の二量化反応、二重結
合への付加反応、水素引き抜き反応等を起こし、ポリマ
ー分子間の架橋をもたらして陽画形成を可能とする。ま
た化合物（Ａ）中に含まれるアジド基は、カルコン基と
共役の位置にあるため、その紫外線吸収域が３００ｎｍ
以上となっている。そのため、化合物（Ａ）から誘導さ
れた本感光性樹脂は高感度な感光性樹脂となる。また、
エポキシ基はポリマー（Ｂ）に含まれる活性基との反応
点になる。また感光性樹脂（Ｉ）中のｎは、１〜１０の
整数であり、好ましくは１〜３の整数である。ｎの数が
多くなると吸収域が長波長側にシフトする傾向がある
が、多すぎてもその効果はそれほど期待できない。
基、エポキシ基、および芳香環と共役する炭素−炭素２
重結合の繰り返し単位構造を含有する。本発明の化合物
（Ａ）に含まれるアジド基は、紫外線や可視光線などの
電磁波や電子線等の粒子線に感光して活性種であるナイ
トレンを発生し、ナイトレン同士の二量化反応、二重結
合への付加反応、水素引き抜き反応等を起こし、ポリマ
ー分子間の架橋をもたらして陽画形成を可能とする。ま
た化合物（Ａ）中に含まれるアジド基は、カルコン基と
共役の位置にあるため、その紫外線吸収域が３００ｎｍ
以上となっている。そのため、化合物（Ａ）から誘導さ
れた本感光性樹脂は高感度な感光性樹脂となる。また、
エポキシ基はポリマー（Ｂ）に含まれる活性基との反応
点になる。また感光性樹脂（Ｉ）中のｎは、１〜１０の
整数であり、好ましくは１〜３の整数である。ｎの数が
多くなると吸収域が長波長側にシフトする傾向がある
が、多すぎてもその効果はそれほど期待できない。
【００１３】化合物（Ａ）は例えば次に示す工程を経て
合成できる。
合成できる。
【００１４】
【化６】
【００１５】即ち一般式
【００１６】
【化７】
【００１７】で表される化合物（式中、ｎは１〜１０の
整数）とエピクロルヒドリンとベンジルトリメチルアン
モニウムクロライドとを非プロトン性極性溶媒中に溶解
し、４０℃以下でビーズ状水酸化ナトリウムを加えた
後、同じく４０℃以下で熟成して得られる。
整数）とエピクロルヒドリンとベンジルトリメチルアン
モニウムクロライドとを非プロトン性極性溶媒中に溶解
し、４０℃以下でビーズ状水酸化ナトリウムを加えた
後、同じく４０℃以下で熟成して得られる。
【００１８】本発明のエポキシドと反応しうる活性基を
分子中に少なくとも１個有するポリマー（Ｂ）の中の、
エポキシドと反応しうる活性基としては、カルボキシル
基、アミノ基、イミノ基、フェノール性水酸基、アルコ
ール性水酸基、メルカプト基などが挙げられる。これら
のうち好ましいのはカルボキシル基、アミノ基、フェノ
ール性水酸基である。
分子中に少なくとも１個有するポリマー（Ｂ）の中の、
エポキシドと反応しうる活性基としては、カルボキシル
基、アミノ基、イミノ基、フェノール性水酸基、アルコ
ール性水酸基、メルカプト基などが挙げられる。これら
のうち好ましいのはカルボキシル基、アミノ基、フェノ
ール性水酸基である。
【００１９】本発明のポリマー（Ｂ）の種類としては、
例えば、ビニル系ポリマー［例えば、（メタ）アクリル
酸、アリルアミン、パラヒドロキシスチレン等の単独重
合体および共重合体］、フェノール樹脂、アミノ酸樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂等、およびこれらの２種以上のポリマ
ーの混合物が挙げられる。これらのうち好ましくはビニ
ル系ポリマー、フェノール樹脂であり、特に好ましくは
（メタ）アクリル酸の単独重合体または共重合体であ
る。エポキシドと反応しうる活性基は、分子中の数が多
くなるほど感度が向上するが、あまり多くなると保存時
に増粘する傾向がある。
例えば、ビニル系ポリマー［例えば、（メタ）アクリル
酸、アリルアミン、パラヒドロキシスチレン等の単独重
合体および共重合体］、フェノール樹脂、アミノ酸樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂等、およびこれらの２種以上のポリマ
ーの混合物が挙げられる。これらのうち好ましくはビニ
ル系ポリマー、フェノール樹脂であり、特に好ましくは
（メタ）アクリル酸の単独重合体または共重合体であ
る。エポキシドと反応しうる活性基は、分子中の数が多
くなるほど感度が向上するが、あまり多くなると保存時
に増粘する傾向がある。
【００２０】本発明の感光性樹脂は、環境汚染防止、作
業者の安全性確保の点を考慮すると水溶性であることが
好ましい。水溶性を付与する方法としては、例えば、 水溶性モノマーの単独重合体または共重合体を使用す
