JPS61215379A - ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 - Google Patents
２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法Info
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- JPS61215379A JPS61215379A JP60055116A JP5511685A JPS61215379A JP S61215379 A JPS61215379 A JP S61215379A JP 60055116 A JP60055116 A JP 60055116A JP 5511685 A JP5511685 A JP 5511685A JP S61215379 A JPS61215379 A JP S61215379A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は紫外線吸収剤として有用な、下記一般式■で示
される２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造法に関
する。
される２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造法に関
する。
一般式■
（但しＲ１は水素又は塩素原子、炭素数１〜４の低級ア
ルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボ
キシル基又はスルホン酸基を表わし、Ｒ１は水素又は塩
素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基又は炭素数１〜
４の低級アルコキシル基を表わし、Ｒ１は水素又は塩素
原子。
ルキル基、炭素数１〜４の低級アルコキシル基、カルボ
キシル基又はスルホン酸基を表わし、Ｒ１は水素又は塩
素原子、炭素数１〜４の低級アルキル基又は炭素数１〜
４の低級アルコキシル基を表わし、Ｒ１は水素又は塩素
原子。
炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜４の低級アル
コキシル基、フェニル基、炭素数１〜８のアルキル基で
置換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分
の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表わし、Ｒ４
は水素又は塩素原子。
コキシル基、フェニル基、炭素数１〜８のアルキル基で
置換されたフェニル基、フェノキシ基又はアルキル部分
の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基を表わし、Ｒ４
は水素又は塩素原子。
ヒドロキシル基又は炭素数１〜４のアルコキシル基を表
わし、Ｒ％は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又
はアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基
を表わす、） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類はプラス
チック、塗料、油等に添加される紫外線吸収剤として知
られている。
わし、Ｒ％は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又
はアルキル部分の炭素数が１〜４のフェニルアルキル基
を表わす、） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類はプラス
チック、塗料、油等に添加される紫外線吸収剤として知
られている。
従来、これらの２−フェニルベンゾトリアゾール類は一
般式ｍ （但しＲ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ４Ｒ，は一般式■に同じ）
の０−ニトロアゾベンゼン誘導体を還元して後記式ｌの
Ｎ−オキシド類とし、これを再び還元して目的物を得る
２段階還元法及び式■より式■を経過するが、１段階で
目的物を得る１段階還元法が知られている。（２段階法
は、１段階法より工程数が多いが品質及び収率の点で有
利となる場合がある。） 例えば特公昭３７−５９３４号公報及び米国特許第３．
７７３，７５１号ではＯ−ニトロアゾベンゼン類をアル
コール性水酸化ナトリウム溶液中の亜鉛末で化学的に還
元して相当する２−フェニルベンゾトリアゾール類を良
好な収率で得ているが・、この水酸化ナトリウム−亜鉛
末系は亜鉛スラッジを生じる点で排水汚染の問題を含ん
でいる。また本発明者の出願に係る特開昭５９−１７０
１７２号にはアルコール類で０−ニトロアゾベンゼン類
を還元する方法が記載されているが、熱安定性において
やや不満足な結果を示す。
般式ｍ （但しＲ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ４Ｒ，は一般式■に同じ）
の０−ニトロアゾベンゼン誘導体を還元して後記式ｌの
Ｎ−オキシド類とし、これを再び還元して目的物を得る
２段階還元法及び式■より式■を経過するが、１段階で
目的物を得る１段階還元法が知られている。（２段階法
は、１段階法より工程数が多いが品質及び収率の点で有
