JP2628692B2 - パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 - Google Patents
パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法Info
- Publication number
- JP2628692B2 JP2628692B2 JP63134177A JP13417788A JP2628692B2 JP 2628692 B2 JP2628692 B2 JP 2628692B2 JP 63134177 A JP63134177 A JP 63134177A JP 13417788 A JP13417788 A JP 13417788A JP 2628692 B2 JP2628692 B2 JP 2628692B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copolymer
- water
- coating film
- monomer unit
- photosensitive composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/04—Chromates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、水溶性感光性組成物を用いたパターン形成
方法及びそのようなパターン形成方法を用いたカラーブ
ラウン管の製造方法に関する。
方法及びそのようなパターン形成方法を用いたカラーブ
ラウン管の製造方法に関する。
従来のパターン形成方法の一例として、特開昭48−90
185、特開昭50−33764にはカラーブラウン管のブラック
マトリックスの製造方法及びこれに用いる感光性組成物
が記載されている。この方法は、相反則不軌特性を有す
る感光性組成物、例えばアクリルアミド−ジアセトンア
クリルアミド共重合体等の高分子化合物とビスアジド系
架橋剤とからなる組成物、を用いて光照射区域より実質
的に小面積のパターンを形成する方法である。
185、特開昭50−33764にはカラーブラウン管のブラック
マトリックスの製造方法及びこれに用いる感光性組成物
が記載されている。この方法は、相反則不軌特性を有す
る感光性組成物、例えばアクリルアミド−ジアセトンア
クリルアミド共重合体等の高分子化合物とビスアジド系
架橋剤とからなる組成物、を用いて光照射区域より実質
的に小面積のパターンを形成する方法である。
これについて詳しく説明する。ブラックマトリックス
型カラーブラウン管は、パネル内面に赤、青、緑のけい
光体ドット又はストライプ等のけい光体パターンを有
し、その間の空隙をカーボン等の非発光性光吸収性物質
で埋めた構造を有する。以下、説明の便宜のためドット
の場合について、その製造方法を述べる。まずカラーブ
ラウン管フェースプレート内面に、前記相反則不軌特性
を有する感光性組成物の塗膜を形成し、けい光体ドット
を形成する位置をシャドウマスクを介して露光し、現像
して感光性組成物のドットを形成する。この上にカーボ
ンを塗布し、ドットを剥離液でその上のカーボンと共に
除去する。かくてブラックマトリックスのホールが形成
される。このホールに順次赤、青、緑のけい光体ドット
を形成する。相反則不軌特性を有する感光性組成物を用
いているため、上記感光性組成物のドットの面積、すな
わちけい光体ドットの面積はシャドウマスクを介して光
照射された面積より実質的に小さい。従ってこのシャド
ウマスクを用いてカラーブラウン管を完成すれば、上記
シャドウマスクの穴を通って照射される電子ビームの直
径は、けい光ドットのそれより大きい。それ故、製造し
たカラーブラウン管は明るく、コントラストに優れてい
る。
型カラーブラウン管は、パネル内面に赤、青、緑のけい
光体ドット又はストライプ等のけい光体パターンを有
し、その間の空隙をカーボン等の非発光性光吸収性物質
で埋めた構造を有する。以下、説明の便宜のためドット
の場合について、その製造方法を述べる。まずカラーブ
ラウン管フェースプレート内面に、前記相反則不軌特性
を有する感光性組成物の塗膜を形成し、けい光体ドット
を形成する位置をシャドウマスクを介して露光し、現像
して感光性組成物のドットを形成する。この上にカーボ
ンを塗布し、ドットを剥離液でその上のカーボンと共に
除去する。かくてブラックマトリックスのホールが形成
される。このホールに順次赤、青、緑のけい光体ドット
を形成する。相反則不軌特性を有する感光性組成物を用
いているため、上記感光性組成物のドットの面積、すな
わちけい光体ドットの面積はシャドウマスクを介して光
