JPS61258242A - 感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法 - Google Patents
感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法Info
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- JPS61258242A JPS61258242A JP60080128A JP8012885A JPS61258242A JP S61258242 A JPS61258242 A JP S61258242A JP 60080128 A JP60080128 A JP 60080128A JP 8012885 A JP8012885 A JP 8012885A JP S61258242 A JPS61258242 A JP S61258242A
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- G03C1/00—Photosensitive materials
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、感光性組成物及びそれを用いて粉体層のパタ
ーンを形成する方法に関する。
ーンを形成する方法に関する。
粉体層のパターンを形成する一例としてカラーブラウン
管の製造がある。カラーブラウン管のフェースプレート
内面には、3種類のけい光体がドツト又はストライプな
どの形状に塗布されておシ、また上記けい光体の間には
ブラックマトリックス形成のため黒色粉体が塗布されて
いる。従来、カラーブラウン管f:、製造する一般的な
方法としては、あらかじめフェースプレート内面にブラ
ックマトリックスを形成してから、第1色目のけい光体
と水洗して非露光部を除去し、上記の硬化し六露光部の
みを7エースプレート[に残す。第2.第3色目のけい
光体について、それぞれ同様の操作を繰シ返す。またブ
ラックマトリックスの製造方法については省略するがけ
い光体パターンの形成以上に複雑である。以上の説明の
ようにカラーブラウン管けい光面製作工程は複雑で、多
数回の湿式塗布、水洗、乾燥の繰シ返しを必要とする。
管の製造がある。カラーブラウン管のフェースプレート
内面には、3種類のけい光体がドツト又はストライプな
どの形状に塗布されておシ、また上記けい光体の間には
ブラックマトリックス形成のため黒色粉体が塗布されて
いる。従来、カラーブラウン管f:、製造する一般的な
方法としては、あらかじめフェースプレート内面にブラ
ックマトリックスを形成してから、第1色目のけい光体
と水洗して非露光部を除去し、上記の硬化し六露光部の
みを7エースプレート[に残す。第2.第3色目のけい
光体について、それぞれ同様の操作を繰シ返す。またブ
ラックマトリックスの製造方法については省略するがけ
い光体パターンの形成以上に複雑である。以上の説明の
ようにカラーブラウン管けい光面製作工程は複雑で、多
数回の湿式塗布、水洗、乾燥の繰シ返しを必要とする。
そのため本発明者らの一部のものは、先に特開昭53−
126861として、簡単な工程でカラーブ粉体粒子受
容能力を有するという知見に基づき完成されたもので、
(1)芳香族ジアゾニウム塩を感光性成分として含む露
光によシ粘着性を生じる感光性組成物を基体表面に塗布
して塗膜とし、(2)その塗膜に所定パターンの露光を
行ない、露光部に粘着性を生ぜしめ、(8)塗膜に粉体
粒子を接触させて露光部に粉体粒子を被着させる方法で
ある。この方法によれば、残余の粉体粒子はエアースプ
レィなどの方法で簡単に塗膜上から除去し得るので第2
、第3色目のけい光体については、露光、粉体接触のみ
を繰シ返せばよく、必要ならばブラックマトリックスも
この方法で製造でき、塗膜を一度形成すると何種の粉体
パターンでも形成するととができる。
126861として、簡単な工程でカラーブ粉体粒子受
容能力を有するという知見に基づき完成されたもので、
(1)芳香族ジアゾニウム塩を感光性成分として含む露
光によシ粘着性を生じる感光性組成物を基体表面に塗布
して塗膜とし、(2)その塗膜に所定パターンの露光を
行ない、露光部に粘着性を生ぜしめ、(8)塗膜に粉体
粒子を接触させて露光部に粉体粒子を被着させる方法で
ある。この方法によれば、残余の粉体粒子はエアースプ
レィなどの方法で簡単に塗膜上から除去し得るので第2
、第3色目のけい光体については、露光、粉体接触のみ
を繰シ返せばよく、必要ならばブラックマトリックスも
この方法で製造でき、塗膜を一度形成すると何種の粉体
パターンでも形成するととができる。
それ故、使用する水の節約、工程の簡単化など多くの特
徴があるが、用いる感光性組成物の感度が従来の感光性
樹脂のそれよシやや低いという問題がある。
徴があるが、用いる感光性組成物の感度が従来の感光性
樹脂のそれよシやや低いという問題がある。
本発明の目的は、露光により粘着性を生じる高感度の感
