KR940022195A - 감광성수지 - Google Patents

감광성수지 Download PDF

Info

Publication number
KR940022195A
KR940022195A KR1019940004177A KR19940004177A KR940022195A KR 940022195 A KR940022195 A KR 940022195A KR 1019940004177 A KR1019940004177 A KR 1019940004177A KR 19940004177 A KR19940004177 A KR 19940004177A KR 940022195 A KR940022195 A KR 940022195A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photosensitive resin
polymer
group
molecule
resin according
Prior art date
Application number
KR1019940004177A
Other languages
English (en)
Inventor
타다카즈 미야자키
마사히데 미즈모리
미키 모토무라
Original Assignee
우라타 야스오
산요카세이코교 가부시기가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 우라타 야스오, 산요카세이코교 가부시기가이샤 filed Critical 우라타 야스오
Publication of KR940022195A publication Critical patent/KR940022195A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/44—Preparation of metal salts or ammonium salts
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/008—Azides
    • G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2800/00—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
    • C08F2800/10—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as molar percentages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

본 발명은, 화학식(I)
(단, 식중, n은 1~10정수를 표시함.)로 표시되는 기를 분자속에 적어도 1개 가진 감광성수지에 관한 것이다.
본 발명의 감광성수지는, 300nm이상의 흡수파장영역을 가진 아지도기를 분자내에 1개이상 가지므로서 고감도의 감광성수지가 된다. 따라서 이 감광성수지는, 이 파장영역의 광을 투과하는 공업적으로 저렴한 유제피복제 포토마스크 혹은 소다유리제의 포토마스크의 사용이 가능해진다. 따라서 본 발명의 감광성수지는, 포토레지스트로서 유용하다.

Description

감광성수지
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. 화학식(1)
    (단, 식중, n은 1~10의 정수를 표시함.)로 표시되는 기를 분자속에 적어도 1개 가진 것을 특징으로 하는 감광성수지.
  2. 제1항에 있어서, 화학식(2)
    (단, 식중, n은 1~10의 정수를 표시함.)로 표시되는 화합물(A)과, 에폭시드와 반응할 수 있는 활성기를 분자속에 적어도 1개 가진 폴리머(B)와의 반응으로부터 유도된 것을 특징으로 하는 감광성수지.
  3. 제1항 또는 제2항의 어느한항에 있어서, 폴리머(B)속에 에폭시드와 반응할 수 있는 활성기가, 카르복실기, 아미노기, 또는 페놀성수산기로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종의 기인 것을 특징으로 하는 감광성수지.
  4. 제1항~제3항의 어느한항에 있어서, 폴리머(B)가, 분자내에 카르복실기를 가진 비닐계 폴리머인 것을 특징으로 하는 감광성수지.
  5. 제1항 ~제4항의 어느한항에 있어서, 폴리머(B)가 (메타)아크릴산의 단독중합체 또는 공중합체인 것을 특징으로 하는 감광성수지.
  6. 제1항 ~제5항의 어느한항에 있어서, 폴리머(B)가, 말레산 또는 말레산모노에스테르의 단독중합체 또는 공중합체인 것을 특징으로 하는 감광성수지.
  7. 제1항 ~제3항의 어느한항에 있어서, 폴리머(B)가 아미노기를 가진 비닐계폴리머인 것을 특징으로 하는 감광성수지.
  8. 제1항 ~제3항의 어느한항에 있어서, 폴리머(B)가 페놀수지인 것을 특징으로 하는 감광성수지.
  9. 제1항 ~제8항의 어느한항에 있어서, 감광성수지가 수용성의 감광성수지인 것을 특징으로 하는 감광성수지.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940004177A 1993-03-05 1994-03-04 감광성수지 KR940022195A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5071091A JPH06258823A (ja) 1993-03-05 1993-03-05 感光性樹脂
JP93-71091 1993-03-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR940022195A true KR940022195A (ko) 1994-10-20

Family

ID=13450526

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940004177A KR940022195A (ko) 1993-03-05 1994-03-04 감광성수지