照射された面積より実質的に小さい。従ってこのシャド
ウマスクを用いてカラーブラウン管を完成すれば、上記
シャドウマスクの穴を通って照射される電子ビームの直
径は、けい光ドットのそれより大きい。それ故、製造し
たカラーブラウン管は明るく、コントラストに優れてい
る。
上記従来技術は、カラーブラウン管の大型化について
配慮されておらず、大型のカラーブラウン管製造の場
合、露光面が光源から離れるため露光面における照度が
下がり、露光に長時間要するという問題があった。
配慮されておらず、大型のカラーブラウン管製造の場
合、露光面が光源から離れるため露光面における照度が
下がり、露光に長時間要するという問題があった。
本発明の第１の目的は、高感度な感光性組成物を用い
たパターン形成方法を提供することにある。本発明の第
２の目的は、そのようなパターン形成方法を用いたカラ
ーブラウン管の製造方法を提供することにある。
たパターン形成方法を提供することにある。本発明の第
２の目的は、そのようなパターン形成方法を用いたカラ
ーブラウン管の製造方法を提供することにある。
上記第１の目的を達成するために、本発明のパターン
形成方法は、 （１）所望のパターンを形成しようとする面上に、水溶
性非感光性モノマー単位並びにアジド基及び電解性官能
基を有するモノマー単位を少なくとも含む共重合体と、
上記共重合体と反応し、相反則不軌特性を示す水溶性高
分子化合物とよりなる感光性組成物の塗膜を形成し、 （２）この感光性組成物の塗膜に、酸素の存在する条件
において、所望のパターンの露光を行い、 （３）上記塗膜を現像して光照射区域より実質的に小さ
い面積のパターンを形成するようにしたものである。
形成方法は、 （１）所望のパターンを形成しようとする面上に、水溶
性非感光性モノマー単位並びにアジド基及び電解性官能
基を有するモノマー単位を少なくとも含む共重合体と、
上記共重合体と反応し、相反則不軌特性を示す水溶性高
分子化合物とよりなる感光性組成物の塗膜を形成し、 （２）この感光性組成物の塗膜に、酸素の存在する条件
において、所望のパターンの露光を行い、 （３）上記塗膜を現像して光照射区域より実質的に小さ
い面積のパターンを形成するようにしたものである。
また、上記第２の目的を達成するために、本発明のカ
ラーブラウン管の製造方法は、 （１）カラーブラウン管フェースプレート内面に、水溶
性非感光性モノマー単位並びにアジド基及び電解性官能
基を有するモノマー単位を少なくとも含む共重合体と、
上記共重合体と反応し、相反則不軌特性を示す水溶性高
分子化合物とよりなる感光性組成物の塗膜を形成し、 （２）この塗膜のけい光体ドット又はストライプを形成
する位置を、酸素の存在する条件において、シャドウマ
スクを介して露光し、現像して感光性組成物のドット又
はストライプを形成し、 （３）この上に非発光性光吸収性物質を塗布し、ドット
又はストライプを剥離液でその上の非発光性光吸収性物
質と共に除去し、ブラックマトリックスのホール又はス
トライプを形成するようにしたものである。
ラーブラウン管の製造方法は、 （１）カラーブラウン管フェースプレート内面に、水溶
性非感光性モノマー単位並びにアジド基及び電解性官能
基を有するモノマー単位を少なくとも含む共重合体と、
上記共重合体と反応し、相反則不軌特性を示す水溶性高
分子化合物とよりなる感光性組成物の塗膜を形成し、 （２）この塗膜のけい光体ドット又はストライプを形成
する位置を、酸素の存在する条件において、シャドウマ
スクを介して露光し、現像して感光性組成物のドット又
はストライプを形成し、 （３）この上に非発光性光吸収性物質を塗布し、ドット
又はストライプを剥離液でその上の非発光性光吸収性物
質と共に除去し、ブラックマトリックスのホール又はス
トライプを形成するようにしたものである。
本発明において、上記共重合体は、水溶性非感光性の
第一のモノマー単位と、アジド基及び電解性官能基を有
する第二のモノマー単位とを含む水溶性ポリマーであ
る。モノマー単位とは、モノマーが重合したときの構造
を示し、上記置換基を有するモノマーが重合した構造と
同じ構造を意味する。従って、上記置換基を有するモノ
マーを重合させても、あるいは他のモノマーを重合させ
てから化学反応によって上記置換基を結合させてもこの
ようなモノマー単位とすることができる。
第一のモノマー単位と、アジド基及び電解性官能基を有
する第二のモノマー単位とを含む水溶性ポリマーであ
る。モノマー単位とは、モノマーが重合したときの構造
を示し、上記置換基を有するモノマーが重合した構造と
同じ構造を意味する。従って、上記置換基を有するモノ
マーを重合させても、あるいは他のモノマーを重合させ
てから化学反応によって上記置換基を結合させてもこの
