KR20020077948A - 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 - Google Patents

칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 Download PDF

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KR20020077948A
KR20020077948A KR1020010017600A KR20010017600A KR20020077948A KR 20020077948 A KR20020077948 A KR 20020077948A KR 1020010017600 A KR1020010017600 A KR 1020010017600A KR 20010017600 A KR20010017600 A KR 20010017600A KR 20020077948 A KR20020077948 A KR 20020077948A
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이범욱
임익철
유승준
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삼성에스디아이 주식회사
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Abstract

본 발명은 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체, 칼라음극선관 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용 포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물에 관한 것으로서, 상기 중합체는 하기 화학식 1 또는 2를 갖는다.
[화학식 1]
[화학식 2]
(상기 화학식 1 또는 2에서,
R1은 H 또는 CH3이며,
R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이고,
R4및 R5는 서로 동일하거나 또는 독립적으로 (R)α(CH2)β또는 (R)α((CH2)mO)γR+(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R+은 알킬기이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5)이고,
x와 y는 각 단량체의 몰비율이고, x와 y는 각각 0.1∼0.9의 값을 가지며, x+y은 1이며,
k, l 및 m은 각 단량체의 몰비율이고, k와 l은 각각 0.1∼0.9, m은 0.1∼0.5의 값을 가지며, k+l+m은 1이고,
n은 고분자 중합도로서 2∼100000의 값을 갖는다.)

Description

칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체, 칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용 포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물{MONOMER FOR PHOTORESIST, POLYMER FOR PHOTORESIST, PHOTORESIST COMPOSITION AND PHOSPHOR COMPOSITION FOR COLOR CATHODE RAY TUBE}
[산업상 이용 분야]
본 발명은 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체, 칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용 포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 환경 오염을 야기하지 않으면서, 저장 안정성이 우수하고 고감도를 갖는 칼라음극선관용 포토레지스트 조성물에 관한 것이다.
[종래 기술]
음극선관의 형광면은 전자빔의 에너지를 광에너지로 변환시키는 것으로, 전자빔이 음극선관 패널에 형성된 형광면의 형광체에 충돌함으로써 발광한다. 음극선관의 형광면의 제조공정은 다음과 같다. 우선 블랙 매트릭스(black matrix) 패턴이 형성된 패널 내면에 형광체 슬러리액을 도포하고 건조 후, 마스크를 장착하고고압 수은등을 이용하여 노광한 다음 순수를 이용하여 현상하여 형광면을 형성한다. 이와 같은 과정을 적색, 녹색 및 청색 형광체로 반복하여 3색의 형광체 패턴을 형성한다. 상기 형광체 슬러리액은 감광성 고분자인 포토레지스트 수지, 광 가교제와 접착력 증가제, 분산제 등과 같은 기타 첨가제 및 형광체를 포함한다. 또한, 상기 형광체 슬러리액을 도포하기 전에, 포토레지스트 수지와 광 가교제를 포함하는 포토레지스트 조성물을 하도액 조성물로 사용하여 패널에 도포하여, 형광체의 접착력을 증가시킬 수도 있다.
상기 형광체 슬러리액과 하도액에 사용되는 포토레지스트 수지 및 광 가교제로는, 현재 폴리비닐알콜과 소디움 디크로메이트 또는 암모늄 디크로메이트가 일반적으로 사용되고 있으며, 이 밖에도 폴리비닐 알콜을 변형시킨 형태나 폴리비닐 알콜에 폴리비닐 피롤리돈이 도입된 형태가 사용되기도 한다(미국 특허 제 3,558,310 호, 제 4,556,626 호, 일본 특허 공개 평 5-173331 호). 폴리비닐 알콜과 소디움 디크로메이트 또는 암모늄 디크로메이트는 감도가 뛰어나고 색잔이 없이 깨끗하게 형광체가 형성되나 생성되는 형광체의 도트 폭 조절이 어렵고 보관시 온도 및 습도에 영향을 받고 특히 암반응이 일어나므로 보관하기가 어렵다. 또한 광 가교제인 소디움 디크로메이트 또는 암모늄 디크로메이트가 중금속인 크롬을 함유하고 있어 환경 오염에 문제가 된다.