利となる場合がある。） 例えば特公昭３７−５９３４号公報及び米国特許第３．
７７３，７５１号ではＯ−ニトロアゾベンゼン類をアル
コール性水酸化ナトリウム溶液中の亜鉛末で化学的に還
元して相当する２−フェニルベンゾトリアゾール類を良
好な収率で得ているが・、この水酸化ナトリウム−亜鉛
末系は亜鉛スラッジを生じる点で排水汚染の問題を含ん
でいる。また本発明者の出願に係る特開昭５９−１７０
１７２号にはアルコール類で０−ニトロアゾベンゼン類
を還元する方法が記載されているが、熱安定性において
やや不満足な結果を示す。
本発明の目的は上記の従来技術が内包していた問題を全
て解消し得る２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
法を提供することである。
て解消し得る２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造
法を提供することである。
本発明者は従来の２−フェニルベンゾトリアゾール類の
製造方法における前述のような問題を解消するため種々
検討した結果、一般式（ｍ）の０−ニトロアゾベンゼン
誘導体を還元することにより容易に得られる一般式（１
）の２−ブエ二ルベンゾトリアゾールーＮ−オキシド類
を出発原料とし芳香族ケトンおよび塩基の存在下にアル
デヒド類で還元すれば、技術的に容易でしかも高品質、
高収量で実用的にも経済的にも有利に、また公害的にも
問題なく耐熱性にすぐれた目的物が得られることを見出
した。
製造方法における前述のような問題を解消するため種々
検討した結果、一般式（ｍ）の０−ニトロアゾベンゼン
誘導体を還元することにより容易に得られる一般式（１
）の２−ブエ二ルベンゾトリアゾールーＮ−オキシド類
を出発原料とし芳香族ケトンおよび塩基の存在下にアル
デヒド類で還元すれば、技術的に容易でしかも高品質、
高収量で実用的にも経済的にも有利に、また公害的にも
問題なく耐熱性にすぐれた目的物が得られることを見出
した。
本発明における反応を以下に示す。
Ｒ，Ｒ。
（ＩＩ）
（式中Ｒは水素、アルキル基、フェニル基又は置換フェ
ニル基を表わす°、） ここで反応温度は２０〜１３０℃（好ましくは４０〜１
００℃）が適当である。また反応を円滑にするため、こ
の反応は通常、水溶液又はアルコール類アセトン、ジメ
チルスルホキシド、アセトニトリルのような不活性溶媒
、或は不活性溶媒と水との混合物中で実施する。場合に
よっては更に界面活性剤、相間移動触媒を添加してもよ
い。
ニル基を表わす°、） ここで反応温度は２０〜１３０℃（好ましくは４０〜１
００℃）が適当である。また反応を円滑にするため、こ
の反応は通常、水溶液又はアルコール類アセトン、ジメ
チルスルホキシド、アセトニトリルのような不活性溶媒
、或は不活性溶媒と水との混合物中で実施する。場合に
よっては更に界面活性剤、相間移動触媒を添加してもよ
い。
本発明方法で使用される一般式Ｉの原料化合物は、たと
えば、一般式■ （式中、Ｒ１およびＲ７は一般式■と同じ）で示される
０−ニトロアゾベンゼン類を常法に従ってジアゾ化し、
これを一般式Ｖ で示されるフェノール類とカップリングして一般式■の
０−ニトロアゾベンゼン類誘導体とし。
えば、一般式■ （式中、Ｒ１およびＲ７は一般式■と同じ）で示される
０−ニトロアゾベンゼン類を常法に従ってジアゾ化し、
これを一般式Ｖ で示されるフェノール類とカップリングして一般式■の
０−ニトロアゾベンゼン類誘導体とし。
これを還元することにより容易に得られる。還元剤とし
てはハイドロサルファイド、アルコール類（特開昭５９
−１７２４８１号公報）、糖類等が挙げられるが、中で
も糖類が好ましい。こうして得られる一般式ＩのＮ−オ
キシド類の具体例は次の通りである。
てはハイドロサルファイド、アルコール類（特開昭５９
−１７２４８１号公報）、糖類等が挙げられるが、中で
も糖類が好ましい。こうして得られる一般式ＩのＮ−オ
キシド類の具体例は次の通りである。
１） ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−
オキシド２） ２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジー
し一ブチルフェニル）−５−クロルベットリアゾール−
Ｎ−オキシド３） ２−（２−ヒドロキシ−３，５−
ジーし一アミルフェニル）ベグトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ４） ２−（２−ヒドロキシ−３，５′−ジーＬ−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ５） ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ６） ２−（２−ヒドロキシ−３，５′−ジ−ｔ−オ
クチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ７） ２−（２−ヒドロキシ−３，５′−ジ−ｔ−オ
クチルフェニル）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−
オキシド８） ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチ
ル−５−メチルフェニル）−５−メチルベグトリアゾー
ル−Ｎ−オキシド９） ２−（２−ヒドロキシ−３，