光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供
することにある。
光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供
することにある。
本発明の感光性組成物は、
(1)一般式
ジアゾニウムイオンの塩又は複塩及び一般式(ここにR
1、几鵞はアルキル基又はベンジル基なる置換基を表わ
し、ただしR1及びR1の炭素数の合計が8以上16以
下でおるものとする)で表わさ些るジアゾニウムイオン
の塩又は複塩からなる群から選ばれ九少なくとも一種の
ジアゾニウム化合物及び(2)硝酸カルシウム及び/又
は硝酸マグネシウムよりなる。
1、几鵞はアルキル基又はベンジル基なる置換基を表わ
し、ただしR1及びR1の炭素数の合計が8以上16以
下でおるものとする)で表わさ些るジアゾニウムイオン
の塩又は複塩からなる群から選ばれ九少なくとも一種の
ジアゾニウム化合物及び(2)硝酸カルシウム及び/又
は硝酸マグネシウムよりなる。
上記ジアゾニウム化合物は、上記一般式で表わしたジア
ゾニウムイオンと、C2と塩化塩(例えばC2−2nC
41,Ct−TznCt雪など)、BF4.H8O4な
どのルイス酸と組み合わされて塩又は複塩の形をとる。
ゾニウムイオンと、C2と塩化塩(例えばC2−2nC
41,Ct−TznCt雪など)、BF4.H8O4な
どのルイス酸と組み合わされて塩又は複塩の形をとる。
上記一般式(旧におけるR1 、 R雪の置換基はその
炭素数の合計が8から16の範囲であることが好ましい
。例えばR,、R1,が共にエチル基である場合は炭素
数の合計が4であって好ましくないが、一方がエチル基
であっても他方がベンジル基であれば炭素数の合計は9
であって本発明に使用できる。この理由は後に多少説明
するが明確ではない。アルキル基は直鎖であっても側鎖
を有していてもよい。
炭素数の合計が8から16の範囲であることが好ましい
。例えばR,、R1,が共にエチル基である場合は炭素
数の合計が4であって好ましくないが、一方がエチル基
であっても他方がベンジル基であれば炭素数の合計は9
であって本発明に使用できる。この理由は後に多少説明
するが明確ではない。アルキル基は直鎖であっても側鎖
を有していてもよい。
ジアゾニウム化合物として、上記一般式で示したもの以
外の芳香族ジアゾニウム塩又は複塩を全体のジアゾニウ
ム化合物の約10重量%以下、好ましくは5重量%以下
程度混合してもさしつかえない。
外の芳香族ジアゾニウム塩又は複塩を全体のジアゾニウ
ム化合物の約10重量%以下、好ましくは5重量%以下
程度混合してもさしつかえない。
本発明の感光性組成物は、塗膜とする際の塗布性向上な
どの目的で水溶性有機高分子化合物及び/又は界面活性
剤を含むことができる。これについてはすでに前記特開
昭53−126861に提案されている。水溶性有機高
分子化合物としては、上記%開昭に示されている化合物
やその他の化合物、例えば、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルアミド、ヒドロキシグロビルメチルセルロー
ス、アルギ/酸及びそのエステル、メチルビニルエーテ
ル・無水マレイン酸共重合体などが使用できる。
どの目的で水溶性有機高分子化合物及び/又は界面活性
剤を含むことができる。これについてはすでに前記特開
昭53−126861に提案されている。水溶性有機高
分子化合物としては、上記%開昭に示されている化合物
やその他の化合物、例えば、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリルアミド、ヒドロキシグロビルメチルセルロー
ス、アルギ/酸及びそのエステル、メチルビニルエーテ
ル・無水マレイン酸共重合体などが使用できる。
本発明においては、硝酸カルシウム及び/又は硝酸マグ
ネシウムを均一に混合するなめに、水溶性有機高分子化
合物を前記特開昭記載の場合よシやや条目に、芳香族ジ
アゾニウム化合物に対し20重量%以上加えることが好
ましい。高分子化合物の好ましい量は、ジアゾニウム化
合物に対して20〜500重量%、よシ好ましい量は3
0〜300重量%である。また界面活性剤はo、 o
o i〜0.1重f%加えるのが好ましい。
ネシウムを均一に混合するなめに、水溶性有機高分子化
合物を前記特開昭記載の場合よシやや条目に、芳香族ジ
アゾニウム化合物に対し20重量%以上加えることが好
ましい。高分子化合物の好ましい量は、ジアゾニウム化
合物に対して20〜500重量%、よシ好ましい量は3
0〜300重量%である。また界面活性剤はo、 o
o i〜0.1重f%加えるのが好ましい。
硝酸カルシウムの添加量について検討した結果を第1図
に示す。下記組成物; 塩化p−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェ
ニルモルホリン塩化亜鉛複塩 ・・・・・・ 1アル
ギン酸グロピレングリコールエステル・・・・・・0.
