KR850001415B1 - 감광성 조성물(感光性組成物) - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

감광성 조성물(感光性組成物)
본원 발명은 감광선 조선물에 광한 것이다.
컬러브라운광의 화면부분(face plate)의 내면에는 3종류의 형광체가 도트(dot)또는 스트라이프상으로 도포(塗布)되어 있다. 이 형광체 도포층을 형성하는 종래의 방법은 다음과 같다. 먼저 화면부분의 내면에 제1색째의 형광체와 감광성수지와의 혼합물의 도료를 화면부분 내면에 도포하여, 건조시켜서 도막을 형성한다. 다음에 이층에 샤도우마스크의 구멍을 통해서 자외선을 조사한다. 이때의 자외선 조사위치는 그 형광체를 발광시키기 위한 전자비임이 사돌(射突)하는 위치 즉, 그 형광체가 고착되어야 할 위치에 해당한다. 이 자외선 조사를 받은 부분의 감광성 수지는 불용화(不溶化)하며, 그것에 의해서 그 부분의 충전체가 불용화한다. 다음에 층을 용매로 씻고, 불용화한 부분만을 페이스플레이트면에 잔류시키며, 그 외의 층은 용해, 제거한다. 다음에 제2색째의 형광채와 감광성수지와의 혼합물의 층을 사용하여 똑같은 조작을 하고, 다시 제3색째의 형광채와 감광성수지와의 혼합물을 사용하여 똑같은 조작을 한다.
이상의 설명에서 명백한 바와같이 컬러브라운광의 형광면 제작공정은 복잡하며, 다수회(多數回)의 습식도포, 수세, 건조의 반복을 필요로 하므로, 그 간단화는 매우 바람직한 일이다.
그 때문에 본원 발명자중의 일부 사람은 일본국 특개소 53(서기 1978년)-126861로서 종래보다도 현저하게 간단한 공정으로 컬러브라운광 형광면을 형성하는 방법을 제안했다. 이 방법은 방향쪽 디아조늄염의 광분해 생성물이 분체입자수용능력(粉體粒子受容能力)을 갖는다고 하는 색로운 지견(知見)에 의거하여 완성된 것이며, (1)방향족 디아조늄염을 감광성 성분으로서 포함하는 노광(露光)에 의해 점착성(粘着性)을 발생시키는 감광성 조성물을 컬러브라운관 페이스플레이트 내면에 도포하여 얇은층으로 하고, (2)그 얇은 층에 도형상의 노광을 하고, 노광부에 점착성을 발생시키며, (3) 노광후 얇은 층에 분체입자를 접촉시켜, 분체입자를 얇은 층에 수용(受容)시키는 것을 특징으로 하는 것이다.
이 방법에 의하면 제2색째, 제3색째의 형광체에 대해서는 노광, 분체접촉만을 반복하면 되며, 도막은 한번 형성하면 몇 종류의 형광체의 패턴으로도 형성할 수 있다. 또 광흡수성 물질의 분말, 예를들어 카아본 분말 등을 사용하여, 블랙매트릭스를 제조할 수 있다.
그러나 이 방법에 있어서는 감광성 성분의 감도가 종래의 감광성수지에 비해서 약간 낮기 때문에, 작업 시간이 약간 길어진다.
본원 발명의 목적은 상술한 방향족 디아조늄염을 사용한 패턴 형성방법에 사용되는 고감도의 조성물을 제공하는데 있다.
그리고, 또 다른 목적은, 일반식
Figure kpo00001
(여기서 R1및 R2는 직쇄(直鎖)알킬기를, X, Y 및 Z는 H, 직쇄알킬기 또는 알콕시기를 나타내며, 단 X, Y 및 Z가 동시에 둘이상 H인 경우는 없는 것으로 한다)으로 표시되는 화합물의 염과노광에 의해서 점착성을 발생시키는 방향족 디아조늄염을 포함하는 감광조성물에 의해서 달성된다.
