KR860008475A - 감광성 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법 - Google Patents

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사부로오 노노가끼
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마사히로 니시자와
기요시 미우라
오사무 사사야
요시후미 도미다
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가부시기가이샤 히다찌세이사구쇼
미따 가쓰시게
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Abstract

내용 없음

Description

감광성 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명을 설명하기 위한 질산칼슘첨가량과 형광체의 도착량의 관계를 도시한 선도.
제2도 감광성 조성물의 감도를 도시한 선도.

Claims (9)

  1. 일반식
    (여기에 A는또는으로 이루어진 치환기를 나타냄)으로 표현되는 디아조늄이온염 또는 복염 및 일반식
    (여기에 R1, R2는 알킬기 또는 벤질기로 이루어진 치환기를 나타내며, 단 R1및 R2의 탄소수의 합계는 8 이상 16이하인 것으로 함)으로 표현되는 디아조늄이온의염 또는 복염에서 선택된 적어도 한 종류의 디아조늄화합물 및 질산칼슘 및 질산마그네슘으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종류의 질산염을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 질산염이 디아조늄화합물에 대해서 10-500중량%인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 감광성 조성물은, 또한 수용성유기 고분자화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 수용성 유기고분자화합물은 디아조늄화합물에 대해서 20-500 중량%인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 디아조늄화합물은 일반식(Ⅰ)으로 표현되는 디아조늄이온의 염 또는 복염인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 디아조늄화합물은 일반식(Ⅱ)으로 표현되는 디아조늄이온의 염 또는 복염인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  7. 일반식
    (여기에 A는,또는으로 이루어진 치환기를 나타냄)으로 표현되는 디아조늄이온의염 또는 복염 및 일반식
    (여기에 R1, R2는 알킬기 또는 벤질기로 이루어진 치환기를 나타내며, 단 R1및 R2의 탄소수의 합계는 8 이상 16이하인 것으로 함)으로 표현되는 디아조늄이온의염 또는 복염에서 선택된 적어도 한 종류의 디아조늄 화합물 및 질산칼슘 및 질산마그네슘으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종류의 질산염을 포함하는 감광성 조성물을 기판에 도포해서 도막으로 하는 공정, 상기 도막에 소정패턴의 노광을 행하여 노광부에 점착성을 발생시키는 공정 및 상기 노광부에 분체를 부착시키는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 감광성 조성물은, 또한 수용성 유기고분자화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
  9. 일반식
    (여기에 I는또는으로 이루어진치환기를 나타냄)으로 표현되는 디아조늄이온의염 또는 복염 및 일반식
    (여기에 R1, R2는 알킬기 또는 벤질기로 이루어진 치환기를 나타내며, 단 R1및 R2의 탄소수의 합계는 8 이상 16이하인 것으로 함)으로 표현되는 디아조늄이온의염 또는 복염에서 선택된 적어도 한 종류의 디아조늄화합물 및 질산칼슘 및 질산마그네슘으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종류의 질산염을 포함하는 감광성 조성물을 컬러브라운관 페이스플레이트 내면에 도포해서 도막으로 하고, 이 도막에 패턴형상의 노광을 행하여 노광부에 점착성을 발생시키고, 이 노광부에 분체를 피착시키므로서 형성한 컬러브라운관의 패턴형성방법.
    ※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860002905A 1985-04-17 1986-04-16 감광성 조성물 및 그것을 사용한 패턴형성방법 KR900000864B1 (ko)

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