6 ポリビニルアルコール …・・−0,4に
硝酸カルシウムを種々の量加え、残部は水を加えて10
0となるようにした(数値は重量部である)、後述する
実施例1とほぼ同じ条件で塗膜とし、露光、けい光体付
与を行ない塗着量を検討した。露光時間は実施例1にお
いて塗着量がほぼ飽和した時間とした。図に示すように
硝酸カルシウムの添加量が多くなる程塗布量が増加する
。しホし、550重量%(対ジアゾニウム化合物)以上
となると未露光部にもけい光体が付着するいわゆる「か
ぶυ」の現象が現われる。また400重量%を越えると
作業時の条件などにより1ごくわずか「かぶシ」が現わ
れる場合がある。また添加量が10重量%未満では塗着
量の増加が少ない。従って添加量の好ましい範囲は10
〜5oo重量%、よシ好ましい範囲は10〜400重量
%である。
に示す。下記組成物; 塩化p−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェ
ニルモルホリン塩化亜鉛複塩 ・・・・・・ 1アル
ギン酸グロピレングリコールエステル・・・・・・0.
6 ポリビニルアルコール …・・−0,4に
硝酸カルシウムを種々の量加え、残部は水を加えて10
0となるようにした(数値は重量部である)、後述する
実施例1とほぼ同じ条件で塗膜とし、露光、けい光体付
与を行ない塗着量を検討した。露光時間は実施例1にお
いて塗着量がほぼ飽和した時間とした。図に示すように
硝酸カルシウムの添加量が多くなる程塗布量が増加する
。しホし、550重量%(対ジアゾニウム化合物)以上
となると未露光部にもけい光体が付着するいわゆる「か
ぶυ」の現象が現われる。また400重量%を越えると
作業時の条件などにより1ごくわずか「かぶシ」が現わ
れる場合がある。また添加量が10重量%未満では塗着
量の増加が少ない。従って添加量の好ましい範囲は10
〜5oo重量%、よシ好ましい範囲は10〜400重量
%である。
また実用上塗着量が大きく、かつ作業し〒すい範囲は5
0〜350重量%である。
0〜350重量%である。
硝酸カルシウムの代)に硝酸マグネシウムを用いた場合
、添加量が多い範囲で、わずかにけい光体の塗着量が少
なかったが、大体同じ様な傾向を示した。
、添加量が多い範囲で、わずかにけい光体の塗着量が少
なかったが、大体同じ様な傾向を示した。
従来のプロセスに用いられていたジアゾニウム化合物、
例えば塩化4−ジアゾ−N、N−ジメチルアニIJン塩
化亜鉛複塩などの塗膜では全体の約150Xの化合物が
光分解−すると粉体が受容し一得るようになる。それに
対し本発明のジアゾニウム化合物の塗膜は全体の約20
%が光分解すると粉体を受容し得るようになる。この原
因は明確ではないが、従来の塗膜は結晶化していること
が必要であったのに対し、本発明のジアゾニウム化合物
を用いた場合は塗膜が必らずしも結晶化している必要゛
がないためと分子量が大きいことに起因すると思われる
が、正確な理由は不明である。一般式(I)で示した化
合物は、一般的に結晶化しなくとも使用できる。さらに
前記一般式で示したジアゾニウム化合物を含んだ塗膜(
非結晶膜)は光分解速度(光分解率:量子収率)が塩化
4−ジアゾ−N、N−ジンチルアニリン塩化亜鉛複塩か
らなる結晶膜の2倍位ある。従って感度が高くなる。
例えば塩化4−ジアゾ−N、N−ジメチルアニIJン塩
化亜鉛複塩などの塗膜では全体の約150Xの化合物が
光分解−すると粉体が受容し一得るようになる。それに
対し本発明のジアゾニウム化合物の塗膜は全体の約20
%が光分解すると粉体を受容し得るようになる。この原
因は明確ではないが、従来の塗膜は結晶化していること
が必要であったのに対し、本発明のジアゾニウム化合物
を用いた場合は塗膜が必らずしも結晶化している必要゛
がないためと分子量が大きいことに起因すると思われる
が、正確な理由は不明である。一般式(I)で示した化
合物は、一般的に結晶化しなくとも使用できる。さらに