ることにより、ポリマー（Ｂ）を水溶性とする方法； 化合物（Ａ）とポリマー（Ｂ）との反応の後に、残存
するエポキシドと反応しうる活性基を、それと塩を形成
しうるアルカリまたは酸で中和することにより水溶性に
する方法が挙げられる。
業者の安全性確保の点を考慮すると水溶性であることが
好ましい。水溶性を付与する方法としては、例えば、 水溶性モノマーの単独重合体または共重合体を使用す
ることにより、ポリマー（Ｂ）を水溶性とする方法； 化合物（Ａ）とポリマー（Ｂ）との反応の後に、残存
するエポキシドと反応しうる活性基を、それと塩を形成
しうるアルカリまたは酸で中和することにより水溶性に
する方法が挙げられる。
【００２１】本発明の感光性樹脂の製造法としては、通
常、化合物（Ａ）とポリマー（Ｂ）と必要により触媒
（例えば４級アンモニウム塩、トリフェニルホシフィ
ン）をメチルセロソルブなどの溶媒中に溶解し、６０〜
１００℃で５〜３０時間反応させることによって得られ
る。また必要に応じて、さらに未反応のカルボキシル基
のようなエポキシドと反応しうる活性基をアルカリで中
和して親水性を付与することができる。
常、化合物（Ａ）とポリマー（Ｂ）と必要により触媒
（例えば４級アンモニウム塩、トリフェニルホシフィ
ン）をメチルセロソルブなどの溶媒中に溶解し、６０〜
１００℃で５〜３０時間反応させることによって得られ
る。また必要に応じて、さらに未反応のカルボキシル基
のようなエポキシドと反応しうる活性基をアルカリで中
和して親水性を付与することができる。
【００２２】本発明の感光性樹脂には、必要によりポリ
マーを添加することができる。ポリマーを添加すること
により成膜性、光に対する反応性が向上する。ポリマー
としては、本発明の感光性樹脂と相溶性があれば特に限
定されないが、例えば、合成高分子では、ビニル系モノ
マーの単独重合体（ポリビニルピロリドン、ポリビニル
アルコール、ポリアクリルアミド等）および共重合体、
フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリイミド樹脂等である。また天然高分子では、でんぷ
ん、セルロース、ゼラチン、カゼイン、グルー、天然ゴ
ム等が挙げられる。ポリマーの添加量としては、感光性
樹脂に対して、通常１０００重量％以下、好ましくは５
０〜６００重量％である。なおこれらのうち２種類以上
のポリマーを併用しても差し支えない。
マーを添加することができる。ポリマーを添加すること
により成膜性、光に対する反応性が向上する。ポリマー
としては、本発明の感光性樹脂と相溶性があれば特に限
定されないが、例えば、合成高分子では、ビニル系モノ
マーの単独重合体（ポリビニルピロリドン、ポリビニル
アルコール、ポリアクリルアミド等）および共重合体、
フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリイミド樹脂等である。また天然高分子では、でんぷ
ん、セルロース、ゼラチン、カゼイン、グルー、天然ゴ
ム等が挙げられる。ポリマーの添加量としては、感光性
樹脂に対して、通常１０００重量％以下、好ましくは５
０〜６００重量％である。なおこれらのうち２種類以上
のポリマーを併用しても差し支えない。
【００２３】本発明の感光性樹脂には、必要により光架
橋剤を添加することができる。光架橋剤を添加すること
によってさらに感度が向上する。光架橋剤としては、ア
クリル酸エステル系モノマーまたはオリゴマー、ジアゾ
化合物、アジド化合物、重クロム酸塩系化合物、桂皮酸
エステル系化合物等が挙げられる。光架橋剤の添加量と
しては、感光性樹脂に対して、通常５００重量％以下、
好ましくは１０〜２００重量％である。なおこれらのう
ち２種類以上の光架橋剤を併用しても差し支えない。
橋剤を添加することができる。光架橋剤を添加すること
によってさらに感度が向上する。光架橋剤としては、ア
クリル酸エステル系モノマーまたはオリゴマー、ジアゾ
化合物、アジド化合物、重クロム酸塩系化合物、桂皮酸
エステル系化合物等が挙げられる。光架橋剤の添加量と
しては、感光性樹脂に対して、通常５００重量％以下、
好ましくは１０〜２００重量％である。なおこれらのう
ち２種類以上の光架橋剤を併用しても差し支えない。
【００２４】本発明の感光性樹脂には、必要により界面
活性剤を添加することができる。界面活性剤を添加する
ことにより塗膜の濡れ性が向上する。界面活性剤は、各
成分と相溶するものならば特に限定されないが、例えば
アニオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、カチオ
ン系界面活性剤が挙げられる。好ましくは非イオン系界
面活性剤、例えばアルキルフェノールエチレンオキサイ