ようなモノマー単位とすることができる。
本発明の共重合体において、上記第一のモノマー単位
すなわち水溶性非感光性のモノマー単位の量は、共重合
体中の10〜40％の範囲であることが好ましい。10％未満
では共重合体の水への溶解度が低い。上記第二のモノマ
ー単位の量は、共重合体中の90％未満、10％以上である
ことが好ましく、80〜15％の範囲であることがより好ま
しい。10％未満では感度が低下する。また第一及び第二
のモノマー単位はそれぞれ一種類であっても二種以上で
あってもよい。
すなわち水溶性非感光性のモノマー単位の量は、共重合
体中の10〜40％の範囲であることが好ましい。10％未満
では共重合体の水への溶解度が低い。上記第二のモノマ
ー単位の量は、共重合体中の90％未満、10％以上である
ことが好ましく、80〜15％の範囲であることがより好ま
しい。10％未満では感度が低下する。また第一及び第二
のモノマー単位はそれぞれ一種類であっても二種以上で
あってもよい。
本発明の共重合体における水溶性非感光性の第一のモ
ノマー単位としては、例えばマイレン酸、アクリル酸、
メタクリル酸、スチレンスルホン酸、２−アクリルアミ
ド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸等の重合した
構造単位等が用いられる。
ノマー単位としては、例えばマイレン酸、アクリル酸、
メタクリル酸、スチレンスルホン酸、２−アクリルアミ
ド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸等の重合した
構造単位等が用いられる。
また第二のモノマー単位としては、例えばビニルアジ
ドベンジリデンアセトフェノンスルホン酸（式〔Ｉ〕,X
＝SO3H）、ビニルアジドベンジリデンアセトフェノンカ
ルボン酸（式〔Ｉ〕,X＝COOH）、ビニルアジドシンナミ
リデンアセトフェノンスルホン酸（式〔II〕,X＝SO
3H）、ビニルアジドシンナミリデンアセトフェノンカル
ボン酸（式〔II〕,X＝COOH）又はこれらの塩、例えばア
ンモニウム塩、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等
の重合した構造単位等が用いられる。
ドベンジリデンアセトフェノンスルホン酸（式〔Ｉ〕,X
＝SO3H）、ビニルアジドベンジリデンアセトフェノンカ
ルボン酸（式〔Ｉ〕,X＝COOH）、ビニルアジドシンナミ
リデンアセトフェノンスルホン酸（式〔II〕,X＝SO
3H）、ビニルアジドシンナミリデンアセトフェノンカル
ボン酸（式〔II〕,X＝COOH）又はこれらの塩、例えばア
ンモニウム塩、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等
の重合した構造単位等が用いられる。
本発明の共重合体は、上記第一及び第二のモノマー単
位以外に第三のモノマー単位を含んでいてもよい。また
この第三のモノマー単位も一種類であっても二種類以上
であってもよい。
位以外に第三のモノマー単位を含んでいてもよい。また
この第三のモノマー単位も一種類であっても二種類以上
であってもよい。
本発明の感光性組成物は、前述の如く上記共重合体
と、この共重合体と反応して相反則不軌特性を示す水溶
液高分子化合物よりなる。両者の比率は、共重合体の量
が水溶性高分子化合物に対し１〜50wt％の範囲であるこ
とが好ましく、５〜30wt％の範囲であることがより好ま
しい。このような水溶性高分子化合物は、アクリルアミ
ドジアセトンアクリルアミド共重合体、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン共重合
体等であり、塗膜としたときO2透過性に優れるものが好
ましい。
と、この共重合体と反応して相反則不軌特性を示す水溶
液高分子化合物よりなる。両者の比率は、共重合体の量
が水溶性高分子化合物に対し１〜50wt％の範囲であるこ
とが好ましく、５〜30wt％の範囲であることがより好ま
しい。このような水溶性高分子化合物は、アクリルアミ
ドジアセトンアクリルアミド共重合体、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン共重合
体等であり、塗膜としたときO2透過性に優れるものが好
ましい。
本発明の感光性組成物は、上記水溶性高分子化合物と
相溶性を持つ他の水溶性高分子材料、例えばカルボキシ
メチルセルロース等を加えて用いることができる。これ
については前記の特開昭48−90185、特開昭50−33764等
に記載されている。また、塗料としたときの特性の改良