前記一般式で示したジアゾニウム化合物を含んだ塗膜(
非結晶膜)は光分解速度(光分解率:量子収率)が塩化
4−ジアゾ−N、N−ジンチルアニリン塩化亜鉛複塩か
らなる結晶膜の2倍位ある。従って感度が高くなる。
しかしながら、粉体の付着量が少量で飽和する傾向にあ
る。硝酸カルシウム、硝酸マグネシウムを加えることに
より付着量が増加する。硝酸カルシウム、硝酸マグネシ
ウムは、ハロゲン元素を、もたないので、カラーブラウ
ン管に用いてもエミッター不良の原因とならない。また
ジアゾニウム塩はアルカリ性水溶液中では分解するが、
硝酸カルシウム、硝酸マグネシウムは、水溶液中でアル
カリ性を示さないので、本発明の感光性組成物を水溶液
としてとすろつかつてもなんら不都合はない。
る。硝酸カルシウム、硝酸マグネシウムを加えることに
より付着量が増加する。硝酸カルシウム、硝酸マグネシ
ウムは、ハロゲン元素を、もたないので、カラーブラウ
ン管に用いてもエミッター不良の原因とならない。また
ジアゾニウム塩はアルカリ性水溶液中では分解するが、
硝酸カルシウム、硝酸マグネシウムは、水溶液中でアル
カリ性を示さないので、本発明の感光性組成物を水溶液
としてとすろつかつてもなんら不都合はない。
以下本発明を実施例を用いて説明する。まず前記一般式
CI)で示した化合物の例をいくつか示す。
CI)で示した化合物の例をいくつか示す。
塩化4−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェ
ニルモルホリン塩化亜鉛複塩 OCa H書 −1−(1)塩化4−ジ
アゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェニルピペリ
ジン塩化亜鉛複環 0CiHs ・・・・・・(2)塩化4
−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェニルチ
オモルホリン塩化亜鉛複塩塩化4−ジアゾ−2,5−ジ
−n−ブトキシ−N−フェニルピロリジン塩化亜鉛複塩 0C4HI ・・・・・・(4)
実施例1 りぎの組成1,2の塗料を製造した。なお、組成1は従
来の組成を比較のため用いたもので、組成2が本発明の
実施例である。また数字は重量%である。
ニルモルホリン塩化亜鉛複塩 OCa H書 −1−(1)塩化4−ジ
アゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェニルピペリ
ジン塩化亜鉛複環 0CiHs ・・・・・・(2)塩化4
−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェニルチ
オモルホリン塩化亜鉛複塩塩化4−ジアゾ−2,5−ジ
−n−ブトキシ−N−フェニルピロリジン塩化亜鉛複塩 0C4HI ・・・・・・(4)
実施例1 りぎの組成1,2の塗料を製造した。なお、組成1は従
来の組成を比較のため用いたもので、組成2が本発明の
実施例である。また数字は重量%である。
組成1
塩化p−ジアゾ−N、N−ジメチルアニリン塩化亜鉛複
塩 ・・・・・・λ3アルギ
ン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・0.3
3 水 ・・・・・・
残シ組成2 塩化4−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−屯 N−フェニルモルホリン塩化亜鉛複塩 ・・・・・・
1アルギン酸プロピレングリコールエステル・・・・・
・0.6 ポリビニルアルコール ……0.4硝酸カ
ルシウム ・・・・・・ 210μ
mの光粘着膜を回転塗布によって形成した。
塩 ・・・・・・λ3アルギ
ン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・0.3
3 水 ・・・・・・