５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−ｎ−プチルベゾ
トリアゾールーＮ−オキシド１０） ２−（２−ヒドロ
キシ−３−ｓｅｅ、−ブチル−５−ｔ−ブチルフェニル
）−５−ｎ−プチルベゾトリアゾールーＮ−オキシド １１） ２−（２−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ、−ブチル
−５−ｔ、−ブチルフェニル）−Ｓ−ｔ、−ブチルベゾ
トリアゾールーＮ−オキシド１２） ２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５，７−ジ
クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドＬ３） ２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジーし一アミルフェニル）
−５−クロルペゾトリアゾールーＮ−オキシド１４）
２− ［２−ヒドロキシ−３，５−ジー（α、α−ジメ
チルベンジル）フェニル］ベゾトリアゾールーＮ−オキ
シド１５） ２− ［２−ヒドロキシ−３，５−ジー（
α２α−ジメチルベンジル）フェニル］−５−クロルペ
ゾトリアゾールーＮ−オキシド １６） ２−（２−ヒドロキシ−３−α−メチルベンジ
ル−５−メチルフェニル）ベグトリアゾール−Ｎ−オキ
シド１７） ２−（２−ヒドロキシ−３−α−メチルベ
ンジル−５−メチルフェニル）−５−クロルベットリア
ゾール−Ｎ−オキシド 本発明の還元剤であるアルデヒド類の具体例としてはホ
ルムアルデヒド、バラホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド。
メチルフェニル）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−
オキシド２） ２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジー
し一ブチルフェニル）−５−クロルベットリアゾール−
Ｎ−オキシド３） ２−（２−ヒドロキシ−３，５−
ジーし一アミルフェニル）ベグトリアゾール−Ｎ−オキ
シド ４） ２−（２−ヒドロキシ−３，５′−ジーＬ−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ５） ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ６） ２−（２−ヒドロキシ−３，５′−ジ−ｔ−オ
クチルフェニル）ベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシド ７） ２−（２−ヒドロキシ−３，５′−ジ−ｔ−オ
クチルフェニル）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−
オキシド８） ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチ
ル−５−メチルフェニル）−５−メチルベグトリアゾー
ル−Ｎ−オキシド９） ２−（２−ヒドロキシ−３，
５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−ｎ−プチルベゾ
トリアゾールーＮ−オキシド１０） ２−（２−ヒドロ
キシ−３−ｓｅｅ、−ブチル−５−ｔ−ブチルフェニル
）−５−ｎ−プチルベゾトリアゾールーＮ−オキシド １１） ２−（２−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ、−ブチル
−５−ｔ、−ブチルフェニル）−Ｓ−ｔ、−ブチルベゾ
トリアゾールーＮ−オキシド１２） ２−（２−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５，７−ジ
クロルベンゾトリアゾール−Ｎ−オキシドＬ３） ２−
（２−ヒドロキシ−３，５−ジーし一アミルフェニル）
−５−クロルペゾトリアゾールーＮ−オキシド１４）
２− ［２−ヒドロキシ−３，５−ジー（α、α−ジメ
チルベンジル）フェニル］ベゾトリアゾールーＮ−オキ
シド１５） ２− ［２−ヒドロキシ−３，５−ジー（
α２α−ジメチルベンジル）フェニル］−５−クロルペ
ゾトリアゾールーＮ−オキシド １６） ２−（２−ヒドロキシ−３−α−メチルベンジ
ル−５−メチルフェニル）ベグトリアゾール−Ｎ−オキ
シド１７） ２−（２−ヒドロキシ−３−α−メチルベ
ンジル−５−メチルフェニル）−５−クロルベットリア
ゾール−Ｎ−オキシド 本発明の還元剤であるアルデヒド類の具体例としてはホ
ルムアルデヒド、バラホルムアルデヒド、アセトアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド。
アニスアルデヒド等が挙げられるが、中でもホルムアル
デヒド、パラホルムアルデヒドが好ましい、その使用量
は式■のＮ−オキシド類１モル分子に対し、１〜４モル
分子が適当であり。
デヒド、パラホルムアルデヒドが好ましい、その使用量
は式■のＮ−オキシド類１モル分子に対し、１〜４モル
分子が適当であり。
好ましくは１〜２モル分子である。
本発明の触媒である芳香族ケトン化合物の具体例として
はベンゾフェノン；アルキル基、アルコキシル基、ハロ
ゲン原子又は水酸基で置換されたベンゾフェノン；ベン
ズアントロン；アントロン；９−フルオレノン；９−キ
サンテノン等が挙げられるが、中でも９−フルオレノン
、アントロン、ベンズアントロンが好ましい。使用量は
１式ＩのＮ−オキシドの重量に対して０．２〜３０重量
％が適当であり、好ましくは２〜２０重量％である。
はベンゾフェノン；アルキル基、アルコキシル基、ハロ
ゲン原子又は水酸基で置換されたベンゾフェノン；ベン
ズアントロン；アントロン；９−フルオレノン；９−キ
サンテノン等が挙げられるが、中でも９−フルオレノン
、アントロン、ベンズアントロンが好ましい。使用量は
１式ＩのＮ−オキシドの重量に対して０．２〜３０重量
％が適当であり、好ましくは２〜２０重量％である。
塩基としては水酸化カリウム又は水酸カリウムが好まし
い。その使用量は式ＩのＮ−オキシド１モル分子に対し
て１〜１２モル分子が適当であり、好ましくは２〜７モ
ル分子である。
い。その使用量は式ＩのＮ−オキシド１モル分子に対し
て１〜１２モル分子が適当であり、好ましくは２〜７モ
ル分子である。
以上の如く本発明方法はＯ−ニトロアゾベンゼン誘導体
を還元して得られる式ｌのＮ−オキシド類を出発物質と
し式■のベンゾトリアゾール類を製造することにかかる
ため実質的に２段階法になるが、従来法に見られない品
質の向上、特に紫外線吸収剤として最も重要である耐熱
性にすぐれるという利点を有する。公害的な面において
も従来法に比し、すぐれた効果を得ることができる。
を還元して得られる式ｌのＮ−オキシド類を出発物質と
し式■のベンゾトリアゾール類を製造することにかかる
ため実質的に２段階法になるが、従来法に見られない品
質の向上、特に紫外線吸収剤として最も重要である耐熱
性にすぐれるという利点を有する。公害的な面において
も従来法に比し、すぐれた効果を得ることができる。
以下に本発明を実施例によって説明する。
実施例１
メタノール７２＊ｌ、水２０−ａ及び９７％苛性ソーダ
１２．４ｇの混合液に２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロルベットリア
ゾール−Ｎ−オキシド１６．６ｇを加え、 ７０℃で３
０分間攪拌後、６５℃に冷却し、９−フルオレノン０．
８ｇに加えてから、更に８０％パラホルムアルデヒド２
゜５ｇを３０分間に亘って加え、６０〜７０℃で１時間
。
１２．４ｇの混合液に２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−
ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロルベットリア
ゾール−Ｎ−オキシド１６．６ｇを加え、 ７０℃で３
０分間攪拌後、６５℃に冷却し、９−フルオレノン０．
８ｇに加えてから、更に８０％パラホルムアルデヒド２
゜５ｇを３０分間に亘って加え、６０〜７０℃で１時間
。
更に沸点（７３℃）で４時間攪拌反応させると、２−（
２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル
）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−オキシドが消失
して、還元反応が終了する０次に水５０■悲を６５〜７
０℃の温度で徐々に滴下してから６２．５％硫酸１２ｇ
で中和し、析出した結晶を吸引ｆ過により分離し、充分
水洗後、メタノールで洗浄して乾燥すると、１４．７ｇ
の収量で２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−
オキシドを得た。収率９３．０％。
２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル
）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−オキシドが消失
して、還元反応が終了する０次に水５０■悲を６５〜７
０℃の温度で徐々に滴下してから６２．５％硫酸１２ｇ
で中和し、析出した結晶を吸引ｆ過により分離し、充分
水洗後、メタノールで洗浄して乾燥すると、１４．７ｇ
の収量で２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−
オキシドを得た。収率９３．０％。
融点１３８〜１４０℃。
実施例２
２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフ
ェニル）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−オキシド
１６．６ｇの代りにイ） ２−（２−ヒドロキシ−３，
５−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベットリアゾー
ル−Ｎ−オキシド１９．５ｇ、口＞ ２−（２−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベントリア
ゾール−Ｎ−オキシド１７．８ｇ及びハ）２〜（２−ヒ
ドロキシ−３，５−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベントリ
アゾール−Ｎ−オキシド１９．２ｇを夫々用いた他は実
施例１と同じ方法を繰返し、夫々次の結果を得た。
ェニル）−５−クロルベットリアゾール−Ｎ−オキシド
１６．６ｇの代りにイ） ２−（２−ヒドロキシ−３，
５−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベットリアゾー
ル−Ｎ−オキシド１９．５ｇ、口＞ ２−（２−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベントリア
ゾール−Ｎ−オキシド１７．８ｇ及びハ）２〜（２−ヒ
ドロキシ−３，５−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベントリ
アゾール−Ｎ−オキシド１９．２ｇを夫々用いた他は実
施例１と同じ方法を繰返し、夫々次の結果を得た。
イ） ２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーし一ブチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール 収量 １６．１ｇ 、 収率 ９０．０％。
ルフェニル）ベンゾトリアゾール 収量 １６．１ｇ 、 収率 ９０．０％。
融点 １５４〜１５５．５℃。
口） ２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジー１．−ブ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール 収量 １４．８ｇ 、’＋ 収率 ９１．５％。
チルフェニル）ベンゾトリアゾール 収量 １４．８ｇ 、’＋ 収率 ９１．５％。
融点 １５０〜１５２℃。
ハ）、 ２−（２−七ドロキシー３．５−ジーし一アミ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール 収量 １５．４ｇ ＃ 収率 ８８．０％。
ルフェニル）ベンゾトリアゾール 収量 １５．４ｇ ＃ 収率 ８８．０％。
融点 ７７〜７９℃。
実施例３
エチルアルコール８０ｍ（！、水１０ｍ ｍ及び９５％
苛性カリ１７．７ｇの混合液に２−（２−ヒドロキシ−
３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロルベ
ットリアゾール−Ｎ−オキシド１６．６ｇを加え、８０
”Ｃで３０分間攪拌後、６５℃に冷却し、アントロン１
．４ｇを加えてから３５％ホルマリン６．５ｇを３０分
間で滴下し、６５〜７０℃で１時間攪拌反応させてから
沸点（８７℃）で１０時間反応させると、Ｎ−オキシド
がなくなり反応が終了する。水５０ｔａ １１を徐々に
加えてから、６２．５％硫酸ｉ２ｇで中和し、析出した
結晶をｆ過により分離し充分水洗後、エチルアルコール
で洗浄し、乾燥すると、１４．５ｇの収量で２−（２−
ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−
５−クロルベンゾトリアゾールを得た。収率９２．０％
、融点１３８〜１４０℃。
苛性カリ１７．７ｇの混合液に２−（２−ヒドロキシ−
３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロルベ
ットリアゾール−Ｎ−オキシド１６．６ｇを加え、８０
”Ｃで３０分間攪拌後、６５℃に冷却し、アントロン１
．４ｇを加えてから３５％ホルマリン６．５ｇを３０分
間で滴下し、６５〜７０℃で１時間攪拌反応させてから
沸点（８７℃）で１０時間反応させると、Ｎ−オキシド
がなくなり反応が終了する。水５０ｔａ １１を徐々に
加えてから、６２．５％硫酸ｉ２ｇで中和し、析出した
結晶をｆ過により分離し充分水洗後、エチルアルコール
で洗浄し、乾燥すると、１４．５ｇの収量で２−（２−
ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−
５−クロルベンゾトリアゾールを得た。収率９２．０％
、融点１３８〜１４０℃。
実施例４
メタノール８０−〇、水３０ｗ Ｑ及び９７％苛性ソー
ダ１２．４ｇの混合液に２−（２−ヒドロキシ−３，５
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベットリアゾ
ール−Ｎ−オキシド１８．７ｇを加え７０’Ｃで３０分
間攪拌後、６０℃に冷却し、ベンズアントロン１．２．
加えてから９０％アセトアルデヒド３．２ｇを３０分間
に亘って滴下し、６０〜７０℃で３０分間、更に沸点（
７４℃）で４時間攪拌反応させると、２−（２−ヒドロ
キシ−３゜５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロル
ベグトリアゾール−Ｎ−オキシドが消失し、還元反応が
終了するや次に水５０ｍＱを６５〜７０℃の温度で徐々
に滴下してから６２．５％硫酸１２ｇで中和し、析出し
た結晶をｆ過により分離し、充分水洗後、メタノールで
洗浄して乾燥すると１５．９ｇの収量で２−（２−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロ
ルベゾトリアゾールを得た。収率８９．０％。
ダ１２．４ｇの混合液に２−（２−ヒドロキシ−３，５
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベットリアゾ
ール−Ｎ−オキシド１８．７ｇを加え７０’Ｃで３０分
間攪拌後、６０℃に冷却し、ベンズアントロン１．２．
加えてから９０％アセトアルデヒド３．２ｇを３０分間
に亘って滴下し、６０〜７０℃で３０分間、更に沸点（
７４℃）で４時間攪拌反応させると、２−（２−ヒドロ
キシ−３゜５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロル
ベグトリアゾール−Ｎ−オキシドが消失し、還元反応が
