JPS60156785A - パタ−ン形成方法 - Google Patents
パタ−ン形成方法Info
- Publication number
- JPS60156785A JPS60156785A JP59010066A JP1006684A JPS60156785A JP S60156785 A JPS60156785 A JP S60156785A JP 59010066 A JP59010066 A JP 59010066A JP 1006684 A JP1006684 A JP 1006684A JP S60156785 A JPS60156785 A JP S60156785A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diazo
- zinc chloride
- double salt
- film
- salt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、バター7形成方法に関する。
カラーブラウン管の画面部分(フェースプレート)の内
面には、3種類のけい光体がドツト、あるいはストライ
プ状に塗布されている。このけい光体塗布層を形成する
従来の方法は、つぎの通りである。まず、フェースプレ
ートの内面に第[色目のけい光体と感光性樹脂との混合
物の塗料をフェースプレート内面に塗布し、乾燥して塗
膜を形成する。つぎに、この層に、シアドウマスクの孔
を通して紫外線を照射する。このときの紫外線照射位置
は、そのけい光体を発光させるための′電子ビームが射
突する位置、すなわち、そのけい光体が固着されるべき
位置に相当する。この紫外線照射を受けた部分の感光性
樹脂は不溶化し、それによって、その部分の層全体が不
溶化する。つぎに層を溶媒で洗い、不溶化した部分のみ
をフェースプレート面に残留させ、その他の層は溶解、
除去する。つぎに、第2色目のけい光体と感光性樹脂と
の混合物の層を用いて同様の操作を行ない、さらに第3
色目のけい光体と感光性樹脂との混合物を用いて同様の
操作を行なう。
面には、3種類のけい光体がドツト、あるいはストライ
プ状に塗布されている。このけい光体塗布層を形成する
従来の方法は、つぎの通りである。まず、フェースプレ
ートの内面に第[色目のけい光体と感光性樹脂との混合
物の塗料をフェースプレート内面に塗布し、乾燥して塗
膜を形成する。つぎに、この層に、シアドウマスクの孔
を通して紫外線を照射する。このときの紫外線照射位置
は、そのけい光体を発光させるための′電子ビームが射
突する位置、すなわち、そのけい光体が固着されるべき
位置に相当する。この紫外線照射を受けた部分の感光性
樹脂は不溶化し、それによって、その部分の層全体が不
溶化する。つぎに層を溶媒で洗い、不溶化した部分のみ
をフェースプレート面に残留させ、その他の層は溶解、
除去する。つぎに、第2色目のけい光体と感光性樹脂と
の混合物の層を用いて同様の操作を行ない、さらに第3
色目のけい光体と感光性樹脂との混合物を用いて同様の
操作を行なう。
以上の説明から明らかなようtこ、カラーブラウン管の
けい光面製作工程は複雑でオシ、多数回の湿式塗布、水
洗、乾燥の繰返しを必要とするので、その簡単化はきわ
めて望ましいことである。
けい光面製作工程は複雑でオシ、多数回の湿式塗布、水
洗、乾燥の繰返しを必要とするので、その簡単化はきわ
めて望ましいことである。
そのため、本発明者らの一部のものは、先に特開時53
−126861 として従来よシも著しく簡巣な工程で
、カラーブラウン肯けい光面を形成する方法全提案した
。この方法は、芳香族ジアゾニウム塩の光分解生成物が
粉体粒子受容能力含有するという新しい知見に基づき、
完成されたものであり、(1)芳香族ジアゾニウム塩を
感光性成分として言む露光により粘着性を生じる感光性
組成物を基体表面に塗布して博1頓とし、(2)その薄
層に図形状の露光全行ない、露光部に粘着性を生ぜしめ
、(3)露光後の薄層に粉体粒子全接触せしめ、粉体粒
子を薄層に受容せしめること全特徴とするものでるる。
−126861 として従来よシも著しく簡巣な工程で
、カラーブラウン肯けい光面を形成する方法全提案した
。この方法は、芳香族ジアゾニウム塩の光分解生成物が
粉体粒子受容能力含有するという新しい知見に基づき、
完成されたものであり、(1)芳香族ジアゾニウム塩を
感光性成分として言む露光により粘着性を生じる感光性
組成物を基体表面に塗布して博1頓とし、(2)その薄
層に図形状の露光全行ない、露光部に粘着性を生ぜしめ
、(3)露光後の薄層に粉体粒子全接触せしめ、粉体粒
子を薄層に受容せしめること全特徴とするものでるる。
この方法によると第2色目、第3色目のけい光体につい
ては、露光、粉体接触のみをくり返せばよく、塗膜は一
度形成すると何種のけい光体のパターンでも形成するこ
とができる。
ては、露光、粉体接触のみをくり返せばよく、塗膜は一