残シ組成2 塩化4−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−屯 N−フェニルモルホリン塩化亜鉛複塩 ・・・・・・
1アルギン酸プロピレングリコールエステル・・・・・
・0.6 ポリビニルアルコール ……0.4硝酸カ
ルシウム ・・・・・・ 210μ
mの光粘着膜を回転塗布によって形成した。
500W超高圧水銀灯よ180tM離れた所において1
3 K tuxの照度で露光し、ついで、けい光体粉体
を付与し、エアーを吹き付けて、未露光部分の粉体を除
去し、現像した。露光量と飽和塗着量との関係を第2図
に示した。この結果から組成2は1(約30秒間)よシ
も短かい露光時間、約5秒間から同一塗着量(8cre
n Weight :13. W。
3 K tuxの照度で露光し、ついで、けい光体粉体
を付与し、エアーを吹き付けて、未露光部分の粉体を除
去し、現像した。露光量と飽和塗着量との関係を第2図
に示した。この結果から組成2は1(約30秒間)よシ
も短かい露光時間、約5秒間から同一塗着量(8cre
n Weight :13. W。
と略)をもつことがわかる。約1/6の露光量である。
組成3は組成2に硝酸カルシウムを加えない場合である
。明らかにS、W、が低いことがわかる。上記の様な結
果は、硝酸カルシウムの代シに硝酸マグネシウムを加え
た場合も同様に起った。
。明らかにS、W、が低いことがわかる。上記の様な結
果は、硝酸カルシウムの代シに硝酸マグネシウムを加え
た場合も同様に起った。
実施例2,3.4
組成4
塩化4−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェ
ニルピペリジン塩化亜鉛複塩 ・・・・・・ 1アルギ
ン酸グロピレングリコールエステル・・・・・・0.6 ポリビニルアルコール ・・・・・・α4
硝酸マグネシウム ・・・・・・ 2
水 ・・・・
・・残シ組成5 塩化4−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェ
ニルチオモルホリン塩化亜鉛複塩・・・・・・ 1 アルギン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・
0.6 ポリビニルアルコール ・−・・・・0.
4塩化4−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フ
ェニルピロリジン塩化亜鉛複塩 ・・・・・・ 1アル
ギン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・0.
6 ポリビニルアルコール ・・・・・・0.
4硝酸マグネシウム ・・・・・・ 2
水 ・・・・・
・残9組成4,5,6について実施例1と同様の実験を
行なったところ、第2図の組成2と全く同じ結果を示し
た。硝酸塩の添加量は組成中の含有率が多くなれば粉体
を受容する能力が大きくなることは第1図に示した通り
であった。
ニルピペリジン塩化亜鉛複塩 ・・・・・・ 1アルギ
ン酸グロピレングリコールエステル・・・・・・0.6 ポリビニルアルコール ・・・・・・α4
硝酸マグネシウム ・・・・・・ 2
水 ・・・・
・・残シ組成5 塩化4−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェ
ニルチオモルホリン塩化亜鉛複塩・・・・・・ 1 アルギン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・
0.6 ポリビニルアルコール ・−・・・・0.
4塩化4−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フ
ェニルピロリジン塩化亜鉛複塩 ・・・・・・ 1アル
ギン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・0.