ド付加物等である。界面活性剤の添加量としては、感光
性樹脂に対して、通常１０重量％以下、好ましくは０．
１〜５重量％である。
活性剤を添加することができる。界面活性剤を添加する
ことにより塗膜の濡れ性が向上する。界面活性剤は、各
成分と相溶するものならば特に限定されないが、例えば
アニオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、カチオ
ン系界面活性剤が挙げられる。好ましくは非イオン系界
面活性剤、例えばアルキルフェノールエチレンオキサイ
ド付加物等である。界面活性剤の添加量としては、感光
性樹脂に対して、通常１０重量％以下、好ましくは０．
１〜５重量％である。
【００２５】本発明の感光性樹脂には、必要により密着
向上剤を添加することができる。密着向上剤としてはシ
ラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤等が使
用可能である。密着向上剤の添加量としては、感光性樹
脂に対して、通常１０重量％以下、好ましくは０．１〜
５重量％である。
向上剤を添加することができる。密着向上剤としてはシ
ラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤等が使
用可能である。密着向上剤の添加量としては、感光性樹
脂に対して、通常１０重量％以下、好ましくは０．１〜
５重量％である。
【００２６】本発明の感光性樹脂には、必要により溶剤
を添加することができる。溶剤を添加することにより、
例えば塗布時の粘性挙動や保存安定性等の操作性が向上
する。溶剤としては、各成分と相溶すれば特に限定され
ないし、単独、混合のどちらでもよい。溶剤の添加量と
しては、感光性樹脂に対して、通常５０００重量％以
下、好ましくは５００〜４０００重量％である。
を添加することができる。溶剤を添加することにより、
例えば塗布時の粘性挙動や保存安定性等の操作性が向上
する。溶剤としては、各成分と相溶すれば特に限定され
ないし、単独、混合のどちらでもよい。溶剤の添加量と
しては、感光性樹脂に対して、通常５０００重量％以
下、好ましくは５００〜４０００重量％である。
【００２７】本発明の感光性樹脂には、必要によりフィ
ラーを添加することができる。フィラーを添加すること
により、耐熱性、電気特性等を向上することができる。
フィラーとしては、例えば炭酸カルシウム、マイカ、カ
オリン、タルク、ケイ酸アルミニウム、硫酸バリウム、
微粉末シリカ、クレーが挙げられる。フィラーの添加量
としては、感光性樹脂に対して、通常５００重量％以
下、好ましくは５０〜２００重量％である。なおこれら
のうち２種類以上のフィラーを併用しても差し支えな
い。
ラーを添加することができる。フィラーを添加すること
により、耐熱性、電気特性等を向上することができる。
フィラーとしては、例えば炭酸カルシウム、マイカ、カ
オリン、タルク、ケイ酸アルミニウム、硫酸バリウム、
微粉末シリカ、クレーが挙げられる。フィラーの添加量
としては、感光性樹脂に対して、通常５００重量％以
下、好ましくは５０〜２００重量％である。なおこれら
のうち２種類以上のフィラーを併用しても差し支えな
い。
【００２８】本発明の感光性樹脂には、必要により着色
顔料や染料を添加することにより、着色することができ
る。着色用顔料としては、例えば、フタロシアニン系顔
料、酸化チタン、カーボンブラック等が挙げられ、染料
としては例えば、アゾ染料、アントラキノン染料、イン
ジゴイド染料、硫化染料、トリフェニルメタン染料、ピ
ラゾロン染料、スチルベン染料、ジフェニルメタン染
料、キサンテン染料、アリザリン染料、アクリジン染
料、キノンイミン染料、チアゾール染料、メチン染料、
ニトロ染料、ニトロソ染料等が挙げられる。添加量とし
ては、感光性樹脂に対して、通常５０重量％以下、好ま
しくは、０．５〜１０重量％である。なおこれらのうち
２種類以上を併用しても差し支えない。
顔料や染料を添加することにより、着色することができ
る。着色用顔料としては、例えば、フタロシアニン系顔
料、酸化チタン、カーボンブラック等が挙げられ、染料
としては例えば、アゾ染料、アントラキノン染料、イン
ジゴイド染料、硫化染料、トリフェニルメタン染料、ピ
ラゾロン染料、スチルベン染料、ジフェニルメタン染
料、キサンテン染料、アリザリン染料、アクリジン染
料、キノンイミン染料、チアゾール染料、メチン染料、
ニトロ染料、ニトロソ染料等が挙げられる。添加量とし
ては、感光性樹脂に対して、通常５０重量％以下、好ま
しくは、０．５〜１０重量％である。なおこれらのうち
２種類以上を併用しても差し支えない。