終了するや次に水５０ｍＱを６５〜７０℃の温度で徐々
に滴下してから６２．５％硫酸１２ｇで中和し、析出し
た結晶をｆ過により分離し、充分水洗後、メタノールで
洗浄して乾燥すると１５．９ｇの収量で２−（２−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロ
ルベゾトリアゾールを得た。収率８９．０％。
融点 １５４〜１５５．５℃。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ （但しＲ＿１は水素又は塩素原子、炭素数１〜４の低級
アルキル基、炭素数１〜４の低級 アルコキシル基、カルボキシル基又はスル ホン酸基を表わし、Ｒ＿２は水素又は塩素原子、炭素数
１〜４の低級アルキル基又は炭 素数１〜４の低級アルコキシル基を表わし、Ｒ＿３は水
素又は塩素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数
１〜４の低級アルコキ シル基、フェニル基、炭素数１〜８のアル キル基で置換されたフェニル基、フェノキ シ基又はアルキル部分の炭素数が１〜４の フェニルアルキル基を表わし、Ｒ＿４は水素又は塩素原
子、ヒドロキシル基又は炭素数 １〜４のアルコキシル基を表わし、Ｒ＿５は水素原子、
炭素数１〜１２のアルキル基又はアルキル部分の炭素数
が１〜４のフェニル アルキル基を表わす。） で示される２−フェニルベンゾール−Ｎ−オキシド類を
芳香族ケトン化合物よりなる触媒及び塩基の存在下、ア
ルデヒド類で還元することを特徴とする一般式II ▲数式、化学式、表等があります▼ （但しＲ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５は一般
式 I に同じ） で示される２−フェニルベンゾトリアゾール類の製造法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60055116A JPS61215379A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60055116A JPS61215379A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| EP86306514A EP0257151B1 (en) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | Method for preparing 2-phenylbenzotriazoles and 2-phenylbenzotriazole-n-oxides |
| EP19860307057 EP0259530B1 (en) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | Method for preparing 2-phenylbenzotriazoles and 2-phenylbenzotriazole-n-oxides |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61215379A true JPS61215379A (ja) | 1986-09-25 |
| JPH0524909B2 JPH0524909B2 (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=27229314
Family Applications (5)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60038217A Granted JPS61197570A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60038218A Granted JPS61197571A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
| JP60055116A Granted JPS61215379A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60055115A Pending JPS61215378A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60055117A Granted JPS61215380A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60038217A Granted JPS61197570A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60038218A Granted JPS61197571A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60055115A Pending JPS61215378A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JP60055117A Granted JPS61215380A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (5) | JPS61197570A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003048257A1 (en) | 2001-12-05 | 2003-06-12 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Organic solvent-free process for the preparation of 2-(2-nitrophenylazo)phenols |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0257151B1 (en) * | 1986-08-22 | 1992-01-29 | Chemipro Kasei Kaisha, Ltd. | Method for preparing 2-phenylbenzotriazoles and 2-phenylbenzotriazole-n-oxides |
| JPH0798812B2 (ja) * | 1986-09-16 | 1995-10-25 | ケミプロ化成株式会社 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造法 |
| JPH0798811B2 (ja) * | 1986-09-16 | 1995-10-25 | ケミプロ化成株式会社 | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造法 |
| JP2007084499A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Kobe Univ | アルコール類の酸化方法 |
Citations (2)
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| JPS5363379A (en) * | 1976-11-17 | 1978-06-06 | Nippon Kayaku Co Ltd | Preparation of 2-phenylbenzotriazoles or their n-oxides |
| JPS59172481A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-29 | Shuichi Seino | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル−ｎ−オキシド類の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59170172A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-26 | Shuichi Seino | ２−フエニルベンゾトリアゾ−ル類の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-27 JP JP60038217A patent/JPS61197570A/ja active Granted
- 1985-02-27 JP JP60038218A patent/JPS61197571A/ja active Granted
- 1985-03-19 JP JP60055116A patent/JPS61215379A/ja active Granted
- 1985-03-19 JP JP60055115A patent/JPS61215378A/ja active Pending
- 1985-03-19 JP JP60055117A patent/JPS61215380A/ja active Granted
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5363379A (en) * | 1976-11-17 | 1978-06-06 | Nippon Kayaku Co Ltd | Preparation of 2-phenylbenzotriazoles or their n-oxides |
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| WO2003048257A1 (en) | 2001-12-05 | 2003-06-12 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Organic solvent-free process for the preparation of 2-(2-nitrophenylazo)phenols |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61215378A (ja) | 1986-09-25 |
| JPS61215380A (ja) | 1986-09-25 |
| JPH0524907B2 (ja) | 1993-04-09 |
| JPH0524909B2 (ja) | 1993-04-09 |
| JPS61197571A (ja) | 1986-09-01 |
| JPH0524908B2 (ja) | 1993-04-09 |
| JPS61197570A (ja) | 1986-09-01 |
| JPH0524910B2 (ja) | 1993-04-09 |
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