6 ポリビニルアルコール ・・・・・・0.
4硝酸マグネシウム ・・・・・・ 2
水 ・・・・・
・残9組成4,5,6について実施例1と同様の実験を
行なったところ、第2図の組成2と全く同じ結果を示し
た。硝酸塩の添加量は組成中の含有率が多くなれば粉体
を受容する能力が大きくなることは第1図に示した通り
であった。
実施例5
組成7
[化p−シア/−N−ベンジルーN−エチルアニリン塩
化亜鉛複塩 ・・・・・・ 1アルギ
ン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・0.6 ポリビニルアルコール ・・・・・・0.
4硝酸カルシウム ・・・・・・0
.5水 ・・・
・・・残り上記組成物をガラス基板上に、回転塗布によ
って、光粘着膜を形成した。膜厚は0.5〜1.0μm
である。、soow超高圧水銀灯から801yn離れた
所において、13 Ktuxの照度で20秒間マスクを
介して露光した。ついで、けい光体を付与し、エアーを
吹きつけて、現偉した。露光部にけい光体が第2図の組
成2の飽和塗着量の1.7岬/dが付着した。
化亜鉛複塩 ・・・・・・ 1アルギ
ン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・0.6 ポリビニルアルコール ・・・・・・0.
4硝酸カルシウム ・・・・・・0
.5水 ・・・
・・・残り上記組成物をガラス基板上に、回転塗布によ
って、光粘着膜を形成した。膜厚は0.5〜1.0μm
である。、soow超高圧水銀灯から801yn離れた
所において、13 Ktuxの照度で20秒間マスクを
介して露光した。ついで、けい光体を付与し、エアーを
吹きつけて、現偉した。露光部にけい光体が第2図の組
成2の飽和塗着量の1.7岬/dが付着した。
実施例6
組成8
p−ジアゾ−N、N−ジブチルアニリンテトラフルオロ
ボレイト ・・・・・・ 1アルギ
ン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・0.6 ポリビニルアルコール ・・・・・・0.
4硝酸カルシウム ・・・・・・0
.5水 ・・・
・・・残り上記組成物をガラス基板上に回転塗布して、
厚さ0.5〜1.0μmの膜を形成した。放置によって
1g表面にジアゾニウム塩の結晶が生成した後、上記と
同じ光学系によって10秒間露光した。ついで、けい光
体を付与し、現象した。露光部に上記と同様なけい光体
塗着量が付着した。
ボレイト ・・・・・・ 1アルギ
ン酸プロピレングリコールエステル・・・・・・0.6 ポリビニルアルコール ・・・・・・0.
4硝酸カルシウム ・・・・・・0
.5水 ・・・
・・・残り上記組成物をガラス基板上に回転塗布して、
厚さ0.5〜1.0μmの膜を形成した。放置によって
1g表面にジアゾニウム塩の結晶が生成した後、上記と
同じ光学系によって10秒間露光した。ついで、けい光
体を付与し、現象した。露光部に上記と同様なけい光体
塗着量が付着した。
実施例7
組成9
塩化p−ジアゾ−2,5−ジ−n−ブトキシ−N−フェ
ニルモルホリン塩化亜鉛複fi ・・・・・・ 1ア
ルギン酸フロピレンゲリコールエステル・・・・・・0
.6 ホリビニルアルコ、−ル ・・・・・・0
.4硝酸カルシウム ・・・・・・
1硝酸マグネシウム ・−・・・・
1水 ・・・
・・・残シ組成91fニガラス基板上に回転塗布して、
厚さ0、5〜1.0μmの膜を形成した。上記と同じ光
学系によって、5秒間マスクを介して露光した。ついで
、けい光体を付与し、現償した。露光部に、上記と同様
なけい光体塗着量が付着した。
ニルモルホリン塩化亜鉛複fi ・・・・・・ 1ア
ルギン酸フロピレンゲリコールエステル・・・・・・0
.6 ホリビニルアルコ、−ル ・・・・・・0
.4硝酸カルシウム ・・・・・・
1硝酸マグネシウム ・−・・・・
1水 ・・・
・・・残シ組成91fニガラス基板上に回転塗布して、
厚さ0、5〜1.0μmの膜を形成した。上記と同じ光
学系によって、5秒間マスクを介して露光した。ついで
、けい光体を付与し、現償した。露光部に、上記と同様
なけい光体塗着量が付着した。
以上の実施例のほか、一般式(1)及び(If)で示し
たジアゾニウム化合物を混合して用いた場合もほぼ同様
の結果が得られた。
たジアゾニウム化合物を混合して用いた場合もほぼ同様
の結果が得られた。
また、あらかじめブランクマトリックスを形成したフェ
ースプレート内面に、組成2の塗料により塗膜を作シ、
第1のパターンを露光を行ない、第1のけい光体を付着
させ、残余のけい光体はエアースプレィで除去し、同様
に第2.第3のけい光体パターンを形成した。以後アン
モニアガスによって露光部の塗膜を硬化後、通常と同じ
方法でカラーブラウン管を製造できた。
ースプレート内面に、組成2の塗料により塗膜を作シ、
第1のパターンを露光を行ない、第1のけい光体を付着
させ、残余のけい光体はエアースプレィで除去し、同様
に第2.第3のけい光体パターンを形成した。以後アン
モニアガスによって露光部の塗膜を硬化後、通常と同じ
方法でカラーブラウン管を製造できた。
以上の如く本発明の感光性組成物は高感度で光粘着性を
示す。
示す。
第1図は、本発明を説明するための硝酸カルシウム添加
量とけい光体の塗着量の関係を示す線図、第2図は、感
度を示す線図である。 ’f、+ 国 対し゛アゾニ輛41−j物ル(東量牙)手 続
補 正 書 昭和 年 月 日
量とけい光体の塗着量の関係を示す線図、第2図は、感
度を示す線図である。 ’f、+ 国 対し゛アゾニ輛41−j物ル(東量牙)手 続