【００２９】本発明の感光性樹脂の使用対象物として
は、種々の無機物（鉄、アルミニウム、シリコン、銅、
これらの合金、ブリキ、トタン等の金属類；瓦、スレー
ト、タイル、ホウロウ、セメント、レンガ、ガラス等の
窯業製品等）および有機物（各種合成樹脂、紙類、繊維
製品、木材、皮革等）が挙げられる。
は、種々の無機物（鉄、アルミニウム、シリコン、銅、
これらの合金、ブリキ、トタン等の金属類；瓦、スレー
ト、タイル、ホウロウ、セメント、レンガ、ガラス等の
窯業製品等）および有機物（各種合成樹脂、紙類、繊維
製品、木材、皮革等）が挙げられる。
【００３０】適用方法としては、スピンコーター、エア
ドクタコーター、ブレードコーター、ナイフコーター、
ロッドコーター、正回転ロールコーター、リバースロー
ルコーター、グラビアコーター、ロータリースクリー
ン、キスコーター、ビードコーター、浸漬コーティン
グ、スロットオリフィスコーター、スプレーコーティン
グ、キャストコーティング、粉体コーティング、電着コ
ーティング、真空コーティング、押しだしコーティン
グ、ＬＢ法、刷毛塗り、ヘラ塗り等の方法が適用でき
る。
ドクタコーター、ブレードコーター、ナイフコーター、
ロッドコーター、正回転ロールコーター、リバースロー
ルコーター、グラビアコーター、ロータリースクリー
ン、キスコーター、ビードコーター、浸漬コーティン
グ、スロットオリフィスコーター、スプレーコーティン
グ、キャストコーティング、粉体コーティング、電着コ
ーティング、真空コーティング、押しだしコーティン
グ、ＬＢ法、刷毛塗り、ヘラ塗り等の方法が適用でき
る。
【００３１】硬化方法としては、通常の光照射による方
法が使用できる。照射光源としては、例えば、低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン
ランプ、メタルハロゲンランプ、電子線照射装置、Ｘ線
照射装置、レーザー（アルゴンレーザー、色素レーザ
ー、窒素レーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡ
Ｇレーザー等）等が挙げられる。
法が使用できる。照射光源としては、例えば、低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン
ランプ、メタルハロゲンランプ、電子線照射装置、Ｘ線
照射装置、レーザー（アルゴンレーザー、色素レーザ
ー、窒素レーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ＹＡ
Ｇレーザー等）等が挙げられる。
【００３２】現像方法としては、スプレー、浸漬等の方
法が使用可能である。現像液は、本発明の感光性樹脂を
溶解するならば特に限定されず、各種有機溶剤、アルカ
リ性、中性または酸性の水溶液、あるいは界面活性剤等
を添加した水溶液等が使用可能である。
法が使用可能である。現像液は、本発明の感光性樹脂を
溶解するならば特に限定されず、各種有機溶剤、アルカ
リ性、中性または酸性の水溶液、あるいは界面活性剤等
を添加した水溶液等が使用可能である。
【００３３】
【実施例】以下実施例により本発明を更に説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。以下において
部はそれぞれ重量部を示す。 ＜合成例＞アクリル酸と２−ヒドロキエチルアクリレー
トとの共重合体（モル比；アクリル酸：２−ヒドロキシ
エチルアクリレート＝６：４；Ｍｗ＝４４００）２．２
ｇと４−アジド−４’−グリシドキシカルコン２．０ｇ
とベンジルトリメチルアンモニウムクロライド０．３ｇ
とをメチルセロソルブ２５ｇに溶解し６０℃で２０時間
反応させて感光性樹脂溶液を得た。これを１５％テトラ
メチルアンモニウムヒドロキサイドで中和して水溶性と
した。
本発明はこれに限定されるものではない。以下において
部はそれぞれ重量部を示す。 ＜合成例＞アクリル酸と２−ヒドロキエチルアクリレー
トとの共重合体（モル比；アクリル酸：２−ヒドロキシ
エチルアクリレート＝６：４；Ｍｗ＝４４００）２．２
ｇと４−アジド−４’−グリシドキシカルコン２．０ｇ
とベンジルトリメチルアンモニウムクロライド０．３ｇ
とをメチルセロソルブ２５ｇに溶解し６０℃で２０時間
反応させて感光性樹脂溶液を得た。これを１５％テトラ
メチルアンモニウムヒドロキサイドで中和して水溶性と
した。
【００３４】＜実施例＞下記の比率で配合物を混合・溶