等のために、感光性組成物にポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル等の界面活性剤又はエチレングリコール等を
加えること、基板との接着性改良のためにビニルトリス
（β−メトキシエトキシ）シラン等のカップリング剤を
感光性組成物に加えることも前記の公報に記載されてお
り、本発明の場合もこのような方法を用いることができ
る。
相溶性を持つ他の水溶性高分子材料、例えばカルボキシ
メチルセルロース等を加えて用いることができる。これ
については前記の特開昭48−90185、特開昭50−33764等
に記載されている。また、塗料としたときの特性の改良
等のために、感光性組成物にポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル等の界面活性剤又はエチレングリコール等を
加えること、基板との接着性改良のためにビニルトリス
（β−メトキシエトキシ）シラン等のカップリング剤を
感光性組成物に加えることも前記の公報に記載されてお
り、本発明の場合もこのような方法を用いることができ
る。
本発明のパターン形成方法は、気体の酸素の存在する
条件で露光を行うことが必要である。またシュバルツシ
ルツ定数ｐの値が０＜ｐ＜0.76の範囲で露光することが
好ましい。シュバルツシルツ定数と相反則不軌特性につ
いては前記公報に記載されている。
条件で露光を行うことが必要である。またシュバルツシ
ルツ定数ｐの値が０＜ｐ＜0.76の範囲で露光することが
好ましい。シュバルツシルツ定数と相反則不軌特性につ
いては前記公報に記載されている。
ビニルアジトベンジリデンアセトフェノンスルホン酸
を用いた共重合体は、340nm付近に最大吸収波長があ
り、超高圧水銀灯から発する励起光の内、特に365nmの
波長の光をよく吸収する。他の共重合体も最大吸収波長
の値は少し異なるが、同様な効果を持つ。またこの共重
合体は、従来のビスアジド化合物より高分子であり１分
子中に多くのアジド基を持つ。そのため同一露光量にお
いて架橋点の数に対する架橋後の分子量の増加率が上が
るので感光性組成物として高感度となる。さらに共重合
体が水溶性非感光性モノマー単位を有するので水溶性で
ある。
を用いた共重合体は、340nm付近に最大吸収波長があ
り、超高圧水銀灯から発する励起光の内、特に365nmの
波長の光をよく吸収する。他の共重合体も最大吸収波長
の値は少し異なるが、同様な効果を持つ。またこの共重
合体は、従来のビスアジド化合物より高分子であり１分
子中に多くのアジド基を持つ。そのため同一露光量にお
いて架橋点の数に対する架橋後の分子量の増加率が上が
るので感光性組成物として高感度となる。さらに共重合
体が水溶性非感光性モノマー単位を有するので水溶性で
ある。
以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明する。
実施例１〜３ マイレン酸−４−ビニルモノアジドベンジリデンアセ
トフェノンスルホン酸ナトリウム共重合体〔III〕の合
成について述べる。
トフェノンスルホン酸ナトリウム共重合体〔III〕の合
成について述べる。
ポリ（スチレン−無水マイレン酸（75％スチレン，分
子量:1900,ポリサイエンス，インク社製）16gをクロロ
ホルム50ml、二硫化炭素50mlの混合溶媒に溶解した。こ
の溶液を、塩化アセチル25gと無水塩化アルミニウム43g
とをクロロホルム100ml、二硫化炭素100mlの混合溶媒に
溶解した溶液に室温で撹拌しながら滴下した。その後加
熱して２時間撹拌しながら還流させた。放冷した後、ろ
別し、不溶化物を乾燥した。これを粉末化した後、多量
の水で処理してよく水洗した後乾燥した。得られたポリ
マーはマイレン酸−４−ビニルアセトフェノン共重合体
〔IV〕である。ただしスチレン単位が約10％、すなわち
共重合体全体の7.5％未反応のまま残っている。
子量:1900,ポリサイエンス，インク社製）16gをクロロ
ホルム50ml、二硫化炭素50mlの混合溶媒に溶解した。こ
の溶液を、塩化アセチル25gと無水塩化アルミニウム43g
とをクロロホルム100ml、二硫化炭素100mlの混合溶媒に
溶解した溶液に室温で撹拌しながら滴下した。その後加
熱して２時間撹拌しながら還流させた。放冷した後、ろ
別し、不溶化物を乾燥した。これを粉末化した後、多量
の水で処理してよく水洗した後乾燥した。得られたポリ
マーはマイレン酸−４−ビニルアセトフェノン共重合体
〔IV〕である。ただしスチレン単位が約10％、すなわち
共重合体全体の7.5％未反応のまま残っている。
つぎにこの共重合体〔IV〕1g、４−アジドベンズアル
デヒド−２−スルホン酸ナトリウム2g、カセイソーダ0.