일반식으로 표시되는 화합물의 염으로서는 염산염·염화아연 복염일 것이 바람직하다. 이것은 다음과 같은 이유에 의한다. 상기 일본국 특개소 53-126861에도 기재했듯이, 감광성 성분을 포함한 도막이 결정화(結晶化)하고 있지않으면 분체를 도막에 접촉시켰을때 비노광부에도 분체가 피착하는 일이 있으므로, 도막이 결정화하고 있을것이 필요하다. 그런데 감광성 성분인 방향족 디아조늄염으로서는 디아조늄 클로라이드의 염화아연복염을 사용하는 것이 결정성에 뛰어나며 또 분체의 부착량이 많아서 바람직하다. 방향족디아조늄염과 상기 일반식으로 나타낸 화합물의 염(이하 첨가물이라고 한다)은 하나의 용액으로 하고, 기판에 도포 건조시켜서 도막으로 한다. 그래서 용액중에 동시에 2종류의 염이 존재하므로, 그때 같은 종류의 아니온쪽이 바람직하며, 따라서 첨가물도 염화아연과의 복염을 사용하는 것이 좋다. 그리고 첨가물 자체의 결정성으로서도, 염산염·염화아연복염이 다른 경우보다 뛰어나다. 물론, 주석염, 칼슘염, 철염 등일지라도 사용할 수 있다.
일반식에서 R1및 R2로서는 메틸기 또는 에틸기일 것이 바람직하다. 그것은 첨가물 자체의 결정성이 뛰어나기 때문이며, 특히 메틸기는 결정성에 보다 뛰어나므로 가장 바람직하다.
X, Y 및 Z로 표시되는 알킬기, 알콕시기로서는 탄소수 2이하일 것이 바람직하다. 상기한 바와 마찬가지로 결정성에 뛰어나기 때문이다. 탄소수가 3이상의 치환기를 사용하더라도 탄소수가 2이하의 것과 마찬가지로 증감효과는 볼수 있다. 그러나 도막으로 했을때의 결정성이 저하하므로 상기한 바와같이 탄소수 2이하의 것을 사용하는 것이 바람직하다.
이와같은 화합물의 염으로서 다음과 같은것이 있다. 2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염 ;
Figure kpo00002
3,5-디메틸-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염 ;
Figure kpo00003
2,4,6-트리메틸-N,N 디메틸아닐린염산염·염화아연복염 ;
Figure kpo00004
2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염 ;
Figure kpo00005
3-메톡시-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염 ;
Figure kpo00006
3-에톡시-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염 ;
Figure kpo00007
4-메톡시-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염 ;
Figure kpo00008
4-에톡시-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염 ;
Figure kpo00009
그리고 이밖에 3,5-디메틸-4-에톡시-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염, 3,5-디메틸-4-메톡시-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염, 3,4,5-트리메톡시-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염 등이 있다.
디아조늄염의 광분해를 촉진하는 증감제는 현재까지 몇 종류가 알러져 있었지만, 그러나 이들 증감제는 모두가 용액중의 디아조늄염의 분해를 촉진하는 것이다. 이와같은 증감제는 고상상태(固相狀態)에 있어서 증감효과를 나타내지 않는다. 본원 발명에 사용하는 첨가제는 결정화되어 있는 고상의 디아조늄염의 광분해를 촉진하는 것으로서, 이와같은 첨가제는 지금까지 알려져 있지 않다. 그리고 또 본원발명의 첨가제는 디아조늄염의 결정생장을 저해하는 일이 거의 없다.
첨가물의 양은 방향족디아조늄염에 대해서 300∼1중량%의 범위의 양일 것이 바람직하며, 300∼5중량%의 범위의 양일 것이 보다 바람직하다. 첨가물을 1중량%이상 가함으로써 디아조늄염의 광분해 효율이 향상하며, 5중량%이상 가함으로써 광분해 효율이 더욱 향상한다. 한편 300중량%를 초과해서 가하면 도막의 결정성이 저하한다. 그리고 첨가물은 2종이상 혼합해서 사용할 수도 있다.