度形成すると何種のけい光体のパターンでも形成するこ
とができる。
しかしながらこの方法によると、用いる感光性成分の感
度が従来の感光性樹脂にくらべてやや低いため、作業時
間がやや長くなる。
度が従来の感光性樹脂にくらべてやや低いため、作業時
間がやや長くなる。
本発明の目的は、高感度の組成物を用いたパターン形成
方法を提供することにある。
方法を提供することにある。
本発明のパターン形成方法は感光性組成物として、塩化
p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリン塩化亜鉛複塩と
塩化p−ジアゾ−ブロムフェノール塩化亜鉛複塩系化合
物とを含むとと全特徴とする。
p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリン塩化亜鉛複塩と
塩化p−ジアゾ−ブロムフェノール塩化亜鉛複塩系化合
物とを含むとと全特徴とする。
現在1でこの方法に用いられる芳香族ジアゾニウム塩は
塩化p−ジアゾ−アミノベンゼン塩化亜鉛複塩系化合物
である。この系の内、特に塩化p−ジアゾ−N、N−ジ
メチルアニリン塩化亜鉛複塩が前記、プロセスに対する
適応性が潰れていることから1史川さnている。しかし
、この材料を用いて形成した光粘着膜は感度が低く、露
光時間が長くかかる。この対策として、有効な増感剤の
探索を行ガつた。この結果、下記の一般式で表わされる
化合物が良好な効果を示した。
塩化p−ジアゾ−アミノベンゼン塩化亜鉛複塩系化合物
である。この系の内、特に塩化p−ジアゾ−N、N−ジ
メチルアニリン塩化亜鉛複塩が前記、プロセスに対する
適応性が潰れていることから1史川さnている。しかし
、この材料を用いて形成した光粘着膜は感度が低く、露
光時間が長くかかる。この対策として、有効な増感剤の
探索を行ガつた。この結果、下記の一般式で表わされる
化合物が良好な効果を示した。
r
ただしnは1/2〜1、A fd H又は13rである
。
。
この増感剤を上記、塩化p−ジアゾ−N、N−ジメチル
アニリン塩化亜鉛複塩に対して2〜10重t%添加して
なる光粘着膜は未添加のものに比べて短かい露光時間で
同様の結果を得ることができる。
アニリン塩化亜鉛複塩に対して2〜10重t%添加して
なる光粘着膜は未添加のものに比べて短かい露光時間で
同様の結果を得ることができる。
本発明に用いられる感光性組成物を薄層とする際の塗布
性向上の目的で、上記感光性組成物に有機高分子化合物
及び/又は界面活性剤を會めることはすでに前記特開I
Jf153−126861 に提案されており、本発明
においてもこのような感光性組成物を用いることが好ま
しい。上記有機高分子化合物としてはアラビヤゴム、ポ
リN−ビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ
アクリルアミド、ヒドロキシグロビルメチルセルロース
、アルギン酸、アルギン酸のプロプレンゲリコールエス
テル、アクリルアミド・ジアセトンアクリルアミド共重
合体及びメチルビニルエーテル・無水マレイン酸共重合
体などが好ましい。1だこれらの有機高分子化合物は芳
香族ジアゾニウム化合物の塩の合計量に対し0.5〜5
0重量係用いることが好ましい。−!、た界面活性剤は
0.01〜1重量%程度用いることが好ましい。
性向上の目的で、上記感光性組成物に有機高分子化合物
及び/又は界面活性剤を會めることはすでに前記特開I
Jf153−126861 に提案されており、本発明
においてもこのような感光性組成物を用いることが好ま
しい。上記有機高分子化合物としてはアラビヤゴム、ポ
リN−ビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ
アクリルアミド、ヒドロキシグロビルメチルセルロース
、アルギン酸、アルギン酸のプロプレンゲリコールエス
テル、アクリルアミド・ジアセトンアクリルアミド共重
合体及びメチルビニルエーテル・無水マレイン酸共重合
体などが好ましい。1だこれらの有機高分子化合物は芳
香族ジアゾニウム化合物の塩の合計量に対し0.5〜5
0重量係用いることが好ましい。−!、た界面活性剤は
0.01〜1重量%程度用いることが好ましい。
以下本発明全実施例を用いて説明する。まず上記一般式
で示された化合物としてはつぎのようなものがある。
で示された化合物としてはつぎのようなものがある。
塩化p−ジアゾ−2,6−ジプロムフエノール塩化亜鉛
複塩 塩化p−ジアゾ−2−ブロムフェノール塩化亜鉛複塩 塩化p−ジアゾ−3,5−ジブロムフェノール塩化亜鉛
複塩 下記に合成法についてその例を記述する。
複塩 塩化p−ジアゾ−2−ブロムフェノール塩化亜鉛複塩 塩化p−ジアゾ−3,5−ジブロムフェノール塩化亜鉛
複塩 下記に合成法についてその例を記述する。
合成例1
塩化p−ジアゾ−2,6−ジブロムフェノール塩化亜鉛
複塩の合成法全説明する。
複塩の合成法全説明する。