解した。 合成例で得た感光性樹脂溶液 １０部 ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ Ｋ−９０；ＩＳＰ社製） ７部 ノニルフェノールエチレンオキサイド １０モル付加物（ノニポール１００ ０．０３部 ；三洋化成工業（株）製） Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノ プロピルトリメトキシシラン ０．０７部 イオン交換水 ５０部 これをガラス板にスピンコーターで回転塗布し１．２μ
ｍ膜厚のフィルムを得た。これに２０μｍのラインアン
ドスペースをもつフォトマスクを密着し、２５０Ｗの超
高圧水銀灯で露光したのち２５℃のイオン交換水に３０
秒間浸漬して現像した。この現像前後の膜厚の比率から
残膜率を測定し、残膜率が５０％になるのに要する露光
エネルギー量を測定したところ、３．４ｍＪ／ｃｍ2 と
なった。これとの比較のために、特開昭６４−１３５４
０号公報に記載されているのと同様の感光性樹脂組成物
を下記の様に調製して同様に評価し、５０％の残膜率と
なる露光エネルギーを測定したところ９．２ｍＪ／ｃｍ
2 となった。 アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体 ５部 （モル比６０：４０） アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体 ５部 （モル比７２：２８） ４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’− ジスルフォン酸ナトリウム ２部 ノニルフェノールエチレンオキサイド １０モル付加物（ノニポール１００ ０．０５部 ；三洋化成工業（株）製） イオン交換水 ９０部 従って本発明の感光性樹脂を含有する組成物は、従来の
感光性樹脂組成物に比べて２．７倍高感度である。
解した。 合成例で得た感光性樹脂溶液 １０部 ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ Ｋ−９０；ＩＳＰ社製） ７部 ノニルフェノールエチレンオキサイド １０モル付加物（ノニポール１００ ０．０３部 ；三洋化成工業（株）製） Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノ プロピルトリメトキシシラン ０．０７部 イオン交換水 ５０部 これをガラス板にスピンコーターで回転塗布し１．２μ
ｍ膜厚のフィルムを得た。これに２０μｍのラインアン
ドスペースをもつフォトマスクを密着し、２５０Ｗの超
高圧水銀灯で露光したのち２５℃のイオン交換水に３０
秒間浸漬して現像した。この現像前後の膜厚の比率から
残膜率を測定し、残膜率が５０％になるのに要する露光
エネルギー量を測定したところ、３．４ｍＪ／ｃｍ2 と
なった。これとの比較のために、特開昭６４−１３５４
０号公報に記載されているのと同様の感光性樹脂組成物
を下記の様に調製して同様に評価し、５０％の残膜率と
なる露光エネルギーを測定したところ９．２ｍＪ／ｃｍ
2 となった。 アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体 ５部 （モル比６０：４０） アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体 ５部 （モル比７２：２８） ４，４’−ジアジドスチルベン−２，２’− ジスルフォン酸ナトリウム ２部 ノニルフェノールエチレンオキサイド １０モル付加物（ノニポール１００ ０．０５部 ；三洋化成工業（株）製） イオン交換水 ９０部 従って本発明の感光性樹脂を含有する組成物は、従来の
感光性樹脂組成物に比べて２．７倍高感度である。
【００３５】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂は、３００ｎｍ以上
に吸収波長域を持つアジド基を分子内に１個以上持つた
め高感度となる。従ってこの感光性樹脂は、例えばＬＳ
Ｉ用フォトレジスト、プリント基板用エッチングフォト
レジスト、プリント基板用フォトソルダーレジスト、プ
リント基板用電着レジスト、各種印刷版（平版、凹版、
凸版、グラビア版、フレキソ版等）製造用フォトレジス
ト、サンドブラスト用レリーフマスク、装飾用図柄作成
用フォトレジスト、スクリーン印刷版製造用フォトレジ
スト、ネームプレート製造用フォトレジスト、ブラウン
管ブラックマトリックス製造用フォトレジスト、ブラウ
ン管蛍光面製造用フォトレジスト、金属エッチング加工
用フォトレジスト、液晶ディスプレーＩＴＯパターン製
造用フォトレジスト、液晶ディスプレー用カラーフィル
ター製造用フォトレジスト、光接着剤、紫外線硬化イン
キ、紫外線硬化塗料、イオン交換樹脂（膜）、選択透過