3gをエチルアルコール40mlと水40mlの混合溶媒に溶解す
る。そして室温で表１記載の時間放置し、析出した沈殿
物をろ別し、乾燥し、マイレン酸−４−ビニルモノアジ
ドベンジリデンアセトンフェノンスルホン酸ナトリウム
〔III〕を得た。
デヒド−２−スルホン酸ナトリウム2g、カセイソーダ0.
3gをエチルアルコール40mlと水40mlの混合溶媒に溶解す
る。そして室温で表１記載の時間放置し、析出した沈殿
物をろ別し、乾燥し、マイレン酸−４−ビニルモノアジ
ドベンジリデンアセトンフェノンスルホン酸ナトリウム
〔III〕を得た。
アジド化モノマー単位は全共重合体中の割合である。
すなわち実施例１ではマイレン酸単位25％、スチレン単
位7.5％、ビニルアセトフェノン単位55.5％、ビニルモ
ノアジドベンジリデンアセトフェノンスルホン酸単位12
％の共重合体である。
すなわち実施例１ではマイレン酸単位25％、スチレン単
位7.5％、ビニルアセトフェノン単位55.5％、ビニルモ
ノアジドベンジリデンアセトフェノンスルホン酸単位12
％の共重合体である。
実施例４ マイレン酸−４−ビニルモノアジドシンナミリデンア
セトフェノンスルホン酸ナトリウム共重合体〔Ｖ〕の合
成について述べる。
セトフェノンスルホン酸ナトリウム共重合体〔Ｖ〕の合
成について述べる。
実施例１で合成したマイレン酸−４−ビニルアセトフ
ェノン共重合体〔IV〕1g、４−アジドジンナムアルデヒ
ド−２−スルホン酸ナトリウム2g、カセイソーダ0.3gを
エチルアルコール40mlと水40mlの混合溶液に溶解し、室
温に24時間放置する。生じた沈殿物をろ別し、乾燥し、
マイレン酸−４−ビニモノアジドシンナミリデンアセト
フェノンスルホン酸ナトリウム共重合体〔Ｖ〕を得た。
この共重合体は、マイレン酸単位25％、スチレン単位7.
5％、ビニルアセトフェノン単位50.5％、ビニルモノア
ジドシンナミリデンアセトフェノンスルホン酸ナトリウ
ム単位17％からなる。
ェノン共重合体〔IV〕1g、４−アジドジンナムアルデヒ
ド−２−スルホン酸ナトリウム2g、カセイソーダ0.3gを
エチルアルコール40mlと水40mlの混合溶液に溶解し、室
温に24時間放置する。生じた沈殿物をろ別し、乾燥し、
マイレン酸−４−ビニモノアジドシンナミリデンアセト
フェノンスルホン酸ナトリウム共重合体〔Ｖ〕を得た。
この共重合体は、マイレン酸単位25％、スチレン単位7.
