JPS601306B2 - ホルミルスチルバゾリウム塩類とその製造方法 - Google Patents

ホルミルスチルバゾリウム塩類とその製造方法

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JPS601306B2
JPS601306B2 JP9680278A JP9680278A JPS601306B2 JP S601306 B2 JPS601306 B2 JP S601306B2 JP 9680278 A JP9680278 A JP 9680278A JP 9680278 A JP9680278 A JP 9680278A JP S601306 B2 JPS601306 B2 JP S601306B2
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formylstilbazolium
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国宏 市村
庄司 渡辺
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なホルミルスチルバゾリウム塩に関し、さ
らに詳しくは水溶‘性高感度感光性樹脂の調製に有用な
新規なホルミルスチルバゾIJウム塩及びその製造方法
に関する。
水溶性を付与された感光性樹脂は、低公害型のフオトレ
ジスト、フオトミリングなどに用いられるばかりでなく
、近年、酵素などの生体活性材料の固定化損体として、
その用途が注目されてきている。
本発明者らはこのような新しい用途に適合する感光性高
分子化合物として、先に、スチルバゾリウム残基を持つ
重合体を合成した〔市村、渡辺、日本化学会第37春季
年会講演予稿集0、pl133(197群王)参照〕。
そして、その水溶性と感光性を向上をさせるためにさら
に研究を重ねて、ポリビニルァルコールにアセタール化
反応によってスチルバゾリウム基を導入する方法を採用
することにより高感度水溶性感光性樹脂を製造できるこ
とを見出した。本発明は、このアセタール化反応に好適
な、スチルバゾリウム残基を含有する、新規な化合物に
関するものである。すなわち本発明は、一般式 (式中のRはアルキル基、又はアラルキル基を*示し、
これらはさらに水酸基、アミド基、を含むものでもよく
、X‐はハロゲンイオン、硫酸イオン、メトサルフェー
トイオン、リン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、p
ートルェンスルホン酸イオンなどの強酸の陰イオンを示
す)で表わされるホルミル基を有する新規なスチルバゾ
リウム塩を提供するものである。
この一般式mで表わされる本発明の化合物は、pーホル
ミルベンズアルデヒドを用いて、次のような方法により
合成することができる。
まず、第1の方法としては、一般式 (式中のR及びXは前記と同じ意味を持つ)で表わされ
るピコリニウム塩を、ホルミルベンズアルデヒドと縮合
させることにより得る方法をあげることができる。
この反応においては、通常副反応により、一般式(式中
のR及びX‐は前記と同じ意味を持つ)で表わされるジ
オレフィン型化合物が生成する。
しかし、この化合物自体は、アセタール化反応において
は、ポリピニルアルコールと反応しないのでホルミルス
チルバゾIJウム塩に不純物として混在していても全く
支障がない。ホルミルベンズアルデヒドと前記一般式(
0)で表わされるピコリニウム塩との反応において、前
者が多い程目的とするスチルバゾIJウム塩の収率が向
上するが、両者の比率は、通常モル比で1:1〜5:1
の範囲で行えば十分である。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、などの極
性溶媒が用いられ、反応温度室温から100℃、反応時
間30分〜2加時間程度で通常行われる。あまり高温、
長時間の反応はさげるのが好ましい。この反応を促進さ
せるには、酸や塩基が用いられるが、特に、塩基触媒と
しての脂肪族アミンやその酢酸塩などが好ましい。反応
生成物であるホルミルスチルバゾリウム塩とホルミルベ
ンズアルデヒドの分離は溶解度の差を利用してきわめて
容易に達成される。
すなわち、前者は、アルコール、水などの極性溶媒に易
溶であるがエーテル、酢酸エチルなどの他の有機溶媒に
不落であり、一方、ホルミルベンズアルデヒドは有機溶
媒全般に良好な溶解度を示すが、水に.よ溶解しない。
この反応に用いられる前記一般式(0)のピコリニウム
塩の例としては、NーメチルーQーメチルピリジニウム
、N−メチル一Bーメチルピリジニウム、N−メチル一
yーメチルピリジニウム、Nーエチルーyーメチルピリ
ジニウム、N−アリールーQ−メチルピリジニウム、N
ーアリールーyーメチルピリジニウム、N一(2ーヒド
ロキシエチル)−Qーメチルピリジニウム、N−(2−
ヒドロキシエチル)一yーメチルピリジニウム、N−ペ
ンジルーQーメチルピリジニウム、N一べンジルーyー
メチルピリジニウムなどのピリジニウム類の塩化物、臭
化物、ョウ化物、リン酸塩、メトサルフェート塩、メタ
ンスルホン酸塩、p−トルェンスルホン酸塩などがあげ
られる。
また、このピコリニウム塩としては、これらのピコリン
核にさらに低級アルキル基が導入されているものも含む
ものである。また、ホルミルスチルバゾリウム塩を得る
別法としては、ホルミルスチルバゾリウムを四級化する
方法がある。
すなわち、式で表わされるホルミルスチルバゾールを一
般式R−X, …(V)(式中のRは前記と同じ意味
を持ち、X,はハロゲン原子、硫酸基、メトサルフェー
ト基、リン酸基、メタンスルホン酸基又はPートルェ.
ンスルホン酸基を示す)で表わされるアルキル化剤とを
反応させて、目的のホルミル基を有する新規なスチルバ
ゾIJゥム塩を得る方法である。
この反応で用いる前記式(W)で表わされるホルミルス
チルバゾールの例としてはQ−(pーホルミルスチリル
)ピリジン、y一(p−ホルミルスチリル〉ピリジン、
Q一(mーホルミルスチリル)ピリジン、y一(mーホ
ルミルスチリル)ピリジン、Q−(oーホルミルスチリ
ル)ピリジン、y−(oーホルミルスチリル)ピリジン
などがある。
これらのホルミルスチルバゾールは、対応するホルミル
ベンズアルデヒドとピコリンとを、例えば無水酢酸と酢
酸の混合溶媒中で加熱して反応させることにより製造す
ることができる。このホルミルスチルバゾールの四級化
反応の条件は、特にアルキル化剤の活性度によって異な
るが、通常反応温度室温〜150℃程度で反応時間30
分〜2岬時間で十分である。溶媒としては特に制限はな
いが、エーテル、酢酸エチル、酢酸アミル、ベンゼン、
トルェン、キシレンなどの四級塩を溶解しない溶媒を用
いれば生成物の分離がきわめて容易である。このように
して、得られる本発明のホルミルスチルバゾljウム塩
は黄色の結晶であり、34則m近辺に紫外線吸収極大を
持つ。
この化合物自体、長時間光照射によって光二量化反応に
基づくと思われる変化をきたすので、短波長の光を防い
で保存される。本発明の前記一般式(1)で表わされる
ホルミル基を持つスチルバゾIJウム塩を、ポリビニル
アルコール又は部分ケン化ポリ酢酸ビニルと反応させる
ことにより効率よく、一般式(式中のR及びX‐は前記
と同じ意味を持つ)で表わされる構成単位を有するポリ
ピニルアルコール誘導体からなる感光性樹脂を製造する
ことができる。
特にこの本発明のホルミルスチルバゾIJウム塩類を用
いれば、親水性感光基としてのスチルバゾIJウム基を
、スチルバゾールの、窒素原子ではない他の部位で高分
子と結合させることができる。したがってピリジン核の
N−置換基は任意に選ぶことができ、得られる感光性樹
脂の物理的、化学的性質を用途などに合わせて設計する
ことが容易となる。また上記の反応は酸触媒の存在下で
水中で行うことができ、得られた感光性樹脂は水溶性で
きわめて感度の高いものである。次に本発明を実施例及
び参考例に基づきさらに詳細に説明する。参考例 1 18.0夕のQーピコリンと33.5夕のテレフタルジ
アルデヒドを、12.0夕の酢酸と22.4夕の無水酢
酸との混合溶媒に溶かしてから、8時間加熱還流した。
反応物を冷却後200の【のジクロルメタンに溶解し、
2回水洗してから希アルカリで洗い、次いで、IN塩酸
でくり返し生成物を抽出した。黄燈色の水溶液をpH約
10にすれば、ただちに沈殿が生ずるから、これをろ過
し乾燥したのち、メチルシクロヘキサンから再結晶した
。薄層クロマトグラフから、少量のジオレフィン型化合
物が混在することが判明したが、感光性樹脂製造の目的
には、このまま使用して良い。こうして得たQ−(p−
ホルミルスチル)ピリジンの収量は30.2夕。mp8
4〜86.5o0。入max(EtOH)32鱗m同様
にして、y−(pーホルミルスチリル)ピリジンを得た
。mplll〜113。入max(EtOH):32か
m。実施例 1 14.3夕のテレフタルジアルデヒドと5.00夕のN
−メチル−Qーピコリニウムョウ化物を30の‘のエタ
ノールに溶解したのち、5滴のピベリジンを添加して2
時間還流した。
冷却後析出した結晶をろ過し、ァセトンで良く洗ってか
ら乾燥した。こうして得たN−メチル−Q−(p−ホル
ミルスチリル)ピリジニウムョゥ化物の収量は4.5夕
。lnp216〜221℃。^max(MeOH):2
18、250、34かm。実施例 2 12.0夕のテレフタルジアルデヒドと5.00夕のN
−メチル一Q−ピコリニウムpートルエンスルホン酸塩
を20のとのエタノールに溶解してから、5瀬のピベリ
ジンを加えて4時間還流した。
冷却後エーテルを加え、析出した鮮黄色の結晶をろ過し
て、ァセトンで良く洗って乾燥した。N〜メチル−Q一
(p−ホルミルスチリル)ピリジニウムp−トルェンス
ルホン酸塩の収量は5.3夕。結晶をろ昇りしたろ液の
溶媒を蟹去したのち2.5夕のテレフタルジアルデヒド
と5.00夕のNーメチルーQ−ピコリニウムpートル
ェンスルホン酸塩を加え、20地のエタノール中で上言
己と同様に加熱還流させることにより、6.10夕の結
晶を得ることが出来る。以上得られた結晶を少量の熱エ
タノールに溶解し、酢酸エチルを徐々に加えて結晶を析
出させた。mp210〜216℃。入ma×(日20)
:336nm。実施例 320夕のQ−ピコリンと20
夕のエチレンクロルヒドリンを100ooで3日加熱し
たのち、真空下で原料を留去し、さらにアセトンで洗っ
てから放置すると固化した。
この吸湿性結晶4.2夕とテレフタルジアルデヒド5.
00夕を10舷のエタノールに溶解し、5滴のピベリジ
ンを加えて3時間還流した。溶媒を留去後水を加え、不
落のジアルデヒドをろ則する。酢酸エチルで一度抽出し
てから減圧下で水を留去し乾燥する。長時間放置してお
けば、吸湿性のN−(2ーヒドロキシェチル)−Q−(
pーホルミルスチリル)ピリジニウムクロリドが得られ
た。入max(日20):34かm。実施例 4 1.70夕のN−ペンジル−Q−ピコリニウムクロリド
と2.00夕のテレフタルジアルデヒドを10机【のエ
タノール中3滴のピベリジン存在下で3時間加熱還流し
た。
反応液に酢酸エチルを徐々に加えれば、黄色のN−ペン
ジル−Q−(pーホルミルスチリル)ピリジニウムクロ
リド2.10夕が得られた。入max(日20):33
7nm。実施例 5 2.09夕のy−(pーホルミルスチリル)ピリジンと
1.4Mのクロルアセトアミドを10の‘の酢酸エチル
に溶解し、一晩加熱還流した。
析出した結晶をろ過し、酢酸エチルで洗い乾燥すれば、
2.18夕のNーカルバモイルメチル一y一(pーホル
ミルスチリル)ピリジニウムクロリドの粗結晶を得るこ
とができた。mp>300qC。^max(日20):
348nm。実施例 6 10夕のQ一(pーホルミルスチリル)ピリジンと7.
2夕のジメチル硫酸を80肌‘の酢酸エチルに落籍し、
5時間室温に放置してから5時間加熱還流した。
析出した黄色結晶をろ過し、アセトンで洗って乾燥して
、14.8夕のN−メチル−Q−(p−ホルミルスチリ
ル)ピリジニウムメトサルフエートを得た。mp151
〜15400。入max(比○):33節m。実施例
7 9.0夕のNーメチル−y−ピコリニウムpートルェン
スルホン酸塩と13.4夕のテレフタルジアルデヒドを
20の‘のメタノールに溶かしてから、5滴のピベリジ
ンを加えて1時間半還流した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRはアルキル基又はアラルキル基を示し、これ
    らの基はさらに水酸基又はアミド基を導入したものでも
    よい。 またX^−は強酸の陰イオンを示す)で表わされるホル
    ミルスチルバゾリウム塩。 2 X^−がハロゲンイオン、硫酸イオン、メトサルフ
    エートイオン、リン酸イオン、メタンスルホン酸イオン
    又はP−トルエンスルホン酸イオンである特許請求の範
    囲第1項記載の化合物。 3 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRはアルキル基又はアラルキル基を示し、こ
    れらの基はさらに水酸基又はアミド基を導入したもので
    もよい。 またX^−は強酸の陰イオンを示す)で表わされるピコ
    リニウム塩とホルミルベンズアルデヒドとを反応させて
    、一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のR及びX^−は前記と同じ意味を持つ)で表
    わされるホルミルスチルバゾリウム塩の製造方法。 4 一般式 R−X_1 (式中のRはアルキル基又はアラルキル基を示し、こ
    れらはさらに水酸基又はアミド基を導入したものでもよ
    い。 またX_1はハロゲン原子、硫酸基、メトサルフエート
    基、リン酸基、メタンスルホン酸基又はP−トルエンス
    ルホン酸基を示す)で表わされるアルキル化剤をホルミ
    ルスチルバゾールと反応させる一般式▲数式、化学式、
    表等があります▼ (式中のRは前記と同じ意味を持ち、X^−_1は前
    記X_1の1価の陰イオンである)で表わされるホルミ
    ルスチルバゾリウム塩の製造方法。
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