性膜、固定化酵素膜等に有用である。
に吸収波長域を持つアジド基を分子内に１個以上持つた
め高感度となる。従ってこの感光性樹脂は、例えばＬＳ
Ｉ用フォトレジスト、プリント基板用エッチングフォト
レジスト、プリント基板用フォトソルダーレジスト、プ
リント基板用電着レジスト、各種印刷版（平版、凹版、
凸版、グラビア版、フレキソ版等）製造用フォトレジス
ト、サンドブラスト用レリーフマスク、装飾用図柄作成
用フォトレジスト、スクリーン印刷版製造用フォトレジ
スト、ネームプレート製造用フォトレジスト、ブラウン
管ブラックマトリックス製造用フォトレジスト、ブラウ
ン管蛍光面製造用フォトレジスト、金属エッチング加工
用フォトレジスト、液晶ディスプレーＩＴＯパターン製
造用フォトレジスト、液晶ディスプレー用カラーフィル
ター製造用フォトレジスト、光接着剤、紫外線硬化イン
キ、紫外線硬化塗料、イオン交換樹脂（膜）、選択透過
性膜、固定化酵素膜等に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｆ 6921−4Ｅ
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中、ｎは１〜１０の整数）で表される基を分子中に
少なくとも１個有する感光性樹脂。 - 【請求項２】 一般式 【化２】 （式中、ｎは１〜１０の整数）で表される化合物（Ａ）
と、エポキシドと反応しうる活性基を分子中に少なくと
も１個有するポリマー（Ｂ）との反応から誘導された請
求項１記載の感光性樹脂。 - 【請求項３】 該ポリマー（Ｂ）がビニル系ポリマーで
ある請求項１または２いずれか記載の感光性樹脂。 - 【請求項４】 該樹脂が水溶性である請求項１〜３いず
れか記載の感光性樹脂。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP5071091A JPH06258823A (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | 感光性樹脂 |
| TW83100816A TW260759B (ja) | 1993-03-05 | 1994-02-01 | |
| US08/191,218 US5424368A (en) | 1993-03-05 | 1994-02-03 | Photosensitive resin comprising a polymer having an azide group in the side chain |
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| CN94102642A CN1102260A (zh) | 1993-03-05 | 1994-03-05 | 感光性树脂 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5071091A JPH06258823A (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | 感光性樹脂 |
Publications (1)
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|---|---|
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Family
ID=13450526
Family Applications (1)
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| CN (1) | CN1102260A (ja) |
| DE (1) | DE4407292A1 (ja) |
| TW (1) | TW260759B (ja) |
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| JPH09157652A (ja) * | 1995-12-07 | 1997-06-17 | Nitto Denko Corp | 架橋型液晶ポリマー及びその配向フィルム |
| JPH112716A (ja) * | 1997-06-13 | 1999-01-06 | Canon Inc | カラーフィルタ、これを用いた液晶素子及びこれらの製造方法、並びに該製造方法に用いられるインクジェット用インク |
| JP2917989B1 (ja) * | 1998-03-16 | 1999-07-12 | 日本電気株式会社 | 多孔状感光体及びその作製法 |
| US6348299B1 (en) * | 1999-07-12 | 2002-02-19 | International Business Machines Corporation | RIE etch resistant nonchemically amplified resist composition and use thereof |
| CN101813887B (zh) * | 2010-04-12 | 2012-05-09 | 东莞长联新材料科技有限公司 | 一种提高重氮感光胶热稳定性的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6045239A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 微細パタ−ンの製造法 |
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|---|---|---|---|---|
| GB1512814A (en) * | 1975-08-13 | 1978-06-01 | Ciba Geigy Ag | Epoxide resins |
| US4229514A (en) * | 1978-12-29 | 1980-10-21 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Photosensitive composition |
| JP2643155B2 (ja) * | 1987-07-08 | 1997-08-20 | 株式会社日立製作所 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| US5254431A (en) * | 1988-02-03 | 1993-10-19 | Vickers Plc | Radiation-sensitive polymers having sulfonyl urthane side chains and azide containing side chains in a mixture with diazo compounds containing |
| JP2628692B2 (ja) * | 1988-05-31 | 1997-07-09 | 株式会社日立製作所 | パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 |
| JPH0450205A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-19 | Hitachi Ltd | 水溶性感光性化合物およびその合成方法とそれを用いた感光性組成物 |
-
1993
- 1993-03-05 JP JP5071091A patent/JPH06258823A/ja active Pending
-
1994
- 1994-02-01 TW TW83100816A patent/TW260759B/zh active
- 1994-02-03 US US08/191,218 patent/US5424368A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-04 KR KR1019940004177A patent/KR940022195A/ko active IP Right Grant
- 1994-03-04 DE DE19944407292 patent/DE4407292A1/de not_active Withdrawn
- 1994-03-05 CN CN94102642A patent/CN1102260A/zh active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6045239A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 微細パタ−ンの製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940022195A (ko) | 1994-10-20 |
| DE4407292A1 (de) | 1994-09-08 |
| TW260759B (ja) | 1995-10-21 |
| CN1102260A (zh) | 1995-05-03 |
| US5424368A (en) | 1995-06-13 |
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