5％、ビニルアセトフェノン単位50.5％、ビニルモノア
ジドシンナミリデンアセトフェノンスルホン酸ナトリウ
ム単位17％からなる。
実施例５〜８ 実施例１〜４で得たジアド基を有する共重合体を用
い、下記の組成の感光性組成物の溶液を調製した。これ
をガラス板に0.5〜0.7μｍの厚さに回転塗布し、乾燥し
て塗膜とした。
い、下記の組成の感光性組成物の溶液を調製した。これ
をガラス板に0.5〜0.7μｍの厚さに回転塗布し、乾燥し
て塗膜とした。
組成： アクリルアミド・ジアセトンアクリルアミド共重合体
（共重合比；アクリルアミド２、ジアセントアクリルア
ミド１） 2.0％ アジド基を有する共重合体 0.44％ ソルビトール 0.02％ エチレングリコール ２％ シランカップリング剤 0.002％ 水 残余 アジド基を有する共重合体を変化させた場合の感度の
比較を表２に示す。比較例としてアジド基を有する共重
合体に代えてビスアジド化合物（4,4′−ジアジドスチ
ルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナトリウム）を用いた
例を同じ表２に示す。感度の評価は超高圧水銀灯からの
光を20秒照射し、約40℃の温水で現像し、所定のホール
径（160μｍ）のパターンを得るためにどれだけの照度
（W/m2）で足りるかによって行った。比較例の場合1.43
W/m2の照度が必要であるが実施例３の共重合体を用いれ
ば0.41W/m2の照度で同じホール径のパターンが得られ
る。
（共重合比；アクリルアミド２、ジアセントアクリルア
ミド１） 2.0％ アジド基を有する共重合体 0.44％ ソルビトール 0.02％ エチレングリコール ２％ シランカップリング剤 0.002％ 水 残余 アジド基を有する共重合体を変化させた場合の感度の
比較を表２に示す。比較例としてアジド基を有する共重
合体に代えてビスアジド化合物（4,4′−ジアジドスチ
ルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナトリウム）を用いた
例を同じ表２に示す。感度の評価は超高圧水銀灯からの
光を20秒照射し、約40℃の温水で現像し、所定のホール
径（160μｍ）のパターンを得るためにどれだけの照度
（W/m2）で足りるかによって行った。比較例の場合1.43
W/m2の照度が必要であるが実施例３の共重合体を用いれ
ば0.41W/m2の照度で同じホール径のパターンが得られ
る。
実施例９ アクリルアミド・ジアセトンアクリルアミド共重合体
1.5％、実施例３で得たアジド基を有する共重合体0.15
％、シランカップリング剤0.0015％、残余水よりなる組
成物をパネルに回転塗布し、乾燥後、シャドウマスクを
装着し、超高圧水銀灯を光源とし、回転光源露光台に
て、赤、青、緑のけい光体の被着する位置に、一気圧の
空気の存在下に露光した。温水で２分スプレー現像し、
乾燥後、黒色カーボンを塗布、再び乾燥し、50℃のエッ
チング液に３分間浸して後、水スプレーによりドット部
分のその上のカーボンと共に除去し、ブラックマトリッ
クスを製造した。ブラックマトリックスホールは露光部
分より実質的に小面積であった。以下、従来方法と同様
にしてけい光体塗布、アルミナイジング、フリットベー
キング、電子銃封着を行いブラックマトリックスカラー
ブラウン管を得た。上記プロセスにおいて露光時間は従
来の組成物を用いた場合より短時間であった。
1.5％、実施例３で得たアジド基を有する共重合体0.15
％、シランカップリング剤0.0015％、残余水よりなる組
成物をパネルに回転塗布し、乾燥後、シャドウマスクを
装着し、超高圧水銀灯を光源とし、回転光源露光台に
て、赤、青、緑のけい光体の被着する位置に、一気圧の
空気の存在下に露光した。温水で２分スプレー現像し、
乾燥後、黒色カーボンを塗布、再び乾燥し、50℃のエッ
チング液に３分間浸して後、水スプレーによりドット部
分のその上のカーボンと共に除去し、ブラックマトリッ
クスを製造した。ブラックマトリックスホールは露光部
分より実質的に小面積であった。以下、従来方法と同様
にしてけい光体塗布、アルミナイジング、フリットベー
キング、電子銃封着を行いブラックマトリックスカラー
ブラウン管を得た。上記プロセスにおいて露光時間は従
来の組成物を用いた場合より短時間であった。
本発明のパターン形成方法に用いる感光性組成物は高
感度で相反則不軌特性を示す。それ故、例えば大型のブ
ラックマトリックスカラーブラウン管の製造等に用いて
短時間で露光できるという効果がある。また高精細ブラ
ックマトリックスカラーブラウン管の製造に用いてもシ
ャドウマスクのホール径が小さくなることによる露光面
での照度低下を補うことができる効果がある。
感度で相反則不軌特性を示す。それ故、例えば大型のブ
ラックマトリックスカラーブラウン管の製造等に用いて
短時間で露光できるという効果がある。また高精細ブラ
ックマトリックスカラーブラウン管の製造に用いてもシ
ャドウマスクのホール径が小さくなることによる露光面
での照度低下を補うことができる効果がある。
フロントページの続き (72)発明者 橋本 通晰 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 伊藤 雅人 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 西澤 昌絋 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日 立製作所茂原工場内 (72)発明者 三浦 清司 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日 立製作所茂原工場内 (72)発明者 小高 芳之 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日 立製作所茂原工場内 (56)参考文献 特開 昭60−45246（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−208549（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−88732（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】（１）所望のパターンを形成しようとする
面上に、水溶性非感光性モノマー単位並びにアジド基及
び電解性官能基を有するモノマー単位を少なくとも含む
共重合体と、上記共重合体と反応し、相反則不軌特性を
示す水溶性高分子化合物とよりなる感光性組成物の塗膜
