JPH01302348A - パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 - Google Patents
パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法Info
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- JPH01302348A JPH01302348A JP63134177A JP13417788A JPH01302348A JP H01302348 A JPH01302348 A JP H01302348A JP 63134177 A JP63134177 A JP 63134177A JP 13417788 A JP13417788 A JP 13417788A JP H01302348 A JPH01302348 A JP H01302348A
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 17
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 44
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 31
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 10
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- -1 vinylazidobenzylideneacetophenone carboxylic acid Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- CUNMRXIDMYFFGM-UHFFFAOYSA-N 2-azido-1-(2-ethenylphenyl)-3-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C(=O)C(N=[N+]=[N-])=CC1=CC=CC=C1 CUNMRXIDMYFFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MNYSSFPJEXIGTG-UHFFFAOYSA-N 2-azido-1-(2-ethenylphenyl)-5-phenylpenta-2,4-dien-1-one Chemical compound C(=C)C1=C(C=CC=C1)C(C(=CC=CC1=CC=CC=C1)N=[N+]=[N-])=O MNYSSFPJEXIGTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 abstract 1
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- ZFYKDNCOQBBOST-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbut-3-en-1-one Chemical group C=CCC(=O)C1=CC=CC=C1 ZFYKDNCOQBBOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- QONKLJMPKWQQFG-HPIZBCMHSA-N (2e,4e)-1,5-diphenylpenta-2,4-dien-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C=C\C1=CC=CC=C1 QONKLJMPKWQQFG-HPIZBCMHSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-NMQOAUCRSA-N 1,2-dideuteriooxyethane Chemical compound [2H]OCCO[2H] LYCAIKOWRPUZTN-NMQOAUCRSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWEXHDOBZQSNGR-UHFFFAOYSA-N CC(C)=O.CC(C)=O.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C Chemical compound CC(C)=O.CC(C)=O.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C KWEXHDOBZQSNGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000005269 aluminizing Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003738 black carbon Substances 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- MSJMDZAOKORVFC-UAIGNFCESA-L disodium maleate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)\C=C/C([O-])=O MSJMDZAOKORVFC-UAIGNFCESA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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- G—PHYSICS
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- G03F7/004—Photosensitive materials
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、水溶性感光性組成物及びそれを用いたパター
ン形成方法並びに高分子化合物に係り、特にカラーブラ
ウン管の製造に用いるのに好適な水溶性感光性組成物及
びそれを用いたパターン形成方法並びに放射線に感応す
る高分子化合物に関する。
ン形成方法並びに高分子化合物に係り、特にカラーブラ
ウン管の製造に用いるのに好適な水溶性感光性組成物及
びそれを用いたパターン形成方法並びに放射線に感応す
る高分子化合物に関する。
従来のパターン形成方法の一例として、特開昭48−9
0185、特開昭50−33764にはカラーブラウン
管のブラックマトリックスの製造方法及びこれに用いる
感光性組成物が記載されている。この方法は、相反則不
軌特性を有する感光性組成物、例えばアクリルアミド−
ジアセトンアクリルアミド共重合体等の高分子化合物と
ビスアジド系架橋剤とからなる組成物、を用いて光照射
区域より実質的に小面積のパターンを形成する方法であ
る。
0185、特開昭50−33764にはカラーブラウン
管のブラックマトリックスの製造方法及びこれに用いる
感光性組成物が記載されている。この方法は、相反則不
軌特性を有する感光性組成物、例えばアクリルアミド−
ジアセトンアクリルアミド共重合体等の高分子化合物と
ビスアジド系架橋剤とからなる組成物、を用いて光照射
区域より実質的に小面積のパターンを形成する方法であ
る。
これについて詳しく説明する。ブラックマトリックス型
カラーブラウン管は、パネル内面に赤、青、緑のけい光
体ドツト又はストライプ等のけい光体パターンを有し、
その間の空隙をカーボン等の非発光性光吸収性物質で埋
めた構造を有する。
カラーブラウン管は、パネル内面に赤、青、緑のけい光
体ドツト又はストライプ等のけい光体パターンを有し、
その間の空隙をカーボン等の非発光性光吸収性物質で埋
めた構造を有する。
以下、説明の便宜のためドツトの場合について、その製
造方法を述べる。まずカラー・ブラウン管フェースプレ
ート内面に、前記相反則不軌特性を有する感光性組成物
の塗膜を形成し、けい光体ドツトを形成する位置をシャ
ドウマスクを介して露光し、現像して感光性組成物のド
ツトを形成する。
造方法を述べる。まずカラー・ブラウン管フェースプレ
ート内面に、前記相反則不軌特性を有する感光性組成物
の塗膜を形成し、けい光体ドツトを形成する位置をシャ
ドウマスクを介して露光し、現像して感光性組成物のド
ツトを形成する。
この上にカーボンを塗布し、ドツトを剥離液でその上の
カーボンと共に除去する。かくてブラックマトリックス
のホールが形成される。このホールに順次赤、青、緑の
けい光体ドツトを形成する。
カーボンと共に除去する。かくてブラックマトリックス
のホールが形成される。このホールに順次赤、青、緑の
けい光体ドツトを形成する。
相反則不軌特性を有する感光性組成物を用いているため
、上記感光性組成物のドツトの面積、すなわちけい光体
ドツトの面積は、シャドウマスクを介して光照射された
面積より実質的に小さい。従ってこのシャドウマスクを
用いてカラーブラウン管を完成すれば、上記シャドウマ
スクの穴を通って照射される電子ビームの直径は、けい
光ドットのそれより大きい。それ故、製造したカラーブ
ラウン管は明るく、コントラストに優れている。
、上記感光性組成物のドツトの面積、すなわちけい光体
ドツトの面積は、シャドウマスクを介して光照射された
面積より実質的に小さい。従ってこのシャドウマスクを
用いてカラーブラウン管を完成すれば、上記シャドウマ
スクの穴を通って照射される電子ビームの直径は、けい
光ドットのそれより大きい。それ故、製造したカラーブ
ラウン管は明るく、コントラストに優れている。
上記従来技術は、カラーブラウン管の大型化について配
慮されておらず、大型のカラーブラウン管製造の場合、
露光面が光源から離れるため露光面における照度が下が
り、露光に長時間要するという問題があった。
慮されておらず、大型のカラーブラウン管製造の場合、
露光面が光源から離れるため露光面における照度が下が
り、露光に長時間要するという問題があった。
本発明の目的は、高感度な感光性組成物及びそれを用い
たパターン形成方法並びに放射線に高感度で感応する高
分子化合物を提供することにある。
たパターン形成方法並びに放射線に高感度で感応する高
分子化合物を提供することにある。
上記目的は、(1) (1)水溶性非感光性上ツマー単
位並びにアジド基及び電解性官能基を有する七ツマー単
位を少なくとも含む共重合体並びに(2)該共重合体と
反応し相反則不軌特性を示す水溶性高分子化合物よりな
ることを特徴とする感光性組成物、(If)所望のパタ
ーンを形成しようとする面上に、水溶性非感光性モノマ
ー単位並びにアジド基及び電解性官能基を有する七ツマ
ー単位を少なくとも含む共重合体と、上記共重合体と反
応し相反則不軌特性を示す水溶性高分子化合物とよりな
る感光性組成物の塗膜を形成する工程、該感光性組成物
の塗膜に酸素の存在する条件において所望のパターンの
露光を行う工程、上記塗膜を現像して光照射区域より実
質的に小さい面積のパターンを形成する工程を有するこ
とを特徴とするパターン形成方法、(III)水溶性非
感光性モノマー単位並びにビニルアジドベンジリデンア
セトフェノンスルホン酸、ビニルアジドベンジリデンア
セトフェノンカルボン酸、ビニルアジドシンナミリデン
アセトフェノンスルホン酸、ビニルアジドシンナミリデ
ンアセトフェノンカルボン酸及びこれらの塩から選ばれ
た少なくとも一種のモノマー単位とを少なくとも含むこ
とを特徴とする高分子化合物の少なくとも一項によって
達成される。
位並びにアジド基及び電解性官能基を有する七ツマー単
位を少なくとも含む共重合体並びに(2)該共重合体と
反応し相反則不軌特性を示す水溶性高分子化合物よりな
ることを特徴とする感光性組成物、(If)所望のパタ
ーンを形成しようとする面上に、水溶性非感光性モノマ
ー単位並びにアジド基及び電解性官能基を有する七ツマ
ー単位を少なくとも含む共重合体と、上記共重合体と反
応し相反則不軌特性を示す水溶性高分子化合物とよりな
る感光性組成物の塗膜を形成する工程、該感光性組成物
の塗膜に酸素の存在する条件において所望のパターンの
露光を行う工程、上記塗膜を現像して光照射区域より実
質的に小さい面積のパターンを形成する工程を有するこ
とを特徴とするパターン形成方法、(III)水溶性非
感光性モノマー単位並びにビニルアジドベンジリデンア
セトフェノンスルホン酸、ビニルアジドベンジリデンア
セトフェノンカルボン酸、ビニルアジドシンナミリデン
アセトフェノンスルホン酸、ビニルアジドシンナミリデ
ンアセトフェノンカルボン酸及びこれらの塩から選ばれ
た少なくとも一種のモノマー単位とを少なくとも含むこ
とを特徴とする高分子化合物の少なくとも一項によって
達成される。
本発明において、上記共重合体は、水溶性非感光性の第
一のモノマー単位と、アジド基及び電解性官能基を有す
る第二の七ツマー単位とを含む水溶性ポリマーである。
一のモノマー単位と、アジド基及び電解性官能基を有す
る第二の七ツマー単位とを含む水溶性ポリマーである。
モノマー単位とは、モノマーが重合したときの構造を示
し、上記置換基を有するモノマーが重合した構造と同じ
構造を意味する。従って、上記置換基を有するモノマー
を重合させても、あるいは他のモノマーを重合させてか
ら化学反応によって上記置換基を結合させてもこのよう
なモノマー単位とすることができる。
し、上記置換基を有するモノマーが重合した構造と同じ
構造を意味する。従って、上記置換基を有するモノマー
を重合させても、あるいは他のモノマーを重合させてか
ら化学反応によって上記置換基を結合させてもこのよう
なモノマー単位とすることができる。