크롬이 없는 포토레지스트 수지와 광 가교제를 이용한 것이 수용성 고분자-비스아지드(bisazide)계와 수용성 고분자-디아조(diazo)계이다. 상기 수용성 고분자로는 폴리비닐알콜계, 폴리비닐피롤리돈계, 폴리아크릴아미드계 등의 고분자를이용하였고, 광 가교제로는 비스아지드계의 경우 4,4-디아지도벤잘아세토페논-2-설포네이트, 4,4-디아지도스틸벤-2,2-디설포네이트, 4,4-디아지도스틸벤-γ-카르복실산 등이 사용된다. 디아조계 광 가교제로는 비닐아지도벤질리덴 아세토페논 술폰산 알칼리염, 비닐아지도벤질리덴 아세토페논카르복실산 알칼리염, 비닐아지도신나밀리덴 아세토페논 술폰산알칼리염, 비닐아지도신나밀리덴 아세토페논 카르복실산 알카리염 등의 단량체로부터 합성한 고분자를 이용한다(수용성 고분자-비스아지드계, 미국 특허 제 4,086,090 호, 제 4,332,874 호, 제 4,241,161 호, 일본 특허 평 5-216219 호/수용성 고분자-디아조계 미국 특허 제 3,965,278 호, 제 4,123, 276 호 대한민국 특허 공개 제 99-85157 호). 그러나 상기 크롬이 없는 포토레지스트 수지와 광 가교제를 이용한 슬러리는 폴리비닐알콜-소디움디크로메이트(또는 암모늄 디크로메이트)에 비해 형광체의 도트(dot) 크기와 형광체의 패널에 대한 접착성의 상반된 효과 때문에 사용상 문제점을 갖고 있는 것으로 나타났다. 즉, 접착성을 향상시키기 위하여 노광 시간을 증가시키면, 형광체의 도트 크기가 증가하고, 도트 크기를 감소시키기 위하여 노광 시간을 감소시키면 접착력이 떨어지는 문제점이 있다.
크롬이 없는 감광성 수지와 광 가교제로 제안된 또 다른 형태는 폴리비닐 알콜-스틸바졸리움(stilbazolium)이다. 이 형태는 폴리비닐알콜에 스틸바졸리움기를 도입한 것으로 감광 특성이 좋고 저장안정성이 뛰어난 것으로 알려져 있다(미국 특허 제 4,990,417 호, 제 5,506,087 호, 일본 특허 소 55-24126 호, 대한 민국 특허 공개 제 99-15235 호). 그러나 폴리비닐알콜-스틸바졸리움 슬러리를 이용하여 형광막을 형성하게 되면 고분자-비스아지드계 슬러리와 수용성 고분자-디아조계 슬러리와 동일한 결과, 즉 형광체의 도트 크기와 형광체의 패널에 대한 접착성의 상반된 효과 때문에 사용상 문제점을 갖고 있는 것으로 나타났다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 환경 오염 물질을 포함하지 않는 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 단량체로 중합된 칼라음극선관용 포토레지스트용 중합체를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 중합체를 포함하는 환경 오염을 야기하지 않으면서 저장 안정성이 우수하고 고감도인 칼라음극선관용 포토레지스트 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 중합체를 포함하는 칼라음극선관용 형광막 조성물을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 3의 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체를 제공한다.
[화학식 3]
(상기 화학식 3에서,
R1은 H 또는 CH3이며,
R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이다.)
본 발명은 또한 상기 화학식 3의 단량체로 제조된 공중합체를 포함하는 칼라음극선관용 포토레지스트 중합체를 제공한다. 본 발명은 상기 화학식 3의 단량체로 제조된 공중합체 및 광산 발생제를 포함하는 칼라음극선관용 포토레지스트 조성물을 제공한다. 상기 포토레지스트 조성물에 형광체를 더욱 포함시키면 칼라음극선관용 형광막 조성물로 사용할 수 있다.