を形成する工程、 （２）該感光性組成物の塗膜に、酸素の存在する条件に
おいて、所望のパターンの露光を行う工程及び （３）上記塗膜を現像して光照射区域より実質的に小さ
い面積のパターンを形成する工程を有することを特徴と
するパターン形成方法。 - 【請求項２】（１）カラーブラウン管フェースプレート
内面に、水溶性非感光性モノマー単位並びにアジド基及
び電解性官能基を有するモノマー単位を少なくとも含む
共重合体と、上記共重合体と反応し、相反則不軌特性を
示す水溶性高分子化合物とよりなる感光性組成物の塗膜
を形成し、 （２）この塗膜のけい光体ドット又はストライプを形成
する位置を、酸素の存在する条件において、シャドウマ
スクを介して露光し、現像して感光性組成物のドット又
はストライプを形成し、 （３）この上に非発光性光吸収性物質を塗布し、ドット
又はストライプを剥離液でその上の非発光性光吸収性物
質と共に除去し、ブラックマトリックスのホール又はス
トライプを形成することを特徴とするカラーブラウン管
の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63134177A JP2628692B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 |
| US07/355,635 US5024920A (en) | 1988-05-31 | 1989-05-23 | Process for forming a pattern using a photosensitive azide and a high-molecular weight copolymer or polymer |
| KR1019890007171A KR910006196B1 (ko) | 1988-05-31 | 1989-05-29 | 감광성조성물, 그것을 사용한 패턴형성방법 및 고분자화합물 |
| IT8920689A IT1230793B (it) | 1988-05-31 | 1989-05-30 | Composizione fotosensibile, processo per formare un modello usando la stessa e composto ad alto peso molecolare. |
| CN89104705A CN1032030C (zh) | 1988-05-31 | 1989-05-31 | 一种感光组合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63134177A JP2628692B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01302348A JPH01302348A (ja) | 1989-12-06 |
| JP2628692B2 true JP2628692B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=15122245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63134177A Expired - Fee Related JP2628692B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5024920A (ja) |
| JP (1) | JP2628692B2 (ja) |
| KR (1) | KR910006196B1 (ja) |
| CN (1) | CN1032030C (ja) |
| IT (1) | IT1230793B (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6027849A (en) * | 1992-03-23 | 2000-02-22 | Imation Corp. | Ablative imageable element |
| JPH06258823A (ja) * | 1993-03-05 | 1994-09-16 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂 |
| US5725978A (en) * | 1995-01-31 | 1998-03-10 | Basf Aktiengesellschaft | Water-soluble photosensitive resin composition and a method of forming black matrix patterns using the same |
| US5866296A (en) * | 1996-01-25 | 1999-02-02 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
| KR19980020614A (ko) * | 1996-09-10 | 1998-06-25 | 손욱 | 감광성 수지 조성물, 그 제조방법 및 그 감광성 수지 조성물을 이용한 패턴의 형성방법 |
| KR100428614B1 (ko) * | 1997-07-29 | 2004-07-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 형광체 슬러리 조성물 |
| KR100458566B1 (ko) * | 1997-07-29 | 2005-04-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 블랙매트릭스또는형광막형성용수용성고분자및그제조방법 |
| KR100450214B1 (ko) * | 1997-07-29 | 2004-12-03 | 삼성에스디아이 주식회사 | 접착력보강포토레지스트조성물 |
| KR100450215B1 (ko) * | 1997-07-29 | 2004-12-03 | 삼성에스디아이 주식회사 | 접착력보강형광막용슬러리및형광막패턴형성방법 |
| US6342330B2 (en) | 1998-09-24 | 2002-01-29 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive compositions and pattern formation method |
| KR20020077948A (ko) | 2001-04-03 | 2002-10-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE549814A (ja) * | 1955-07-29 | |||