감광성 성분인 방향족디아조늄염으로서는 상기 일본국 특개소 53-126861에 기재한 것, 또는 본원 발명자들이 별도 출원한 신규의 방향족 디아조늄염 등이 사용된다. 예를들면 전자의 것으로서 4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄 클로라이드·염화아연복염, 4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄클로라이드·염화아연복염, 4-(N-에틸-N-히드록시에틸아미노)벤젠디아조늄 클로라이드·염화아연복염, 4-메톡시벤젠디아조늄 클로라이드·염화아연복염 등이 방향족디아조늄염화물·염화아연복염, 4-(디메틸아미노)벤젠다아조늄붕불화수소산염(硼弗化水素酸鹽), 2-메톡시벤젠디아조늄붕불화수소산염 등의 방향족디아조늄테트라플루오로붕산염 또는 황산 4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄, 황산 4-(페닐아미노)벤젠디아조늄 등이 방향족디아조늄산성황산염, 후자의 것으로서 2-메틸-4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄클로라이드·염화아연복염 등이 있다.
상술한 바와같이 도막이 결정화하기 위해서는 상기 염중 염화아연복염이 바람직하지만, 특허 4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄 클로라이드·염화아연복염을 사용할 것, 또 2종 이상의 염을 혼합해서 사용할때는 이 염을 그중의 하나에 가하는 것이 특히 바람직하다.
본원 발명에 사용되는 감광성 성분을 얇은 층으로 할때의 도포성 향상의 목적으로, 상기 감광성 성분에 유기고분자 화합물 및/또는 계면 활성제를 포함하는 것은 이미 제안되어 있으며, 본원 발명에 있어서도 이와같은 감광성 성분을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 유기고분자 화합물로서는 아라비아고무, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리 N-비닐피롤리돈, 히드록시프로필메틸셀룰로우스, 알긴산의 프로필렌글리코올에스테르, 아크릴아미드 디아세톤아크릴아미드 공중합체 및 메틸비닐에 에테르 무수말레인산공중합체 등이 바람직하다. 또 이들 유기고분자 화합물은 방향족디아조늄염에 대해 0.5∼500중량% 사용하는 것이 바람직하다. 또 계면활성제는 0.01∼1중량% 정도를 사용하는 것이 바람직하다.
본원 발명의 감광성 조성물은 상기한 바와같은 조성물의 용액을 기판에 도포, 건조시켜서 도막으로 하고, 이것에 소정패턴의 노광을 하여 노광부에 점착성을 발생시켜, 이 도막에 분체를 접촉시켜서 노광부에 분체를 입혀 붙이며, 잔여의 분체를 에어스프레이 등으로 제거시키고, 이어서 노광 이하의 프로세스를 제2, 제3의 분체에 대해서 각기 반복하는 것이다. 이와같이 해서 고감도이며, 수종류의 분체의 패턴을 형성할 수 있다.
분체로서는 평균입경 0.01∼100㎛ 정도의 것을 사용할 수 있다. 형광체 또는 이것에 안료를 부착시킨 것을 사용할 때는 평균입경이 4∼15㎛ 정도의 것이 바람직하다.
또 본원 발명자중의 일부 사람이 별도 출원한 특허에 기재한 Zn(OH)2등의 표면 처리한 형광체를 사용하는 것은 더욱 바람직하다.
또 이와같이 해서 형성된 형광체 도포층은 알칼리성 물질의 증기 에를들어 암모니아가스 등과 접촉시킴으로써 정착되는 일은 상기 일본국 특개소 53-126861호의 명세서 기타에 기재되어 있으며, 본원 발명에도 이와같은 정착방법을 사용하는 것이 가능하다.
또 본원 발명자들중의 일부의 사람이 일본국 특개소 55(서기1980)-32332로서 별도로 특허출원한 다른 정착방법을 사용하는 것도 가능하다.
이 방법은 방향족 디아조늄염의 광분해 반응에 의한 생성물과 반응해서 비수용성 내지는 난수용성 고형물질은 생성하는 분말물질을, 형광체 등의 분체도포층 형성후에, 또 분체도포층 형성중체 도포하는 것이다.
따라서 이와같은 정착용 분말상 물질은 디아조늄염의 종류에 따라서 다르다. 예를들어 디아조늄염이 염화아연복염일때는 그 광분해 생성물은 염화아연이며, 정착용 분말상 물질로서는 알칼리금속수산화물, 알칼리토금속수산화물(토금속수산화물), 알칼리금속산화물, 알칼리토금속산화물, 알칼리금속의 탄산염, 중탄산염, 수산염 또는 탄산암모늄, 수산암모늄 등이 사용된다. 또 디아조늄염이 산성황산염일때는 광분해 생성물이 황산이므로 정착용 분말상 물질로서는 알킬리토금속수산화물, 알칼리토금속산화물, 알칼리토금속의 탄산염, 질산염, 초산염 등이다.