이하 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명은 환경 오염 물질을 함유하지 않고 저장 안정성도 뛰어나며 고감도를 갖는 새로운 칼라음극선관용 포토레지스트 중합체 및 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 포토레지스트 조성물은 상기 화학식 3의 아세탈기를 갖는 비닐계 단량체를 공중합시켜 제조된 하기 화학식 1 또는 2의 공중합체를 포함한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
(상기 화학식 1 또는 2에서,
R1은 H 또는 CH3이며,
R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이고,
R4및 R5는 서로 동일하거나 또는 독립적으로 (R)α(CH2)β또는 (R)α((CH2)mO)γR+(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R+은 알킬기이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5)이고,
x와 y는 각 단량체의 몰비율이고, x와 y는 각각 0.1∼0.9의 값을 가지며, x+y은 1이며,
k, l 및 m은 각 단량체의 몰비율이고, k와 l은 각각 0.1∼0.9, m은 0.1∼0.5의 값을 가지며, k+l+m은 1이고,
n은 고분자 중합도로서 2∼100000의 값을 갖는다.)
상기 중합체는 산(acid)에 의해 가교 반응을 일으켜 현상액에 불용성을 갖으며, 산에 의한 가교 반응은 화학 증폭형으로 이루어져 고감도의 특성을 갖는다. 상기 포토레지스트 중합체(수지)와 함께 칼라음극선관용 포토레지스트 조성물에 포함되는 가교제는 광산 발생제(photoacid generator)로서, 이 광산 발생제는 광원으로부터 자외선 광을 받으면 산을 발생시키고, 이렇게 발생된 산에 의해 상기 중합체의 알코올기가 아세탈기를 공격하여 가교 반응을 일으키게 된다. 이러한 광산 발생제로는 광을 받으면 산을 발생시킬 수 있으면 되며 특별히 제한되지는 않으나, 그 예로는 디페닐요도염 헥사플루오르포스페이트, 디페닐요도염 헥사플루오르 아르세네이트, 디페닐요도염 헥사플루오르 안티모네이트, 디페닐파라메톡시페닐 트리플레이트, 디페닐파라톨루에닐 트리플레이트, 디페닐파라이소부틸페닐 트리플레이트,디페닐파라-t-부틸페닐 트리플레이트, 트리페닐설포늄 헥사플루오르 포스페이트, 트리페닐설포늄 헥사플루오르 아르세네이트, 트리페닐설포늄 헥사플루오르 안티모네이트, 트리페닐설포늄 트리플레이트, 디부틸나프틸설포늄 트리플레이트 중에서 1종 또는 2종 이상의 황화염계 또는 오니움염계 화합물을 사용할 수 있다.
상기 포토레지스트 조성물에서 상기 중합체의 함량은 전체 조성물 중량 기준으로 2 내지 5 중량%이고, 상기 광산 발생제는 0.1 내지 0.5 중량%가 바람직하다. 중합체의 함량이 2 중량% 미만인 경우에는 가교 성분이 적어서 형광막 형성이 잘 안되고 5중량%를 초과하는 경우에는 점도의 증가에 따른 균일한 막 형성이 어렵다. 광산 발생제의 경우 0.1 중량% 미만인 경우 산 발생양이 적어 가교가 충분히 일어나지 못하며 0.5 중량%를 초과하는 경우 광산 발생제 자체의 자외선 흡수량 증가에 의해 감도가 감소한다.
신규 합성한 수지는 화학식 1과 같은, 화학식 3의 신규 단량체와 분자 내 히드록실기를 갖는 단량체와의 이원 공중합체이거나, 화학식 2와 같은, 화학식 3의 신규 단량체와 히드록실기를 갖는 단량체와 카르복실산기를 갖는 단량체와의 삼원 공중합체이다.
상기 포토레지스트 수지는 상기 화학식 3의 단량체로 제조된 공중합체를 포함하며, 이 공중합체는 하기 화학식 1 또는 2의 공중합체이다.
[화학식 1]
[화학식 2]
(상기 화학식 1 또는 2에서, R1, R2, R3, R4, R5, x, y, k, l, m 및 n은 상기 정의와 동일하다.)
상기 화학식 1 또는 2의 공중합체에서 아세탈기는 산의 존재하에서 열을 가하면 가교 반응을 일으키는 자리(site) 역할을 하며, 히드록실기는 가교 반응도 조절 및 유리 패널에 대한 접착성 향상을 하는 역할을 하며, 카르복실기는 감도 및 현상성 조절을 하는 역할을 한다.
상기 화학식 1의 공중합체는 상기 화학식 3의 단량체와 분자 내 히드록실기를 갖는 하기 화학식 4의 단량체를 중합하여 제조된 이원 공중합체이고, 상기 화학식 2의 공중합체는 상기 화학식 3의 단량체와 하기 화학식 4의 단량체 및 분자 내 카르복실기를 갖는 하기 화학식 5의 단량체와의 삼원 공중합체이다.
[화학식 4]
[화학식 5]
(상기 화학식 4 또는 5에서, R1, R4, R5는 상기 정의와 동일하다.)
본 발명의 포토레지스트 조성물은 칼라음극선관 형광막을 형성하는 공정에서 형광체와 패널의 접착력을 증가시키기 위해 사용되는 하도액으로 사용될 수도 있고, 포토레지스트 조성물에 형광체를 첨가하여 형광막 조성물로 제조할 수도 있다.
상기 포토레지스트 조성물을 이용하여 형광 패턴을 형성하는 방법은 먼저, 포토레지스트 수지와 광산 발생제를 물에 용해한 후, 칼라음극선관에서 일반적으로 사용되는 적색, 청색, 녹색 형광체를 각각 첨가하여 이 조성물을 음극선관 패널에 스핀 도포하여 이후 공정을 진행한다. 상기 조성물에 접착력 보강제, 소포제 등의 기타 첨가제를 첨가하여 더욱 사용할 수도 있다. 상기 적색, 청색 및 녹색 형광체로는 칼라음극선관에서 일반적으로 사용되는 형광체는 어떠한 것도 사용할 수 있으며, 그 대표적인 예로 Y2O2S:Eu 또는 Y2O3:Eu의 적색 형광체, ZnS:Ag,Cl의 청색 형광체, ZnS:Au,Cu,Al의 녹색 형광체 등을 사용할수 있다. 상기 접착력 보강제로는 형광체 슬러리막의 균일성과 분산성을 향상시킬수 있는 물질은 어떠한 것도 사용할수있으며, 그 대표적인 예로 소르비탄 모노 라우레이트 계면활성제(Sorbitan Mono Laulate Surfactant: SLS)를 사용할 수 있고, 소포제로는 형광막의 습윤 및 표면 장력 감소로 분산성을 향상시킬수 있는 물질은 어떠한 것도 사용할수 있으며, 그 대표적인 예로 프로필렌 옥사이드 에틸렌 옥사이드 계면활성제(propylene oxide ethylene oxide surfactant: PES)를 사용할 수 있고, 이외에도 디나프틸렌-디설폰산성 소다 계면활성제(Dinaphthylen-dusulfonic acidic Soda Surfactant: NSS)를 더욱 사용할 수도 있다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러나 하기한 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐 본 발명이 하기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1) 아세탈기를 갖는 비닐계 단량체 합성
부틸알데히드 14,4g(0.2몰), 글리세롤 24g(0.26몰)과 파라톨루엔술폰산 0.3g을 250㎖ 플라스크에 석유 에테르 60g과 함께 혼합하였다. 이 플라스크에 딘스탁(dean stark) 장치를 설치하고 90℃에서 6시간 동안 환류시켜 반응을 완결시킨 후, 물과 에테르를 이용하여 반응물을 추출하였다. 얻어진 추출물을 분별 증류하여 순수한 아세탈기를 갖는 일차 알콜 화합물(FW=146,19)을 23.1g(수율 79%) 얻었다.
제조한 일차 알콜 화합물 21.9g(0.15몰)과 트리에틸아민 20g(0,2몰)을 정제된 테트라히드로퓨란 30g에 녹여 500㎖ 플라스크에 넣고 메타크릴로일클로라이드 18g(0.17몰)을 적하 깔대기를 이용하여 천천히 떨어뜨린 후 상온에서 6시간 동안교반시켰다. 반응 완결 후 반응 중 생성된 아민염을 유리 필터를 이용하여 제거하고 관크로마토그래피법을 이용하여 하기 화학식 6의 아세탈기를 갖는 메타크릴레이트 단량체(FW=214.26)를 22.2g(수율 69%) 얻었다.
[화학식 6]
(실시예 2) 이원 공중합체의 제조
상기 실시예 1에서 얻은 화학식 6의 단량체 5g(0.023몰)과 2-히드록시에틸메타크릴레이트 6.98g(0.054몰)을 테트라히드로퓨란 30g에 녹이고 라디칼 중합개시제로 2,2-아조비스이소부티로니트릴을 20몰% 첨가하여 중합용 앰플에 넣고 진공 하에 55℃에서 3시간 중합시켰다. 중합 후 반응물을 석유 에테르에 침전시켜 회수한 후 40℃에서 6시간 동안 감압건조하여 화학식 7의 중합체 9.34g(수율 78%)을 얻었다.
[화학식 7]
(실시예 3) 삼원 공중합체의 제조
상기 실시예 1에서 얻은 화학식 6의 단량체 5g(0.023몰)과 2-히드록시에틸메타크릴레이트 5.98g(0.046몰)과 메타크릴산 0.64g(0.0077몰)을 테트라히드로퓨란 30g에 녹이고 라디칼 중합개시제로 2,2-아조비스이소부티로니트릴을 20몰% 첨가하여 중합용 앰플에 넣고 진공 하에 55℃에서 3시간 중합시켰다. 중합 후 반응물을 석유 에테르에 침전시켜 회수한 후 40℃에서 6시간 동안 감압건조하여 화학식 8의 중합체 8.25g(수율 71%)을 얻었다.
[화학식 8]
(적용예 1)
원자외선이 차단된 실험실에서 실시예 2에서 제조한 화학식 7의 화합물 30g과 광산 발생제인 트레피닐술포늄트리플레이트 1.5g, 접착력 보강제 SLS 0.56g, 소포제 PES 0.56g, 녹색 형광체 350g, 순수 1000g을 혼합하여 슬러리를 제조하였다. 제조한 슬러리를 블랙 매트릭스가 형성된 패널에 스핀 도포하고, 80℃에서 2분간 회전 건조하였다. 고압 수은등으로 조도 100mW/㎠에서 15초간 노광한 후, 발생된 산에 의한 가교반응을 일으키기 위해 100℃에서 2분간 후열처리 하였다. 이후 40℃의 순수를 이용하여 30초간 현상하였다. 현상 후 60℃에서 2분간 회전 건조시켜폭 110㎛의 녹색 형광막을 형성하였다.
청색 형광막 및 적색 형광막도 상기 방법과 동일하게 실시하여 폭 110㎛의 형광막을 각각 형성하였다.
(적용예 2)
원자외선이 차단된 실험실에서 실시예 3에서 제조한 화학식 8 화합물을 이용하여 적용예 1과 동일하게 슬러리를 제조한 후 적용예 1과 동일한 공정을 거쳐 폭 110㎛의 녹, 청, 적 형광막을 형성하였다.
(비교예 1)
원자외선이 차단된 실험실에서 폴리비닐알콜 30g과 소디움디크로메이트 3.7g, 접착력 보강제 SLS 0.56g, 소포제 PES 0.56g, 녹색 형광체 350g, 순수 1000g을 혼합하여 슬러리를 제조하였다. 제조한 슬러리를 블랙 매트릭스가 형성된 패널에 스핀 도포하고, 60℃에서 2분간 회전 건조하였다. 고압 수은등으로 조도 100mW/㎠에서 30초간 노광한 후, 40℃의 고압 순수를 이용하여 30초간 현상하였다. 현상 후 60℃에서 2분간 회전 건조시켜 폭 110㎛의 녹색 형광막을 형성하였다.
상기 실시예 2 및 3의 화합물을 사용한 적용예 1 및 2와 종래 포토레지스트인 폴리비닐알콜-소디움디크로메이트를 사용한 비교예 1의 감도 차이를 비교하면, 비교예 1은 형광막을 형성하기 30초의 노광시간을 필요로 하는 반면, 본 발명의 실시예 2 및 3의 화합물을 사용한 적용예 1 및 2는 15초간의 노광시간으로도 형광막을 형성하였다. 즉, 실시예 2 및 3의 화합물이 종래 폴리비닐알콜-소디움디크로메이트에 비해 감도가 뛰어나다는 것을 알 수 있다.
본 발명의 포토레지스트 조성물은 광산 발생제를 포함하므로, 화학증폭형 방식으로 가교 밀도가 커서 감도가 우수한 형광막을 얻을 수 있고, 또한 환경 유해 물질인 크롬 등의 중금속을 함유하지 않은 환경 친화형 포토레지스트라는 특징을 갖고 있다.