| JPS5137138B2 (ja) * | 1972-01-26 | 1976-10-14 | ||
| US4086090A (en) * | 1973-07-25 | 1978-04-25 | Hitachi, Ltd. | Formation of pattern using acrylamide-diacetoneacrylamide copolymer |
| JPS5239289B2 (ja) * | 1974-07-01 | 1977-10-04 | ||
| JPS5660431A (en) * | 1979-10-24 | 1981-05-25 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition and pattern forming method |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP63134177A patent/JP2628692B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-05-23 US US07/355,635 patent/US5024920A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-29 KR KR1019890007171A patent/KR910006196B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-05-30 IT IT8920689A patent/IT1230793B/it active
- 1989-05-31 CN CN89104705A patent/CN1032030C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR900018734A (ko) | 1990-12-22 |
| IT8920689A0 (it) | 1989-05-30 |
| CN1038356A (zh) | 1989-12-27 |
| JPH01302348A (ja) | 1989-12-06 |
| IT1230793B (it) | 1991-10-29 |
| US5024920A (en) | 1991-06-18 |
| CN1032030C (zh) | 1996-06-12 |
| KR910006196B1 (ko) | 1991-08-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2628692B2 (ja) | パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 | |
| EP0028486A1 (en) | Photosensitive composition and pattern-forming method | |
| US3589907A (en) | Photosensitive lacquer and the use of this lacquer in manufacturing picture screens for cathode-ray tubes | |
| JPH02204750A (ja) | 感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 | |
| JPH05113661A (ja) | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法並びにけい光面形成方法 | |
| KR20020077948A (ko) | 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 | |
| JPH02173007A (ja) | 感光性高分子化合物、これを含む感光性組成物及びそれを用いたパターン形成法 | |
| KR860001677B1 (ko) | 수상관 형광막형성용 조성물 | |
| JPS6150302B2 (ja) | ||
| CA1045877A (en) | Photographic method for printing particle pattern with improved adherence | |
| JPH0426849A (ja) | 水溶性感光性化合物、その合成方法、感光性組成物及びパターン形成方法 | |
| JPH03619B2 (ja) | ||
| KR100759442B1 (ko) | 포토레지스트 중합체 및 이를 포함하는 포토레지스트조성물과 형광막 조성물 | |
| JPH0292905A (ja) | 感光性化合物及びそれを用いたパターン形成方法 | |
| JPH05197141A (ja) | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | |
| JPH05216219A (ja) | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | |
| EP0081680A2 (en) | Composition for and method of making picture tube fluorescent screen | |
| KR100450215B1 (ko) | 접착력보강형광막용슬러리및형광막패턴형성방법 | |
| EP0100920B1 (en) | Photosensitive composition and pattern forming process using same | |
| JPH06181032A (ja) | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成法 | |
| JP3660455B2 (ja) | 光重合性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| JPS6223420B2 (ja) | ||
| JPH07230763A (ja) | カラーブラウン管の製造方法及び水溶性ポリマ含有組成物膜の積層体の形成方法 | |
| US4424265A (en) | Method of making picture tube fluorescent screen | |
| JPH05173331A (ja) | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |