JPS601306B2 - ホルミルスチルバゾリウム塩類とその製造方法 - Google Patents
ホルミルスチルバゾリウム塩類とその製造方法Info
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- JPS601306B2 JPS601306B2 JP9680278A JP9680278A JPS601306B2 JP S601306 B2 JPS601306 B2 JP S601306B2 JP 9680278 A JP9680278 A JP 9680278A JP 9680278 A JP9680278 A JP 9680278A JP S601306 B2 JPS601306 B2 JP S601306B2
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- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- -1 halogen ion Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical group CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical group CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 3
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 claims description 3
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 claims description 3
- 125000005528 methosulfate group Chemical group 0.000 claims description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229940085991 phosphate ion Drugs 0.000 claims description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid group Chemical group S(O)(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N terephthalaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=C(C=O)C=C1 KUCOHFSKRZZVRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical class CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- YVXDRFYHWWPSOA-BQYQJAHWSA-N 1-methyl-4-[(e)-2-phenylethenyl]pyridin-1-ium Chemical group C1=C[N+](C)=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 YVXDRFYHWWPSOA-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 4
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006359 acetalization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=[NH+]C=C1 AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathietane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCO1 QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEMQXFWHOQUEA-UHFFFAOYSA-M 1,4-dimethylpyridin-1-ium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=[N+](C)C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 DKEMQXFWHOQUEA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BIAWAXVRXKIUQB-MDZDMXLPSA-N 2-[(e)-2-phenylethenyl]pyridine Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=N1 BIAWAXVRXKIUQB-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- AWFYPPSBLUWMFQ-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(1,4,6,7-tetrahydropyrazolo[4,3-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=C2 AWFYPPSBLUWMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanol Chemical compound OCCCl SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- VXIVSQZSERGHQP-UHFFFAOYSA-N chloroacetamide Chemical compound NC(=O)CCl VXIVSQZSERGHQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical group COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N pyridinium p-toluenesulfonate Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 ZDYVRSLAEXCVBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なホルミルスチルバゾリウム塩に関し、さ
らに詳しくは水溶‘性高感度感光性樹脂の調製に有用な
新規なホルミルスチルバゾIJウム塩及びその製造方法
に関する。
らに詳しくは水溶‘性高感度感光性樹脂の調製に有用な
新規なホルミルスチルバゾIJウム塩及びその製造方法
に関する。
水溶性を付与された感光性樹脂は、低公害型のフオトレ
ジスト、フオトミリングなどに用いられるばかりでなく
、近年、酵素などの生体活性材料の固定化損体として、
その用途が注目されてきている。
ジスト、フオトミリングなどに用いられるばかりでなく
、近年、酵素などの生体活性材料の固定化損体として、
その用途が注目されてきている。
本発明者らはこのような新しい用途に適合する感光性高
分子化合物として、先に、スチルバゾリウム残基を持つ
重合体を合成した〔市村、渡辺、日本化学会第37春季
年会講演予稿集0、pl133(197群王)参照〕。
分子化合物として、先に、スチルバゾリウム残基を持つ
重合体を合成した〔市村、渡辺、日本化学会第37春季
年会講演予稿集0、pl133(197群王)参照〕。
そして、その水溶性と感光性を向上をさせるためにさら
に研究を重ねて、ポリビニルァルコールにアセタール化
反応によってスチルバゾリウム基を導入する方法を採用
することにより高感度水溶性感光性樹脂を製造できるこ
とを見出した。本発明は、このアセタール化反応に好適
な、スチルバゾリウム残基を含有する、新規な化合物に
関するものである。すなわち本発明は、一般式 (式中のRはアルキル基、又はアラルキル基を*示し、
これらはさらに水酸基、アミド基、を含むものでもよく
、X‐はハロゲンイオン、硫酸イオン、メトサルフェー
トイオン、リン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、p
ートルェンスルホン酸イオンなどの強酸の陰イオンを示
す)で表わされるホルミル基を有する新規なスチルバゾ
リウム塩を提供するものである。
に研究を重ねて、ポリビニルァルコールにアセタール化
反応によってスチルバゾリウム基を導入する方法を採用
することにより高感度水溶性感光性樹脂を製造できるこ
とを見出した。本発明は、このアセタール化反応に好適
な、スチルバゾリウム残基を含有する、新規な化合物に
関するものである。すなわち本発明は、一般式 (式中のRはアルキル基、又はアラルキル基を*示し、
これらはさらに水酸基、アミド基、を含むものでもよく
、X‐はハロゲンイオン、硫酸イオン、メトサルフェー
トイオン、リン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、p
ートルェンスルホン酸イオンなどの強酸の陰イオンを示
す)で表わされるホルミル基を有する新規なスチルバゾ
リウム塩を提供するものである。
この一般式mで表わされる本発明の化合物は、pーホル
ミルベンズアルデヒドを用いて、次のような方法により
合成することができる。
ミルベンズアルデヒドを用いて、次のような方法により
合成することができる。
まず、第1の方法としては、一般式
(式中のR及びXは前記と同じ意味を持つ)で表わされ
るピコリニウム塩を、ホルミルベンズアルデヒドと縮合
させることにより得る方法をあげることができる。
るピコリニウム塩を、ホルミルベンズアルデヒドと縮合
させることにより得る方法をあげることができる。
この反応においては、通常副反応により、一般式(式中
のR及びX‐は前記と同じ意味を持つ)で表わされるジ
オレフィン型化合物が生成する。
のR及びX‐は前記と同じ意味を持つ)で表わされるジ
オレフィン型化合物が生成する。
しかし、この化合物自体は、アセタール化反応において
は、ポリピニルアルコールと反応しないのでホルミルス
チルバゾIJウム塩に不純物として混在していても全く
支障がない。ホルミルベンズアルデヒドと前記一般式(
0)で表わされるピコリニウム塩との反応において、前
者が多い程目的とするスチルバゾIJウム塩の収率が向
上するが、両者の比率は、通常モル比で1:1〜5:1
の範囲で行えば十分である。
は、ポリピニルアルコールと反応しないのでホルミルス
チルバゾIJウム塩に不純物として混在していても全く
支障がない。ホルミルベンズアルデヒドと前記一般式(
0)で表わされるピコリニウム塩との反応において、前
者が多い程目的とするスチルバゾIJウム塩の収率が向
上するが、両者の比率は、通常モル比で1:1〜5:1
の範囲で行えば十分である。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、などの極
性溶媒が用いられ、反応温度室温から100℃、反応時
間30分〜2加時間程度で通常行われる。あまり高温、
長時間の反応はさげるのが好ましい。この反応を促進さ
せるには、酸や塩基が用いられるが、特に、塩基触媒と
しての脂肪族アミンやその酢酸塩などが好ましい。反応
生成物であるホルミルスチルバゾリウム塩とホルミルベ
ンズアルデヒドの分離は溶解度の差を利用してきわめて
容易に達成される。
性溶媒が用いられ、反応温度室温から100℃、反応時
間30分〜2加時間程度で通常行われる。あまり高温、
長時間の反応はさげるのが好ましい。この反応を促進さ
せるには、酸や塩基が用いられるが、特に、塩基触媒と
しての脂肪族アミンやその酢酸塩などが好ましい。反応
生成物であるホルミルスチルバゾリウム塩とホルミルベ
ンズアルデヒドの分離は溶解度の差を利用してきわめて
容易に達成される。
すなわち、前者は、アルコール、水などの極性溶媒に易
溶であるがエーテル、酢酸エチルなどの他の有機溶媒に
不落であり、一方、ホルミルベンズアルデヒドは有機溶
媒全般に良好な溶解度を示すが、水に.よ溶解しない。
この反応に用いられる前記一般式(0)のピコリニウム
塩の例としては、NーメチルーQーメチルピリジニウム
、N−メチル一Bーメチルピリジニウム、N−メチル一
yーメチルピリジニウム、Nーエチルーyーメチルピリ
ジニウム、N−アリールーQ−メチルピリジニウム、N
ーアリールーyーメチルピリジニウム、N一(2ーヒド
ロキシエチル)−Qーメチルピリジニウム、N−(2−
ヒドロキシエチル)一yーメチルピリジニウム、N−ペ
ンジルーQーメチルピリジニウム、N一べンジルーyー
メチルピリジニウムなどのピリジニウム類の塩化物、臭
化物、ョウ化物、リン酸塩、メトサルフェート塩、メタ
ンスルホン酸塩、p−トルェンスルホン酸塩などがあげ
られる。
溶であるがエーテル、酢酸エチルなどの他の有機溶媒に
不落であり、一方、ホルミルベンズアルデヒドは有機溶
媒全般に良好な溶解度を示すが、水に.よ溶解しない。
この反応に用いられる前記一般式(0)のピコリニウム
塩の例としては、NーメチルーQーメチルピリジニウム
、N−メチル一Bーメチルピリジニウム、N−メチル一
yーメチルピリジニウム、Nーエチルーyーメチルピリ
ジニウム、N−アリールーQ−メチルピリジニウム、N
ーアリールーyーメチルピリジニウム、N一(2ーヒド
ロキシエチル)−Qーメチルピリジニウム、N−(2−
ヒドロキシエチル)一yーメチルピリジニウム、N−ペ
ンジルーQーメチルピリジニウム、N一べンジルーyー
メチルピリジニウムなどのピリジニウム類の塩化物、臭
化物、ョウ化物、リン酸塩、メトサルフェート塩、メタ
ンスルホン酸塩、p−トルェンスルホン酸塩などがあげ
られる。
また、このピコリニウム塩としては、これらのピコリン
核にさらに低級アルキル基が導入されているものも含む
ものである。また、ホルミルスチルバゾリウム塩を得る
別法としては、ホルミルスチルバゾリウムを四級化する
方法がある。
核にさらに低級アルキル基が導入されているものも含む
ものである。また、ホルミルスチルバゾリウム塩を得る
別法としては、ホルミルスチルバゾリウムを四級化する
方法がある。
すなわち、式で表わされるホルミルスチルバゾールを一
般式R−X, …(V)(式中のRは前記と同じ意味
を持ち、X,はハロゲン原子、硫酸基、メトサルフェー
ト基、リン酸基、メタンスルホン酸基又はPートルェ.
ンスルホン酸基を示す)で表わされるアルキル化剤とを
反応させて、目的のホルミル基を有する新規なスチルバ
ゾIJゥム塩を得る方法である。
般式R−X, …(V)(式中のRは前記と同じ意味
を持ち、X,はハロゲン原子、硫酸基、メトサルフェー
ト基、リン酸基、メタンスルホン酸基又はPートルェ.
ンスルホン酸基を示す)で表わされるアルキル化剤とを
反応させて、目的のホルミル基を有する新規なスチルバ
ゾIJゥム塩を得る方法である。
この反応で用いる前記式(W)で表わされるホルミルス
チルバゾールの例としてはQ−(pーホルミルスチリル
)ピリジン、y一(p−ホルミルスチリル〉ピリジン、
Q一(mーホルミルスチリル)ピリジン、y一(mーホ
ルミルスチリル)ピリジン、Q−(oーホルミルスチリ
ル)ピリジン、y−(oーホルミルスチリル)ピリジン
などがある。
チルバゾールの例としてはQ−(pーホルミルスチリル
)ピリジン、y一(p−ホルミルスチリル〉ピリジン、
Q一(mーホルミルスチリル)ピリジン、y一(mーホ
ルミルスチリル)ピリジン、Q−(oーホルミルスチリ
ル)ピリジン、y−(oーホルミルスチリル)ピリジン
などがある。
これらのホルミルスチルバゾールは、対応するホルミル
ベンズアルデヒドとピコリンとを、例えば無水酢酸と酢
酸の混合溶媒中で加熱して反応させることにより製造す
ることができる。このホルミルスチルバゾールの四級化
反応の条件は、特にアルキル化剤の活性度によって異な
るが、通常反応温度室温〜150℃程度で反応時間30
分〜2岬時間で十分である。溶媒としては特に制限はな
いが、エーテル、酢酸エチル、酢酸アミル、ベンゼン、
トルェン、キシレンなどの四級塩を溶解しない溶媒を用
いれば生成物の分離がきわめて容易である。このように
して、得られる本発明のホルミルスチルバゾljウム塩
は黄色の結晶であり、34則m近辺に紫外線吸収極大を
持つ。
ベンズアルデヒドとピコリンとを、例えば無水酢酸と酢
酸の混合溶媒中で加熱して反応させることにより製造す
ることができる。このホルミルスチルバゾールの四級化
反応の条件は、特にアルキル化剤の活性度によって異な
るが、通常反応温度室温〜150℃程度で反応時間30
分〜2岬時間で十分である。溶媒としては特に制限はな
いが、エーテル、酢酸エチル、酢酸アミル、ベンゼン、
トルェン、キシレンなどの四級塩を溶解しない溶媒を用
いれば生成物の分離がきわめて容易である。このように
して、得られる本発明のホルミルスチルバゾljウム塩
は黄色の結晶であり、34則m近辺に紫外線吸収極大を
持つ。
この化合物自体、長時間光照射によって光二量化反応に
基づくと思われる変化をきたすので、短波長の光を防い
で保存される。本発明の前記一般式(1)で表わされる
ホルミル基を持つスチルバゾIJウム塩を、ポリビニル
アルコール又は部分ケン化ポリ酢酸ビニルと反応させる
ことにより効率よく、一般式(式中のR及びX‐は前記
と同じ意味を持つ)で表わされる構成単位を有するポリ
ピニルアルコール誘導体からなる感光性樹脂を製造する
ことができる。
基づくと思われる変化をきたすので、短波長の光を防い
で保存される。本発明の前記一般式(1)で表わされる
ホルミル基を持つスチルバゾIJウム塩を、ポリビニル
アルコール又は部分ケン化ポリ酢酸ビニルと反応させる
ことにより効率よく、一般式(式中のR及びX‐は前記
と同じ意味を持つ)で表わされる構成単位を有するポリ
ピニルアルコール誘導体からなる感光性樹脂を製造する
ことができる。
特にこの本発明のホルミルスチルバゾIJウム塩類を用
いれば、親水性感光基としてのスチルバゾIJウム基を
、スチルバゾールの、窒素原子ではない他の部位で高分
子と結合させることができる。したがってピリジン核の
N−置換基は任意に選ぶことができ、得られる感光性樹
脂の物理的、化学的性質を用途などに合わせて設計する
ことが容易となる。また上記の反応は酸触媒の存在下で
水中で行うことができ、得られた感光性樹脂は水溶性で
きわめて感度の高いものである。次に本発明を実施例及
び参考例に基づきさらに詳細に説明する。参考例 1 18.0夕のQーピコリンと33.5夕のテレフタルジ
アルデヒドを、12.0夕の酢酸と22.4夕の無水酢
酸との混合溶媒に溶かしてから、8時間加熱還流した。
いれば、親水性感光基としてのスチルバゾIJウム基を
、スチルバゾールの、窒素原子ではない他の部位で高分
子と結合させることができる。したがってピリジン核の
N−置換基は任意に選ぶことができ、得られる感光性樹
脂の物理的、化学的性質を用途などに合わせて設計する
ことが容易となる。また上記の反応は酸触媒の存在下で
水中で行うことができ、得られた感光性樹脂は水溶性で
きわめて感度の高いものである。次に本発明を実施例及
び参考例に基づきさらに詳細に説明する。参考例 1 18.0夕のQーピコリンと33.5夕のテレフタルジ
アルデヒドを、12.0夕の酢酸と22.4夕の無水酢
酸との混合溶媒に溶かしてから、8時間加熱還流した。
反応物を冷却後200の【のジクロルメタンに溶解し、
2回水洗してから希アルカリで洗い、次いで、IN塩酸
でくり返し生成物を抽出した。黄燈色の水溶液をpH約
10にすれば、ただちに沈殿が生ずるから、これをろ過
し乾燥したのち、メチルシクロヘキサンから再結晶した
。薄層クロマトグラフから、少量のジオレフィン型化合
物が混在することが判明したが、感光性樹脂製造の目的
には、このまま使用して良い。こうして得たQ−(p−
ホルミルスチル)ピリジンの収量は30.2夕。mp8
4〜86.5o0。入max(EtOH)32鱗m同様
にして、y−(pーホルミルスチリル)ピリジンを得た
。mplll〜113。入max(EtOH):32か
m。実施例 1 14.3夕のテレフタルジアルデヒドと5.00夕のN
−メチル−Qーピコリニウムョウ化物を30の‘のエタ
ノールに溶解したのち、5滴のピベリジンを添加して2
時間還流した。
2回水洗してから希アルカリで洗い、次いで、IN塩酸
でくり返し生成物を抽出した。黄燈色の水溶液をpH約
10にすれば、ただちに沈殿が生ずるから、これをろ過
し乾燥したのち、メチルシクロヘキサンから再結晶した
。薄層クロマトグラフから、少量のジオレフィン型化合
物が混在することが判明したが、感光性樹脂製造の目的
には、このまま使用して良い。こうして得たQ−(p−
ホルミルスチル)ピリジンの収量は30.2夕。mp8
4〜86.5o0。入max(EtOH)32鱗m同様
にして、y−(pーホルミルスチリル)ピリジンを得た
。mplll〜113。入max(EtOH):32か
m。実施例 1 14.3夕のテレフタルジアルデヒドと5.00夕のN
−メチル−Qーピコリニウムョウ化物を30の‘のエタ
ノールに溶解したのち、5滴のピベリジンを添加して2
時間還流した。
冷却後析出した結晶をろ過し、ァセトンで良く洗ってか
ら乾燥した。こうして得たN−メチル−Q−(p−ホル
ミルスチリル)ピリジニウムョゥ化物の収量は4.5夕
。lnp216〜221℃。^max(MeOH):2
18、250、34かm。実施例 2 12.0夕のテレフタルジアルデヒドと5.00夕のN
−メチル一Q−ピコリニウムpートルエンスルホン酸塩
を20のとのエタノールに溶解してから、5瀬のピベリ
ジンを加えて4時間還流した。
ら乾燥した。こうして得たN−メチル−Q−(p−ホル
ミルスチリル)ピリジニウムョゥ化物の収量は4.5夕
。lnp216〜221℃。^max(MeOH):2
18、250、34かm。実施例 2 12.0夕のテレフタルジアルデヒドと5.00夕のN
−メチル一Q−ピコリニウムpートルエンスルホン酸塩
を20のとのエタノールに溶解してから、5瀬のピベリ
ジンを加えて4時間還流した。
冷却後エーテルを加え、析出した鮮黄色の結晶をろ過し
て、ァセトンで良く洗って乾燥した。N〜メチル−Q一
(p−ホルミルスチリル)ピリジニウムp−トルェンス
ルホン酸塩の収量は5.3夕。結晶をろ昇りしたろ液の
溶媒を蟹去したのち2.5夕のテレフタルジアルデヒド
と5.00夕のNーメチルーQ−ピコリニウムpートル
ェンスルホン酸塩を加え、20地のエタノール中で上言
己と同様に加熱還流させることにより、6.10夕の結
晶を得ることが出来る。以上得られた結晶を少量の熱エ
タノールに溶解し、酢酸エチルを徐々に加えて結晶を析
出させた。mp210〜216℃。入ma×(日20)
:336nm。実施例 320夕のQ−ピコリンと20
夕のエチレンクロルヒドリンを100ooで3日加熱し
たのち、真空下で原料を留去し、さらにアセトンで洗っ
てから放置すると固化した。
て、ァセトンで良く洗って乾燥した。N〜メチル−Q一
(p−ホルミルスチリル)ピリジニウムp−トルェンス
ルホン酸塩の収量は5.3夕。結晶をろ昇りしたろ液の
溶媒を蟹去したのち2.5夕のテレフタルジアルデヒド
と5.00夕のNーメチルーQ−ピコリニウムpートル
ェンスルホン酸塩を加え、20地のエタノール中で上言
己と同様に加熱還流させることにより、6.10夕の結
晶を得ることが出来る。以上得られた結晶を少量の熱エ
タノールに溶解し、酢酸エチルを徐々に加えて結晶を析
出させた。mp210〜216℃。入ma×(日20)
:336nm。実施例 320夕のQ−ピコリンと20
夕のエチレンクロルヒドリンを100ooで3日加熱し
たのち、真空下で原料を留去し、さらにアセトンで洗っ
てから放置すると固化した。
この吸湿性結晶4.2夕とテレフタルジアルデヒド5.
00夕を10舷のエタノールに溶解し、5滴のピベリジ
ンを加えて3時間還流した。溶媒を留去後水を加え、不
落のジアルデヒドをろ則する。酢酸エチルで一度抽出し
てから減圧下で水を留去し乾燥する。長時間放置してお
けば、吸湿性のN−(2ーヒドロキシェチル)−Q−(
pーホルミルスチリル)ピリジニウムクロリドが得られ
た。入max(日20):34かm。実施例 4 1.70夕のN−ペンジル−Q−ピコリニウムクロリド
と2.00夕のテレフタルジアルデヒドを10机【のエ
タノール中3滴のピベリジン存在下で3時間加熱還流し
た。
00夕を10舷のエタノールに溶解し、5滴のピベリジ
ンを加えて3時間還流した。溶媒を留去後水を加え、不
落のジアルデヒドをろ則する。酢酸エチルで一度抽出し
てから減圧下で水を留去し乾燥する。長時間放置してお
けば、吸湿性のN−(2ーヒドロキシェチル)−Q−(
pーホルミルスチリル)ピリジニウムクロリドが得られ
た。入max(日20):34かm。実施例 4 1.70夕のN−ペンジル−Q−ピコリニウムクロリド
と2.00夕のテレフタルジアルデヒドを10机【のエ
タノール中3滴のピベリジン存在下で3時間加熱還流し
た。
反応液に酢酸エチルを徐々に加えれば、黄色のN−ペン
ジル−Q−(pーホルミルスチリル)ピリジニウムクロ
リド2.10夕が得られた。入max(日20):33
7nm。実施例 5 2.09夕のy−(pーホルミルスチリル)ピリジンと
1.4Mのクロルアセトアミドを10の‘の酢酸エチル
に溶解し、一晩加熱還流した。
ジル−Q−(pーホルミルスチリル)ピリジニウムクロ
リド2.10夕が得られた。入max(日20):33
7nm。実施例 5 2.09夕のy−(pーホルミルスチリル)ピリジンと
1.4Mのクロルアセトアミドを10の‘の酢酸エチル
に溶解し、一晩加熱還流した。
析出した結晶をろ過し、酢酸エチルで洗い乾燥すれば、
2.18夕のNーカルバモイルメチル一y一(pーホル
ミルスチリル)ピリジニウムクロリドの粗結晶を得るこ
とができた。mp>300qC。^max(日20):
348nm。実施例 6 10夕のQ一(pーホルミルスチリル)ピリジンと7.
2夕のジメチル硫酸を80肌‘の酢酸エチルに落籍し、
5時間室温に放置してから5時間加熱還流した。
2.18夕のNーカルバモイルメチル一y一(pーホル
ミルスチリル)ピリジニウムクロリドの粗結晶を得るこ
とができた。mp>300qC。^max(日20):
348nm。実施例 6 10夕のQ一(pーホルミルスチリル)ピリジンと7.
2夕のジメチル硫酸を80肌‘の酢酸エチルに落籍し、
5時間室温に放置してから5時間加熱還流した。
析出した黄色結晶をろ過し、アセトンで洗って乾燥して
、14.8夕のN−メチル−Q−(p−ホルミルスチリ
ル)ピリジニウムメトサルフエートを得た。mp151
〜15400。入max(比○):33節m。実施例
7 9.0夕のNーメチル−y−ピコリニウムpートルェン
スルホン酸塩と13.4夕のテレフタルジアルデヒドを
20の‘のメタノールに溶かしてから、5滴のピベリジ
ンを加えて1時間半還流した。
、14.8夕のN−メチル−Q−(p−ホルミルスチリ
ル)ピリジニウムメトサルフエートを得た。mp151
〜15400。入max(比○):33節m。実施例
7 9.0夕のNーメチル−y−ピコリニウムpートルェン
スルホン酸塩と13.4夕のテレフタルジアルデヒドを
20の‘のメタノールに溶かしてから、5滴のピベリジ
ンを加えて1時間半還流した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRはアルキル基又はアラルキル基を示し、これ
らの基はさらに水酸基又はアミド基を導入したものでも
よい。 またX^−は強酸の陰イオンを示す)で表わされるホル
ミルスチルバゾリウム塩。 2 X^−がハロゲンイオン、硫酸イオン、メトサルフ
エートイオン、リン酸イオン、メタンスルホン酸イオン
又はP−トルエンスルホン酸イオンである特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 3 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRはアルキル基又はアラルキル基を示し、こ
れらの基はさらに水酸基又はアミド基を導入したもので
もよい。 またX^−は強酸の陰イオンを示す)で表わされるピコ
リニウム塩とホルミルベンズアルデヒドとを反応させて
、一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のR及びX^−は前記と同じ意味を持つ)で表
わされるホルミルスチルバゾリウム塩の製造方法。 4 一般式 R−X_1 (式中のRはアルキル基又はアラルキル基を示し、こ
れらはさらに水酸基又はアミド基を導入したものでもよ
い。 またX_1はハロゲン原子、硫酸基、メトサルフエート
基、リン酸基、メタンスルホン酸基又はP−トルエンス
ルホン酸基を示す)で表わされるアルキル化剤をホルミ
ルスチルバゾールと反応させる一般式▲数式、化学式、
表等があります▼ (式中のRは前記と同じ意味を持ち、X^−_1は前
記X_1の1価の陰イオンである)で表わされるホルミ
ルスチルバゾリウム塩の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9680278A JPS601306B2 (ja) | 1978-08-09 | 1978-08-09 | ホルミルスチルバゾリウム塩類とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9680278A JPS601306B2 (ja) | 1978-08-09 | 1978-08-09 | ホルミルスチルバゾリウム塩類とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5524126A JPS5524126A (en) | 1980-02-21 |
| JPS601306B2 true JPS601306B2 (ja) | 1985-01-14 |
Family
ID=14174742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9680278A Expired JPS601306B2 (ja) | 1978-08-09 | 1978-08-09 | ホルミルスチルバゾリウム塩類とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS601306B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0347201A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-28 | Noboru Marui | 静電気対策を施した履き物 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW266230B (ja) * | 1993-09-09 | 1995-12-21 | Tokyo Electron Co Ltd | |
| KR20020077948A (ko) | 2001-04-03 | 2002-10-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 |
-
1978
- 1978-08-09 JP JP9680278A patent/JPS601306B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0347201A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-28 | Noboru Marui | 静電気対策を施した履き物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5524126A (en) | 1980-02-21 |
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