本発明の共重合体において、上記第一のモノマー単位す
なわち水溶性非感光性のモノマー単位の量は、共重合体
中の10〜40%の範囲であることが好ましい。10%
未満では共重合体の水への溶解度が低い。上記第二のモ
ノマー単位の量は、共重合体中の90%未満、10%以
上であることが好ましく、80〜15%の範囲であるこ
とがより好ましい。10%未満では感度が低下する。ま
た第−及び第二の七ツマー単位はそれぞれ一種類であっ
ても二種以上であってもよい。
なわち水溶性非感光性のモノマー単位の量は、共重合体
中の10〜40%の範囲であることが好ましい。10%
未満では共重合体の水への溶解度が低い。上記第二のモ
ノマー単位の量は、共重合体中の90%未満、10%以
上であることが好ましく、80〜15%の範囲であるこ
とがより好ましい。10%未満では感度が低下する。ま
た第−及び第二の七ツマー単位はそれぞれ一種類であっ
ても二種以上であってもよい。
本発明の共重合体における水溶性非感光性の第一のモノ
マー単位としては、例えばマレイン酸。
マー単位としては、例えばマレイン酸。
アクリル酸、メタクリル酸、スチレンスルホン酸。
2−アクリルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホ
ン酸等の重合した構造単位等が用いられる。
ン酸等の重合した構造単位等が用いられる。
また第二の七ツマー単位としては、例えばビニルアジド
ベンジリデンアセトフェノンスルホン酸(式(I)、x
=so、H)、ビニルアジドベンジリデンアセトフェノ
ンカルボン酸(式(1)、X=C0OH)、ビニルアジ
ドシンナミリデンアセトフェノンスルホン酸(式[11
)、X=SO,H)、ビニルアジドシンナミリデンアセ
トフェノンカルボン酸(式(n)、x=cOOH)又は
これらの塩、例えばアンモニウム塩、アルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩等の重合した構造単位等が用いられ
る。
ベンジリデンアセトフェノンスルホン酸(式(I)、x
=so、H)、ビニルアジドベンジリデンアセトフェノ
ンカルボン酸(式(1)、X=C0OH)、ビニルアジ
ドシンナミリデンアセトフェノンスルホン酸(式[11
)、X=SO,H)、ビニルアジドシンナミリデンアセ
トフェノンカルボン酸(式(n)、x=cOOH)又は
これらの塩、例えばアンモニウム塩、アルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩等の重合した構造単位等が用いられ
る。
(13(II)
本発明の共重合体は、上記第−及び第二のモノマー単位
以外に第三のモノマー単位を含んでいてもよい、またこ
の第三のモノマー単位も一種類であっても二種以上であ
ってもよい。
以外に第三のモノマー単位を含んでいてもよい、またこ
の第三のモノマー単位も一種類であっても二種以上であ
ってもよい。
本発明の感光性組成物は、前述の如く上記共重合体と、
この共重合と反応して相反則不軌特性を示す水溶性高分
子化合物よりなる。両者の比率は、共重合体の量が水溶
性高分子化合物に対し1〜50wt%の範囲であること
が好ましく、5〜30wt%の範囲であることがより好
ましい、このような水溶性高分子化合物は、アクリルア
ミドジアセトンアクリルアミド共重合体、ポリアクリル
アミド、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン共重
合体等であり、塗膜としたとき02透過性に優れるもの
が好ましい。
この共重合と反応して相反則不軌特性を示す水溶性高分
子化合物よりなる。両者の比率は、共重合体の量が水溶
性高分子化合物に対し1〜50wt%の範囲であること
が好ましく、5〜30wt%の範囲であることがより好
ましい、このような水溶性高分子化合物は、アクリルア
ミドジアセトンアクリルアミド共重合体、ポリアクリル
アミド、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン共重
合体等であり、塗膜としたとき02透過性に優れるもの
が好ましい。
本発明の感光性組成物は、上記水溶性高分子化合物と相
溶性を持つ他の水溶性高分子材料、例えばカルボキシメ
チルセルロース等を加えて用いることができる。これに
ついては前記の特開昭48−90185、特開昭50−
33764等に記載されている。また、塗料としたとき
の特性の改良等のために、感光性組成物にポリオキシエ
チレンアルキルエーテル等の界面活性剤又はエチレング
リコール等を加 −えること、基板との接着性改
良のためにビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラ
ン等のカップリング剤を感光性組成物に加えることも前
記の公報に記載されており、本発明の場合もこのような
方法を用いることができる。
溶性を持つ他の水溶性高分子材料、例えばカルボキシメ
チルセルロース等を加えて用いることができる。これに
ついては前記の特開昭48−90185、特開昭50−
33764等に記載されている。また、塗料としたとき
の特性の改良等のために、感光性組成物にポリオキシエ
チレンアルキルエーテル等の界面活性剤又はエチレング
リコール等を加 −えること、基板との接着性改
良のためにビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラ
ン等のカップリング剤を感光性組成物に加えることも前
記の公報に記載されており、本発明の場合もこのような
方法を用いることができる。
本発明のパターン形成方法は、気体の酸素の存在する条
件で露光を行うことが必要である。またシュバルツシル
ツ定数pの値がO< p <0.76の範囲で露光する
ことが好ましい、シュバルッシルツ定数と相反則不軌特
性については前記公報に記載されている。
件で露光を行うことが必要である。またシュバルツシル
ツ定数pの値がO< p <0.76の範囲で露光する
ことが好ましい、シュバルッシルツ定数と相反則不軌特
性については前記公報に記載されている。
本発明の共重合体は、超高圧水銀灯から発する励起光の
内、特に340n m又は365nmの波長の光をよく
吸収する。またこの共重合体は、従来のビスアジド化合
物より高分子であり1分子中に多くのアジド基を持つ。
内、特に340n m又は365nmの波長の光をよく
吸収する。またこの共重合体は、従来のビスアジド化合
物より高分子であり1分子中に多くのアジド基を持つ。
そのため同一露光量において架橋点の数に対する架橋後
の分子量の増加率が上がるので感光性組成物として高感
度となる。さらに共重合体が水溶性非感光性モノマー単
位を有するので水溶性である。
の分子量の増加率が上がるので感光性組成物として高感
度となる。さらに共重合体が水溶性非感光性モノマー単
位を有するので水溶性である。
以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明する。
実施例1〜3
マレイン酸−4−ビニルモノアジドベンジリデンアセト
フェノンスルホン酸ナトリウム共重合体(III)の合
成について述べる。
フェノンスルホン酸ナトリウム共重合体(III)の合
成について述べる。
ポリ(スチレン−無水マレイン酸(75%スチレン、分
子量: 1900.ポリサイエンス、インク社製)16
gをクロロホルム50mQ、二硫化炭素50rr+9の
混合溶媒に溶解した。この溶液を、塩化アセチル25g
と無水塩化アルミニウム43gとをクロロホルム100
mQ、二硫化炭素100 m Qの混合溶媒に溶解した
溶液に室温で攪拌しながら滴化した。その後加熱して2
時間攪拌しながら還流させた。放冷した後、ろ別し、不
溶化物を乾燥した。これを粉末化した後、多量の水で処
理してよく水洗した後乾燥した。
子量: 1900.ポリサイエンス、インク社製)16
gをクロロホルム50mQ、二硫化炭素50rr+9の
混合溶媒に溶解した。この溶液を、塩化アセチル25g
と無水塩化アルミニウム43gとをクロロホルム100
mQ、二硫化炭素100 m Qの混合溶媒に溶解した
溶液に室温で攪拌しながら滴化した。その後加熱して2
時間攪拌しながら還流させた。放冷した後、ろ別し、不
溶化物を乾燥した。これを粉末化した後、多量の水で処
理してよく水洗した後乾燥した。
得られたポリマーはマレイン酸−4−ビニルアセトフェ
ノン共重合体(IV)である。ただしスチレン単位が約
lO%、すなわち共重合体全体の7.5%未反応のまま
残っている。
ノン共重合体(IV)である。ただしスチレン単位が約
lO%、すなわち共重合体全体の7.5%未反応のまま
残っている。
つぎにこの共重合体[IV) Ig、 4−アジドベン
ズアルデヒド−2−スルホン酸ナトリウム2g、カセイ
ソーダ0.3gをエチルアルコール40mQと水40m
Qの混合溶媒に溶解する。そして室温で表1記載の時間
放置し、析出した沈殿物をろ別し、乾燥し、マレイン酸
−4−ビニルモノアジドベンジリデンアセトフェノンス
ルホン酸ナトリウム(III)を得た。
ズアルデヒド−2−スルホン酸ナトリウム2g、カセイ
ソーダ0.3gをエチルアルコール40mQと水40m