다음에 실시예에 의해 본원 발명을 설명한다.
[실시예 1]
2,6-디메틸아닐린 50g을 물 124cc에 현탁하고, 20℃ 이하에서 황산디메틸 105g을 적하(滴下)한다. 이어서 30%수산화나트륨수용액 132g을 가하여 아미노기를 디메틸화한다. 얻어진 N,N-디메틸화합물을 염산에 용해하고, 4배몰의 염화아연을 가해서 복염을 침전시킨다. 희염산에서 재결정하여, 식Ⅰ의 염을 얻었다. m.p. 155∼156℃, 아연량(EDTA 킬레이트적정에 의함. 이하 동)12.3%(계산치 12.9%) NMR 결과(케미컬시프트); 3.3ppm, 2.5ppm, 7.2ppm.
[실시예 2]
3,5-디메틸아닐린을 사용하여 실시예 1과 똑같은 처리를 하여 식Ⅱ의 염을 얻었다. m.p. 125∼126℃, 아연량 12.8%(계산치 12.9%), NMR 결과(케미컬시프트)3.2ppm, 2.3ppm, 7.2ppm.
[실시예 3]
2,4,6-트리메틸아닐린을 사용하여 실시예 1과 똑같은 처리를 하여 식 Ⅲ의 염을 얻었다. m.p. 187∼189℃, 아연량 12.1%(계산치 12.2%), NMR 결과(케미컬시프트)2.8ppm, 2.1ppm, 2.0ppm, 6.6ppm.
[실시예 4]
2,6-디에틸아닐린을 물에 현탁하고, 황산디메틸을 실온에서 적가(滴加)해서 디메틸화하여 증류해서 2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린을 얻었다. 이것을 염산수에 녹여, 염화아연을 가해서, 2,6-디에틸-N,N-디메틸아닐린염산염·염화아연복염(식 Ⅳ)을 합성했다. 아연량 11.6%(계산치 11.5%), 적외분광흡수(KBr 정제법); 3070㎝-1, 1450㎝-1, 1380㎝-1, 810㎝-1, 560㎝-1.
[실시예 5]
2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린 40ml을 농황산 88ml에 15℃ 이하에서 용해한다. 농질산 35ml을 15℃이하로 유지하면서 적가한다. 적가후 1시간 반응하고 냉수에 주입후, 탄산나트륨으로 중화한다. 3-니트로-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린이 결정으로서 석출(析出)한다. 얻어진 니트로화합물을 환원후, 디아조화하고, 열분해 시켜서, 3-하드록시-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린을 얻는다.
이어서 이 페놀화합물을 알칼리수에 용해하고, 40∼45℃ 하에서 과잉의 황산디메틸로 처리한다. 얻어진 3-메톡시-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린을 염산에 용해하고, 2배몰의 염화아연을 가하여 복염을 침전시킨다. 희염산에서 재결정하여, 식 Ⅴ의 염은 연었다. m.p. 162∼165℃, 아연량 11.8%(계산치 11.4%), 적외선 흡수스펙트럼 ; 3100㎝-1, 1450㎝-1, 1260㎝-1, 1070㎝-1, 820㎝-1, 1600㎝-1NMR 결과(케미컬시프트) ; 3.4ppm, 3.9ppm, 2.4ppm, 2.5ppm, 7.1ppm, 7.2ppm, 7.2ppm, 7.3ppm.