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5424368A (ko)
JP (1) JPH06258823A (ko)
KR (1) KR940022195A (ko)
CN (1) CN1102260A (ko)
DE (1) DE4407292A1 (ko)
TW (1) TW260759B (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5725978A (en) * 1995-01-31 1998-03-10 Basf Aktiengesellschaft Water-soluble photosensitive resin composition and a method of forming black matrix patterns using the same
JPH09157652A (ja) * 1995-12-07 1997-06-17 Nitto Denko Corp 架橋型液晶ポリマー及びその配向フィルム
JPH112716A (ja) 1997-06-13 1999-01-06 Canon Inc カラーフィルタ、これを用いた液晶素子及びこれらの製造方法、並びに該製造方法に用いられるインクジェット用インク
JP2917989B1 (ja) * 1998-03-16 1999-07-12 日本電気株式会社 多孔状感光体及びその作製法
US6348299B1 (en) * 1999-07-12 2002-02-19 International Business Machines Corporation RIE etch resistant nonchemically amplified resist composition and use thereof
CN101813887B (zh) * 2010-04-12 2012-05-09 东莞长联新材料科技有限公司 一种提高重氮感光胶热稳定性的方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1512814A (en) * 1975-08-13 1978-06-01 Ciba Geigy Ag Epoxide resins
US4229514A (en) * 1978-12-29 1980-10-21 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Photosensitive composition
JPS6045239A (ja) * 1983-08-22 1985-03-11 Hitachi Chem Co Ltd 微細パタ−ンの製造法
JP2643155B2 (ja) * 1987-07-08 1997-08-20 株式会社日立製作所 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
US5254431A (en) * 1988-02-03 1993-10-19 Vickers Plc Radiation-sensitive polymers having sulfonyl urthane side chains and azide containing side chains in a mixture with diazo compounds containing
JP2628692B2 (ja) * 1988-05-31 1997-07-09 株式会社日立製作所 パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法
JPH0450205A (ja) * 1990-06-18 1992-02-19 Hitachi Ltd 水溶性感光性化合物およびその合成方法とそれを用いた感光性組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06258823A (ja) 1994-09-16
DE4407292A1 (de) 1994-09-08
CN1102260A (zh) 1995-05-03
TW260759B (ko) 1995-10-21
US5424368A (en) 1995-06-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960008428A (ko) 화학적으로 증폭된 방사선-민감성 조성물
KR950704369A (ko) 산 내식성 필름을 제공하는 수성 아미노플라스트-경화성 필름 형성조성물(aqueous aminoplast-curable film-forming compositions providing films having resistance to acid etching)
ATE437929T1 (de) Wässerige dispersion und beschichtete gegenstände
EP0780732A3 (en) Polymer composition and resist material
KR910006776A (ko) 포지티브-작용성 방사선-감수성 혼합물 및 이로부터 제조된 방사선-감수성 복사물질
KR880014418A (ko) 폴리실란 및 감광성 조성물
KR940022180A (ko) 양성 감광성 조성물
KR940022195A (ko) 감광성수지
KR920702395A (ko) 수지 조성물 및 이를 사용하여 제조된 광학제품
CN1090342C (zh) 化学增强的光刻胶
ATE106093T1 (de) Auf wasser basierende firnisse.
KR930008964A (ko) 포토레지스트조성물 및 포토레지스트의 노광방법
KR960071390A (ko) 착색 감광성 수지 조성물(Colored photosensitive resin composition)
KR960017796A (ko) 메트아크릴산 트리플루오로에틸을 주성분으로 하는 광(光) 교차결합 가능 조성물과 그 제조방법
KR920003102A (ko) 내식막 조성물
KR920702890A (ko) 포지티브 레지스트 조성물
KR970010866A (ko) 에폭시-함유 수계 광영상화 조성물
BR0209878A (pt) Composição de resina não-saturada curável
KR930019618A (ko) (1,2-나프토퀴논 2-디아지드)설폰산 에스테르, 이를 사용하여 제조된 방사선-감수성 혼합물 및 방사선-감수성 기록 물질
KR900003686A (ko) 포지티브-워킹 레지스트조성물용 현상액
KR101036501B1 (ko) 포지티브형 레지스트 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법
KR940021678A (ko) 오염방지 페인트 조성물
KR950014988A (ko) 화학 증폭형 레지스트 조성물
ATE82764T1 (de) Elastische lackzusammensetzung.
KR960029906A (ko) 레지스트 재료

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
NORF Unpaid initial registration fee