Qの混合溶媒に溶解する。そして室温で表1記載の時間
放置し、析出した沈殿物をろ別し、乾燥し、マレイン酸
−4−ビニルモノアジドベンジリデンアセトフェノンス
ルホン酸ナトリウム(III)を得た。
表 1
アジド化モノマー単位は全共重合体中の割合である。す
なわち実施例1はマレイン酸単位25%、スチレン単位
7.5%、ビニルアセトフェノン単位55.5%、ビニ
ルモノアジドベンジリデンアセトフェノンスルホン酸単
位12%の共重合体である。
なわち実施例1はマレイン酸単位25%、スチレン単位
7.5%、ビニルアセトフェノン単位55.5%、ビニ
ルモノアジドベンジリデンアセトフェノンスルホン酸単
位12%の共重合体である。
実施例4
マレイン酸−4−ビニルモノアジドシンナミリデンアセ
トフェノンスルホン酸ナトリウム共重合体(V)の合成
について述べる。
トフェノンスルホン酸ナトリウム共重合体(V)の合成
について述べる。
実施例1で合成したマレイン酸−4−ビニルアセトフェ
ノン共重合体(IV) Ig、4−アジドシンナムアル
デヒド−2−スルホン酸ナトリウム2g、カセイソーダ
0.3gをエチルアルコール40mQと水40mQの混
合溶媒に溶解し、室温に24時間放置する。生じた沈澱
物をろ別し、乾燥し、マレイン酸−4−ビニモノアジド
シンナミリデンアセトフェノンスルホン酸ナトリウム共
重合体(V)を得た。この共重合体は、マレイン酸単位
25%、スチレン単位7.5%、ビニルアセトフェノン
単位50.5%、ビニルモノアジドシンナミリデンアセ
トフェノンスルホン酸ナトリウム単位17%からなる。
ノン共重合体(IV) Ig、4−アジドシンナムアル
デヒド−2−スルホン酸ナトリウム2g、カセイソーダ
0.3gをエチルアルコール40mQと水40mQの混
合溶媒に溶解し、室温に24時間放置する。生じた沈澱
物をろ別し、乾燥し、マレイン酸−4−ビニモノアジド
シンナミリデンアセトフェノンスルホン酸ナトリウム共
重合体(V)を得た。この共重合体は、マレイン酸単位
25%、スチレン単位7.5%、ビニルアセトフェノン
単位50.5%、ビニルモノアジドシンナミリデンアセ
トフェノンスルホン酸ナトリウム単位17%からなる。
実施例5〜8
実施例1〜4で得たアジド基を有する共重合体を用い、
下記の組成の感光性組成物の溶液を調整した。これをガ
ラス板に0.5〜0.7μmの厚さに回転塗布し、乾燥
して塗膜とした。
下記の組成の感光性組成物の溶液を調整した。これをガ
ラス板に0.5〜0.7μmの厚さに回転塗布し、乾燥
して塗膜とした。
組成ニ
アクリルアミド・ジアセトンアクリルアミド共重合体(
共重合比;アクリルアミド2、シアセントアクリルアミ
ド1 ) 2.0 %アジド基を有す
る共重合体 0.44%ソルビトール
0.02%エチレングリコール
2 %シランカップリング剤
0.002%水 残余 アジド基を有する共重合体を変化させた場合の感度の比
較を表2に示す、比較例としてアジド基を有する共重合
体に代えてビスアジド化合物(4゜4′−ジアジドスチ
ルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナトリウム)を用い
た例を同じ表2に示す。
共重合比;アクリルアミド2、シアセントアクリルアミ
ド1 ) 2.0 %アジド基を有す
る共重合体 0.44%ソルビトール
0.02%エチレングリコール
2 %シランカップリング剤
0.002%水 残余 アジド基を有する共重合体を変化させた場合の感度の比
較を表2に示す、比較例としてアジド基を有する共重合
体に代えてビスアジド化合物(4゜4′−ジアジドスチ
ルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナトリウム)を用い
た例を同じ表2に示す。
感度の評価は超高圧水銀灯から光を20秒照射し、約4
0℃の温水で現像し、所定のホール径(160μm)の
パターンを得るためにどれだけの照度(W/m”)で足
りるかによって行った。比較例の場合1.43W/m2
の照度が必要であるが実施例3の共重合体を用いれば0
.41W/m”の照度で同じホール径のパターンが得ら
れる。
0℃の温水で現像し、所定のホール径(160μm)の
パターンを得るためにどれだけの照度(W/m”)で足
りるかによって行った。比較例の場合1.43W/m2
の照度が必要であるが実施例3の共重合体を用いれば0
.41W/m”の照度で同じホール径のパターンが得ら
れる。
表 2
実施例9
アクリルアミド・ジアセトンアクリルアミド共重合体1
.5%、実施例3で得たアジド基を有する共重合体0.