2.6−ジプロムー4−二トロフェノールをパラジウム
活性炭を触媒として、水素化ホウ素ナトリウムで還元す
る。アミン体を塩酸塩として採り出し、通常の方法によ
り塩酸酸性下で亜硝酸ナトリウム水全滴下しジアゾ化し
た。ついで50%の塩化亜鉛水金注入し複塩とした。こ
の化合物は稀塩酸水溶液に濃厚塩化亜鉛水の注入による
塩析によって再結晶し梢製することがどきる。
活性炭を触媒として、水素化ホウ素ナトリウムで還元す
る。アミン体を塩酸塩として採り出し、通常の方法によ
り塩酸酸性下で亜硝酸ナトリウム水全滴下しジアゾ化し
た。ついで50%の塩化亜鉛水金注入し複塩とした。こ
の化合物は稀塩酸水溶液に濃厚塩化亜鉛水の注入による
塩析によって再結晶し梢製することがどきる。
この化合物の赤外吸収スペクトル(K B r錠剤法)
(Cn層)は3200.2230 (νN=N )15
80.1560,1305,1080,850,640
゜520、紫外分光吸収スペクトルは最大吸収波長35
01m、分子吸光系数4.4X10’、融点:123〜
124C1亜鉛分析値(EDTAキレート滴定):13
.6%(計算値14.0%)であった。
(Cn層)は3200.2230 (νN=N )15
80.1560,1305,1080,850,640
゜520、紫外分光吸収スペクトルは最大吸収波長35
01m、分子吸光系数4.4X10’、融点:123〜
124C1亜鉛分析値(EDTAキレート滴定):13
.6%(計算値14.0%)であった。
実施例1
下記の組成比の感光液をテストピース用のガラ板に、回
転塗布し、厚さ0,5μmの結晶膜を形成した。
転塗布し、厚さ0,5μmの結晶膜を形成した。
組成1
塩化p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリン塩化亜鉛複
塩 2.75% 塩化p−2,6−ジブロムフェノール塩化亜鉛複塩 0
.14 アルギン酸プロピレングリコールエステル0.275 水 残り これにシャドウマスクを介して500W超高圧水銀灯よ
り135錆離れた所で160秒間照射した。これにけい
光体粉末を接触させたところ、露光部にけい光体粉末が
被着した。
塩 2.75% 塩化p−2,6−ジブロムフェノール塩化亜鉛複塩 0
.14 アルギン酸プロピレングリコールエステル0.275 水 残り これにシャドウマスクを介して500W超高圧水銀灯よ
り135錆離れた所で160秒間照射した。これにけい
光体粉末を接触させたところ、露光部にけい光体粉末が
被着した。
一方、比較のため、塩化1)−2,6−ジブロムフェノ
ール塩化亜鉛複塩を用いることなく、同様の操作を行な
ったところ、250秒間照射してほぼ同量のけい光体が
付着した。
ール塩化亜鉛複塩を用いることなく、同様の操作を行な
ったところ、250秒間照射してほぼ同量のけい光体が
付着した。
実施例2
組成液1vcおいて、塩化P−ジアゾー2.6−ジプロ
ムフエノール塩化亜鉛複塩の添加室と感度向上率との関
係を同様の操作で、全く同量のけい光体粉末が付層する
最少露光時間で表わした結果を表1に示した。
ムフエノール塩化亜鉛複塩の添加室と感度向上率との関
係を同様の操作で、全く同量のけい光体粉末が付層する
最少露光時間で表わした結果を表1に示した。
(9)
表 1
〔発明の効果〕
以上の如く、本発明のパターン形成方法は、従(10)
Claims (1)
- ジアゾニウム塩からなる光粘着[’に用いるパターン形
成方法において、該光粘着膜の感光成分が少なくとも塩
化p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリン塩化亜鉛複塩
と塩化p−ジアゾ−ブロムフェノール塩化亜鉛複塩を有
し、該光粘着膜に所定パターンの露光を用いない、露光
部に粉体を被着させることを特徴とするパターン形成方
法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59010066A JPS60156785A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | パタ−ン形成方法 |
US06/694,237 US4564572A (en) | 1984-01-25 | 1985-01-24 | Process for forming pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59010066A JPS60156785A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | パタ−ン形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60156785A true JPS60156785A (ja) | 1985-08-16 |
Family
