KR900017137A - 도전성 화합물을 이용한 패턴 형성 방법 - Google Patents

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이또 다이조
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Abstract

내용 없음.

Description

도전성 화합물을 이용한 패턴 형성 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 도전성 화합물의 코팅을 이용한 본 발명의 패턴 형성 방법에 의해 형성된 패턴의 전자 현미경 사진(2500배).
제2도는 도전성 화합물의 코팅을 이용하지 않은 종래의 패턴 형성 방법에 의해 형성된 패턴의 전자 현미경 사진(2500배).
제3도는 본 발명의 도전성 화합물의 코팅 유무에 따라 형성된 패턴의 오배치량과 도전성 화합물의 준비후 경과한 날 수와의 관계 그래프.

Claims (11)

  1. (1)기판상에 레지스트 필름을 형성하고, (2)이 레지스트 필름에 도전성 화합물을 코팅한 후(3) 코팅된 기판을 하전비임으로 조사노출시켜 패턴을 형성하여 (4) 도전성 필름과 레지스트 필름을 현상하므로서 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하고, 상기도전성 화합물이, 다음의 화학식(I)으로 표현되는 아이소퀴노리늄 TCNQ착염:
    (여기에서 R1은 3개 내지 24개의 탄소원자를 갖는 알킬기, m은 0에서 2중 하나의 유리수,(TCNQ)-는 TCNQ의 음이온 라디칼, (TCNQ)는 중성 TCNQ를 나타낸 것이다).
    다음의 화학식 (Ⅱ)으로 표현되는 퀴노리늄 TCNQ착염:
    (여기에서 R2는 3개 내지 24개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타낸 것이고, m은 0에서 2중 하나의 유리수이다).
    다음의 화학식(Ⅲ)으로 표현되는 알킬 피리디늄 TCNQ착염:
    (여기에서 R3은 3개 내지 24개의 탄소원자를 갖는 알킬기, R4는 1개 내지 6개의 탄소원자를 갖는 알킬기, m은 0에서 3중 하나의 유리수를 나타낸 것이다).
    그리고, 다음의 화학식(Ⅳ)으로 표현되는 모르포리늄 TCNQ착염:
    (여기에서 R5는 3개 내지 24개의 탄소원자를 갖는 알킬기, R6는 1개 내지 6개의 탄소원자를 갖는 알킬기 또는 수소를 나타낸 것이고, m은 0에서 2중 하나의 유리수이다)의 일군으로 부터 선택한 적어도 하나의 테트라시아노퀴노디메탄(TCNQ)착염 0.05내지 30중량부(A)와, 다음의 화학식으로 표현되는 단량체:
    (여기에서 R은 수소원자 또는 메틸기, R1는 1개 내지 6개의 탄소원자를 갖는 알킬기를 나타낸 것이다) 50내지 100중량%와 적어도 하나의 모노에틸렌성 불포화 단량체 0 내지 50중량%로 이루어진 중합체 0.05 내지 100중량부(B)와 용제 100중량부(C)로 이루어진 패턴형성 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 도전성 화합물의 성분(A)로써 화학식 I, Ⅱ, Ⅲ 및 Ⅳ로 부터 선택한 두개의 TCNQ착염을 사용하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 도전성 화합물의 성분(A)로써 화학식 I, Ⅱ, Ⅲ 및 Ⅳ로 부터 선택한 세개의 TCNQ착염을 사용하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 도전성 화합물의 성분(A)로써 N-부틸아이소퀴노리늄-TCNQ착염과 N-옥틸아이소퀴노리늄-TCNQ착염의 혼합물을 사용하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 도전성 화합물의 성분(A)로써 N-부틸아이소퀴노리늄-TCNQ착염과 N-부틸-a-피콜리늄-TCNQ착염의 혼합물을 사용하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 도전성 화합물의 성분(A)로써 N-부틸아이소퀴노리늄-TCNQ착염과 N-메틸-N-부틸모르포리늄-TCNQ착염의 혼합물을 사용하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 도전성 화합물의 성분(A)로써 N-부틸아이소퀴노리늄-TCNQ착염, N-부틸-a-피콜리늄-TCNQ착염과 N-메틸-N-부틸모르포리늄-TCNQ착염의 혼합물을 사용하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 상기 도전성 화합물이 (A) N-옥필아이소퀴노리늄-TCNQ착염 0.75중량부, (B)메틸 메타크릴레이트/부틸 아크릴레이트 공중합체 5중량부와, (C) 씨클로헥사논/메틸셀로솔브 혼합용제 100중량부를 포함하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 도전성 화합물이(A) N-옥필아이소퀴노리늄-TCNQ착염과 N-부틸-N-메틸모르포리늄-TCNQ착염을 5/5의 중량비로 포함하는 혼합물 0.75중량부, (B) 메틸 메타크릴레이트/스틸렌 공중합체 5중량부와, (C) 씨클로헥사논/메틸셀로솔브 혼합용제 100중량부를 포함하는 방법.
  10. 제1항에 있어서, 상기 도전성 화합물이(A) N-부틸-아이소퀴노리늄-TCNQ착염, N-부틸-a-피콜리늄-TCNQ착염과 N-부틸-N-메틸모르포리늄-TCNQ착염을 4/5/1의 중량비로 포함하는 혼합물 0.75중량부, (B) 메틸 메타크릴레이트/부틸 아크릴레이트 공중합체 5중량부와, (C) 씨클로헥사논/메틸셀로솔브 혼합용 제100중량부를 포함하는 방법.
  11. 제1항에 있어서, 단계(2) 다음에 마무리 가열(post baking)을 실시하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900006017A 1989-04-28 1990-04-28 도전성 화합물을 이용한 패턴 형성 방법 KR930010221B1 (ko)

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