15%、シランカップリング剤0.0015%。
.5%、実施例3で得たアジド基を有する共重合体0.
15%、シランカップリング剤0.0015%。
残余水よりなる組成物をパネルに回転塗布し、乾燥後、
シャドウマスクを装着し、超高圧水銀灯を光源とし、回
転光源露光台にて、赤、青、緑のけい光体の被着する位
置に、−気圧の空気の存在下に露光した。温水で2分ス
プレー現像し、乾燥後、黒色カーボンを塗布、再び乾燥
し、50℃のエツチング液に3分間浸して後、水スプレ
ーによりドツト部分をその上のカーボンと共に除去し、
ブラックマトリックスを製造した。ブラックマトリック
スホールは露光部分より実質的に小面積であった。
シャドウマスクを装着し、超高圧水銀灯を光源とし、回
転光源露光台にて、赤、青、緑のけい光体の被着する位
置に、−気圧の空気の存在下に露光した。温水で2分ス
プレー現像し、乾燥後、黒色カーボンを塗布、再び乾燥
し、50℃のエツチング液に3分間浸して後、水スプレ
ーによりドツト部分をその上のカーボンと共に除去し、
ブラックマトリックスを製造した。ブラックマトリック
スホールは露光部分より実質的に小面積であった。
以下、従来方法と同様にしてけい光体塗布、アルミナイ
ジング、フリットベーキング、電子銃封着を行いブラッ
クマトリックスカラーブラウン管を得た。上記プロセス
において露光時間は従来の組成物を用いた場合より短時
間であった。
ジング、フリットベーキング、電子銃封着を行いブラッ
クマトリックスカラーブラウン管を得た。上記プロセス
において露光時間は従来の組成物を用いた場合より短時
間であった。
(発明の効果〕
本発明の感光性組成物は高感度で相反則不軌特性を示す
。それ故1例えば大型のブラックマトリックスカラーブ
ラウン管の製造等に用いて短時間で露光できるという効
果がある。また高精細ブラックマトリックスカラーブラ
ウン管の製造に用いてもシャドウマスクのホール径が小
さくなることによる露光面での照度低下を補うことがで
きる効果がある。
。それ故1例えば大型のブラックマトリックスカラーブ
ラウン管の製造等に用いて短時間で露光できるという効
果がある。また高精細ブラックマトリックスカラーブラ
ウン管の製造に用いてもシャドウマスクのホール径が小
さくなることによる露光面での照度低下を補うことがで
きる効果がある。
代理人弁理士 中 村 純之助
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(1)水溶性非感光性モノマー単位並びにアジド基
及び電解性官能基を有するモノマー単位を少なくとも含
む共重合体並びに(2)該共重合体と反応し相反則不軌
特性を示す水溶性高分子化合物よりなることを特徴とす
る感光性組成物。 2、上記水溶性非感光性モノマー単位の量は共重合体中
の10〜40%の範囲であり、上記アジド基及び電解性
官能基を有するモノマー単位の量は共重合体中の90%
未満、10%以上である請求項1記載の感光性組成物。 3、所望のパターンを形成しようとする面上に、水溶性
非感光性モノマー単位並びにアジド基及び電解性官能基
を有するモノマー単位を少なくとも含む共重合体と、上
記共重合体と反応し相反則不軌特性を示す水溶性高分子
化合物とよりなる感光性組成物の塗膜を形成する工程、
該感光性組成物の塗膜に酸素の存在する条件において所
望のパターンの露光を行う工程、上記塗膜を現像して光
照射区域より実質的に小さい面積のパターンを形成する
工程を有することを特徴とするパターン形成方法。 4、水溶性非感光性モノマー単位並びにビニルアジドベ
ンジリデンアセトフェノンスルホン酸、ビニルアジドベ
ンジリデンアセトフェノンカルボン酸、ビニルアジドシ
ンナミリデンアセトフェノンスルホン酸、ビニルアジド
シンナミリデンアセトフェノンカルボン酸及びこれらの
塩から選ばれた少なくとも一種のモノマー単位とを少な
くとも含むことを特徴とする高分子化合物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63134177A JP2628692B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 |
US07/355,635 US5024920A (en) | 1988-05-31 | 1989-05-23 | Process for forming a pattern using a photosensitive azide and a high-molecular weight copolymer or polymer |
KR1019890007171A KR910006196B1 (ko) | 1988-05-31 | 1989-05-29 | 감광성조성물, 그것을 사용한 패턴형성방법 및 고분자화합물 |
IT8920689A IT1230793B (it) | 1988-05-31 | 1989-05-30 | Composizione fotosensibile, processo per formare un modello usando la stessa e composto ad alto peso molecolare. |
CN89104705A CN1032030C (zh) | 1988-05-31 | 1989-05-31 | 一种感光组合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63134177A JP2628692B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01302348A true JPH01302348A (ja) | 1989-12-06 |
JP2628692B2 JP2628692B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=15122245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63134177A Expired - Fee Related JP2628692B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | パターン形成方法及びカラーブラウン管の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5024920A (ja) |