[실시예 6]
실시예 5와 마찬가지로 하여 얻은 3-히드록시-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린을 알칼리수에 용해하여 50∼60℃하로 유지하면서 황산디메틸을 적가하여, 3-에톡시-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린을 합성했다. 이어서, 염산에 용해하여 2배몰의 염화아연을 가해서 복염을 침전시킨다. 희염산에서 재결정하여 식 Ⅵ의 염을 얻었다. m.p. 164∼165℃, 아연량 11.1%(계산치 10.9%)적외선흡수스펙트럼 ; 3100㎝-1, 1610㎝-1, 1460㎝-1, 1270㎝-1, 1070㎝-1, 820㎝-1, NMR 결과(케미컬시프트) ; 3.4ppm, 2.4ppm, 2.5ppm, 1.4ppm, 1.3ppm, 1.5ppm, 4.0ppm, 4.1ppm, 3.9ppm, 4.2ppm, 7.1ppm, 7.2ppm, 6.9ppm, 7.3ppm.
[실시예 7]
3,5-디메틸페놀 25g을 5%의 가성소오다 수용액 200g에 녹인다.
이 액에 하이포 1g과 아질산소오다 20g을 첨가해서 녹인다. 이 액을 7℃ 이하로 유지하면서 농황산 27ml을 물 80ml에 녹인 수용액을 적가한다. 4-니트로소-3,5-디메틸페놀이 석출한다. 얻어진 니트로소화합물을 알칼리수(가성소오다)에 녹여서 40∼45℃ 하로 유지하면서 황산디메틸을 적가하여, 에테르화 한다. 이어서 니트로소기를 환원하여, 4-메톡시-2,6-디메틸아닐린을 합성한다. 얻어진 다닐린 화합물을 물에 현탁하고, 실온하에서 황산디메틸을 작용시켜서 아미노기를 디메틸화한다. 얻어진 4-메톡시-2,6-디메틸-N,N-디메틸아닐린을 염산에 용해하고, 2배몰의 염화아연을 가해서 복염을 침전시킨다. 희염산에서 재결정하여 식 Ⅶ의 염을 얻었다. m.p. 45∼47℃, 적외선흡수스펙트럼 ; 3100㎝-1, 1600㎝-1, 1460㎝-1, 1310㎝-1, 1160㎝-1, 1060㎝-1, 860㎝-1; 아연량 17.4%(계산치 18.4%)
[실시예 8]
실시예 7과 똑같이 해서 합성한다. 4-니트로소-3,5-디메틸페놀을 알칼리수에 녹여, 50-60℃에서 황산디에틸을 적가하여 페놀을 에에테르화 한다. 이어서 니트로소기를 환원하여, 4-에톡시-2,6-디메틸아닐린을 합성한다. 이어서 아닐린화합물을 물에 현탁하고 실온하에서 황산디메틸을 작용시켜 아미노기를 디메틸화한다. 얻어진 4-에톡시-2,6-디메틸-N,N-아닐린을 염산에 용해하고, 2배몰의 염화아연을 가하여 복염을 침전시킨다. 희염산에서 재결정하여 식 Ⅷ의 염을 얻었다. m.p. 42∼43℃, 적외선흡수스펙트럼 ; 3100㎝-1, 1600㎝-1, 1460㎝-1, 1310㎝-1, 1160㎝-1, 1060㎝-1, 840㎝-1, 아연량 16.5%(계산치 17.7%).
[실시예 9]
수용성고분자화합물인 알긴산프로필렌글리코올에스테르 0.5%수용액 80g, 감광성 성분으로서, 4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄 클로라이드. 염화아연복염 3.2g, 식Ⅰ의 첨가제를 0.7g, 물 20g으로 이루어진 조성물의 수용액을 유리기판에 회전도포법에 의해 도포, 막두께 0.5㎛의 감광층으로 했다.
이것에 500W 초고압수은 등에서 자외선을 90cm의 거리에서, 소정패턴을 갖는 아파아쳐마스크를 통해서 63초 노광했다. 이어서 형광체를 부여했더니 광조사부분에만 혈광체가 부착했다. 똑같이 해서 제2, 제3의 노광에 의해 각기 제2, 제3의 형광체를 부착했다.
비교를 위해서 첨가제를 제외산 조성의 감광성 조성물을 사용하여 똑같은 처리를 하였더니 충분한 양의 형광체를 부착하는데 소요된 시간은85초였다.
[실시예 10,11]
감광성분인 디아조늄염과 첨가물과의 비율을 표1과 같이 변경하였더니, 충분한 양의 형광체를 부착하는데 소요된 노광시간은 표 1의 기재사항과 같았다.