ID=11740004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59010066A Pending JPS60156785A (ja) | 1984-01-25 | 1984-01-25 | パタ−ン形成方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4564572A (ja) |
JP (1) | JPS60156785A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4751171A (en) * | 1984-07-03 | 1988-06-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Pattern forming method |
JPH0680577B2 (ja) * | 1985-11-08 | 1994-10-12 | 株式会社東芝 | カラ−受像管の蛍光面形成方法 |
US6396005B2 (en) | 1998-06-15 | 2002-05-28 | Rodgers Technology Center, Inc. | Method and apparatus for diminishing grid complexity in a tablet |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7009028A (ja) * | 1970-06-19 | 1971-12-21 | ||
JPS53126861A (en) * | 1977-04-13 | 1978-11-06 | Hitachi Ltd | Formation method of pattern-type powder substance coating layer |
US4273842A (en) * | 1977-04-13 | 1981-06-16 | Hitachi, Ltd. | Process for forming patternwise coated powder layer |
JPS5532332A (en) * | 1978-08-30 | 1980-03-07 | Hitachi Ltd | Particle pattern coat forming method |
JPS5641643A (en) * | 1979-09-14 | 1981-04-18 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition |
JPS579036A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-18 | Hitachi Ltd | Formation of pattern by using photosensitive compound |
KR850001415B1 (ko) * | 1980-07-04 | 1985-09-30 | 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 | 감광성 조성물(感光性組成物) |
US4436804A (en) * | 1981-03-20 | 1984-03-13 | American Hoechst Corporation | Light-sensitive polymeric diazonium condensates and reproduction compositions and materials therewith |
JPS57158923A (en) * | 1981-03-27 | 1982-09-30 | Hitachi Ltd | Method for forming fluorescent screen of cathode-ray tube |
JPS5868742A (ja) * | 1981-10-21 | 1983-04-23 | Hitachi Ltd | 感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法 |
JPS5915246A (ja) * | 1982-07-19 | 1984-01-26 | Hitachi Ltd | 感光性組成物及びパタ−ン形成法 |
-
1984
- 1984-01-25 JP JP59010066A patent/JPS60156785A/ja active Pending
-
1985
- 1985-01-24 US US06/694,237 patent/US4564572A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4564572A (en) | 1986-01-14 |
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