JP (1) | JP2628692B2 (ja) |
KR (1) | KR910006196B1 (ja) |
CN (1) | CN1032030C (ja) |
IT (1) | IT1230793B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5866296A (en) * | 1996-01-25 | 1999-02-02 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
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---|---|---|---|---|
US6027849A (en) * | 1992-03-23 | 2000-02-22 | Imation Corp. | Ablative imageable element |
JPH06258823A (ja) * | 1993-03-05 | 1994-09-16 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂 |
US5725978A (en) * | 1995-01-31 | 1998-03-10 | Basf Aktiengesellschaft | Water-soluble photosensitive resin composition and a method of forming black matrix patterns using the same |
KR19980020614A (ko) * | 1996-09-10 | 1998-06-25 | 손욱 | 감광성 수지 조성물, 그 제조방법 및 그 감광성 수지 조성물을 이용한 패턴의 형성방법 |
KR100428614B1 (ko) * | 1997-07-29 | 2004-07-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 형광체 슬러리 조성물 |
KR100458566B1 (ko) * | 1997-07-29 | 2005-04-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 블랙매트릭스또는형광막형성용수용성고분자및그제조방법 |
KR100450214B1 (ko) * | 1997-07-29 | 2004-12-03 | 삼성에스디아이 주식회사 | 접착력보강포토레지스트조성물 |
KR100450215B1 (ko) * | 1997-07-29 | 2004-12-03 | 삼성에스디아이 주식회사 | 접착력보강형광막용슬러리및형광막패턴형성방법 |
US6342330B2 (en) | 1998-09-24 | 2002-01-29 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive compositions and pattern formation method |
KR20020077948A (ko) | 2001-04-03 | 2002-10-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE549814A (ja) * | 1955-07-29 | |||
JPS5137138B2 (ja) * | 1972-01-26 | 1976-10-14 | ||
US4086090A (en) * | 1973-07-25 | 1978-04-25 | Hitachi, Ltd. | Formation of pattern using acrylamide-diacetoneacrylamide copolymer |
JPS5239289B2 (ja) * | 1974-07-01 | 1977-10-04 | ||
JPS5660431A (en) * | 1979-10-24 | 1981-05-25 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition and pattern forming method |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP63134177A patent/JP2628692B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-05-23 US US07/355,635 patent/US5024920A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-29 KR KR1019890007171A patent/KR910006196B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-05-30 IT IT8920689A patent/IT1230793B/it active
- 1989-05-31 CN CN89104705A patent/CN1032030C/zh not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5866296A (en) * | 1996-01-25 | 1999-02-02 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2628692B2 (ja) | 1997-07-09 |
KR900018734A (ko) | 1990-12-22 |
IT8920689A0 (it) | 1989-05-30 |
CN1038356A (zh) | 1989-12-27 |
IT1230793B (it) | 1991-10-29 |
US5024920A (en) | 1991-06-18 |
CN1032030C (zh) | 1996-06-12 |
KR910006196B1 (ko) | 1991-08-16 |
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