Claims (7)

  1. 하기 화학식 3의 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체.
    [화학식 3]
    (상기 화학식 3에서,
    R1은 H 또는 CH3이며,
    R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
    R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이다.)
  2. 하기 화학식 3의 단량체로 제조된 공중합체를 포함하는 칼라음극선관용 포토레지스트 중합체.
    [화학식 3]
    (상기 화학식 3에서,
    R1은 H 또는 CH3이며,
    R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
    R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이다.)
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 공중합체는 하기 화학식 1 또는 2의 공중합체인 칼라음극선관용 포토레지스트 중합체.
    [화학식 1]
    [화학식 2]
    (상기 화학식 1 또는 2에서,
    R1은 H 또는 CH3이며,
    R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
    R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이고,
    R4및 R5는 서로 동일하거나 또는 독립적으로 (R)α(CH2)β또는 (R)α((CH2)mO)γR+(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R+은 알킬기이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5)이고,
    x와 y는 각 단량체의 몰비율이고, x와 y는 각각 0.1∼0.9의 값을 가지며, x+y은 1이며,
    k, l 및 m은 각 단량체의 몰비율이고, k와 l은 각각 0.1∼0.9, m은 0.1∼0.5의 값을 가지며, k+l+m은 1이고,
    n은 고분자 중합도로서 2∼100000의 값을 갖는다.)
  4. 하기 화학식 3의 단량체로 제조된 공중합체 및 광산 발생제를 포함하는 칼라음극선관용 포토레지스트 조성물.
    [화학식 3]
    (상기 화학식 3에서,
    R1은 H 또는 CH3이며,
    R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고,m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
    R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이다.)
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 공중합체는 하기 화학식 1 또는 2의 공중합체인 칼라음극선관용 포토레지스트 조성물.
    [화학식 1]
    [화학식 2]
    (상기 화학식 1 또는 2에서,
    R1은 H 또는 CH3이며,
    R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
    R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이고,
    R4및 R5는 서로 동일하거나 또는 독립적으로 (R)α(CH2)β또는 (R)α((CH2)mO)γR+(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R+은 알킬기이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5)이고,
    x와 y는 각 단량체의 몰비율이고, x와 y는 각각 0.1∼0.9의 값을 가지며, x+y은 1이며,
    k, l 및 m은 각 단량체의 몰비율이고, k와 l은 각각 0.1∼0.9, m은 0.1∼0.5의 값을 가지며, k+l+m은 1이고,
    n은 고분자 중합도로서 2∼100000의 값을 갖는다.)
  6. 하기 화학식 3의 단량체로 제조된 공중합체, 광산 발생제 및 형광체를 포함하는 칼라음극선관용 형광막 조성물.
    [화학식 3]
    (상기 화학식 3에서,
    R1은 H 또는 CH3이며,
    R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
    R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이다.)
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 공중합체는 하기 화학식 1 또는 2의 공중합체인 칼라음극선관용 형광막 조성물.
    [화학식 1]
    [화학식 2]
    (상기 화학식 1 또는 2에서,
    R1은 H 또는 CH3이며,
    R2는 (R)α(CH2)βR' 또는 (R)α((CH2)mO)γR'(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R'은 O, CO2또는 OCO2이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5임)이고,
    R3는 탄소수 1 내지 5인 포화 알킬, 불포화 알킬, 방향족, 에테르, 카르보닐, 아민 또는 알콜기이고,
    R4및 R5는 동일하거나 또는 서로 독립적으로 (R)α(CH2)β또는 (R)α((CH2)mO)γR+(여기에서, R은 CO, CO2, O, OCO 또는 OCO2이고, R+은 알킬기이고, α는 0 또는 1이며, β는 0 내지 5이고, m은 1 또는 2이고, γ는 1 내지 5)이고,
    x와 y는 각 단량체의 몰비율이고, x와 y는 각각 0.1∼0.9의 값을 가지며, x+y은 1이며,
    k, l 및 m은 각 단량체의 몰비율이고, k와 l은 각각 0.1∼0.9, m은 0.1∼0.5의 값을 가지며, k+l+m은 1이고,
    n은 고분자 중합도로서 2∼100000의 값을 갖는다.)
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