補 正 書 昭和 年 月 日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここにAは、▲数式、化学式、表等があります▼、▲
数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表
等があります▼ 又は▲数式、化学式、表等があります▼なる置換基を表
わす)で表わされるジアゾニウムイオンの塩又は複塩及
び一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (ここにR_1、R_2は、アルキル基又はベンジル基
なる置換基を表わし、ただしR_1及びR_2の炭素数
の合計は8以上16以下であるものとする)で表わされ
るジアゾニウムイオンの塩又は複塩から選ばれた少なく
とも一種のジアゾニウム化合物並びに硝酸カルシウム及
び硝酸マグネシウムからなる群から選ばれた少なくとも
一種の硝酸塩を含むことを特徴とする感光性組成物。 2、上記硝酸塩がジアゾニウム化合物に対して10〜5
00重量%である特許請求の範囲第1項記載の感光性組
成物。 3、上記感光性組成物は、さらに水溶性有機高分子化合
物を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
感光性組成物。 4、上記水溶性有機高分子化合物はジアゾニウム化合物
に対して20〜500重量%である特許請求の範囲第3
項記載の感光性組成物。 5、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここにAは、▲数式、化学式、表等があります▼、▲
数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表
等があります▼ 又は▲数式、化学式、表等があります▼なる置換基を表
わす)で表わされるジアゾニウムイオンの塩又は複塩及
び一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (ここにR_1、R_2は、アルキル基又はベンジル基
なる置換基を表わし、ただしR_1及びR_2の炭素数
の合計は8以上16以下であるものとする)で表わされ
るジアゾニウムイオンの塩又は複塩から選ばれた少なく
とも一種のジアゾニウム化合物並びに硝酸カルシウム及
び硝酸マグネシウムからなる群から選ばれた少なくとも
一種の硝酸塩を含む感光性組成物を基板に塗布して塗膜
とする工程、上記塗膜に所定のパターンの露光を行ない
露光部に粘着性を生じさせる工程及び上記露光部に粉体
を付着させる工程よりなることを特徴とするパターン形
成方法。 6、上記感光性組成物はさらに水溶性有機高分子化合物
を含むものである特許請求の範囲第5項記載のパターン
形成方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60080128A JPS61258242A (ja) | 1985-04-17 | 1985-04-17 | 感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法 |
KR1019860002905A KR900000864B1 (ko) | 1985-04-17 | 1986-04-16 | 감광성 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법 |
US06/852,750 US4735880A (en) | 1985-04-17 | 1986-04-16 | Photosensitive composition and pattern forming process using same |
EP86105341A EP0200110B1 (en) | 1985-04-17 | 1986-04-17 | Photosensitive composition and pattern forming process using same |
CN198686102725A CN86102725A (zh) | 1985-04-17 | 1986-04-17 | 光敏组合物和用该组合物形成荧光粉图形的方法 |
DE8686105341T DE3660844D1 (en) | 1985-04-17 | 1986-04-17 | Photosensitive composition and pattern forming process using same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60080128A JPS61258242A (ja) | 1985-04-17 | 1985-04-17 | 感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61258242A true JPS61258242A (ja) | 1986-11-15 |
Family
ID=13709579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60080128A Pending JPS61258242A (ja) | 1985-04-17 | 1985-04-17 | 感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4735880A (ja) |
EP (1) | EP0200110B1 (ja) |
JP (1) | JPS61258242A (ja) |
KR (1) | KR900000864B1 (ja) |
CN (1) | CN86102725A (ja) |