[표1]
Figure kpo00010
[실시예 12,13,14]
첨가제로서 식 Ⅰ의 염 대신에 식 Ⅱ의 염을 사용하여 실시예 9,10,11과 마찬가지의 처리를 각기 행했더니 모두 대충 똑같은 결과가 얻어졌다.
[실시예 15]
식 Ⅲ의 첨가제 0.7g, 4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄 클로라이드·염화아연복염 3.2g을 알긴산프로필렌글리코올에스테르의 0.5%수용액 80g에 용해하고, 물 20g을 추가, 이것을 유리기판상에 도포하여 0.5㎛의 도막으로 했다. 500W 초고압수은 등을 사용하여, 90cm의 거리에서 마스크를 통해서 이 도막에 63초 노광하고, 형광체 분말을 접촉시켜, 에어스프레이로 불필요한 형광체를 제거하고, 노광부에 해당하는 형광체 패턴을 얻었다.
[실시예 16]
감광성 성분인 4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄 클로라이드·염화아연 복염 3.2g, 식 Ⅳ의 물질을 0.7g, 수용성고분자화합물인 알긴산프로필렌글리코올에스테르 0.5%, 수용액 80g, 물 20g로 이루어진 조성물의 수용액을 유리기판에 회전도포법에 의해 도포, 막두께 0.5㎛의 감광층으로 했다. 이것에 500W 초고압수은 등에서 자외선을 90cm의 거리에서 소정패턴을 갖는 아파아쳐마스크를 통해서 63초 노광했다. 이어서 형광체를 부여했더니 광조사 부분에만 형광체가 부착했다. 비교를 위해서, 상기 첨가제를 제거한 조성의 감광성 조성물을 사용하여, 똑같은 처리를 하였더니, 충분한 양의 형광체를 부착하는데 소요된 노광시간은 85초였다.
[실시예 17]
수용성 고분자화합물인 알긴산프로필렌글리코올에스테르 0.5%수용액 80g, 감광성 성분으로서, 4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄 클로라이드 염화아연복염 3.3g, 식 Ⅴ의 첨가제를 0.33g, 물 20g으로 이루어진 조성물의 수용액을 유리기판에 회전도포법에 의해 도포, 막두께 0.5㎛의 감광층으로 했다. 어것에 500W 초고압 수은등에서 자외선을 90cm의 거리에서 소정패턴을 갖는 아파아쳐마스크를 통해서 63초 노광했다. 이어서 형광체를 부여했더니 광조사 부분에만 형광체가 부착했다. 마찬가지로 해서 제2, 제3의 노광에 의해 각기 제2, 제3의 형광체를 부착했다. 비교를 위해서 첨가제를 제거한 조성의 감광성 조성물을 사용하여 마찬가지의 처리를 했더니 충분한 양의 형광체를 부착하는데 소요된 노광시간은 85초였다.
[실시예 18,19]
감광성 성분인 디아조늄염과 첨가제와의 비율을 표 2처럼 변경했더니 충분한 양의 형광체를 부착하는데 소요된 노광시간은 다음 표 2와 같다.
[표 2]
Figure kpo00011
[실시예 20]
식 Ⅵ의 첨가제 0.33g, 4-(디메틸아미노)벤젠디아조늄 클로라이드 염화아연복염 3.3g을 알긴산프로필렌글리코올에스테르의 0.5%수용액 80g에 용해하고, 물 20g을 추가, 이것을 유리기판상에 도포해서 0.5㎛의 도막으로 했다. 500W 초고압 수은 등을 사용하여 90cm의 거리에서 마스크를 통해서 이 도막에 63초 노광하고, 형광체분말을 접촉시켜, 에어스프레이로 불필요한 형광체를 제거하고, 노광부에 해당하는 형광체 패턴을 얻었다.
[실시예 21]
식 Ⅶ의 첨가제를 사용하여 실시예 17과 마찬가지의 처리를 했더니 대충 똑같은 결과가 얻어졌다.
[실시예 22,23]
식 Ⅷ의 첨가제를 사용하여 실시예 17과 똑같은 처리를 했다. 단 첨가제의 양을 감광성 성분에 대해서 1중량%(실시예 22)및 5중량%(실시예 23)로 했더니 노광시간 81초(실시예 22) 및 72초(실시예 23)로 대충 똑같은 결과가 얻어졌다.
[실시예 24]
2,6-디메틸N,N-디에틸아닐린을 사용하여 실시예 5와 똑같은 합성을 하여 3-메톡시-2,6-디메틸-N,N-디에틸아닐린염산염·염화아연복염을 얻었다. 이것을 사용하여 실시예 17과 똑같은 처리를 했더니 대충 마찬가지의 결과가 얻어졌다.

Claims (1)

  1. 노광에 의해서 점착성을 발생시키는 방향족디아조늄염과 하기 일반식으로 표시되는 화합물의 염을 포함하는 거을 특징으로 하는 감광성 조성물.
    Figure kpo00012
    (여기서 R1및 R2는 직쇄알킬기를, X, Y 및 Z는 각기 H, 직쇄알킬기 또는 알콕시기를 나타내며, 단 X, Y 및 Z가 동시에 둘이상 H인 경우는 없는 것으로 한다).
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5868742A (ja) * 1981-10-21 1983-04-23 Hitachi Ltd 感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法
EP0089506A3 (de) * 1982-03-18 1984-04-11 American Hoechst Corporation Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukten und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
JPS5929245A (ja) * 1982-08-11 1984-02-16 Hitachi Ltd 感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法
JPS60156785A (ja) * 1984-01-25 1985-08-16 Hitachi Ltd パタ−ン形成方法
JPS61258242A (ja) * 1985-04-17 1986-11-15 Hitachi Ltd 感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法
CN103116246B (zh) * 2013-02-27 2016-07-06 村上精密制版(昆山)有限公司 一种感光性树脂组合物及其应用

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2214559A (en) * 1939-07-15 1940-09-10 American Cyanamid Co Stable solution for producing ice colors
US2405523A (en) * 1944-08-09 1946-08-06 Du Pont Light-sensitive photographic compositions and elements
US2593911A (en) * 1948-12-31 1952-04-22 Gen Aniline & Film Corp Diazotypes containing a condensation product of dicyandiamide with formaldehyde and a salt of ammonia or an aromatic amine
US2877083A (en) * 1957-12-26 1959-03-10 Gen Aniline & Film Corp Stabilization of acylacetarylide coupling components against formaldehyde deterioration
US3202510A (en) * 1961-07-11 1965-08-24 Frederick Post Co Production of encapsulated light-sensitive diazotype compositions and coatings
US3230257A (en) * 1963-02-13 1966-01-18 Universal Oil Prod Co Alkylated aromatic amines
DE1572058A1 (de) * 1964-12-30 1970-03-05 Keuffel & Esser Co Reprographisches Verfahren
US3387975A (en) * 1965-03-10 1968-06-11 Sony Corp Method of making color screen of a cathode ray tube
US3342594A (en) * 1965-03-31 1967-09-19 Rauland Corp Method for making color phosphor screens
US3469984A (en) * 1965-05-17 1969-09-30 Addressograph Multigraph Heat-sensitive diazotype materials
CH482794A (de) * 1965-11-12 1969-12-15 Sandoz Ag Verfahren zur Herstellung von sulfonsäuregruppenfreien basischen Farbstoffen
US3704129A (en) * 1970-02-06 1972-11-28 Gaf Corp Two component diazotype composition having additionally an aniline compound
NL7007827A (ko) * 1970-05-29 1971-12-01
US3997344A (en) * 1974-07-05 1976-12-14 American Can Company Dry positive photopolymer imaging process involving heating and application of toner
CH590968B5 (ko) * 1975-05-26 1977-08-31 Ciba Geigy Ag
US4273842A (en) * 1977-04-13 1981-06-16 Hitachi, Ltd. Process for forming patternwise coated powder layer
US4247612A (en) * 1979-08-08 1981-01-27 Hitachi, Ltd. Method of forming fluorescent screens of color picture tubes

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Publication number Publication date
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DE3169809D1 (en) 1985-05-15
KR830007025A (ko) 1983-10-12
US4377630A (en) 1983-03-22

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