DE (1) | DE3660844D1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
DE3913115A1 (de) * | 1989-04-21 | 1990-10-25 | Du Pont Deutschland | Verfahren zur herstellung von elektrisch leitfaehigen mustern |
DE3913116C1 (ja) * | 1989-04-21 | 1990-11-08 | Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 6380 Bad Homburg, De | |
DE3913117A1 (de) * | 1989-04-21 | 1990-10-25 | Du Pont Deutschland | Verfahren zur herstellung von elektrisch leitfaehigen mustern |
KR930009523B1 (ko) * | 1990-12-21 | 1993-10-06 | 삼성전관 주식회사 | 폴리비닐피로리돈계 감광재의 개질방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1292607A (en) * | 1968-12-28 | 1972-10-11 | Ricoh Kk | Improvements in and relating to heat-developable light-sensitive material |
US3997344A (en) * | 1974-07-05 | 1976-12-14 | American Can Company | Dry positive photopolymer imaging process involving heating and application of toner |
US4273842A (en) * | 1977-04-13 | 1981-06-16 | Hitachi, Ltd. | Process for forming patternwise coated powder layer |
JPS5532332A (en) * | 1978-08-30 | 1980-03-07 | Hitachi Ltd | Particle pattern coat forming method |
US4370401A (en) * | 1979-12-07 | 1983-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Light sensitive, thermally developable imaging system |
JPS579036A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-18 | Hitachi Ltd | Formation of pattern by using photosensitive compound |
KR850001415B1 (ko) * | 1980-07-04 | 1985-09-30 | 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 | 감광성 조성물(感光性組成物) |
JPS5772140A (en) * | 1980-10-22 | 1982-05-06 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition and formation of pattern |
JPS5929245A (ja) * | 1982-08-11 | 1984-02-16 | Hitachi Ltd | 感光性組成物及びそれを用いたパタ−ン形成方法 |
-
1985
- 1985-04-17 JP JP60080128A patent/JPS61258242A/ja active Pending
-
1986
- 1986-04-16 KR KR1019860002905A patent/KR900000864B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-04-16 US US06/852,750 patent/US4735880A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-04-17 EP EP86105341A patent/EP0200110B1/en not_active Expired
- 1986-04-17 DE DE8686105341T patent/DE3660844D1/de not_active Expired
- 1986-04-17 CN CN198686102725A patent/CN86102725A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN86102725A (zh) | 1986-10-22 |
EP0200110B1 (en) | 1988-09-28 |
KR860008475A (ko) | 1986-11-15 |
US4735880A (en) | 1988-04-05 |
DE3660844D1 (en) | 1988-11-03 |
EP0200110A1 (en) | 1986-11-05 |
KR900000864B1 (ko) | 1990-02-17 |
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